CN107591434A - 有机发光显示面板、制作方法及显示装置 - Google Patents

有机发光显示面板、制作方法及显示装置 Download PDF

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Abstract

本发明提供了一种有机发光显示面板、制作方法及显示装置,该有机发光显示面板包括:基板、像素电极层、挡墙和有机发光单元;所述像素电极层位于基板上,其中,像素电极层包括多个像素电极,像素电极包括边缘区域和经过等离子处理的中心区域,边缘区域包围中心区域,且中心区域的功函数大于边缘区域的功函数,边缘区域包括弱光区和覆盖区,覆盖区包围弱光区;所述挡墙位于像素电极层上,挡墙包围像素电极,且挡墙覆盖像素电极的覆盖区;所述有机发光单元位于像素电极上。本发明能够在工艺简单的条件下,解决有机发光单元发出的光线色度不均一的问题,提高有机发光显示面板的显示效果。

Description

有机发光显示面板、制作方法及显示装置
技术领域
本发明属于柔性显示技术领域,具体涉及一种有机发光显示面板、制作方法及显示装置。
背景技术
随着显示技术的不断发展,柔性显示面板凭借其轻薄、可弯折、耐冲击的特性即将成为显示领域的主流。其中有机发光显示(Organic Light Emitting Display,OLED)因具有响应速度快、视角宽、亮度高、低功耗、自发光单元及抗弯折特性好等优点,近年来,成为柔性显示领域研究的热点之一。
有机发光显示面板上的有机发光单元通常是采用喷墨打印的方式制成的,在液滴干燥后,由于咖啡环效应,使得有机发光单元的呈现中心区域厚度小,边缘区域厚度大的特点。而有机发光单元的厚度不均一,使得有机发光单元的不同位置因微腔效应的影响,使得有机发光单元的不同位置的发光特性不不同,因此,在有机发光单元的不同区域,发出的光的色度也不均一,影响有机发光单元的显示效果。
虽然将有机发光单元的中心区域的膜层厚度调整至目标厚度,能够保证有机发光中心区域的发光特性相同,发出的光的颜色也相同,但是有机发光单元周边区域的厚度通常都大于其中心区域的厚度,且有机发光周边区域的厚度难以调整,因此,仍存在有机发光单元发出的光色度不均一的问题。
现有技术中,通过在挡墙上设置遮挡物来遮挡有机发光单元的边缘区域,来提高有机发光单元色度的均一性。但是,该方法存在以下不足:
1、遮挡物的大小很难控制,遮挡范围较小,不足以遮挡住有机发光单元边缘区域发出的异色光线;遮挡范围过大,又会减小有机发光单元的有效出光面积,影响显示效果;
2、遮挡物的制造增加了工序,提高了生产成本。
因此,针对上述问题,提供一种有机发光显示面板、制作方法及显示装置,是本领域亟待解决的技术问题。
发明内容
为解决上述背景技术中的问题,本发明提供了一种有机发光显示面板、制作方法及显示装置,在工艺简单的条件下,解决有机发光单元发出的光线色度不均一的问题,提高了有机发光显示面板的显示效果。
为了解决上述问题,本发明提供了一种有机发光显示面板,包括:基板、像素电极层、挡墙和有机发光单元,
所述像素电极层位于所述基板上,所述像素电极层包括:多个像素电极;
所述像素电极包括:边缘区域和经过等离子处理的中心区域,所述边缘区域包围所述中心区域,所述中心区域的功函数大于所述边缘区域的功函数;
所述边缘区域包括:弱光区和覆盖区,所述覆盖区包围所述弱光区;
所述挡墙位于所述像素电极层上,所述挡墙包围所述像素电极,且所述挡墙覆盖所述像素电极的所述覆盖区;
所述有机发光单元位于所述像素电极上。
为了解决上述问题,本发明还提供了一种有机发光显示面板的制作方法,包括:
