CN106803511A - Oled显示面板 - Google Patents

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Abstract

本发明公开了OLED显示面板，通过在蓝光子像素发光层与电子传输层之间设置一电子缓冲层防止电荷在发光层界面的累积，以提高OLED显示面板蓝光子像素的寿命，改善OLED显示面板因蓝光子像素亮度衰减过快造成的白画面色坐标偏移的现象，进而提高OLED显示面板的寿命；且本发明还可以通过RGB子像素采用不同的电子传输层材料，根据各子像素发光层的材料选择最有利于RGB子像素使用寿命的电子传输层材料，提高OLED显示面板蓝光子像素的寿命，改善OLED显示面板因蓝光子像素亮度衰减过快造成的白画面色坐标偏移的现象，进而提高OLED显示面板的寿命。

Description

OLED显示面板
技术领域
本发明涉及半导体制造技术领域，尤其涉及一种OLED显示面板。
背景技术
OLED显示面板蓝光子像素的寿命(Lifetime)远差于红光和绿光子像素，这样将导致在OLED显示面板使用一段时间后白光色坐标会发生偏移，影响OLED显示画质，进而制约OLED在对使用寿命要求较高的领域如TV、车载上的应用。
由图1可以明显看出随着使用时间的增加，蓝光子像素3的亮度衰减大于红光子像素1和绿光子像素2，进而导致白光4亮度的衰减；由图2示意出随着使用时间的增加，白光色坐标发生偏移，由图2可知，OLED器件使用1000小时前后白光色坐标变化如下表所示：
而目前常见的提高蓝光子像素的寿命的方法为设置不同的RGB子像素开口率，因寿命高低一般为绿光>红光>蓝光，因此开口率大小设置为蓝光>红光>绿光，即便如此，还是不能完全解决蓝光使用寿命远差于红光和绿光的问题。
因此，如何提高OLED显示面板蓝光子像素的寿命，改善OLED显示面板因蓝光子像素亮度衰减过快造成的白画面色坐标偏移的现象成为本领域技术人员致力于研究的方向。
发明内容
针对上述存在的问题，本发明公开一种OLED显示面板，包括：发光材料层和位于所述发光材料层之上的电子传输层(Electrontransport layer，ETL)；
所述发光材料层包括红光子像素发光层、绿光子像素发光层和蓝光子像素发光层；以及
所述蓝光子像素发光层和所述电子传输层之间还设置有电子缓冲层(Electron Cushion Layer，ECL)，以限制电子在所述蓝光子像素发光层与所述电子传输层之间的累积。
上述的OLED显示面板，其中，所述电子缓冲层的材质为有机材料。
上述的OLED显示面板，其中，所述电子缓冲层的材质与所述电子传输层的主体材料相同。
上述的OLED显示面板，其中，所述电子缓冲层的厚度为5～500埃。
上述的OLED显示面板，其中，还包括：基板、阳极、空穴注入层、空穴传输层、电子注入层和阴极；
其中，所述阳极位于所述基板和所述空穴注入层之间，所述空穴传输层位于所述空穴注入层与所述发光材料层之间，所述电子注入层覆盖所述电子传输层的上表面，所述阴极覆盖所述电子注入层的上表面。
上述的OLED显示面板，其中，所述蓝光子像素发光层的材质为荧光材料，所述绿光子像素发光层和红光子像素发光层的材质均为磷光材料。
上述的OLED显示面板，其中，采用FFM制备所述电子缓冲层。
本发明还提供了一种OLED显示面板，包括：发光材料层和位于所述发光材料层之上的电子传输材料层，所述发光材料层包括红光子像素发光层、绿光子像素发光层和蓝光子像素发光层；
其中，所述电子传输材料层包括覆盖所述红光子像素发光层上表面的第一电子传输层、覆盖所述绿光子像素发光层上表面的第二电子传输层以及覆盖所述蓝光子像素发光层上表面的第三电子传输层；
