CN106893982A - 一种冷却板和蒸镀装置 - Google Patents
一种冷却板和蒸镀装置 Download PDFInfo
- Publication number
- CN106893982A CN106893982A CN201710201664.8A CN201710201664A CN106893982A CN 106893982 A CN106893982 A CN 106893982A CN 201710201664 A CN201710201664 A CN 201710201664A CN 106893982 A CN106893982 A CN 106893982A
- Authority
- CN
- China
- Prior art keywords
- plate body
- coldplate
- cooling lines
- temperature
- coating device
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/22—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
- C23C14/24—Vacuum evaporation
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/04—Coating on selected surface areas, e.g. using masks
- C23C14/042—Coating on selected surface areas, e.g. using masks using masks
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/22—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
- C23C14/54—Controlling or regulating the coating process
- C23C14/541—Heating or cooling of the substrates
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- Metallurgy (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Physical Vapour Deposition (AREA)
Abstract
本发明公开了一种冷却板和蒸镀装置。冷却板包括:板体;多个并联的冷却管路,相间隔地设置在板体内,用于对板体进行分区冷却;和与冷却管路一一对应连接的多个流量阀,用于一一对应调节多个冷却管路内的冷却液的流量。本发明提供的冷却板,板体内相间隔地设置有多个并联的冷却管路,多个冷却管路与多个流量阀一一对应连接,多个并联的冷却管路用于对板体进行分区冷却,多个所述流量阀用于一一对应调节多个冷却管路内的冷却液的流量,以使得板体上各区域的温度相一致,确保在应用于蒸镀装置时掩膜版不同区域的形变统一,玻璃基板的蒸镀精度可更高。
Description
技术领域
本文涉及但不限于液晶显示技术,尤指一种冷却板和一种蒸镀装置。
背景技术
经过近三十年的发展,有机电致发光器件(英文全称为Organic Light EmittingDevice,简称为OLED)作为下一代照明和显示技术,具有色域宽,响应快,高对比度等有点,已经在照明和显示上得到了广泛的应用。目前的OLED主要使用真空蒸发镀膜法(简称真空蒸镀法)进行有机发光层的制备,真空蒸发镀膜法是在真空蒸镀室中通过蒸镀源对蒸镀材料进行加热,使蒸镀材料的原子或分子气化逸出形成蒸汽流,入射到待蒸镀基板(即:玻璃基板)表面,凝结形成固态薄膜的方法。真空蒸镀法已经广泛应用于显示器件的制作过程,例如OLED显示面板的阴极、阳极以及位于阴极和阳极之间的发光材料层。
