CN107255891B - 一种显示装置的制作方法 - Google Patents
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Abstract
本发明提供了一种显示装置的制作方法,包括:提供一第一基板;在第一基板上形成第一配向层;使用第一光源对位于第一基板的第一配向层曝光配向;提供一第二基板;在第二基板上形成第二配向层;在第一基板和第二基板之间注入液晶,并将第一基板和第二基板组立形成显示装置;使用第二光源对位于第二基板的第二配向层曝光配向;第一配向层和第二配向层分别设置于第一基板和第二基板相对一侧。实现了对将遮光层和间隔单元放置到第一基板上的显示装置中液晶分子的配向。
Description
技术领域
本发明实施例涉及显示技术,尤其涉及一种显示装置的制作方法。
背景技术
现有技术中,一般将阵列基板和彩膜基板中的配向层进行配向处理,将液晶分子封装在阵列基板和彩膜基板之间,液晶分子在配向层的作用下完成配向。液晶分子的配向目前主要采用两种配向方法,即摩擦配向和光配向。摩擦配向会产生静电和颗粒的污染,而光配向相对来说是一种更好的配型方法。
使用光配向技术在彩膜基板上形成配向层的过程为:使用一定功率、波长的光,一般为紫外光,通过掩膜版对配向层进行光照处理。其中,掩膜版包括透光区域和不透光区域,掩膜版上的透光区域需要和彩膜基板上的待配向层中的待配向区域相对应,故需要通过遮光层或间隔单元作为参考将掩膜版和彩膜基板进行对位。但是对于将遮光层和间隔单元放置到阵列基板上的显示装置来说,无法对彩膜基板中配向层曝光配向,进而无法对液晶分子进行配向。
发明内容
本发明实施例提供一种显示装置的制作方法,以实现对将遮光层和间隔单元放置到第一基板上的显示装置中液晶分子的配向。
本发明实施例提供了一种显示装置的制作方法,所述方法包括:
提供一第一基板;
在所述第一基板上形成第一配向层;
使用第一光源对位于所述第一基板的所述第一配向层曝光配向;
提供一第二基板;
在所述第二基板上形成第二配向层;
在所述第一基板和第二基板之间注入液晶,并将所述第一基板和所述第二基板组立形成所述显示装置;
使用第二光源对位于所述第二基板的所述第二配向层曝光配向;所述第一配向层和所述第二配向层分别设置于所述第一基板和所述第二基板相对一侧。
可选地,对位于所述第一基板的所述第一配向层曝光配向后所述第一配向层的分子链方向,与对位于所述第二基板的所述第二配向层曝光配向后所述第二配向层的分子链方向垂直。
可选地,所述第一基板包括多条数据线和多条扫描线,所述多条数据线和所述多条扫描线绝缘交叉限定出多个子像素;每一所述子像素包括多个显示畴区;
沿所述数据线延伸方向,相邻两个显示畴区对应的第一基板的第一配向层的分子链方向相反;沿所述扫描线延伸方向,相邻两个显示畴区对应的第一基板的第一配向层的分子链方向相同;沿扫描线延伸方向,相邻两个显示畴区对应的第二基板的第二配向层的分子链方向相反;沿数据线延伸方向,相邻两个显示畴区对应的第二基板的第二配向层的分子链方向相同;
或者,
沿所述扫描线延伸方向,相邻两个显示畴区对应的第一基板的第一配向层的分子链方向相反;沿所述数据线延伸方向,相邻两个显示畴区对应的第一基板的第一配向层的分子链方向相同;沿数据线延伸方向,相邻两个显示畴区对应的第二基板的第二配向层的分子链方向相反;沿扫描线延伸方向,相邻两个显示畴区对应的第二基板的第二配向层的分子链方向相同。