其中，所述第三电子传输层的材料与所述第一电子传输层和/或第二电子传输层的材料不同。
上述的OLED显示面板，其中，所述第一电子传输层和所述第二传输层的材料相同。
上述的OLED显示面板，其中，所述蓝光子像素发光层的材质为荧光材料，所述绿光子像素发光层和红光子像素发光层的材质均为磷光材料。
上述的OLED显示面板，其中，所述第三电子传输层的材料为PO14。
上述的OLED显示面板，其中，所述第一电子传输层的材料和所述第二电子传输层的材料均为TPBI。
上述的OLED显示面板，其中，还包括：基板、阳极、空穴注入层、空穴传输层、电子注入层和阴极；
其中，所述阳极位于所述基板和所述空穴注入层之间，所述空穴传输层位于所述空穴注入层与所述发光材料层之间，所述电子注入层覆盖所述电子传输层的上表面，所述阴极覆盖所述电子注入层的上表面。
上述发明具有如下优点或者有益效果：
本发明公开了OLED显示面板，通过在蓝光子像素发光层与电子传输层之间设置一电子缓冲层防止电荷在发光层界面的累积，以改善OLED面板蓝光子像素的寿命，进而提高OLED显示面板的寿命；且本发明还可以通过RGB子像素采用不同的电子传输层材料，根据各子像素发光层的材料选择最有利于RGB子像素使用寿命的电子传输层材料，以改善OLED面板蓝光子像素的寿命，进而提高OLED显示面板的寿命。
附图说明
通过阅读参照以下附图对非限制性实施例所作的详细描述，本发明及其特征、外形和优点将会变得更加明显。在全部附图中相同的标记指示相同的部分。并非必须按照比例绘制附图，重点在于示出本发明的主旨。
图1是本发明背景技术中RGB子像素亮度随时间变化的示意图；
图2是本发明背景技术中白光色坐标随时间变化的示意图；
图3是本发明实施例一中OLED显示面板的结构示意图；
图4是本发明实施例一中在有无ECL的情况下蓝光子像素亮度随时间变化的示意图；
图5是本发明实施例二中OLED显示面板的结构示意图。
具体实施方式
下面结合附图和具体的实施例对本发明作进一步的说明，但是不作为本发明的限定。
本发明提供了一种OLED显示面板，包括：发光材料层和位于发光材料层之上的电子传输层，发光材料层包括红光子像素发光层、绿光子像素发光层和蓝光子像素发光层；其中，蓝光子像素发光层和电子传输层之间还设置有电子缓冲层以限制电子在蓝光子像素发光层与电子传输层界面的累积。
在本发明一个优选的实施例中，电子缓冲层的材质为有机材料。
在本发明一个优选的实施例中，电子缓冲层的材质与电子传输层的主体材料(ETL-Host)相同。
在本发明一个优选的实施例中，电子缓冲层的厚度为5～500埃。
在本发明一个优选的实施例中，OLED显示面板还包括基板、阳极、空穴注入层、空穴传输层、电子注入层和阴极；其中，阳极位于基板和空穴注入层之间；空穴传输层位于空穴注入层与发光材料层之间；电子注入层覆盖电子传输层的上表面；阴极覆盖电子注入层的上表面。
在本发明一个优选的实施例中，蓝光子像素发光层的材质为荧光材料，绿光子像素发光层和红光子像素发光层的材质均为磷光材料。
在本发明一个优选的实施例中，采用FMM(Fine Metal Mask，精细金属掩膜)制备电子缓冲层。
本发明还提供了一种OLED显示面板，包括：发光材料层和位于发光材料层之上的电子传输材料层，该发光材料层包括红光子像素发光层、绿光子像素发光层和蓝光子像素发光层，电子传输材料层包括覆盖红光子像素发光层上表面的第一电子传输层、覆盖绿光子像素发光层上表面的第二电子传输层以及覆盖蓝光子像素发光层上表面的第三电子传输层；其中，第三电子传输层的材料与第一电子传输层和/或第二电子传输层的材料不同，换句话说，就是第三电子传输层的材料与第一电子传输层的材料、第二电子传输层的材料中的至少一种不同；且可根据子像素发光层材质的不同选择最有利于子像素发光层寿命的电子传输层材料以使得RGB子像素寿命最长；在本发明的实施例中，该第一电子传输层的材料和第二电子传输层的材料可以相同也可以不相同，这并不影响本发明的目的。