现有的蒸镀装置安装在真空蒸镀室内,蒸镀装置的下方设置蒸发源,蒸镀装置包括连接柱、安装架和冷却板,连接柱连接安装架和真空蒸镀室的顶壁,冷却板安装在安装架上,基板和掩膜版在蒸镀时固定在冷却板的下板面上、并由安装架的下端进行支撑限位,冷却板的上板面上安装有多条磁铁(即:磁性件),用来吸附掩膜版、同时使掩膜版压紧玻璃基板于冷却板上,掩膜版、玻璃基板和冷却板自下至上层叠在蒸镀源单元的正上方。当对玻璃基板进行蒸镀时,由于蒸发源持续加热,高温气化的蒸镀材料不断沉积在基板和掩膜版上,会使基板和掩膜版的温度升高,高温会使金属材料制成的掩膜版发生变形,从而导致蒸镀出来的图案发生变形。目前制作高PPI(像素密集)的OLED产品需要使用高精度掩膜版,而高精度掩膜版的精度高达1微米以内,对温度变化的控制要求很高,温度升高1-2摄氏度都会因变形使蒸镀出来的图案不符合要求,所以在高精度掩膜版上需要加上冷却板,内通冷却液以降低掩膜版温度的变化。
现有的蒸镀装置,冷却板中设置有一整根冷却液管道,通过该冷却液管道来降低冷却板温度,从而连带降低贴合在冷却板上的玻璃基板和掩膜版的温度。但由于掩膜版外圈是10~50毫米厚的不锈钢框架(即:安装架),掩膜版内部是20~50微米厚的Invar合金(即:因瓦合金),Invar合金表面有大小不一的开口,因此受热时整个掩膜版上不同区域温度不一样,使用现有冷却板降温后掩膜版上不同区域依然会存在温度差,导致掩膜版不同区域形变不一样,影响蒸镀精度。
发明内容
为了解决上述技术问题中的至少之一,本文提供了一种冷却板,其板体上各区域的温度一致,以确保在蒸镀过程中掩膜版不同区域的形变统一,玻璃基板的蒸镀精度可更高。
为了达到本文目的,本发明提供了一种冷却板,包括:板体;多个并联的冷却管路,相间隔地设置在所述板体内,用于对所述板体进行分区冷却;和与所述冷却管路一一对应连接的多个流量阀,用于一一对应调节多个所述冷却管路内的冷却液的流量。
可选地,多个所述流量阀均位于所述板体内、并一一对应安装在多个所述冷却管路上。
可选地,所述冷却板还包括:进液主管,设置在所述板体内,且所述进液主管的一端与多个所述冷却管路的一端相连接、另一端用于对外连接。
可选地,所述冷却板还包括:出液主管,设置在所述板体内,且所述出液主管的一端与多个所述冷却管路的另一端相连接、另一端用于对外连接。
可选地,多个所述冷却管路、所述进液主管和所述出液主管均为所述本体内成型的通道,且所述板体上设置有所述进液主管对外连接的第一连接嘴以及所述出液主管对外连接的第二连接嘴。
可选地,多个所述冷却管路均布在所述板体内、并布满所述板体,且多个所述冷却管路在所述板体内按一排多列布置或多排多列布置。
可选地,所述冷却板还包括:多个温度传感器,设置在所述板体上、并对应于多个所述冷却管路布置,用于检测所述板体上形成的各区的温度。
可选地,所述板体上的各区内至少均布两个所述温度传感器。
本发明还提供了一种蒸镀装置,包括安装架、磁性件和上述任一实施例所述的冷却板,所述冷却板安装在所述安装架上,所述磁性件安装在所述板体上、用于磁吸附蒸镀用的掩膜版。
可选地,所述蒸镀装置还包括:控制单元,同时与多个温度传感器以及多个所述流量阀电连接,用于根据多个所述温度传感器检测到的所述板体各区的温度来控制各个所述流量阀的开度。
与现有技术相比,本发明提供的冷却板,板体内相间隔地设置有多个并联的冷却管路,多个冷却管路与多个流量阀一一对应连接,多个并联的冷却管路用于对板体进行分区冷却,多个所述流量阀用于一一对应调节多个冷却管路内的冷却液的流量,以使得板体上各区域的温度相一致,确保在应用于蒸镀装置时掩膜版不同区域的形变统一,玻璃基板的蒸镀精度可更高。
本文的其它特征和优点将在随后的说明书中阐述,并且,部分地从说明书中变得显而易见,或者通过实施本文而了解。本文的目的和其他优点可通过在说明书、权利要求书以及附图中所特别指出的结构来实现和获得。
附图说明
附图用来提供对本文技术方案的进一步理解,并且构成说明书的一部分,与本申请的实施例一起用于解释本文的技术方案,并不构成对本文技术方案的限制。
图1为本发明一个实施例所述的蒸镀装置的结构示意图;
图2为图1中的冷却板一个实施例的剖视结构示意图;
图3和图1中的冷却板另一个实施例的剖视结构示意图。
其中,图1至图3中附图标记与部件名称之间的对应关系为:
1板体,2冷却管路,3流量阀,4进液主管,5出液主管,6冷却板,7安装架,8磁性件,9玻璃基板,10掩膜版,11真空蒸镀室,12连接柱,13蒸发源。
具体实施方式
为使本文的目的、技术方案和优点更加清楚明白,下文中将结合附图对本文的实施例进行详细说明。需要说明的是,在不冲突的情况下,本申请中的实施例及实施例中的特征可以相互任意组合。
在下面的描述中阐述了很多具体细节以便于充分理解本文,但是,本文还可以采用其他不同于在此描述的方式来实施,因此,本文的保护范围并不受下面公开的具体实施例的限制。
