CN106653883A - 一种u型耐大电流聚光光伏电池芯片 - Google Patents

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Abstract

本发明涉及一种U型耐大电流聚光光伏电池芯片,属太阳能光伏发电技术领域,包括负电极层,聚光光伏电池基材层,正电极层和有效面积,所述聚光光伏电池基材层一面覆上负电极层,另一面覆上正电极层,所述负电极层之外的部分为有效面积,该种电池芯片能极大地减少聚光光伏电池基材材料的用量,这样就能减少聚光光伏电池芯片的制作成本;同时该电池芯片U字形形状负电极能迅速地将大电流导出,减小电流对其他电池材料中离子的碰撞,能将电池芯片的转换效率整体提高,通过增大负电极段的长度、宽度和厚度,能保证在增大透镜的放大倍数之后,汇聚光转换为大电流电能能顺利通过负电极段导出来。

Description

一种U型耐大电流聚光光伏电池芯片
技术领域
本发明涉及一种光伏发电部件,具体涉及一种U型耐大电流聚光光伏电池芯片,属太阳能光伏发电技术领域。
背景技术
通常,聚光光伏发电***所寻求的主要益处是在聚光光伏电池芯片的有效面积上得到从菲涅尔透镜汇聚的高密度太阳光。透镜的倍数越高,得到太阳光的密度越高,相同面积上使用的聚光光伏电池芯片越少,单位面积上的发电成本就越低。
目前通常从菲涅尔透镜汇聚过来的焦斑都为正方形,该焦斑的形状和大小也通常和聚光光伏电池芯片的形状和大小一致,从而使菲涅尔透镜汇聚过来的焦斑可以完全汇聚到聚光光伏电池芯片上。但是在实际应用中,聚光光伏电池芯片上的负电极层总是小于聚光光伏电池基材层,由于聚光光伏电池基材层上的基材材料相对很贵(一个平方厘米大小的基材材料大约在50元人民币左右),这样就极大浪费了聚光光伏电池基材层的基材材料;另外,由于负电极上的电流是通过电池材料中的离子通过碰撞而产生的,离子离负电极越远,电流到达负电极的损耗就越大,从而降低光电转换效率,同时随着透镜倍数的增加,汇聚到聚光光伏电池芯片上的太阳光就越多,经过聚光光伏电池芯片转换出来的电能就越多,电能的增加直接导致电流的增加,这样就很容易将聚光光伏电池芯片的负极损坏。
发明内容
本发明的目的是提供一种U型耐大电流聚光光伏电池芯片,该电池芯片在于克服现有技术的不足。
为了实现上述技术目的,本发明采取的技术方案是:一种U型耐大电流聚光光伏电池芯片,其特征是,它包括负电极层,聚光光伏电池基材层,正电极层和有效面积,所述聚光光伏电池基材层一面覆上负电极层,另一面覆上正电极层,所述负电极层之外的部分为有效面积。
所述负电极层为一平整U字形形状,负电极层的宽度为0.5~1.5毫米,厚度为0.5~1毫米,负电极层和聚光光伏电池基材层其中三个端面完全重合。
所述聚光光伏电池基材层为GaInP(磷化铟嫁)/GaAs(砷化镓)/Ge(锗)三层组合体。
所述正电极层为一完全密封的平面,正电极层面积形状和聚光光伏电池基材层面积形状完全一样。
所述有效面积为正方形形状。
本发明的优点和积极效果是:1.该种电池芯片能极大地减少聚光光伏电池基材材料的用量,这样就能减少聚光光伏电池芯片的制作成本;2.该电池芯片U字形形状负电极能迅速地将电流导出,减小电流对其他电池材料中离子的碰撞,能将电池芯片的转换效率整体提高,3、通过增大负电极段的长度、宽度和厚度,能保证在增大透镜的放大倍数之后,汇聚光转换为大电流电能能顺利通过负电极段导出来。
附图说明
图1为一种U型耐大电流聚光光伏电池芯片主视图。
图2为一种U型耐大电流聚光光伏电池芯片俯视图。
其中:1、负电极层,2、聚光光伏电池基材层,3、正电极层,4、有效面积。
具体实施方式
下面结合附图对本发明作进一步的说明。
一种U型耐大电流聚光光伏电池芯片,如图1~2所示,包括负电极层1,聚光光伏电池基材层2,正电极层3和有效面积4,所述聚光光伏电池基材层2一面覆上负电极层1,另一面覆上正电极层3,所述负电极层1之外的部分为有效面积4,所述负电极层1为一平整U字形形状,负电极层的宽度为0.5~1.5毫米,厚度为0.5~1毫米,可以迅速地将大电流导出,减小电流对其他电池材料中离子的碰撞概率,从而提高转换效率,负电极层1和聚光光伏电池基材层2其中三个端面完全重合,这样就完全利用了聚光光伏电池基材层,从而达到节约聚光光伏电池基材层基材材料的目的。
本发明中,作为变行实施例,聚光光伏电池芯片的正、负电极层也可以交换过来设定制作,负电极层和聚光光伏电池基材层其中任意三个端面完全重合,故本发明的权利保护范围以权利要求书限定的范围为准。

Claims (5)

1.一种U型耐大电流聚光光伏电池芯片,其特征是,它包括负电极层,聚光光伏电池基材层,正电极层和有效面积,所述聚光光伏电池基材层一面覆上负电极层,另一面覆上正电极层,所述负电极层之外的部分为有效面积。
2.根据权利要求1所述的一种U型耐大电流聚光光伏电池芯片,其特征是,所述负电极层为一平整U字形形状,负电极层的宽度为0.5~1.5毫米,厚度为0.5~1毫米,负电极层和聚光光伏电池基材层其中三个端面完全重合。
3.根据权利要求1所述的一种U型耐大电流聚光光伏电池芯片,其特征是,所述聚光光伏电池基材层为GaInP(磷化铟嫁)/GaAs(砷化镓)/Ge(锗)三层组合体。
4.根据权利要求1所述的一种U型耐大电流聚光光伏电池芯片,其特征是,所述正电极层为一完全密封的平面,正电极层面积形状和聚光光伏电池基材层面积形状完全一样。
5.根据权利要求1所述的一种U型耐大电流聚光光伏电池芯片,其特征是,所述有效面积为正方形形状。
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Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5580395A (en) * 1994-07-19 1996-12-03 Sharp Kabushiki Kaisha Solar cell with integrated bypass function
CN103996732A (zh) * 2014-06-11 2014-08-20 成都聚合科技有限公司 一种聚光太阳能电池芯片

Patent Citations (2)

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