在基板上制作像素电极层,并通过刻蚀技术形成多个像素电极,所述像素电极包括:中心区域和边缘区域,所述边缘区域包围所述中心区域;所述边缘区域,包括:弱光区和覆盖区,所述覆盖区包围所述弱光区;
在所述像素电极层上制作挡墙,所述挡墙包围所述像素电极,且所述挡墙覆盖所述像素电极的所述覆盖区;
对所述像素电极的所述中心区域进行等离子体处理,
在所述像素电极上形成的有机发光单元。
为了解决上述问题,本发明还提供了一种有机发光显示装置,包括上述的有机发光显示面板。
与现有技术相比,本发明的柔性显示面板及其制作方法实现了如下的有益效果:
本发明提供的有机发光显示面板、制作方法及显示装置,通过等离子体对像素电极的中心区域进行处理,使得像素电极的中心区域的功函数大于像素电极的边缘区域的功函数,而中心区域对应的有机发光单元发出的光为有效光,边缘区域的弱光区对应的有机发光单元发出的光为异色光,因此,在相同的工作电压下,有效光被增强,同时异色光被减弱,从而减小了异色光引起的色度不均一的影响,提高了有机发光显示面板的显示效果;而且,本实施例提供的有机发光显示面板不需要增加遮挡物,因此,无需增加工序,生产成本较低。
通过以下参照附图对本发明的示例性实施例的详细描述,本发明的其它特征及其优点将会变得清楚。
附图说明
被结合在说明书中并构成说明书的一部分的附图示出了本发明的实施例,并且连同其说明一起用于解释本发明的原理。
图1为现有技术中的一种有机发光显示面板的截面示意图;
图2为本发明中的有机发光显示面板的俯视示意图;
图3为本发明中的一种有机发光显示面板的截面示意图;
图4为图3的局部放大图;
图5为本发明中的另一种有机发光显示面板的截面示意图;
图6为本发明中的有机发光显示面板的有机发光单元的截面示意图;
图7为本发明中的有机发光单元与像素电极的对应示意图;
图8为本发明中有机发光显示面板的有机发光单元的俯视示意图;
图9为本发明中的一种有机发光显示面板的制作方法的流程图;
图10为本发明中的制作方法步骤S101的工艺示意图;
图11为本发明中的制作方法步骤S102的工艺示意图;
图12为本发明中的制作方法步骤S103是一种工艺示意图;
图13为本发明中的制作方法步骤S103的另一种工艺示意图;
图14为本发明中的制作方法步骤S104的工艺示意图;
图15为本发明中制作缓冲层的工艺示意图;
图16为本发明中在缓冲层上制作有机发光单元的工艺示意图;
图17为本发明中有机发光显示装置的俯视图。
具体实施方式
现在将参照附图来详细描述本发明的各种示例性实施例。应注意到:除非另外具体说明,否则在这些实施例中阐述的部件和步骤的相对布置、数字表达式和数值不限制本发明的范围。
以下对至少一个示例性实施例的描述实际上仅仅是说明性的,决不作为对本发明及其应用或使用的任何限制。
对于相关领域普通技术人员已知的技术、方法和设备可能不作详细讨论,但在适当情况下,所述技术、方法和设备应当被视为说明书的一部分。
在这里示出和讨论的所有例子中,任何具体值应被解释为仅仅是示例性的,而不是作为限制。因此,示例性实施例的其它例子可以具有不同的值。
应注意到:相似的标号和字母在下面的附图中表示类似项,因此,一旦某一项在一个附图中被定义,则在随后的附图中不需要对其进行进一步讨论。
本发明涉及一种有机发光显示面板、制作方法及显示装置,对于有机发光显示面板来说,存在有机发光单元的色度不均一的问题,从而影响了整个有机发光显示面板的显示效果。