下面结合附图描述本文一些实施例的冷却板和蒸镀装置。
本发明提供的冷却板6,如图2和图3所示,包括:板体1;多个并联的冷却管路2,相间隔地设置在所述板体1内,用于对所述板体1进行分区冷却(多个冷却管路2将板体1分成了多个区域);和与所述冷却管路2一一对应连接的多个流量阀3,用于一一对应调节多个所述冷却管路2内的冷却液的流量。
本发明提供的冷却板6,板体1内相间隔地设置有多个并联的冷却管路2,多个冷却管路2与多个流量阀3一一对应连接,多个并联的冷却管路2用于对板体1进行分区冷却,多个所述流量阀3用于一一对应调节多个冷却管路2内的冷却液的流量,以使得板体1上各区域的温度相一致,确保在应用于蒸镀装置时掩膜版10不同区域的形变统一,玻璃基板9的蒸镀精度可更高。
其中,流量阀3可通过手动控制或电动控制的方式来调节流量(即:开度),均可实现本申请的目的。而且,冷却板6在应用于蒸镀装置时,流量阀3可位于真空蒸镀室11的内部、也可通过管路外延至真空蒸镀室11的外侧、还可以是设置在板体1内,均可实现本申请的目的,其宗旨未脱离本发明的设计思想,在此不再赘述,均应属于本申请的保护范围内。
较好地,多个所述流量阀3均位于所述板体1内、并一一对应安装在多个所述冷却管路2上。
进一步地,所述冷却板6还包括:进液主管4,设置在所述板体1内,且所述进液主管4的一端与多个所述冷却管路2的一端相连接、另一端用于对外连接。
进液主管4位于板体1的一端,进液主管4内的冷却液进入到多个冷却管路2内进行分流。
再进一步地,所述冷却板6还包括:出液主管5,设置在所述板体1内,且所述出液主管5的一端与多个所述冷却管路2的另一端相连接、另一端用于对外连接。
出液主管5位于本体的另一端,多个冷却管路2内的冷却液进入到出液主管5内进行合流。
其中,进液主管4也可以是并联设置的多个,出液主管5也可以是并联设置的多个,也可实现本申请的目的,其宗旨未脱离本发明的设计思想,在此不再赘述,均应属于本申请的保护范围内。
较好地,多个所述冷却管路2、所述进液主管4和所述出液主管5均为所述本体内成型的通道。且所述板体1上设置有所述进液主管4对外连接的第一连接嘴以及所述出液主管5对外连接的第二连接嘴,以方便于对外连接输送冷却液的管路。
其中,多个所述冷却管路2均布在所述板体1内、并布满所述板体1,以更好地对板体1上各区的温度进行控制,使得板体1上各区的温度相一致,也就能够更好地对固定在板体1上的掩膜版10进行冷却,从而确保掩膜版10上各区域的温度一致,保证玻璃基板9的蒸镀精度较高。
多个所述冷却管路2在所述板体1内按一排多列布置(如图2所示)或多排多列布置(如图3所示),均可实现本申请的目的,其宗旨未脱离本发明的设计思想,在此不再赘述,均应属于本申请的保护范围内。
较好地,任一排内的冷却管路2相互平行、间距相等。
再者,所述冷却板6还包括:多个温度传感器(图中未示出),设置在所述板体1上、并对应于多个所述冷却管路2布置,用于检测所述板体1上形成的各区的温度。
多个温度传感器感应板体1上各区的温度,以此来综合调节各个流量阀3的流量,使得板体1上各位置的温度相同。
也可以是在真空蒸镀室11内设置红外温度传感器,通过红外温度传感器对板体1上各区域的温度进行控制,再配合流量阀3调节冷却管路2内的冷却液的流量,也可实现本申请的目的。
可选地,所述板体1上的各区内至少均布两个所述温度传感器,以更精准的检测出板体1上各位置的温度。
本发明提供的蒸镀装置,如图1所示,包括安装架7、磁性件8和上述任一实施例所述的冷却板6,所述冷却板6安装在所述安装架7上,所述磁性件8安装在所述板体1上、用于磁吸附蒸镀用的掩膜版10。
本发明提供的蒸镀装置,具备上述任一实施例的冷却板6的全部优点,在此不再赘述。
其中,板体1上设置有安装槽,磁性件8安装在所述安装槽内,安装架7上设置有连接柱12。
较好地,所述蒸镀装置还包括:控制单元(图中未示出),同时与多个温度传感器以及多个所述流量阀3电连接,用于根据多个所述温度传感器检测到的所述板体1各区的温度来控制各个所述流量阀3的开度,实现自动化调节,更好地保证板体1上各区的温度一致。
图1中标号13为蒸发源。
综上所述,本发明提供的冷却板,板体内相间隔地设置有多个并联的冷却管路,多个冷却管路与多个流量阀一一对应连接,多个并联的冷却管路用于对板体进行分区冷却,多个所述流量阀用于一一对应调节多个冷却管路内的冷却液的流量,以使得板体上各区域的温度相一致,确保在应用于蒸镀装置时掩膜版不同区域的形变统一,玻璃基板的蒸镀精度可更高。