在本发明一个优选的实施例中，于所述蓝光子像素发光层和所述第三电子传输层之间设置电子缓冲层以限制电子在蓝光子像素发光层与电子传输层界面的累积。
在本发明一个优选的实施例中，蓝光子像素发光层的材质为荧光材料，绿光子像素发光层和红光子像素发光层的材质均为磷光材料。
在本发明一个优选的实施例中，第三电子传输层的材料为PO14。
在本发明一个优选的实施例中，第一电子传输层的材料和第二电子传输层的材料均为TPBI。
在本发明一个优选的实施例中，OLED显示面板还包括基板、阳极、空穴注入层、空穴传输层、电子注入层和阴极；其中，阳极位于基板和空穴注入层之间；空穴传输层位于空穴注入层与发光材料层之间；电子注入层覆盖电子传输层的上表面；阴极覆盖电子注入层的上表面。
下面结合具体的实施例来对本发明作进一步的阐述：
实施例一：
如图3所示，本实施例涉及一种OLED显示面板，包括：发光材料层5和位于发光材料层5之上的电子传输层7，还包括基板1、阳极2、空穴注入层3、空穴传输层4、电子注入层7和阴极8；其中，阳极2位于基板1和空穴注入层3之间；空穴传输层4位于空穴注入层3与发光材料层5之间；电子注入层7覆盖电子传输层7的上表面；阴极8覆盖电子注入层7的上表面。
上述发光材料层5包括红光子像素发光层51、绿光子像素发光层52和蓝光子像素发光层53；其中，蓝光子像素发光层53和电子传输层7之间还设置有电子缓冲层6以限制电子在蓝光子像素发光层53与电子传输层7界面的累积；进一步的，该电子缓冲层6的材质为有机材料，例如PO14，电子缓冲层6可以采用与电子传输层7的主体材料相同的材料，例如若电子传输层7的材质为TPBI，该电子缓冲层6的材质也可以采用TPBI，也可以采用不同的材料，只要该材料可以限制电子在蓝光子像素发光层53与电子传输层7界面的累积，提高OLED面板蓝光子像素的寿命即可。优选的，电子缓冲层的厚度为5～500埃(例如5埃、100埃、250埃或者500埃等)。
在本实施例中，蓝光子像素发光层53的材质为荧光材料，绿光子像素发光层52和红光子像素发光层51的材质均为磷光材料。
在本实施例中，可使用蓝光发光层FMM蒸镀ECL，然后再用CMM蒸镀ETL；具体的可采用传统的真空蒸镀方法制备电子缓冲层6，但由于仅蓝光子像素发光层53和电子传输层7之间有电子缓冲层6，因此蒸镀时需要使用FFM，该FFM开口形状和大小与蓝光子像素发光层53的FFM一致。将开口形状和大小与蓝光子像素发光层53的FFM一样的FFM传入真空有机腔室，将蒸镀完蓝光子像素发光层53的玻璃基板也传入该腔室，FFM和玻璃基板上均有对位标记(Alignment mark)，使用对位机构使FFM的开口处对准蓝光子像素区域，在真空腔室压强达到10-5Pa以上时，热蒸发沉积一层厚度为5nm的PO14薄膜，蒸镀过程中维持速率恒定，薄膜的均一性维持在5％以内，速率为0.3-5nm/s(根据产能和生产节拍(tact time)而定)。
以下结合实验数据对本发明作进一步说明：
将本实施例有ECL的器件与无ECL为标准器件作对比，其中ECL材料与ETL-Host(电子传输层主体材料)相同。蓝光器件在15m A/cm2电流密度下，绿光和红光器件分别在12000nits、3000nits下光电性质如下表：