图1给出了现有技术中的一种有机发光显示面板的截面示意图,请参见图1,现有技术中的有机发光显示面板包括基板1、位于基板1上的像素电极20、包围像素电极20的挡墙3和设置在像素电极20上的有机发光单元4。由于有机发光单元4通常是采用喷墨打印的方式制成的,在液滴干燥后,因咖啡环效应,使得有机发光单元4的厚度呈现中心区域小,边缘区域大的特点。因有机发光单元4的厚度不均一,其发光特性在不同位置受到微腔效应的影响也不同。如图1所示,有机发光单元2的中心区域的厚度差异微小,基本不受微腔效应的影响,发出的光颜色相同,是有效光(图1中的黑色箭头),而有机发光单元边缘区域的厚度较大,受微腔效应的影响较大,发出的光为异色光(图1中的空白箭头)。因此,在像素的不同区域,发出的光的色度也不均一,影响有机发光显示面板的显示效果。
针对有机发光显示面板的有机发光单元的厚度不均一导致的有机发光单元的色度不均一,从而影响有机发光显示面饭的显示效果的问题,本发明提供了一种有机发光显示面板、制作方法及显示装置。
以下将针对本发明提供的有机发光显示面板、制作方法及显示装置进行详细的描述。
图2给出了本发明中的有机发光显示面板的俯视示意图,图3给出了本发明中的有机发光显示面板的俯视示意图,请参见图2和图3,该有机发光显示面板,包括:基板1、像素电极层2、挡墙3和有机发光单元4。像素电极层2位于基板1上,像素电极层2包括多个像素电极20。
请继续参见图3,像素电极20包括:边缘区域202和经过等离子处理的中心区域201,边缘区域202包围中心区域201,中心区域201的功函数大于边缘区域202的功函数。
图4是图3的局部放大图,请参见图2至图4,边缘区域202包括:弱光区a和覆盖区b,覆盖区b包围弱光区a;挡墙3位于像素电极层2上,挡墙3包围像素电极20,且挡墙3覆盖像素电极20的覆盖区b;有机发光单元4位于像素电极2上。
本实施例提供的有机发光显示面板,由于像素电极的中心区域的功函数大于像素电极的边缘区域的功函数,而中心区域对应的有机发光单元发出的光为有效光,边缘区域的弱光区对应的有机发光单元发出的光为异色光,因此,在相同的工作电压下,有效光被增强,同时异色光被减弱,从而减小了异色光引起的色度不均一的影响,提高了有机发光显示面板的显示效果;而且,本实施例提供的有机发光显示面板不需要增加遮挡物,因此,无需增加工序,生产成本较低。
请继续参见图4,需要说明的是,本实施例通过等离子体处理的方式提高像素电极20的中心区域201的功函数。由于经过等离子处理后,不仅能够提高中心区域201的功函数,也能改变中心区域201的其他性能,例如:采用喷墨打印法制作有机发光单元4的液滴与中心区域201的浸润角就与边缘区域(更具体地是与弱光区a)的浸润角不同,从而加剧制作有机发光单元4的液滴的咖啡环效应。为此,本实施例提供了另一种有机发光显示面板,图5给出了本发明中的另一种有机发光显示面板的截面示意图,请参见图5,该有机发光显示面板,在有机发光单元4和像素电极20之间设有缓冲层5,该缓冲层5覆盖像素电极20和挡墙3。通过在像素电极20和有机发光单元4之间设置缓冲层5,有机发光单元4仅与缓冲层5接触,不存在有机发光单元4与像素电极20的不同区域的浸润角不同的问题。为了满足像素电极20与有机发光单元4之间良好的电接触,作为优选方案,缓冲层5具有空穴传输性。
图6为本发明中的有机发光显示面板的有机发光单元的截面示意图,请参见图6,有机发光单元4包括平坦区401和位于平坦区401的周围的厚度渐变区402,厚度渐变区402的厚度大于平坦区401的厚度,且厚度渐变区402的厚度随着与平坦区401的距离增加而增大。厚度渐变区402采用喷墨打印法制作有机发光单元4的液滴的咖啡环效应造成的,自然形成的平坦区401的厚度虽然差别较小,但是为了提高显示效果,对平坦区401进行处理,提高平坦区401厚度的均一性,使平坦区401的厚度相同,从而进一步提高有机发光显示面板的显示效果。
