CN107265863A - 一种具有铁红金圈釉层的青瓷及其制备方法 - Google Patents

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Abstract

本发明属于瓷器制备技术领域，公开了一种具有铁红金圈釉层的青瓷及其制备方法，所述青瓷包括坯体和釉层，所述釉层包括铁红金圈釉层和青色釉层；所述青瓷的制备方法包括：坯体的制备、釉料的制备及上釉、釉烧。本发明制备的青瓷晶花成冰晶状，分布均匀，立体感强，具有很好的装饰效果，制备工艺操作简单、烧成周期短，易于工业化推广。

Description

一种具有铁红金圈釉层的青瓷及其制备方法
技术领域
本发明属于瓷器制备技术领域，具体涉及一种具有铁红金圈釉层的青瓷及其制备方法。
背景技术
青瓷是一种表面施有青色釉的瓷器，是汉族陶瓷烧制工艺的珍品，青瓷以其瓷质细腻，线条明快流畅、造型端庄浑朴以及色泽纯洁而斑斓著称于世。青瓷色调的形成，主要是胎釉中含有一定量的氧化铁，在还原焰气氛中焙烧所致。
铁红金圈釉是一种很特殊的名贵结晶釉，属于典型的分相花釉，烧成曲线特殊。其釉面呈茶褐色或海参棕色的底色，其上分布有富铁的桔红色球状或荷叶状孤立的花朵结晶大红花图形，中心为黄芯，有的大如蚕豆，有的小似豌豆，还有的在红色花朵中穿插银灰色的条状丝纹，绚丽多彩，更使整个器皿具有珍奇、高贵和庄重的质感。铁红金圈釉在光照下折射处闪耀的光芒，具有强烈的立体感和艺术效果，这种独特的艺术效果使陶瓷制品身价倍增。若能将青色釉与铁红金圈釉完美的结合起来涂在陶瓷的表面，形成铁红金圈釉青瓷将会给人以强烈的艺术效果，从而深受人们的喜爱。
然而，铁红金圈釉属于分相花釉，其需要大量磷酸钙才能产生分相效果，所以其釉水膨胀系数很高，存在剥釉缺陷，又高温条件下其粘度低，故易产生流釉缺陷；此外，铁红金圈釉的烧成制度与青色釉也不尽相同，因此，如何实现青色釉与铁红金圈釉的稳定完美结合，成为该领域亟需解决的难题。
发明内容
因此，本发明旨在将青色釉与铁红金圈釉完美的结合起来，进而提供一种具有铁红金圈釉层的青瓷及其制备方法。
一种青瓷，包括坯体和釉层，所述釉层包括铁红金圈釉层和青色釉层。
优选的是，所述铁红金圈釉层的组成按重量份计，包括：
所述Na2O与的质量比为K2O为1:30～50。
优选的是，所述铁红金圈釉层的厚度为0.05～0.25mm。
更有选的是，所述铁红金圈釉层的厚度为0.1～0.2mm。
优选的是，所述铁红金圈釉中有直径为5～10mm的晶花。
优选的是，制成所述坯体的泥料按重量份计，包括：
所述Na2O与的质量比为K2O为1:30～50。
上述所述青瓷的制备方法，包括：
S1、坯体的制备：将SiO2、Al2O3、MgO、CaO、K2O-Na2O及Fe2O3按坯体配方称重混合送入球磨机内，加入球和水一起进行球磨12～18小时，球磨后经过筛、除铁、真空压滤、练泥、滚压成型、干燥、素烧，得到所述青瓷坯体；
S2、釉料的制备及上釉：将青瓷原料组分混合，经球磨、过筛、除铁得到青釉浆料，利用所述青釉浆料对所述青瓷坯体实施第一次上釉，第一次上釉时间为5～8s，自然干燥至干；将铁红金圈釉原料组分混合，依次经球磨、过筛、除铁得到铁红金圈釉浆料，对第一次上釉后的所述青瓷坯体实施第二次上釉，所述第二次上釉的厚度为0.05～0.25mm；
S3、釉烧：对已上釉的青瓷坯体进行釉烧，得到所述青瓷。
优选的是，所述S1步骤，按重量比，组合物料：球：水为1:1.5～2:0.5～0.6；研磨所得坯体浆料细度过60～80目筛，筛余0.6～1.0％，坯体浆料含水率为30～33％；素烧温度为800～850℃，烧制时间为4～6h。
优选的是，所述S3步骤中釉烧的过程包括：
第一阶段：釉烧温度为常温～500℃，釉烧时间为120～200min；
第二阶段：釉烧温度为500～950℃，釉烧时间为60～120min；
第三阶段：釉烧温度为950～1100℃，釉烧时间为20～40min；
第四阶段：釉烧温度为1100～1200℃，釉烧时间为10～25min；