从上表和图4中可以看出，有ECL蓝光器件的亮度百分比随时间变化曲线1的衰减比无ECL器件蓝光器件的亮度百分比随时间变化曲线2慢，而有ECL蓝光器件的电压3与ECL器件蓝光器件的电压4随时间变化衰减程度相当，有ECL器件的寿命LT95为172小时，而无ECL器件的寿命LT95为95小时，增加ECL层，器件的LT95增加1.81倍，这也证实了增加ECL有利于提升器件的寿命。但是绿光器件增加ECL层之后，寿命急剧降低，红光器件增加ECL之后，寿命相当；也由此证明了于蓝光子像素发光层与电子传输层之间加入电子缓冲层为最佳选择，可以有效提升OLED显示面板的寿命。
实验数据证明此方案可将蓝光寿命(Lifetime)至少提升1.5倍(提升的多少取决于不同的ETL材料)。
实施例二：
如图5所示，本实施例涉及一种OLED显示面板，包括：发光材料层5和位于发光材料层5之上的电子传输层7，还包括基板1、阳极2、空穴注入层3、空穴传输层4、电子注入层7和阴极8；其中，阳极2位于基板1和空穴注入层3之间；空穴传输层4位于空穴注入层3与发光材料层5之间；电子注入层7覆盖电子传输层7的上表面；阴极8覆盖电子注入层7的上表面。
上述发光材料层5包括红光子像素发光层51、绿光子像素发光层52和蓝光子像素发光层53；电子传输材料层6包括覆盖红光子像素发光层51上表面的第一电子传输层61、覆盖绿光子像素发光层52上表面的第二电子传输层62以及覆盖蓝光子像素发光层53上表面的第三电子传输层63；其中，第三电子传输层63的材料与第一电子传输层61和/或第二电子传输层62的材料不同，即第三电子传输层63的材料和第一电子传输层61、第二电子传输层62的材料中的至少一种不同；在本发明的实施例中，采用FMM蒸镀电子传输层7，以便于使用最有利于RGB寿命的ETL材料，使RGB寿命达到最佳。
在本发明的实施例中，蓝光子像素发光层53的材质为荧光材料，绿光子像素发光层52和红光子像素发光层51的材质均为磷光材料，而目前同时满足磷光和荧光均具有高寿命的电子传输层材料较少，因此RGB子像素可采用不同的电子传输层材料，因而选择最有利于RGB子像素使用寿命的电子传输层材料将有利于得到RGB均具有长的寿命的OLED面板，进而提高OLED显示面板的寿命。
因此在本实施例中，第三电子传输层63的材料采用最有利于蓝光子像素使用寿命的PO14，第一电子传输层61的材料和第二电子传输层62的材料可均采用TPBI，当然，该第一电子传输层61也可以和第二电子传输层62采用不同的材料，这并不影响本发明的目的。
以下结合实验数据对本发明作进一步说明：
电子传输材料层分别使用ETL01和ETL02两种材料。
蓝光器件在15m A/cm2电流密度下，绿光和红光器件分别在12000nits、3000nits下光电性质如下：
由上表可知，使用ETL2有利于提升蓝光器件Lifetime，使用ETL1时绿光Lifetime较ETL2好，而ETL1和ETL2红光器件Lifetime相差不大，因此，可根据实际需要RGB子像素可使用不同的ETL材料，进而达到RGB子像素均具有较长的寿命。
综上，本发明公开了OLED显示面板，通过在蓝光子像素发光层与电子传输层之间设置一电子缓冲层防止电荷在发光层界面的累积，以提高OLED显示面板蓝光子像素的寿命，改善OLED显示面板因蓝光子像素亮度衰减过快造成的白画面色坐标偏移的现象，进而提高OLED显示面板的寿命；且本发明还可以通过RGB子像素采用不同的电子传输层材料，根据各子像素发光层的材料选择最有利于RGB子像素使用寿命的电子传输层材料，提高OLED显示面板蓝光子像素的寿命，改善OLED显示面板因蓝光子像素亮度衰减过快造成的白画面色坐标偏移的现象，进而提高OLED显示面板的寿命。