图7为本发明中的有机发光单元与像素电极的对应示意图,请参见图7,为了减小微腔效应对显示效果的影响,需要保证平坦区401的发光效率高,而厚度渐变区402的发光效率低,因此,作为优选方案,像素电极20的中心区域201在基板1上的正投影位于平坦区401在基板1上的正投影内,此时,有机发光单元4的厚度渐变区402在基板1上的投影位于像素电极20的弱光区a内,由于弱光区的功函数较大,使得厚度渐变区402的发光效率低,厚度渐变区402发出的异色光的光强很低甚至不被人眼察觉,从而降低异色光对有机发光显示面板的影响,提高有机发光显示面板的显示效果。当然,平坦区401的边缘部位在基板1上的投影可能会位于弱光区a在基板1上的投影内,这使得平坦区401的边缘部位的发光效率较低,因此,作为最优选方案,像素电极20的中心区域201在基板1上的正投影与平坦区401在基板1上的正投影重合,此时,有机发光单元4的平坦区401的任何位置的发光效率都很高,而在厚度渐变区402的任何位置的发光效率都很低,即:在保证异色光发光强度低的同时,有效光的发光强度最高,显示面板的显示效果最好。
图8为本发明中有机发光显示面板的有机发光单元的俯视示意图,请参见图8,弱光区a的宽度d大于或等于5微米。需要说明是,弱光区a的宽度d是弱光区a的远离中心区域201的边缘与中心区域201的边缘之间的距离。通过控制弱光区a的宽度d,能够保证像素电极20的中心区域201在基板1上的正投影位于平坦区401在基板1上的正投影内(如图7所示),从而降低异色光对有机发光显示面板的影响,提高有机发光显示面板的显示效果。
为了解决上述问题,本实施例还提供了一种有机发光显示面板的制作方法,图9给出了本发明中的一种有机发光显示面板的制作方法的流程图,请参见图9,该方法包括:
步骤S101:图10给出了本发明中的制作方法步骤S101的工艺示意图,请参见图10,在基板1上制作像素电极层2,并通过刻蚀技术形成多个像素电极20,像素电极20包括:中心区域201和边缘区域202,边缘区域202包围中心区域201;边缘区域202,包括:弱光区a和覆盖区b,覆盖区b包围弱光区a。
步骤S102:图11给出了本发明中的制作方法步骤S102的工艺示意图,请参见图11,在像素电极层2上制作挡墙3,挡墙3包围像素电极20,且挡墙3覆盖像素电极2的覆盖区b。
步骤S103:对像素电极的中心区域进行等离子体处理。
图12给出了本发明中的制作方法步骤S103是一种工艺示意图,请参见图12,在对像素电极20的中心区域201进行等离子体处理中使用掩膜板6遮挡像素电极20的边缘区域202,并对暴露出的像素电极20的中心区域201进行等离子体处理。通过采用掩膜板6能够准确的暴露出像素电极20的中心区域,对等离子体(图12中的箭头)的控制精度要求较低,但等离子处理的准确度高。
图13给出了本发明中的制作方法步骤S103的另一种工艺示意图,请参见图13,在等离子体处理中,使用等离子体束(图13中的以2个为一组的箭头组)扫描像素电极20的中心区域201。通过使用等离子束对像素电极20的中心区域201进行处理,能够减少掩膜板的使用,有利于降低生产成本。
步骤S104:图14给出了本发明中的制作方法步骤S104的工艺示意图,请参见图14在像素电极20上形成有机发光单元4。
本实施例提供的有机发光显示面板的制作方法,通过等离子体对像素电极的中心区域进行处理,使得像素电极的中心区域的功函数大于像素电极的边缘区域的功函数,而中心区域对应的有机发光单元发出的光为有效光,边缘区域的弱光区对应的有机发光单元发出的光为异色光,因此,在相同的工作电压下,有效光被增强,同时异色光被减弱,从而减小了异色光引起的色度不均一的影响,提高了有机发光显示面板的显示效果;而且,本实施例提供的有机发光显示面板不需要增加遮挡物,因此,无需增加工序,生产成本较低。