在本文的描述中,术语“安装”、“相连”、“连接”、“固定”等均应做广义理解,例如,“连接”可以是固定连接,也可以是可拆卸连接,或一体地连接;可以是直接相连,也可以通过中间媒介间接相连。对于本领域的普通技术人员而言,可以根据具体情况理解上述术语在本文中的具体含义。
在本说明书的描述中,术语“一个实施例”、“一些实施例”、“具体实施例”等的描述意指结合该实施例或示例描述的具体特征、结构、材料或特点包含于本文的至少一个实施例或示例中。在本说明书中,对上述术语的示意性表述不一定指的是相同的实施例或实例。而且,描述的具体特征、结构、材料或特点可以在任何的一个或多个实施例或示例中以合适的方式结合。
虽然本文所揭露的实施方式如上,但所述的内容仅为便于理解本文而采用的实施方式,并非用以限定本文。任何本文所属领域内的技术人员,在不脱离本文所揭露的精神和范围的前提下,可以在实施的形式及细节上进行任何的修改与变化,但本文的专利保护范围,仍须以所附的权利要求书所界定的范围为准。
Claims (10)
1.一种冷却板,其特征在于,包括:
板体;和
多个并联的冷却管路,相间隔地设置在所述板体内,用于对所述板体进行分区冷却;和
与所述冷却管路一一对应连接的多个流量阀,用于一一对应调节多个所述冷却管路内的冷却液的流量。
2.根据权利要求1所述的冷却板,其特征在于,多个所述流量阀均位于所述板体内、并一一对应安装在多个所述冷却管路上。
3.根据权利要求2所述的冷却板,其特征在于,还包括:
进液主管,设置在所述板体内,且所述进液主管的一端与多个所述冷却管路的一端相连接、另一端用于对外连接。
4.根据权利要求3所述的冷却板,其特征在于,还包括:
出液主管,设置在所述板体内,且所述出液主管的一端与多个所述冷却管路的另一端相连接、另一端用于对外连接。
5.根据权利要求4所述的冷却板,其特征在于,多个所述冷却管路、所述进液主管和所述出液主管均为所述本体内成型的通道,且所述板体上设置有所述进液主管对外连接的第一连接嘴以及所述出液主管对外连接的第二连接嘴。
6.根据权利要求1至5中任一项所述的冷却板,其特征在于,多个所述冷却管路均布在所述板体内、并布满所述板体,且多个所述冷却管路在所述板体内按一排多列布置或多排多列布置。
7.根据权利要求1至5中任一项所述的冷却板,其特征在于,还包括:
多个温度传感器,设置在所述板体上、并对应于多个所述冷却管路布置,用于检测所述板体上形成的各区的温度。
8.根据权利要求7所述的蒸镀装置,其特征在于,所述板体上的各区内至少均布两个所述温度传感器。
9.一种蒸镀装置,其特征在于,包括安装架、磁性件和如权利要求1至8中任一项所述的冷却板,所述冷却板安装在所述安装架上,所述磁性件安装在所述板体上、用于磁吸附蒸镀用的掩膜版。
10.根据权利要求9所述的蒸镀装置,其特征在于,还包括:
控制单元,同时与多个温度传感器以及多个所述流量阀电连接,用于根据多个所述温度传感器检测到的所述板体各区的温度来控制各个所述流量阀的开度。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
CN201710201664.8A CN106893982A (zh) | 2017-03-30 | 2017-03-30 | 一种冷却板和蒸镀装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
CN201710201664.8A CN106893982A (zh) | 2017-03-30 | 2017-03-30 | 一种冷却板和蒸镀装置 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
CN106893982A true CN106893982A (zh) | 2017-06-27 |
Family
ID=59193385
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
CN201710201664.8A Pending CN106893982A (zh) | 2017-03-30 | 2017-03-30 | 一种冷却板和蒸镀装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