可选地,所述第一基板包括多条数据线和多条扫描线,所述多条数据线和所述多条扫描线绝缘交叉限定出多个子像素;每个所述子像素包括呈2×2矩阵排列的第一显示畴区、第二显示畴区、第三显示畴区以及第四显示畴区;其中,所述第一显示畴区和所述第二显示畴区同行设置,所述第三显示畴区和所述第四显示畴区同行设置;所述第一显示畴区和所述第三显示畴区同列设置;所述第二显示畴区和所述第四显示畴区同列设置;
其中,所述使用第一光源对位于所述第一基板的所述第一配向层曝光配向包括以下步骤:
对第一显示畴区和第三显示畴区对应的第一基板上的第一配向层曝光配向,第一掩膜版漏出每一所述子像素的所述第一显示畴区和第三显示畴区,使所述第一显示畴区和第三显示畴区对应的第一基板上的第一配向层的分子链方向为第一方向;
对第二显示畴区和第四显示畴区对应的第一基板上的第一配向层曝光配向,所述第一掩膜版漏出每一所述子像素的所述第二显示畴区和第四显示畴区,使所述第二显示畴区和第四显示畴区对应的第一基板上的第一配向层的分子链方向为第二方向;所述第一方向和所述第二方向相反;
其中,所述使用第二光源对位于所述第二基板的所述第二配向层曝光配向包括以下步骤:
对第一显示畴区和第二显示畴区对应的第二基板上的第二配向层曝光配向,第二掩膜版漏出每一所述子像素的所述第一显示畴区和第二显示畴区,使所述第一显示畴区和第二显示畴区对应的第二基板上的第二配向层的分子链方向为第三方向;
对第三显示畴区和第四显示畴区对应的第二基板上的第二配向层曝光配向,所述第二掩膜版漏出每一所述子像素的所述第三显示畴区和第四显示畴区,使所述第三显示畴区和第四显示畴区对应的第二基板上的第二配向层的分子链方向为第四方向;所述第三方向和所述第四方向相反。
可选地,所述第一配向层为光裂解型配向聚酰亚胺膜;所述第二配向层为光聚合型配向聚酰亚胺膜。
可选地,所述第一光源发出第一波长的光,所述第二光源发出第二波长的光;所述第一波长的数值范围为254nm~365nm,所述第二波长的数值范围为254nm~365nm。
可选地,所述第一基板包括多条数据线和多条扫描线;在所述使用第一光源对位于所述第一基板的第一配向层曝光配向之前,还包括以下步骤:
以所述数据线和所述扫描线为对位标记将第一掩膜版与所述第一配向层对位;
在所述使用第二光源对位于所述第二基板的所述第二配向层曝光配向之前,还包括以下步骤:
以所述数据线和所述扫描线为对位标记将第二掩膜版与所述第二配向层对位。
可选地,所述第一光源发出第一波长的光,所述第二光源发出第二波长的光;所述第一波长的光以及所述第二波长的光为偏振光,所述第一波长的光的偏振方向与所述第二波长的光的偏振方向相同,且所述第一波长的光的照射扫描方向与所述第二波长的光的照射扫描方向正交。
可选地,所述第一基板包括遮光层和间隔单元,所述方法还包括在所述第一基板上形成像素阵列以及在所述第二基板上形成色阻,所述像素阵列位于所述第一基板与所述第一配向层之间,所述色阻位于所述第二基板与所述第二配向层之间。
可选地,所述第一基板包括遮光层和间隔单元,所述方法还包括在所述第一基板上形成像素阵列和色阻,所述像素阵列位于所述第一基板与所述第一配向层之间。
本发明实施例提供了一种显示装置的制作方法,所述方法包括:
提供一第一基板;
在所述第一基板上形成第一配向层;
使用第一光源对位于所述第一基板的所述第一配向层曝光配向;
提供一第二基板;
在所述第二基板上形成第二配向层;
在所述第一基板和第二基板之间注入液晶,并将所述第一基板和所述第二基板组立形成所述显示装置;