由于经过等离子处理后,不仅能够提高中心区域201的功函数,也能改变中心区域201的其他性能,例如:采用喷墨打印法制作有机发光单元4的液滴与中心区域201的浸润角就与边缘区域(更具体地是与弱光区a)的浸润角不同,从而加剧制作有机发光单元4的液滴的咖啡环效应。图15为本发明中制作缓冲层的工艺示意图,请参见图15,可选地,在步骤104(形成有机发光单元)之前,还包括:制作缓冲层5,缓冲层5覆盖像素电极20和挡墙3;图16为本发明中在缓冲层上制作有机发光单元的工艺示意图,请参见16,再在缓冲层5上像素电极20的对应位置设置有机发光单元4,通过在像素电极20和有机发光单元4之间设置缓冲层5,有机发光单元4仅与缓冲层5接触,不存在有机发光单元4与像素电极20的不同区域的浸润角不同的问题。为了满足像素电极20与有机发光单元4之间良好的电接触,作为优选方案,缓冲层5具有空穴传输性。
请参见图6,有机发光单元4包括平坦区401和位于平坦区401的周围的厚度渐变区402,厚度渐变区402的厚度大于平坦区401的厚度,且厚度渐变区402的厚度随着与平坦区401的距离增加而增大。厚度渐变区402采用喷墨打印法制作有机发光单元4的液滴的咖啡环效应造成的,自然形成的平坦区401的厚度虽然差别较小,但是为了提高显示效果,对平坦区401进行处理,提高平坦区401厚度的均一性。
请参见图7,为了改善由于有机发光单元4的厚度不均引起的微腔效应,需要保证平坦区401的发光效率高,而厚度渐变区402的发光效率低,因此,作为优选方案,像素电极20的中心区域201在基板1上的正投影位于平坦区401在基板1上的正投影内,此时,有机发光单元4的厚度渐变区402在基板1上的投影位于像素电极20的弱光区a内,厚度渐变区402的发光效率低,厚度渐变区402发出的异色光的光强很低甚至不被人眼察觉,从而降低异色光对有机发光显示面板的影响,提高有机发光显示面板的显示效果。当然,平坦区401的边缘部位在基板1上的投影可能会位于弱光区a在基板1上的投影内,这使得平坦区401的边缘部位的发光效率较低,因此,作为最优选方案,像素电极20的中心区域201在基板1上的正投影与平坦区401在基板1上的正投影重合,此时,有机发光单元4的平坦区401的任何位置的发光效率都很高,而在厚度渐变区402的任何位置的发光效率都很低,即:在保证异色光发光强度低的同时,有效光的发光强度最高,显示面板的显示效果最好。
请参见图8弱光区a的宽度d大于或等于5微米。通过控制弱光区a的宽度d,能够保证像素电极20的中心区域201在基板1上的正投影位于平坦区401在基板1上的正投影内(如图7所示),从而降低异色光对有机发光显示面板的影响,提高有机发光显示面板的显示效果。
为了解决上述问题,本实施例还提供了一种有机发光显示装置,图17给出了本发明中的一种有机发光显示装置的俯视示意图,请参见图17,该显示装置包括上述任一有机发光显示面板,通过等离子体对像素电极的中心区域进行处理,使得像素电极的中心区域的功函数大于像素电极的边缘区域的功函数,而中心区域对应的有机发光单元发出的光为有效光,边缘区域的弱光区对应的有机发光单元发出的光为异色光,因此,在相同的工作电压下,有效光被增强,同时异色光被减弱,从而减小了异色光引起的色度不均一的影响,提高了有机发光显示装置的显示效果。
与现有技术相比,本发明的有机发光显示面板、制作方法及显示装置,实现了如下的有益效果:
本发明提供的有机发光显示面板、制作方法及显示装置,通过等离子体对像素电极的中心区域进行处理,使得像素电极的中心区域的功函数大于像素电极的边缘区域的功函数,而中心区域对应的有机发光单元发出的光为有效光,边缘区域的弱光区对应的有机发光单元发出的光为异色光,因此,在相同的工作电压下,有效光被增强,同时异色光被减弱,从而减小了异色光引起的色度不均一的影响,提高了有机发光显示面板的显示效果;而且,本发明提供的有机发光显示面板不需要增加遮挡物,因此,无需增加工序,生产成本较低。
