CN107271450A - 一种聚酰胺/氮化硅膜致密性的检测方法 - Google Patents

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Abstract

本发明提供了一种聚酰胺/氮化硅膜致密性的检测方法,包括使用碱性溶液流平或者浸泡已制备聚酰胺/氮化硅钝化膜的玻璃基板;然后将玻璃基板清洗并干燥,之后检测玻璃基板上的异常点并对异常点修复。本发明提供的检测方法填补了PA‑SiNx膜致密性检测的空白。对PA‑SiNx膜致密性检测使用的碱性溶液可以使用现有的光阻剥离液,原料工艺成熟,具有实用价值。

Description

一种聚酰胺/氮化硅膜致密性的检测方法
技术领域
本发明属于液晶显示器检测领域,具体涉及一种聚酰胺/氮化硅膜致密性的检测方法。
背景技术
在液晶显示器的制备过程中,聚酰胺/氮化硅(PA-SiNx)制程后的ITO(氧化铟锡)制程刻蚀采用的是具有高腐蚀性的溶液。PA-SiNx膜能够保证内部材料免于碱性离子和金属的污染,并且对材料的机械和化学损伤具有一定的保护能力,并且PA-SiNx膜的耐湿性好,可以降低背沟道电荷积累。PA-SiNx膜对保证液晶显示器的性能具有重要的作用。目前,对PA-SiNx膜的检测只能根据玻璃基板(Panel)***设计量测PA-SiNx膜厚。但是并没有检测PA-SiNx膜致密性的方法,对PA-SiNx膜的检测存在盲点。然而,如果PA-SiNx膜的致密不佳,在PA-SiNx之后的制程中的金属粒子进入PA-SiNx膜的下方使下方膜层受到腐蚀,影响TFT(薄膜晶体管)的性能。因此,需要寻找一种检测PA-SiNx膜致密性的方法。
发明内容
本发明的目的在于提供一种检测PA-SiNx膜致密性的方法,本发明的检测方法使用碱性溶液浸泡或者流平经过PA-SiNx制程的玻璃基板,然后清洗、干燥检测异常点并通过点胶的方式进行修复。
本发明通过如下方式实现:
一种聚酰胺/氮化硅膜致密性的检测方法,包括:
步骤I:使用碱性溶液流平或者浸泡已制备聚酰胺/氮化硅膜的玻璃基板;
步骤II:将流平或浸泡后的玻璃基板清洗,以除去剥离物和碱性溶液,然后将玻璃基板干燥;
步骤III:检测玻璃基板上的异常点并对异常点修复。
本发明中,所述碱性溶液可以使用在液晶面板重工制程中使用的光阻剥离剂,包括碱性化合物和极性溶剂。现有的光阻剥离剂只要不对PA-SiNx膜有损伤,均可以用于本发明。优选地,所述碱性化合物选自KOH、乙醇胺和三乙醇胺中的一种或多种。所述极性溶剂选自二甲亚砜、醇和醚中的一种或多种。醇和醚的例子可以为常用的甲醇、乙醇、异丙醇、正丙醇、正丁醇、1-戊醇、正己醇、甲醚、***、甲***、正丙醚、正丁醚和四氢呋喃中的一种或多种。
本发明使用碱性溶液流平或者浸泡经聚酰胺/氮化硅制程后的玻璃基板,在PA-SiNx膜致密性不佳处,碱性溶液中的OH-会通过PA-SiNx膜的缝隙浸入,与PA-SiNx膜下方的有机层反应,膨胀和剥离有机层,形成色阻空洞,导致PA-SiNx坍塌。
根据本发明的优选实施方式,所述碱性溶液中进一步还加入金属腐蚀抑制剂,以防止碱性溶液对PA-SiNx膜下方金属的腐蚀。