使用第二光源对位于所述第二基板的所述第二配向层曝光配向;所述第一配向层和所述第二配向层分别设置于所述第一基板和所述第二基板相对一侧;
对所述显示装置加热处理,以完成对所述液晶分子的配向;
其中,所述第一基板包括遮光层和间隔单元,所述方法还包括在所述第一基板上形成像素阵列以及在所述第二基板上形成色阻,所述像素阵列位于所述第一基板与所述第一配向层之间,所述色阻位于所述第二基板与所述第二配向层之间;
所述第一基板包括多条数据线和多条扫描线;在所述使用第一光源对位于所述第一基板的所述第一配向层曝光配向之前,还包括以下步骤:
以所述数据线和所述扫描线为对位标记将第一掩膜版与所述第一配向层对位;
在所述使用第二光源对位于所述第二基板的所述第二配向层曝光配向之前,还包括以下步骤:
以所述数据线和所述扫描线为对位标记将第二掩膜版与所述第二配向层对位。
本发明实施例提供的显示装置的制作方法,首先使用第一波长的光对位于第一基板的第一配向层配向,将第一基板和第二基板之间注入液晶并组立后,再使用不同于第一波长的第二波长的光对位于第二基板上的第二配向层曝光配向,由于对第二基板上的第二配向层的曝光配向过程是在成盒工艺之后,即对第二基板上的第二配向层的曝光配向过程是在将第一基板和第二基板之间注入液晶并组立后,因此在对第二基板上的第二配向层的曝光配向可以使用数据线和扫描线、遮光层或间隔单元为对位标记将掩膜版与第二配向层对位,相对于现有技术中对第二基板上的第二配向层的曝光配向过程是在成盒工艺之前来说,解决了对于将遮光层和间隔单元放置到第一基板上的显示装置,无法对第二基板中配向层曝光配向进而无法对液晶分子进行配向的技术问题,实现了对将遮光层和间隔单元放置到第一基板上的显示装置中液晶分子的配向。
附图说明
图1为本发明实施例提供的一种显示装置的结构示意图;
图2为本发明实施例提供的一种显示装置的制作方法的流程图;
图3a为本发明实施例提供的一个子像素中具有8个显示畴区的第一配向层的分子链方向分布示意图;
图3b为本发明实施例提供的一个子像素中具有8个显示畴区的的第二配向层的分子链方向分布示意图;
图3c为本发明实施例提供的一个子像素中具有8个显示畴区的液晶分子的配向结果示意图;
图4a为本发明实施例提供的一个子像素中具有4个显示畴区的第一配向层的第一显示畴区和第三显示畴区的分子链方向分布示意图;
图4b为本发明实施例提供的一个子像素中具有4个显示畴区的第一配向层的第二显示畴区和第四显示畴区的分子链方向分布示意图;
图4c为本发明实施例提供的一个子像素中具有4个显示畴区的第二配向层的第一显示畴区和第二显示畴区的分子链方向分布示意图;
图4d为本发明实施例提供的一个子像素中具有4个显示畴区的第二配向层的第三显示畴区和第四显示畴区的分子链方向分布示意图;
图4e为本发明实施例提供的一个子像素中具有4个显示畴区的液晶分子的配向结果示意图。
具体实施方式
下面结合附图和实施例对本发明作进一步的详细说明。可以理解的是,此处所描述的具体实施例仅仅用于解释本发明,而非对本发明的限定。另外还需要说明的是,为了便于描述,附图中仅示出了与本发明相关的部分而非全部结构。
图1为本发明实施例提供的一种显示装置的结构示意图,如图1所示,显示装置包括第一基板10、位于第一基板10上的第一配向层20、第二基板50、位于第二基板50上的第二配向层40以及位于第一基板10和第二基板50之间的液晶层30,其中,液晶层30包括多个液晶分子,第一配向层20和第二配向层40分别设置于第一基板10和第二基板50相对一侧,液晶层30位于第一配向层20和第二配向层40之间,遮光层60和间隔单元70设置在第一基板10上,图1中示例性地设置间隔单元位于遮光层远离第一基板的一侧,遮光层和间隔单元数量相等,遮光层例如可以是黑矩阵,间隔单元例如可以是支撑柱。需要说明的是,本发明实施例对遮光层和间隔单元在第一基板上的设置方式不做限定。
