CN107446506B - 一种大理石抛光粉的制备方法 - Google Patents
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Abstract
本发明公开了一种大理石抛光粉的制备方法,其特征在于,该方法具有以下工艺步骤:在研磨机中,按如下组成质量百分浓度加入,二水草酸:47~53%,三氧化二铝:12~15%,氧化锡:5~10%,研磨,混合均匀,加入草酸氢钠:6~10%,硬脂酸:15~21%,研磨,混合均匀,再加入石蜡粉:2~4%,脂肪醇聚氧***:0.3~1.0%,各组分之和为百分之百,研磨,混合均匀,即得大理石抛光粉,其粒径在2.0~10μm之间。该抛光粉在抛光过程中抛光粉与大理石之间发生化学反应,具有化学抛光的特性,因此,抛光粉的抛光效果好,光泽度,划痕数量少,平整度高,用量少,草酸氢钠的加入可以缓冲草酸的腐蚀性。
Description
技术领域
本发明涉及大理石表面处理技术,特别涉及一种含有磨料、草酸和辅助剂的大理石抛光粉的制备方法。
背景技术
大理石以其自然古朴的纹理,色泽鲜艳亮丽,而且具有不变形、硬度高、刚性好、耐磨性强、温度变形小、使用寿命长、不会出现划痕、不磁化等优点。因此,大理石是天然建筑装饰石材的一大门类,一般指具有装饰功能,可以加工成建筑石材或工艺品。大理石主要用于加工成各种形材、板材,作建筑物的墙面、地面、台、柱,是家具镶嵌的珍贵材料。还常用于纪念性建筑物如碑、塔、雕像等的材料。大理石抛光过程质量的好坏直接影响大理石产品的质量,所以说抛光过程在大理石生产过程中十分重要。由于大理石一般都含有杂质,而且碳酸钙在大气中受二氧化碳、水气的作用,也容易风化和溶蚀,而使表面失去光泽。大理石使用时间长了出现上述情况就需要翻新处理,翻新过程中常需要抛光处理。
大理石抛光是一个极其复杂的化学机械抛光(chemical mechanical polishing,简称CMP)过程。在这个过程中,除了机械作用外,还有大理石组成中化合物、抛光粉成分和抛光模成分之间的化学作用。因此,在抛光粉中,化学组成的变化,将导致抛光膜与大理石之间的粘附力发生变化,也导致在工作区域恶温度、抛光粉浓度发生变化,最终影响抛光效率。因此,抛光粉的化学组成对大理石抛光效果至关重要。
就抛光液而言,不同的抛光粉有不同的抛光能力。抛光粉通常由氧化铈、氧化铝、氧化硅、氧化铁、氧化锆、氧化铬、氧化锡等磨料和分散剂、助剂等组份组成,磨料的硬度不同,使用场合各不相同,金刚石和氮化铝的硬度为10,氮化硅的莫氏硬度为9.5,氧化铝和氧化铬的莫氏硬度为9,氧化铈和氧化锆为7,氧化铁更低。草酸具有将大理石抛亮的能力,但草酸的酸性很强,抛光后如果不及时将剩余草酸洗去,草酸附着在大理石表面或腐蚀大理石表面,光泽度消失的很快,本申请为了减小草酸的影响在抛光粉中加入缓蚀剂。
中国专利申请CN101362925B中公开了一种抛光光学元件的复配抛光粉及制备方法和抛光工艺,是有0.5份~3份的三氧化二铬和1.0份的三氧化二铝组成的;中国专利申请号2012104457498中公开了一种大理石复合抛光粉制备,其特征,将质量百分比为5%~18%氯氧化锆溶解于水中,加入50%~65%的三氧化二铝,加入10%~22%的二氧化锡,加入2%~8%二氧化硅,搅拌呈浆液,再加入10%~25%尿素,制得Al2O3-SnO2-ZrO2复合物再与铅粉按质量比为10~25:1的比例混合均匀。这些抛光粉主要是以多种磨料混合使用,使抛光粉的粉粒之间流动性或软硬度不能互补,主要作用是机械抛光,本申请加入草酸、草酸氢钠、硬脂酸等是机械抛光和化学抛光共同作用,抛光效果优良。
发明内容
本发明的目是提供一种大理石抛光粉的制备方法;通过以下技术方案实现,
一种大理石抛光粉的制备方法,其特征在于,该方法具有以下工艺步骤:
大理石抛光粉的制备:在研磨机中,按如下组成质量百分浓度加入,二水草酸:47~53%,三氧化二铝:12~15%,氧化锡:5~10%,研磨,混合均匀,加入草酸氢钠:6~10%,硬脂酸:15~21%,研磨,混合均匀,再加入石蜡粉:2~4%,脂肪醇聚氧***:0.3~1.0%,各组分之和为百分之百,研磨,混合均匀,即得大理石抛光粉。
大理石抛光粉的制备方法中所述的三氧化二铝与氧化锡粒径在2.0~10μm之间大理石抛光粉的制备方法中所述的三氧化二铝与氧化锡之间的质量比为2:1。大理石抛光粉的制备方法中所述的二水草酸与草酸氢钠之间的摩尔比为6:1。
大理石抛光粉的制备方法中所述的二水草酸与硬脂酸之间的的质量比为3:1。 大理石抛光粉的制备方法所制备的大理石抛光粉粒径在2.0~10μm之间。 本发明所述的颗粒度测试方法是采用激光粒度仪测得的粒度当量直径尺寸。