根据本发明,在步骤I中,流平和浸泡过程中,优选的控制碱性溶液的温度为50℃-200℃,浸泡时间为20s-400s。碱性溶液的温度和浸泡时间根据膜的厚度调整,发明人研究发现,过低的温度不利于碱性溶液与PA-SiNx膜下方的有机膜层反应,检测速度慢,但是过高的温度会导致碱性溶液对PA-SiNx膜下方有机膜层的破坏严重,对性能不利。
本发明中,使用碱性溶液流平或者浸泡经聚酰胺/氮化硅制程后的玻璃基板之后,用蒸馏水清洗流平或浸泡后的玻璃基板,将碱性溶液以及剥离物清洗掉,并将玻璃基板干燥,可以采用风刀吹干或者采用加热蒸干的方式进行干燥。
本发明中,玻璃基板经过清洗和干燥后,检测玻璃基板上的异常点并对异常点修复。检测玻璃基板上异常点采用自动光学检查方法,通常使用产线的自动光学显微镜扫描玻璃基板,如果发现玻璃基板表面的PA-SiNx膜有裂纹,则将此异常点位置上报***,进行修补,在步骤III中采用点胶的方式修复异常点。优选地,采用将甲基丙烯酸甲酯或光阻剂点入聚酰胺/氮化硅膜下方的色阻空洞中,然后进行单点光照射聚合以修复异常点。
在本发明的一些实施方式中通过将甲基丙烯酸甲酯滴入异常点处PA-SiNx膜下方的色阻空洞中单点照射光聚合以修复异常点。在另一些实施方式中通过将红色、绿色和/或蓝色光阻剂滴入异常点处PA-SiNx膜下方相对应的色阻空洞中单点照射光聚合以修复异常点。
在步骤III中通过自动光学检测设备检测PA-SiNx膜异常点时,如果发现表面的PA-SiNx膜有裂纹,则说明此处的膜层较其他地方偏薄或者膜质较差,使得碱性溶液进入色阻层,造成PA-SiNx膜的异常。
本发明的有益效果为:
(1)本发明提供了一种PA-SiNx膜致密性的检测方法,填补了PA-SiNx膜致密性检测的空白。
(2)本发明中PA-SiNx膜致密性的检测是在液晶面板制备过程中进行检测并提供了修补措施,相比成品检测更及时有效。
(3)本发明对PA-SiNx膜致密性检测使用的碱性溶液可以使用现有的光阻剥离液,原料工艺成熟,具有实用价值。
附图说明
图1是在光学显微镜下观察的经过流平或浸泡处理,并清洗干燥后的PA-SiNx膜;
图2是在聚焦离子束显微镜下观察的图1中PA-SiNx膜中的异常点的图片;
其中,1PA-SiNx裂缝,2PA-SiNx膜,3光阻层。
具体实施方式
以下结合实施例对本发明进行详细说明,但本发明并不受下述实施例限定。
一种聚酰胺/氮化硅膜致密性的检测方法,包括:
步骤I:使用碱性溶液流平或者浸泡经聚酰胺/氮化硅制程后的玻璃基板;
步骤II:将流平或浸泡后的玻璃基板清洗,以除去剥离物和碱性溶液,然后将玻璃基板干燥;
步骤III:检测玻璃基板上的异常点并修复。
本发明中,所述碱性溶液可以使用在液晶面板重工制程中使用的光阻剥离剂,包括碱性化合物和极性溶剂。现有的光阻剥离剂只要不对PA-SiNx膜有损伤,均可以用于本发明。优选地,所述碱性化合物选自KOH、乙醇胺和三乙醇胺中的一种或多种。所述极性溶剂选自二甲亚砜、醇和醚中的一种或多种。醇和醚的例子可以为常用的甲醇、乙醇、异丙醇、正丙醇、正丁醇、1-戊醇、正己醇、甲醚、***、甲***、正丙醚、正丁醚和四氢呋喃中的一种或多种。
本发明使用碱性溶液流平或者浸泡经聚酰胺/氮化硅制程后的玻璃基板,在PA-SiNx膜致密性不佳处,碱性溶液中的OH-会通过PA-SiNx膜的缝隙浸入,与PA-SiNx膜下方的有机层反应,膨胀和剥离有机层,形成色阻空洞,导致PA-SiNx坍塌。