图2为本发明实施例提供的一种显示装置的制作方法的流程图,本发明实施例提供的制作方法适用于将遮光层和间隔单元设置在第一基板的显示装置,本发明实施例提供的制作方法包括:
S101、提供一第一基板。
S102、在所述第一基板上形成第一配向层。
S103、使用第一光源对位于所述第一基板的所述第一配向层曝光配向。
S104、提供一第二基板。
S105、在所述第二基板上形成第二配向层。
S106、在所述第一基板和第二基板之间注入液晶,并将所述第一基板和所述第二基板组立形成所述显示装置。
示例性地,可以使用密封剂将第一基板和第二基板组立,具体可以先将密封剂形成于第一基板上并形成容纳液晶的封闭空间,并在液晶滴注后将第一基板和第二基板对接组立形成显示装置,可以理解的是,也可以采用将密封剂形成于第二基板上并形成容纳液晶的封闭空间,并在液晶滴注后将第一基板和第二基板对接组立形成显示装置。
S107、使用第二光源对位于所述第二基板的所述第二配向层曝光配向。
可选地,上述制作方法还可以包括:对所述显示装置加热处理,以完成对所述液晶分子的配向。
在一实施方式中,本发明实施例提供的显示装置的制作方法还包括在第一基板上形成像素阵列以及在第二基板上形成色阻,像素阵列位于第一基板与第一配向层之间,色阻位于第二基板与第二配向层之间。可以理解的是,显示装置的制作方法还可以包括形成形成偏光片、像素驱动电路等的方法,由于是本领域公知,在此不再赘述。
在另一实施方式中,本发明实施例提供的显示装置的制作方法还包括在第一基板上形成像素阵列和色阻,像素阵列位于第一基板与第一配向层之间。
本发明实施例提供的显示装置的制作方法,首先使用第一光源对位于第一基板10的第一配向层配向20,将第一基板10和第二基板50之间注入液晶并组立后,再使用第二光源对位于第二基板50上的第二配向层40曝光配向,由于对第二基板50上的第二配向层40的曝光配向过程是在成盒工艺之后,即对第二基板5上的第二配向层40的曝光配向过程是在将第一基板10和第二基板50之间注入液晶形成液晶层30并组立后,因此在对第二基板50上的第二配向层40的曝光配向可以使用数据线和扫描线、遮光层或间隔单元为对位标记将掩膜版与第二配向层40对位,相对于现有技术中对第二基板50上的第二配向层40的曝光配向过程是在成盒工艺之前来说,解决了对于将遮光层和间隔单元放置到第一基板上的显示装置,无法对第二基板中配向层曝光配向进而无法对液晶分子进行配向的技术问题,实现了对将遮光层和间隔单元放置到第一基板上的显示装置中液晶分子的配向。
可选地,使用第一光源对位于第一基板的第一配向层曝光配向后第一配向层的分子链方向,与使用第二光源对位于第二基板的第二配向层曝光配向后第二配向层的分子链方向垂直。第一光源发出的光照射第一配向层使第一配向层中的分子链沿特定方向分布,第二光源发出的光照射第二配向层使第二配向层中的分子链方向沿特定方向分布,分子链方向的作用类似于摩擦取向中通过摩擦形成的平行凹槽,具有使液晶分子形成预倾角的作用,分子链方向和光线的照射方向、偏振方向和强度等因素相关。