第五阶段：釉烧温度为1200～1280℃，釉烧时间为10～20min，保温20～40min；
第六阶段：釉烧温度为1280～常温，自然冷却即得所述青瓷。
优选的是，所述釉烧过程中，温度在常温～950℃区间内，使用氧化焰；950～1280℃区间内，采用还原焰。
本发明的技术方案，具有如下优点：
1.本发明提供了一种新型青瓷泥料的配方，所述青瓷泥料能同时适应青色釉与铁红金圈釉的烧制要求。
2.本发明提供了新的铁红金圈釉的配方，调整了Na2O与K2O的配比，降低了釉的熔融温度和高温粘度，使釉具有良好的透明度和光泽度，同时解决了现有的铁红金圈釉配方存在剥釉和流釉的缺陷。
3.本发明提供了一种具有铁红金圈釉层的青瓷的制备方法，所述方法调整了青瓷的烧成制度，保证了青瓷釉色、釉面的同时，还能使铁红金圈釉的效果充分呈现出来。
4.本发明提供的一种具有铁红金圈结晶釉层的青瓷的制备方法，该方法操作简单、晶花成冰晶状，分布均匀，立体感强，具有很好的装饰效果，烧成周期短，易于工业化推广。
附图说明
图1为本发明的一种具有铁红金圈釉层的青瓷制备的工艺流程图。
具体实施方式
下面将对本发明的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例是本发明一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本发明保护的范围。此外，下面所描述的本发明不同实施方式中所涉及的技术特征只要彼此之间未构成冲突就可以相互结合。
实施例1：
一种具有铁红金圈结晶釉层的青瓷，包括坯体和釉层，所述釉层有两层，分别为青色釉和铁红金圈釉层。铁红金圈釉由以下原料组分制成：SiO2 25g，AL2O3 5.5g，MgO 3.5g，CaO 16g，K2O 1g，Na2O 4g，ZnO 18g，Fe2O3 10g。
本实施例中，所述铁红金圈釉层的厚度为0.1～0.2mm，所述铁红金圈釉的晶花直径为8mm。
本实施例中，制成所述坯体的泥料组分为：SiO2 65g、Al2O3 18g、MgO 1g、CaO 1g、K2O 0.02g，Na2O 0.8g。
上述具有铁红金圈结晶釉层的青瓷通过如下方法制备得到：
S1、坯体的制备：将SiO2、Al2O3、MgO、CaO及K2O-Na2O按坯体配方称重混合送入球磨机内，按照重量比计算，组合物料：球：水为1：1.6:0.6，加入球和水一起进行球磨16小时，球磨后经过筛(80目)，筛余0.8％、除铁、真空压滤、练泥、滚压成型、干燥、素烧，素烧温度控制在820～830℃，烧制时间为5h，得到所述青瓷坯体。
S2、釉料的制备及上釉：采用现有技术中的青色釉原料组分混合，本实施中青色釉原料组分为：SiO2 62.88g、Al2O3 12.85g、Fe2O3 2.21g、CaO 10.82g、MgO1.24g、Na2O 1.26g、K2O 4.10g、ZnO 1.98g，将原料组合物经球磨、过筛(120目)、除铁得到青釉浆料，利用所述青釉浆料对所述青瓷坯体实施第一次上釉，第一次上釉时间为5～8s，自然干燥至干；将铁红金圈釉原料组分混合，依次经球磨、过筛、除铁得到铁红金圈釉浆料，对第一次上釉后的所述青瓷坯体实施第二次上釉，所述第二次上釉的厚度为0.1～0.2mm；
S3、釉烧：对已上釉的青瓷坯体进行釉烧，得到所述青瓷，所述釉烧的过程包括：
第一阶段：釉烧温度为常温～500℃，釉烧时间为120～200min；
第二阶段：釉烧温度为500～950℃，釉烧时间为60～120min；
第三阶段：釉烧温度为950～1100℃，釉烧时间为20～40min；
第四阶段：釉烧温度为1100～1200℃，釉烧时间为10～25min；
第五阶段：釉烧温度为1200～1280℃，釉烧时间为10～20min，保温20～40min；
第六阶段：釉烧温度为1280～常温，自然冷却即得所述青瓷。
本实施例中，所述釉烧过程中，温度在常温～950℃区间内，使用氧化焰；950～1280℃区间内，采用还原焰。