本发明的一些实施方式中,所述碱性溶液中进一步还加入金属腐蚀抑制剂,以防止碱性溶液对PA-SiNx膜下方金属的腐蚀。
本发明的实施方式中,在步骤I中,流平和浸泡过程中,优选的控制碱性溶液的温度为50℃-200℃,浸泡时间为20s-400s,在大气湿度下即可。
本发明的实施方式中,使用碱性溶液流平或者浸泡经聚酰胺/氮化硅制程后的玻璃基板之后,用蒸馏水清洗流平或浸泡后的玻璃基板,将碱性溶液以及剥离物清洗掉,并将玻璃基板干燥,可以采用风刀吹干或者采用加热蒸干的方式进行干燥。
本发明的实施方式中,玻璃基板经过清洗和干燥后,检测玻璃基板上的异常点并对异常点修复。检测玻璃基板上异常点采用自动光学检查方法,通常使用产线的自动光学显微镜扫描玻璃基板检查异常点,如果发现玻璃基板表面的PA-SiNx膜有裂纹,则将此异常点位置上报***,进行修补,在步骤III中采用点胶的方式修复异常点。优选地,采用将甲基丙烯酸甲酯或红色、绿色和/或蓝色光阻剂点入聚酰胺/氮化硅膜下方的色阻空洞中,然后进行单点光照射聚合以修复异常点。
在本发明的一些实施方式中通过将甲基丙烯酸甲酯滴入异常点处PA-SiNx膜下方的色阻空洞中单点照射光聚合以修复异常点。在另一些实施方式中通过将红色光阻剂、绿色光阻剂和/或蓝色光阻剂滴入异常点处PA-SiNx膜下方对应的色阻空洞中单点照射光聚合以修复异常点。
实施例1
一种聚酰胺/氮化硅膜致密性的检测方法,包括如下步骤:
(1)将经过PA-SiNx制程的玻璃基板浸入装有碱性溶液的液槽中。使用的碱性溶液以重量份数计包括40份乙醇胺,50份二甲亚砜(DMSO),9份金属腐蚀抑制剂以及1份水。浸泡时间为90s,碱性溶液温度为140℃。
(2)将经过碱性溶液浸泡的玻璃基板浸入清洗段,在该过程中使用蒸馏水清洗除去玻璃基板表面的碱性溶液和剥离物,之后将玻璃基板用加热蒸干的方式进行干燥。
(3)将清洗和干燥后的玻璃基板通过产线的自动光学显微镜扫描,将玻璃基板上PA-SiNx膜表面有裂纹位置处的坐标上报***。之后根据***上报的异常坐标,采用点胶的方式,通过将甲基丙烯酸甲酯点入PA-SiNx膜下方的色阻空洞中(不区分色阻颜色),进行单点紫外光固化,以修复被碱性溶液侵蚀的有机膜层材料。
实施例2
一种聚酰胺/氮化硅膜致密性的检测方法,包括如下步骤:
(1)将经过PA-SiNx制程的玻璃基板浸入装有碱性溶液的液槽中。使用的碱性溶液以重量份数计包括35份乙醇胺,54份乙醇,10份金属腐蚀抑制剂以及1份水。浸泡时间为20s,碱性溶液温度为200℃。
(2)将经过碱性溶液浸泡的玻璃基板浸入清洗段,在该过程中使用蒸馏水清洗除去玻璃基板表面的碱性溶液和剥离物,之后将玻璃基板用风刀吹干的方式进行干燥。
(3)将清洗和干燥后的玻璃基板通过产线的自动光学显微镜扫描,将玻璃基板上PA-SiNx膜表面有裂纹位置处的坐标上报***。之后根据***上报的异常坐标,采用点胶的方式,将红色光阻剂、绿色光阻剂和/或蓝色光阻剂分别点入PA-SiNx膜下方对应的色阻空洞中,进行单点紫外光固化,以修复被碱性溶液侵蚀的有机膜层材料。
实施例3
一种聚酰胺/氮化硅膜致密性的检测方法,包括如下步骤:
(1)将经过PA-SiNx制程的玻璃基板浸入装有碱性溶液的液槽中。使用的碱性溶液以重量份数计包括40份KOH,53份丙三醇,5份金属腐蚀抑制剂以及2份水。浸泡时间为400s,碱性溶液温度为20℃。