第一基板可以包括多条数据线和多条扫描线,多条数据线和多条扫描线绝缘交叉限定出多个子像素,每一子像素包括多个显示畴区,图3a为本发明实施例提供的一个子像素中具有8个显示畴区的第一配向层的分子链方向分布示意图,图3b为本发明实施例提供的一个子像素中具有8个显示畴区的的第二配向层的分子链方向分布示意图,图3c为本发明实施例提供的一个子像素中具有8个显示畴区的液晶分子的配向结果示意图,结合图3a、图3b和图3c所示,虚线箭头方向表示第一配向层的分子链方向,实线细箭头方向表示第二配向层的分子链方向,实线宽箭头方向表示液晶分子的旋转方向,扫描线11和数据线12绝缘交叉限定的子像素中包括8个显示畴区,沿扫描线11延伸方向,相邻两个显示畴区对应的第一基板的第一配向层20的分子链方向相反,沿数据线11延伸方向,相邻两个显示畴区对应的第一基板的第一配向层20的分子链方向相同;沿数据线12延伸方向,相邻两个显示畴区对应的第二基板的第二配向层40的分子链方向相反,沿扫描线11延伸方向,相邻两个显示畴区对应的第二基板的第二配向层40的分子链方向相同。
可以理解的是,也可以设置为:沿数据线延伸方向,相邻两个显示畴区对应的第一基板的第一配向层的分子链方向相反,沿扫描线延伸方向,相邻两个显示畴区对应的第一基板的第一配向层的分子链方向相同;沿扫描线延伸方向,相邻两个显示畴区对应的第二基板的第二配向层的分子链方向相反,沿数据线延伸方向,相邻两个显示畴区对应的第二基板的第二配向层的分子链方向相同。
需要说明的是,本发明实施例对于每个子像素中显示畴区的数量不做限定,对第一配向层和第二配向层结合形成显示畴区的方式不做限定,例如可以通过在第一配向层上形成相邻分子链方向反向的4个区域,在第二配向层上形成相邻分子链方向反向的2个区域,然后由第一配向层和第二配向层形成8个显示畴区;也可以是通过在第一配向层上形成相邻分子链方向反向的2个区域,在第二配向层上形成相邻分子链方向反向的4个区域,然后由第一配向层和第二配向层形成8个显示畴区。
图4a为本发明实施例提供的一个子像素中具有4个显示畴区的第一配向层的第一显示畴区和第三显示畴区的分子链方向分布示意图,图4b为本发明实施例提供的一个子像素中具有4个显示畴区的第一配向层的第二显示畴区和第四显示畴区的分子链方向分布示意图,图4c为本发明实施例提供的一个子像素中具有4个显示畴区的第二配向层的第一显示畴区和第二显示畴区的分子链方向分布示意图,图4d为本发明实施例提供的一个子像素中具有4个显示畴区的第二配向层的第三显示畴区和第四显示畴区的分子链方向分布示意图,图4e为本发明实施例提供的一个子像素中具有4个显示畴区的液晶分子的配向结果示意图,第一基板包括多条数据线和多条扫描线,多条数据线和多条扫描线绝缘交叉限定出多个子像素,参考图4a-图4e,每个子像素包括呈2×2矩阵排列的第一显示畴区D1、第二显示畴区D2、第三显示畴区D3以及第四显示畴区D4。其中,第一显示畴区D1和第二显示畴区D2同行设置,第三显示畴区D3和第四显示畴区D4同行设置,第一显示畴区D1和第三显示畴区D3同列设置,第二显示畴区D2和第四显示畴区D4同列设置。
参考图4a和图4b,虚线箭头方向表示第一配向层的分子链方向,使用第一光源(未示出)对位于第一基板的第一配向层20曝光配向包括:使用第一波长的光通过第一掩膜版61对第一显示畴区D1和第三显示畴区D3对应的第一基板上的第一配向层20曝光配向,第一掩膜版61漏出每一子像素的第一显示畴区D1和第三显示畴区D3,使第一显示畴区D1和第三显示畴区D3对应的第一基板上的第一配向层20的分子链方向为第一方向,即图4a中虚线箭头所示方向。使用第一光源(未示出)61对第二显示畴区D2和第四显示畴区D4对应的第一基板上的第一配向层20曝光配向,第一掩膜版61漏出每一子像素的第二显示畴区D2和第四显示畴区D4,使第二显示畴区D2和第四显示畴区D4对应的第一基板上的第一配向层20的分子链方向为第二方向,即图4b中虚线箭头所示方向,第一方向和第二方向相反。