本领域技术人员应该理解，本领域技术人员在结合现有技术以及上述实施例可以实现变化例，在此不做赘述。这样的变化例并不影响本发明的实质内容，在此不予赘述。
以上对本发明的较佳实施例进行了描述。需要理解的是，本发明并不局限于上述特定实施方式，其中未尽详细描述的设备和结构应该理解为用本领域中的普通方式予以实施；任何熟悉本领域的技术人员，在不脱离本发明技术方案范围情况下，都可利用上述揭示的方法和技术内容对本发明技术方案作出许多可能的变动和修饰，或修改为等同变化的等效实施例，这并不影响本发明的实质内容。因此，凡是未脱离本发明技术方案的内容，依据本发明的技术实质对以上实施例所做的任何简单修改、等同变化及修饰，均仍属于本发明技术方案保护的范围内。

Claims (13)

1.一种OLED显示面板，其特征在于，包括：发光材料层和位于所述发光材料层之上的电子传输层；
所述发光材料层包括红光子像素发光层、绿光子像素发光层和蓝光子像素发光层；以及
所述蓝光子像素发光层和所述电子传输层之间还设置有电子缓冲层，以限制电子在所述蓝光子像素发光层与所述电子传输层之间的累积。
2.如权利要求1所述的OLED显示面板，其特征在于，所述电子缓冲层的材质为有机材料。
3.如权利要求1所述的OLED显示面板，其特征在于，所述电子缓冲层的材质与所述电子传输层的主体材料相同。
4.如权利要求1所述的OLED显示面板，其特征在于，所述电子缓冲层的厚度为5～500埃。
5.如权利要求1所述的OLED显示面板，其特征在于，还包括：
基板、阳极、空穴注入层、空穴传输层、电子注入层和阴极；
其中，所述阳极位于所述基板和所述空穴注入层之间，所述空穴传输层位于所述空穴注入层与所述发光材料层之间，所述电子注入层覆盖所述电子传输层的上表面，所述阴极覆盖所述电子注入层的上表面。
6.如权利要求1所述的OLED显示面板，其特征在于，所述蓝光子像素发光层的材质为荧光材料，所述绿光子像素发光层和红光子像素发光层的材质均为磷光材料。
7.如权利要求1所述的OLED显示面板，其特征在于，采用FFM制备所述电子缓冲层。
8.一种OLED显示面板，其特征在于，包括：发光材料层和位于所述发光材料层之上的电子传输材料层，所述发光材料层包括红光子像素发光层、绿光子像素发光层和蓝光子像素发光层；
其中，所述电子传输材料层包括覆盖所述红光子像素发光层上表面的第一电子传输层、覆盖所述绿光子像素发光层上表面的第二电子传输层以及覆盖所述蓝光子像素发光层上表面的第三电子传输层；
其中，所述第三电子传输层的材料与所述第一电子传输层和/或第二电子传输层的材料不同。
9.如权利要求8所述的OLED显示面板，其特征在于，所述第一电子传输层和所述第二传输层的材料相同。
10.如权利要求8所述的OLED显示面板，其特征在于，所述蓝光子像素发光层的材质为荧光材料，所述绿光子像素发光层和红光子像素发光层的材质均为磷光材料。
11.权利要求10所述的OLED显示面板，其特征在于，所述第三电子传输层的材料为PO14。
12.权利要求10所述的OLED显示面板，其特征在于，所述第一电子传输层的材料和所述第二电子传输层的材料均为TPBI。
13.如权利要求8所述的OLED显示面板，其特征在于，还包括：
基板、阳极、空穴注入层、空穴传输层、电子注入层和阴极；
其中，所述阳极位于所述基板和所述空穴注入层之间，所述空穴传输层位于所述空穴注入层与所述发光材料层之间，所述电子注入层覆盖所述电子传输层的上表面，所述阴极覆盖所述电子注入层的上表面。
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