(2)将经过碱性溶液浸泡的玻璃基板浸入清洗段,在该过程中使用蒸馏水清洗除去玻璃基板表面的碱性溶液和剥离物,之后将玻璃基板用风刀吹干的方式进行干燥。
(3)将清洗和干燥后的玻璃基板通过产线的自动光学显微镜扫描,将玻璃基板上PA-SiNx膜表面有裂纹位置处的坐标上报***。之后根据***上报的异常坐标,采用点胶的方式,将红色光阻剂、绿色光阻剂和/或蓝色光阻剂分别点入PA-SiNx膜下方对应的色阻空洞中,进行单点紫外光固化,以修复被碱性溶液侵蚀的有机膜层材料。
实施例4
一种聚酰胺/氮化硅膜致密性的检测方法,包括如下步骤:
(1)将经过PA-SiNx制程的玻璃基板浸入装有碱性溶液的液槽中。使用的碱性溶液以重量份数计包括24份三乙醇胺,67份***,6份金属腐蚀抑制剂以及4份水。浸泡时间为150s,碱性溶液温度为160℃。
(2)将经过碱性溶液浸泡的玻璃基板浸入清洗段,在该过程中使用蒸馏水清洗除去玻璃基板表面的碱性溶液和剥离物,之后将玻璃基板用风刀吹干的方式进行干燥。
(3)将清洗和干燥后的玻璃基板通过产线的自动光学显微镜扫描,将玻璃基板上PA-SiNx膜表面有裂纹位置处的坐标上报***。之后根据***上报的异常坐标,采用点胶的方式,将红色光阻剂、绿色光阻剂和/或蓝色光阻剂分别点入PA-SiNx膜下方对应的色阻空洞中,进行单点紫外光固化,以修复被碱性溶液侵蚀的有机膜层材料。
以上所述仅为本发明的较佳实施例,并不用以限制本发明,凡在本发明的精神和原则之内,所作的任何修改、等同替换、改进等,均应包含在本发明的保护范围之内。

Claims (10)

1.一种聚酰胺/氮化硅膜致密性的检测方法,包括:
步骤I:使用碱性溶液流平或者浸泡已制备聚酰胺/氮化硅膜的玻璃基板;
步骤II:将流平或浸泡后的玻璃基板清洗,以除去剥离物和碱性溶液,然后将玻璃基板干燥;
步骤III:检测玻璃基板上的异常点并对异常点修复。
2.根据权利要求1所述的方法,其特征在于,所述碱性溶液为光阻剥离剂。
3.根据权利要求1或2所述的方法,其特征在于,所述碱性溶液包括碱性化合物和极性溶剂。
4.根据权利要求3所述的方法,其特征在于,所述碱性化合物选自KOH、乙醇胺和三乙醇胺中的一种或多种,和/或所述极性溶剂选自二甲亚砜、醇和醚中的一种或多种。
5.根据权利要求1所述的方法,其特征在于,所述碱性溶液还包括金属腐蚀抑制剂。
6.根据权利要求1所述的方法,其特征在于,在步骤I中,碱性溶液的温度为50℃-200℃,流平或浸泡时间为20s-400s。
7.根据权利要求1所述的方法,其特征在于,使用蒸馏水清洗流平或浸泡后的玻璃基板。
8.根据权利要求1所述的方法,其特征在于,在步骤III中,检测玻璃基板上异常点采用自动光学检查方法:通过自动光学显微镜扫描玻璃基板,如果发现玻璃基板的表面有裂纹,则此处为异常点,将此异常点位置的坐标上报***。
9.根据权利要求1所述的方法,其特征在于,在步骤III中采用点胶的方式修复异常点。
10.根据权利要求1所述的方法,其特征在于,在步骤III中采用将甲基丙烯酸甲酯或光阻剂点入异常点处聚酰胺/氮化硅膜下方进行光聚合修复。
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