参考图4c和图4d,实线细箭头方向表示第二配向层的分子链方向,使用第二光源(未示出)对位于第二基板的第二配向层曝光配向包括:使用第二光源通过第二掩膜版62对第一显示畴区D1和第二显示畴区D2对应的第二基板上的第二配向层40曝光配向,第二掩膜版62漏出每一子像素的第一显示畴区D1和第二显示畴区D2,使第一显示畴区D1和第二显示畴区D2对应的第二基板上的第二配向层40的分子链方向为第三方向,即图4c中实线细箭头所示方向。使用第二光源通过第二掩膜版62对第三显示畴区D3和第四显示畴区D4对应的第一基板上的第二配向层40曝光配向,第二掩膜版62漏出每一子像素的第三显示畴区D3和第四显示畴区D4,使第三显示畴区D3和第四显示畴区D4对应的第二基板上的第二配向层40的分子链方向为第四方向,即图4d中实现细箭头所示方向,第三方向和第四方向相反。
参考图4e,实线宽箭头方向表示液晶分子的旋转方向,将一个子像素中设置为具有4个显示畴区,能够提供宽的显示视角。此外,本发明实施例提供的液晶分子的配向方法,由于不使用凸起和狭缝也能分割成多个显示畴区,因此开口率比原来利用凸起分割成多个显示畴区的显示装置来说具有更高的透光率。
在上述实施例的基础上,可选地,第一配向层为光裂解型配向聚酰亚胺膜,第二配向层为光聚合型配向聚酰亚胺膜。将第一配向层和第二配向层分别使用两种类型的配向层,即分别使用光裂解型聚酰亚胺膜和光配向型聚酰亚胺膜可以有效地避免,在使用第二光源对位于第二基板的第二配向层曝光配向时,第二光源发出的光对第一配向层的影响。
可选地,第一光源发出第一波长的光,第二光源发出第二波长的光,第一波长与第二波长可以不同,第一波长的数值范围为254nm~365nm,第二波长的数值范围为254nm~365nm。
可选地,第一基板包括多条数据线和多条扫描线,在使用第一光源对位于第一基板的第一配向层曝光配向之前,还包括:以数据线和扫描线为对位标记将第一掩膜版与第一配向层对位;
在对位于第二基板的第二配向层曝光配向之前,还包括:以数据线和扫描线为对位标记将第二掩膜版与第二配向层对位。可以理解的是,也可以使用第一基板上的遮光层和/或间隔单元为对位标记,来实现对第一掩膜版和第一配向层的对位以及实现对第二掩膜版和第二配向层的对位。
第一波长的光以及第二波长的光可以为偏振光,第一波长的光的偏振方向与第二波长的光的偏振方向相同,且所述第一波长的光的照射扫描方向与所述第二波长的光的照射扫描方向正交。形成具有一定偏振方向的第一波长的光的方法,例如可以采用第一波长的光源照射到线偏振片上来实现,同样地,形成具有一定偏振方向的第二波长的光的方法,例如可以采用第二波长的光源照射到线偏振片上来实现,由于第一波长的光的偏振方向与第二波长的光的偏振方向相同,第一波长的光的照射扫描方向与第二波长的光的照射扫描方向正交,因此,在对显示装置的第一配向层和第二配向层进行曝光配向的过程中,可以采用同一偏振片,并对应采取不同波长的光源,在使用第一波长的光源对第一配向层使用第一波长的光完成配向后,在对第二配向层进行曝光配向时,可以选择将第二配向层旋转90°,然后再使用第二波长的光源对第二配向层使用第二波长的光完成配向。
本发明实施例提供了一种显示装置的制作方法,方法包括:
提供一第一基板;