CN (1) | CN106893982A (zh) |
Cited By (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN109023239A (zh) * | 2018-09-05 | 2018-12-18 | 京东方科技集团股份有限公司 | 冷却板、镀膜装置 |
CN109735801A (zh) * | 2019-01-31 | 2019-05-10 | 深圳市华星光电半导体显示技术有限公司 | 金属掩膜装置 |
CN109868452A (zh) * | 2019-03-19 | 2019-06-11 | 武汉华星光电半导体显示技术有限公司 | 冷却板和真空蒸镀装置 |
CN109913819A (zh) * | 2019-03-29 | 2019-06-21 | 武汉华星光电半导体显示技术有限公司 | 冷却板、蒸镀装置及显示面板 |
CN109945588A (zh) * | 2019-03-18 | 2019-06-28 | 常州市乐萌压力容器有限公司 | 一种应用于镀膜机上的冷却液循环***及控制方法 |
WO2019127675A1 (zh) * | 2017-12-29 | 2019-07-04 | 武汉华星光电半导体显示技术有限公司 | 冷却***及蒸镀机 |
Citations (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US20010047935A1 (en) * | 1998-08-28 | 2001-12-06 | Masatoshi Enomoto | Backing plate for sputtering |
JP2007254827A (ja) * | 2006-03-23 | 2007-10-04 | Fujitsu Ltd | スパッタリング装置及びスパッタリング方法 |
CN102197156A (zh) * | 2008-11-12 | 2011-09-21 | 朗姆研究公司 | 由液体控制的多区基片支座改进的基片温度控制 |
CN104846346A (zh) * | 2015-05-20 | 2015-08-19 | 中国科学院宁波材料技术与工程研究所 | 衬底温度的控制方法、装置及薄膜沉积设备 |
CN105734494A (zh) * | 2016-04-12 | 2016-07-06 | 京东方科技集团股份有限公司 | 一种蒸镀载板及蒸镀装置 |
-
2017
- 2017-03-30 CN CN201710201664.8A patent/CN106893982A/zh active Pending
Patent Citations (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US20010047935A1 (en) * | 1998-08-28 | 2001-12-06 | Masatoshi Enomoto | Backing plate for sputtering |
JP2007254827A (ja) * | 2006-03-23 | 2007-10-04 | Fujitsu Ltd | スパッタリング装置及びスパッタリング方法 |
CN102197156A (zh) * | 2008-11-12 | 2011-09-21 | 朗姆研究公司 | 由液体控制的多区基片支座改进的基片温度控制 |
CN104846346A (zh) * | 2015-05-20 | 2015-08-19 | 中国科学院宁波材料技术与工程研究所 | 衬底温度的控制方法、装置及薄膜沉积设备 |
CN105734494A (zh) * | 2016-04-12 | 2016-07-06 | 京东方科技集团股份有限公司 | 一种蒸镀载板及蒸镀装置 |
Cited By (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2019127675A1 (zh) * | 2017-12-29 | 2019-07-04 | 武汉华星光电半导体显示技术有限公司 | 冷却***及蒸镀机 |
CN109023239A (zh) * | 2018-09-05 | 2018-12-18 | 京东方科技集团股份有限公司 | 冷却板、镀膜装置 |