本发明所得到的大理石抛光粉使用方法:水与抛光粉质量比以30~60:1混合后,用于大理石抛光,每平方米大理石抛光粉用量为20~50g,抛光结束将水和剩余物吸干,水洗即可。
本发明的优点及效果是:
(1)本发明制得大理石抛光粉,含有三氧化二铝和氧化锡磨料,具有软硬互补流动性好等特点;具有很好的机械研磨能力,具有中位径粒小,粒度分布范围窄的特点。
(2)本发明获得大理石抛光粉,制备工艺简单,条件易于控制,生产成本低,易于工业化生产。
(3)本发明获得大理石抛光粉,含有由于草酸、硬脂酸的酸性成分,在抛光过程中抛光粉与大理石之间发生化学反应,具有化学抛光的特性,因此,抛光粉的抛光效果好,光泽度,可达98度以上,划痕数量少,平整度高,用量少,草酸氢钠的加入可以缓冲草酸的腐蚀性。
具体实施方式
实施例1
大理石抛光粉的制备:在研磨机中,分别加入,二水草酸:470g,三氧化二铝:150g,氧化锡:80g,研磨,混合均匀,加入草酸氢钠:100g,硬脂酸:170g,研磨,混合均匀,再加入石蜡粉:27g,脂肪醇聚氧***:3.0g,研磨,混合均匀,即得大理石抛光粉。
实施例2
大理石抛光粉的制备:在研磨机中,分别加入,二水草酸:50g,三氧化二铝:13g,氧化锡:8g,研磨,混合均匀,加入草酸氢钠:8g,硬脂酸:18g,研磨,混合均匀,再加入石蜡粉:2.5g,脂肪醇聚氧***:0.5g,研磨,混合均匀,即得大理石抛光粉。
实施例3
大理石抛光粉的制备:在研磨机中,分别加入,二水草酸:53g,三氧化二铝:12g,氧化锡:10g,研磨,混合均匀,加入草酸氢钠:6g,硬脂酸:15g,研磨,混合均匀,再加入石蜡粉:3g,脂肪醇聚氧***:1.0g,研磨,混合均匀,即得大理石抛光粉。
实施例4
大理石抛光粉的制备:在研磨机中,分别加入,二水草酸:480g,三氧化二铝:140g,氧化锡:50g,研磨,混合均匀,加入草酸氢钠:90g,硬脂酸:210g,研磨,混合均匀,再加入石蜡粉:20g,脂肪醇聚氧***:10g,研磨,混合均匀,即得大理石抛光粉。
实施例5
大理石抛光粉的制备:在研磨机中,分别加入,二水草酸:500g,三氧化二铝:130g,氧化锡:80g,研磨,混合均匀,加入草酸氢钠:80g,硬脂酸:180g,研磨,混合均匀,再加入石蜡粉:25g,脂肪醇聚氧***:5g,研磨,混合均匀,即得大理石抛光粉。
实施例6
大理石抛光粉的制备:在研磨机中,分别加入,二水草酸:52g,三氧化二铝:12g,氧化锡:6g,研磨,混合均匀,加入草酸氢钠:7g,硬脂酸:19g,研磨,混合均匀,再加入石蜡粉:3.5g,脂肪醇聚氧***:0.5g,研磨,混合均匀,即得大理石抛光粉。
实施例7
大理石抛光粉的制备:在研磨机中,分别加入,二水草酸:490g,三氧化二铝:140g,氧化锡:70g,研磨,混合均匀,加入草酸氢钠:90g,硬脂酸:160g,研磨,混合均匀,再加入石蜡粉:40g,脂肪醇聚氧***:8g,研磨,混合均匀,即得大理石抛光粉。
实施例8
大理石抛光粉的制备:在研磨机中,分别加入,二水草酸:250g,三氧化二铝:65g,氧化锡:40g,研磨,混合均匀,加入草酸氢钠:40g,硬脂酸:90g,研磨,混合均匀,再加入石蜡粉:12g,脂肪醇聚氧***:3g,研磨,混合均匀,即得大理石抛光粉。本发明所得到的大理石抛光粉使用方法:水与抛光粉质量比以30~60:1混合后,用于大理石抛光,每平方米大理石抛光粉用量为20~50g,抛光结束将水和剩余物吸干,水洗即可,建议选用扭矩大,转速一般在220~250转∕分,重量为50kg以上的晶面护理机械操作,无粉尘污染。
Claims (4)
1.一种大理石抛光粉的制备方法,其特征在于,该方法具有以下工艺步骤:
大理石抛光粉的制备:在研磨机中,按如下组成质量百分浓度加入,二水草酸:47~53%,三氧化二铝:12~15%,氧化锡:5~10%,研磨,混合均匀,加入草酸氢钠:6~10%,硬脂酸:15~21%,研磨,混合均匀,再加入石蜡粉:2~4%,脂肪醇聚氧***:0.3~1.0%,各组分之和为百分之百,研磨,混合均匀,即得大理石抛光粉,其粒径在2.0~10μm之间。
2.根据权利要求1所述的一种大理石抛光粉的制备方法,其特征在于,所述的三氧化二铝与氧化锡之间的质量比为2:1。
3.根据权利要求1所述的一种大理石抛光粉的制备方法,其特征在于,中所述的二水草酸与草酸氢钠之间的摩尔比为6:1。
4.根据权利要求1所述的一种大理石抛光粉的制备方法,其特征在于,所述的二水草酸与硬脂酸之间的的质量比为3:1。
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