在第一基板上形成第一配向层;
使用第一光源对位于第一基板的第一配向层曝光配向;
提供一第二基板;
在第二基板上形成第二配向层;
在第一基板和第二基板之间注入液晶,并将第一基板和第二基板组立形成显示装置;
使用第二光源对位于第二基板的第二配向层曝光配向;第一配向层和第二配向层分别设置于第一基板和第二基板相对一侧;
对显示装置加热处理,以完成对液晶分子的配向;
其中,第一基板包括遮光层和间隔单元,显示装置的制作方法还包括在第一基板上形成像素阵列以及在第二基板上形成色阻,像素阵列位于第一基板与第一配向层之间,色阻位于第二基板与第二配向层之间;
第一基板包括多条数据线和多条扫描线;在使用第一光源对位于第一基板的第一配向层曝光配向之前,还包括以下步骤:
以数据线和扫描线为对位标记将第一掩膜版与第一配向层对位;
在使用第二光源对位于第二基板的第二配向层曝光配向之前,还包括以下步骤:
以数据线和扫描线为对位标记将第二掩膜版与第二配向层对位。
注意,上述仅为本发明的较佳实施例及所运用技术原理。本领域技术人员会理解,本发明不限于这里所述的特定实施例,对本领域技术人员来说能够进行各种明显的变化、重新调整和替代而不会脱离本发明的保护范围。因此,虽然通过以上实施例对本发明进行了较为详细的说明,但是本发明不仅仅限于以上实施例,在不脱离本发明构思的情况下,还可以包括更多其他等效实施例,而本发明的范围由所附的权利要求范围决定。
Claims (8)
1.一种显示装置的制作方法,其特征在于,所述方法包括:
提供一第一基板;
在所述第一基板上形成第一配向层;
使用第一光源对位于所述第一基板的所述第一配向层曝光配向;
提供一第二基板;
在所述第二基板上形成第二配向层;
其中,所述第一基板包括多条数据线和多条扫描线,所述多条数据线和所述多条扫描线绝缘交叉限定出多个子像素;每一所述子像素包括多个显示畴区;
沿所述数据线延伸方向,相邻两个显示畴区对应的第一基板的第一配向层的分子链方向相反;沿所述扫描线延伸方向,相邻两个显示畴区对应的第一基板的第一配向层的分子链方向相同;沿扫描线延伸方向,相邻两个显示畴区对应的第二基板的第二配向层的分子链方向相反;沿数据线延伸方向,相邻两个显示畴区对应的第二基板的第二配向层的分子链方向相同;
或者,
沿所述扫描线延伸方向,相邻两个显示畴区对应的第一基板的第一配向层的分子链方向相反;沿所述数据线延伸方向,相邻两个显示畴区对应的第一基板的第一配向层的分子链方向相同;沿数据线延伸方向,相邻两个显示畴区对应的第二基板的第二配向层的分子链方向相反;沿扫描线延伸方向,相邻两个显示畴区对应的第二基板的第二配向层的分子链方向相同;
在所述第一基板和第二基板之间注入液晶,并将所述第一基板和所述第二基板组立形成所述显示装置;
使用第二光源对位于所述第二基板的所述第二配向层曝光配向;所述第一配向层和所述第二配向层分别设置于所述第一基板和所述第二基板相对一侧;
所述第一基板包括遮光层和间隔单元;
在所述使用第一光源对位于所述第一基板的所述第一配向层曝光配向之前,还包括:以所述遮光层和所述间隔单元为对位标记将第一掩膜版与所述第一配向层对位;
在所述使用第二光源对位于所述第二基板的所述第二配向层曝光配向之前,还包括:以所述遮光层和所述间隔单元为对位标记将第二掩膜版与所述第二配向层对位;
或者,
所述第一基板包括多条数据线和多条扫描线;在所述使用第一光源对位于所述第一基板的所述第一配向层曝光配向之前,还包括以下步骤:
以所述数据线和所述扫描线为对位标记将第一掩膜版与所述第一配向层对位;