虽然已经通过例子对本发明的一些特定实施例进行了详细说明,但是本领域的技术人员应该理解,以上例子仅是为了进行说明,而不是为了限制本发明的范围。本领域的技术人员应该理解,可在不脱离本发明的范围和精神的情况下,对以上实施例进行修改。本发明的范围由所附权利要求来限定。

Claims (13)

1.一种有机发光显示面板,其特征在于,包括:基板、像素电极层、挡墙和有机发光单元,
所述像素电极层位于所述基板上,所述像素电极层包括:多个像素电极;
所述像素电极包括:边缘区域和经过等离子处理的中心区域,所述边缘区域包围所述中心区域,所述中心区域的功函数大于所述边缘区域的功函数;
所述边缘区域包括:弱光区和覆盖区,所述覆盖区包围所述弱光区;
所述挡墙位于所述像素电极层上,所述挡墙包围所述像素电极,且所述挡墙覆盖所述像素电极的所述覆盖区;
所述有机发光单元位于所述像素电极上。
2.根据权利要求1所述的有机发光显示面板,其特征在于,
所述有机发光单元和所述像素电极之间设有缓冲层,所述缓冲层覆盖所述像素电极和所述挡墙。
3.根据权利要求1或2所述的有机发光显示面板,其特征在于,所述弱光区的宽度大于或等于5微米。
4.根据权利要求1所述的有机发光显示面板,其特征在于,所述有机发光单元包括平坦区和位于所述平坦区的周围的厚度渐变区,所述厚度渐变区的厚度大于所述平坦区的厚度,且,所述厚度渐变区的厚度随着与所述平坦区的距离增加而增大。
5.根据权利要求4所述的有机发光显示面板,其特征在于,所述像素电极的中心区域在所述基板上的正投影位于所述平坦区在所述基板上的正投影内。
6.一种有机发光显示面板的制作方法,其特征在于,包括:
在基板上制作像素电极层,并通过刻蚀技术形成多个像素电极,所述像素电极包括:中心区域和边缘区域,所述边缘区域包围所述中心区域;所述边缘区域,包括:弱光区和覆盖区,所述覆盖区包围所述弱光区;
在所述像素电极层上制作挡墙,所述挡墙包围所述像素电极,且所述挡墙覆盖所述像素电极的所述覆盖区;
对所述像素电极的所述中心区域进行等离子体处理,
在所述像素电极上形成的有机发光单元。
7.根据权利要求6所述的有机发光显示面板的制作方法,其特征在于在形成所述有机发光单元之前,还包括:制作缓冲层,所述缓冲层覆盖所述像素电极和所述挡墙。
8.根据权利要求6所述的有机发光显示面板的制作方法,其特征在于,在对所述像素电极的所述中心区域进行所述等离子体处理中使用掩膜板遮挡所述像素电极的所述边缘区域,并对暴露出的所述像素电极的所述中心区域进行等离子体处理。
9.根据权利要求6所述的有机发光显示面板的制作方法,其特征在于,在所述等离子体处理中,使用等离子体束扫描所述像素电极的所述中心区域。
10.根据权利要求6或7所述的有机发光显示面板的制作方法,其特征在于,所述像素电极的所述弱光区的宽度大于或等于5微米。
11.根据权利要求6所述的有机发光显示面板的制作方法,其特征在于,采用喷墨打印方法制作所述有机发光单元,
所述有机发光单元包括平坦区和包围所述平坦区的厚度渐变区,所述厚度渐变区的厚度大于所述平坦区的厚度,且,所述厚度渐变区的厚度随着与所述平坦区的距离增加而增大。
12.根据权利要求11所述的有机发光显示面板的制作方法,其特征在于,所述像素电极的中心区域在所述基板上的正投影位于所述平坦区在所述基板上的正投影内。
13.一种有机发光显示装置,其特征在于,包括权利要求1-5中任一所述的有机发光显示面板。
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