CN109735801A (zh) * | 2019-01-31 | 2019-05-10 | 深圳市华星光电半导体显示技术有限公司 | 金属掩膜装置 |
CN109945588A (zh) * | 2019-03-18 | 2019-06-28 | 常州市乐萌压力容器有限公司 | 一种应用于镀膜机上的冷却液循环***及控制方法 |
CN109868452A (zh) * | 2019-03-19 | 2019-06-11 | 武汉华星光电半导体显示技术有限公司 | 冷却板和真空蒸镀装置 |
CN109868452B (zh) * | 2019-03-19 | 2021-01-01 | 武汉华星光电半导体显示技术有限公司 | 冷却板和真空蒸镀装置 |
CN109913819A (zh) * | 2019-03-29 | 2019-06-21 | 武汉华星光电半导体显示技术有限公司 | 冷却板、蒸镀装置及显示面板 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
CN106893982A (zh) | 一种冷却板和蒸镀装置 | |
CN107012433B (zh) | 蒸镀装置及其蒸镀方法、显示器件制造设备 | |
CN206834210U (zh) | 用于喷墨打印oled发光区的真空干燥装置 | |
CN103526164B (zh) | 一种蒸镀设备 | |
CN108026627A (zh) | 用于有机发光二极管制造的阴影掩模 | |
CN107978676B (zh) | 一种蒸镀用掩膜组件 | |
JP2005154879A (ja) | 蒸着用メタルマスク及びそれを用いた蒸着パターンの製造方法 | |
CN110273124A (zh) | 一种掩膜板及其制作方法 | |
CN105154822A (zh) | 一种小开口蒸镀用掩模板 | |
JP2014154315A (ja) | 有機elデバイス製造装置及び有機elデバイス製造方法 | |
CN107400875B (zh) | 一种热丝化学气相沉积设备 | |
CN110188502A (zh) | 掩膜版的设计方法、制作方法和设计*** | |
CN107002219A (zh) | 用于在处理腔室中掩蔽基板的掩模布置 | |
CN109097729A (zh) | 掩膜框架、支撑板、掩膜框架组件及掩膜版组件 | |
CN104046959A (zh) | 一种用于碳化硅外延生长的化学气相沉积装置 | |
JP7119042B2 (ja) | 成膜装置、これを用いた成膜方法及び電子デバイスの製造方法 | |
CN104404452B (zh) | 一种真空镀膜***的样品室结构 | |
CN109536886A (zh) | 一种蒸镀装置及oled面板蒸镀方法 | |
WO2020093479A1 (zh) | 蒸镀挡板机构及蒸镀装置 | |
CN108699671A (zh) | 具有通过使用正/负光刻胶的双电铸形成的锥形开口的阴影掩模 | |
CN105018884B (zh) | 一种小型真空蒸镀仪 | |
CN1421542A (zh) | 有机材料蒸发源 | |
CN107604307A (zh) | 待蒸镀基板与掩模板的贴合方法、蒸镀方法、显示基板的制备方法 | |
CN205223412U (zh) | 一种完全感应加热方式的蓝宝石生产设备 | |
CN106711088B (zh) | Oled显示装置的双层栅极结构的制作方法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
PB01 | Publication | ||
PB01 | Publication | ||
SE01 | Entry into force of request for substantive examination | ||
RJ01 | Rejection of invention patent application after publication | ||
RJ01 | Rejection of invention patent application after publication |
Application publication date: 20170627 |