在所述使用第二光源对位于所述第二基板的所述第二配向层曝光配向之前,还包括以下步骤:
以所述数据线和所述扫描线为对位标记将第二掩膜版与所述第二配向层对位。
2.根据权利要求1所述的方法,其特征在于,对位于所述第一基板的所述第一配向层曝光配向后所述第一配向层的分子链方向,与对位于所述第二基板的所述第二配向层曝光配向后所述第二配向层的分子链方向垂直。
3.根据权利要求1所述的方法,其特征在于,所述第一基板包括多条数据线和多条扫描线,所述多条数据线和所述多条扫描线绝缘交叉限定出多个子像素;每个所述子像素包括呈2×2矩阵排列的第一显示畴区、第二显示畴区、第三显示畴区以及第四显示畴区;其中,所述第一显示畴区和所述第二显示畴区同行设置,所述第三显示畴区和所述第四显示畴区同行设置;所述第一显示畴区和所述第三显示畴区同列设置;所述第二显示畴区和所述第四显示畴区同列设置;
其中,所述使用第一光源对位于所述第一基板的所述第一配向层曝光配向包括以下步骤:
对第一显示畴区和第三显示畴区对应的第一基板上的第一配向层曝光配向,第一掩膜版漏出每一所述子像素的所述第一显示畴区和第三显示畴区,使所述第一显示畴区和第三显示畴区对应的第一基板上的第一配向层的分子链方向为第一方向;
对第二显示畴区和第四显示畴区对应的第一基板上的第一配向层曝光配向,所述第一掩膜版漏出每一所述子像素的所述第二显示畴区和第四显示畴区,使所述第二显示畴区和第四显示畴区对应的第一基板上的第一配向层的分子链方向为第二方向;所述第一方向和所述第二方向相反;
其中,所述使用第二光源对位于所述第二基板的所述第二配向层曝光配向包括以下步骤:
对第一显示畴区和第二显示畴区对应的第二基板上的第二配向层曝光配向,第二掩膜版漏出每一所述子像素的所述第一显示畴区和第二显示畴区,使所述第一显示畴区和第二显示畴区对应的第二基板上的第二配向层的分子链方向为第三方向;
对第三显示畴区和第四显示畴区对应的第二基板上的第二配向层曝光配向,所述第二掩膜版漏出每一所述子像素的所述第三显示畴区和第四显示畴区,使所述第三显示畴区和第四显示畴区对应的第二基板上的第二配向层的分子链方向为第四方向;所述第三方向和所述第四方向相反。
4.根据权利要求1所述的方法,其特征在于,所述第一配向层为光裂解型配向聚酰亚胺膜;所述第二配向层为光聚合型配向聚酰亚胺膜。
5.根据权利要求1所述的方法,其特征在于,所述第一光源发出第一波长的光,所述第二光源发出第二波长的光;所述第一波长的数值范围为254nm~365nm,所述第二波长的数值范围为254nm~365nm。
6.根据权利要求1所述的方法,其特征在于,所述第一光源发出第一波长的光,所述第二光源发出第二波长的光;所述第一波长的光以及所述第二波长的光为偏振光,所述第一波长的光的偏振方向与所述第二波长的光的偏振方向相同,且所述第一波长的光的照射扫描方向与所述第二波长的光的照射扫描方向正交。
7.根据权利要求1所述的方法,其特征在于,所述第一基板包括遮光层和间隔单元,所述方法还包括在所述第一基板上形成像素阵列以及在所述第二基板上形成色阻,所述像素阵列位于所述第一基板与所述第一配向层之间,所述色阻位于所述第二基板与所述第二配向层之间。
8.根据权利要求1所述的方法,其特征在于,所述第一基板包括遮光层和间隔单元,所述方法还包括在所述第一基板上形成像素阵列和色阻,所述像素阵列位于所述第一基板与所述第一配向层之间。
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