实施例2
一种具有铁红金圈结晶釉层的青瓷，包括坯体和釉层，所述釉层有两层，分别为青色釉和铁红金圈釉层。铁红金圈釉由以下原料组分制成：SiO2 20g，Al2O3 5.0g，MgO 3.0g，CaO 12g，K2O 1g，Na2O 5g，ZnO 15g，Fe2O3 12g。
本实施例中，所述铁红金圈釉层的厚度为0.2～0.25mm，所述铁红金圈釉的晶花直径为5mm。
本实施例中，制成所述坯体的泥料组分为：SiO2 60g、Al2O315g、MgO 1g、CaO 1g、K2O 0.04g，Na2O 1.6g。
上述具有铁红金圈结晶釉层的青瓷通过如下方法制备得到：
S1、坯体的制备：将SiO2、Al2O3、MgO、CaO及K2O-Na2O按坯体配方称重混合送入球磨机内，按照重量比计算，组合物料：球：水为1：1.5:0.6，加入球和水一起进行球磨12小时，球磨后经过筛(80目)，筛余0.6％、除铁、真空压滤、练泥、滚压成型、干燥、素烧，素烧温度控制在800～820℃，烧制时间为6h，得到所述青瓷坯体。
S2、釉料的制备及上釉：采用现有技术中的青色釉原料组分混合，本实施中青色釉原料组分为：SiO2 62.88g、Al2O3 12.85g、Fe2O3 2.21g、CaO 10.82g、MgO1.24g、Na2O 1.26g、K2O 4.10g、ZnO 1.98g，将原料组合物经球磨、过筛(120目)、除铁得到青釉浆料，利用所述青釉浆料对所述青瓷坯体实施第一次上釉，第一次上釉时间为5～8s，自然干燥至干；将铁红金圈釉原料组分混合，依次经球磨、过筛、除铁得到铁红金圈釉浆料，对第一次上釉后的所述青瓷坯体实施第二次上釉，所述第二次上釉的厚度为0.2～0.25mm；
S3、釉烧：对已上釉的青瓷坯体进行釉烧，得到所述青瓷，所述釉烧的过程包括：
第一阶段：釉烧温度为常温～500℃，釉烧时间为120～200min；
第二阶段：釉烧温度为500～950℃，釉烧时间为60～120min；
第三阶段：釉烧温度为950～1100℃，釉烧时间为20～40min；
第四阶段：釉烧温度为1100～1200℃，釉烧时间为10～25min；
第五阶段：釉烧温度为1200～1280℃，釉烧时间为10～20min，保温20～40min；
第六阶段：釉烧温度为1280～常温，自然冷却即得所述青瓷。
本实施例中，所述釉烧过程中，温度在常温～950℃区间内，使用氧化焰；950～1280℃区间内，采用还原焰。
实施例3
一种具有铁红金圈结晶釉层的青瓷，包括坯体和釉层，所述釉层有两层，分别为青色釉和铁红金圈釉层。铁红金圈釉由以下原料组分制成：SiO2 30g，Al2O3 6.0g，MgO 4.0g，CaO 20g，K2O 0.16g，Na2O 4.84g，ZnO 20g，Fe2O3 15g。
本实施例中，所述铁红金圈釉层的厚度为0.05～0.1mm，所述铁红金圈釉的晶花直径为10mm。
本实施例中，制成所述坯体的泥料组分为：SiO2 70g、Al2O3 20g、MgO 2g、CaO 2g、K2O 0.03g，Na2O 0.97g。
上述具有铁红金圈结晶釉层的青瓷通过如下方法制备得到：
S1、坯体的制备：将SiO2、Al2O3、MgO、CaO及K2O-Na2O按坯体配方称重混合送入球磨机内，按照重量比计算，组合物料：球：水为1：2:0.5，加入球和水一起进行球磨18小时，球磨后经过筛(80目)，筛余1.0％、除铁、真空压滤、练泥、滚压成型、干燥、素烧，素烧温度控制在830～850℃，烧制时间为4h，得到所述青瓷坯体。
S2、釉料的制备及上釉：采用现有技术中的青色釉原料组分混合，本实施中青色釉原料组分为：SiO2 62.88g、Al2O3 12.85g、Fe2O3 2.21g、CaO 10.82g、MgO1.24g、Na2O 1.26g、K2O 4.10g、ZnO 1.98g，将原料组合物经球磨、过筛(120目)、除铁得到青釉浆料，利用所述青釉浆料对所述青瓷坯体实施第一次上釉，第一次上釉时间为5～8s，自然干燥至干；将铁红金圈釉原料组分混合，依次经球磨、过筛、除铁得到铁红金圈釉浆料，对第一次上釉后的所述青瓷坯体实施第二次上釉，所述第二次上釉的厚度为0.05～0.1mm；
S3、釉烧：对已上釉的青瓷坯体进行釉烧，得到所述青瓷，所述釉烧的过程包括：
第一阶段：釉烧温度为常温～500℃，釉烧时间为120～200min；
第二阶段：釉烧温度为500～950℃，釉烧时间为60～120min；
第三阶段：釉烧温度为950～1100℃，釉烧时间为20～40min；
第四阶段：釉烧温度为1100～1200℃，釉烧时间为10～25min；
第五阶段：釉烧温度为1200～1280℃，釉烧时间为10～20min，保温20～40min；
第六阶段：釉烧温度为1280～常温，自然冷却即得所述青瓷。
本实施例中，所述釉烧过程中，温度在常温～950℃区间内，使用氧化焰；950～1280℃区间内，采用还原焰。
显然，上述实施例仅仅是为清楚地说明所作的举例，而并非对实施方式的限定。对于所属领域的普通技术人员来说，在上述说明的基础上还可以做出其它不同形式的变化或变动。这里无需也无法对所有的实施方式予以穷举。而由此所引伸出的显而易见的变化或变动仍处于本发明创造的保护范围之中。

Claims (10)

1.一种青瓷，包括坯体和釉层，其特征在于，所述釉层包括铁红金圈釉层和青色釉层。
2.根据权利要求1所述的青瓷，其特征在于，所述铁红金圈釉层的组成按重量份计，包括：
所述Na2O与的质量比为K2O为1:30～50。
3.根据权利要求1或2所述的青瓷，其特征在于，所述铁红金圈釉层的厚度为0.05～0.25mm。
4.根据权利要求3所述的青瓷，其特征在于，所述铁红金圈釉层的厚度为0.1～0.2mm。
5.根据权利要求4所述的青瓷，其特征在于，所述铁红金圈釉中有直径为5～10mm的晶花。
6.根据权利要求1所述的青瓷，其特征在于，制成所述坯体的泥料按重量份计，包括：
所述Na2O与的质量比为K2O为1:30～50。
7.权利要求1-6任一项所述青瓷的制备方法，其特征在于，包括：
S1、坯体的制备：将SiO2、Al2O3、MgO、CaO、K2O-Na2O及Fe2O3按坯体配方称重混合送入球磨机内，加入球和水一起进行球磨12～18小时，球磨后经过筛、除铁、真空压滤、练泥、滚压成型、干燥、素烧，得到所述青瓷坯体；
S2、釉料的制备及上釉：将青色釉原料组分混合，经球磨、过筛、除铁得到青釉浆料，利用所述青色釉浆料对所述坯体实施第一次上釉，第一次上釉时间为5～8s，自然干燥至干；将铁红金圈釉原料组分混合，依次经球磨、过筛、除铁得到铁红金圈釉浆料，对第一次上釉后的所述坯体实施第二次上釉，所述第二次上釉的厚度为0.05～0.25mm；
S3、釉烧：对已上釉的坯体进行釉烧，得到所述青瓷。
8.根据权利要求7所述的制备方法，其特征在于，所述S1步骤，按重量比，组合物料：球：水为1:1.5～2:0.5～0.6；研磨所得坯体浆料细度过60～80目筛，筛余0.6～1.0％，坯体浆料含水率为30～33％；素烧温度为800～850℃，烧制时间为4～6h。
9.根据权利要求8所述的制备方法，其特征在于，所述S3步骤中釉烧的过程包括：
第一阶段：釉烧温度为常温～500℃，釉烧时间为120～200min；
第二阶段：釉烧温度为500～950℃，釉烧时间为60～120min；
第三阶段：釉烧温度为950～1100℃，釉烧时间为20～40min；
第四阶段：釉烧温度为1100～1200℃，釉烧时间为10～25min；
第五阶段：釉烧温度为1200～1280℃，釉烧时间为10～20min，保温20～40min；
第六阶段：釉烧温度为1280～常温，自然冷却即得所述青瓷。
10.根据权利要求9所述的制备方法，其特征在于，所述釉烧过程中，温度在常温～950℃区间内，使用氧化焰；950～1280℃区间内，采用还原焰。
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