CN106575026A - 透镜驱动装置 - Google Patents

Abstract

透镜驱动装置的一个实施方式可以包括：盖构件；线圈架，其被布置在盖构件内，以便能够沿第一方向移动；第一磁体，其被布置在盖构件内，以使线圈架沿第一方向移动；缠绕环，其耦接至线圈架；线圈，其缠绕在缠绕环的外周表面的周围，并且施加用于使线圈架沿第一方向移动的电流；基座，其耦接至盖构件的下端部；以及柔性电路板，其被布置在线圈架的下侧，以便与线圈电连接。

Description

透镜驱动装置

技术领域

各实施方式涉及透镜移动设备。

背景技术

在本部分中，以下描述仅提供关于实施方式的背景的信息，并且不构成常规技术。

近年来，已经积极地开发了其中安装有微型数码摄像机的IT产品，诸如移动电话、智能电话、平板PC和膝上型计算机。

通常，其中安装有微型数码摄像机的IT产品中设置有：图像传感器，用于将外部光转换为数字图像或数字视频；以及透镜移动设备，用于调整图像传感器与透镜之间的距离，以控制透镜的焦距。

此外，微型数码摄像机被配置成执行用于以下的控制过程以便执行自动对焦：找到图像传感器上的点，在该点处，基于根据透镜与图像传感器之间的距离在图像传感器上形成的数字图像的清晰度而形成最清晰聚焦的图像。

在自动聚焦期间，安装有透镜的线圈架通过磁体沿光轴方向移动。此时，设置在线圈架的上侧和/或下侧的弹性构件弹性地支承线圈架的移动。在一般数码摄像机中用于使透镜移动的透镜移动设备使用开环控制方法，该方法基于用于支承作为移动单元的线圈架的弹性构件的缺省压力来确定线圈架的初始位置，并且基于电流量来控制线圈架的移动量。

在与大量像素一起使用的透镜移动设备中，透镜的位置精度是重要的。在使用开环控制方法的透镜移动设备中，线圈架的位置没有精确地被控制，因此难以找到安装在线圈架中的透镜的光学聚焦位置。

此外，在开环控制方法中，需要完全扫描对象以执行自动对焦，因此花费大量时间来执行自动对焦。

通常，音圈马达包括安装有透镜的线圈架、缠绕在线圈架周围的线圈以及面向线圈的磁体。在线圈直接缠绕在线圈架的外周表面周围的情况下，线圈架可能由于线圈的热和张力而收缩，因此当透镜耦接至线圈架时，转矩控制可能是困难的。

替代性地，在使用粘合剂将线圈组固定至线圈架的情况下，难以控制粘合剂的量，并且线圈组可能与线圈架分离。

同时，通常，微型数码摄像机被配置成执行用于以下的控制过程以便执行自动对焦：找到图像传感器上的点，在该点处，基于根据透镜与图像传感器之间的距离在图像传感器上形成的数字图像的清晰度而形成最清晰聚焦的图像。在自动对焦期间，安装有透镜的线圈架通过第一磁体沿光轴方向移动。此时，设置在线圈架的上侧和/或下侧的弹性构件弹性地支承线圈架的移动。

然而，当线圈架沿光轴方向移动时，线圈架沿光轴方向振动。因此，弹性构件振动，从而从弹性构件产生噪声。此外，可能发生机械共振现象。

发明内容

【技术问题】

实施方式提供了一种能够执行精确的自动对焦功能的透镜移动设备。

此外，实施方式提供了一种透镜移动设备，其被配置成使得当透镜耦接至线圈架时，可以容易地执行扭矩控制，并且使得防止线圈与线圈架分离。

此外，实施方式提供了一种透镜移动设备，其被配置成使得噪音降低，机械共振现象减少，透镜移动设备的结构简化，并且透镜移动设备的制造成本降低。

【技术方案】

在一个实施方式中，透镜移动设备包括：盖构件；线圈架，其设置在盖构件中，以便能够沿第一方向移动；第一磁体，其设置在盖构件中，用于使线圈架沿第一方向移动；缠绕环，其耦接至线圈架；线圈，其缠绕在缠绕环的外周表面的周围，用于向线圈架供给电流，使得线圈架沿第一方向移动；导电构件，其设置在线圈架的下部；位置传感器和感测磁体，位置传感器和感测磁体耦接至从盖构件与线圈架之中所选择的一个；内磁轭，其一体地形成在盖构件的内部；第二电路板，其连接至导电构件；以及位移感测单元，用于确定线圈架在第一方向上的位移值。

在另一实施方式中，一种透镜移动设备包括：盖构件；线圈架，其设置在盖构件中，以便能够沿第一方向移动；第一磁体，其设置在盖构件中，用于使线圈架沿第一方向移动；缠绕环，其耦接至线圈架；线圈，其缠绕在缠绕环的外周表面的周围，用于向线圈架供给电流，使得线圈架沿第一方向移动；基座，其耦接至盖构件的下端部；以及柔性电路板，其设置在线圈架的下侧，以便连接到线圈。

【有益效果】

在根据实施方式的透镜移动设备中，使用反馈控制方法，由此能够精确地执行自动对焦并减少自动对焦时间。

此外，在使用柔性电路板作为导电构件的情况下，能够防止由于弹性构件的变形和所捕捉图片的质量的劣化而出现有缺陷的产品。

此外，使用柔性电路板来代替上弹性构件或下弹性构件，由此能够避免由弹性构件不可避免地产生的振动和由振动引起的机械共振现象。此外，能够显着减小由弹性构件产生的振动量。

此外，可以省略在一般透镜移动设备中使用的上弹性构件和下弹性构件以及第一磁体，由此能够降低透镜移动设备的制造成本并简化透镜移动设备的制造过程。

另外，线圈缠绕在缠绕环的外周表面周围，而不是缠绕在线圈架上，由此能够防止由线圈缠绕期间产生的热或张力引起的线圈架的变形，从而防止透镜组件扭矩的变化。

此外，缠绕环与线圈架的外周表面间隔开预定距离，由此能够减少被引入到线圈与磁体之间的空间中的异物的量。因此，线圈与磁体之间的磁场较少受到异物的影响。因此，与在常规透镜移动设备中相比，可以更精确地控制线圈架的向上和向下移动。

附图说明

图1A为示出了根据实施方式的透镜移动设备的分解透视图；

图1B为示出了根据另一实施方式的透镜移动设备的分解透视图；

图2为图1A和图1B中图示的透镜移动设备的局部剖视图；

图3A至图3D为示出了图1和图2中图示的线圈架的实施方式的截面图；

图4A至图4D为示出了图2中图示的缠绕环的实施方式的透视图；

图5A至图5E为示出了图4D中图示的缠绕环的改型的透视图；

图6A至图6D为示出了线圈耦接至图4A至图4D中图示的缠绕环的状态的视图；

图7为示出了线圈耦接至缠绕环的状态的透视图；

图8为示出了根据另一实施方式的缠绕环耦接至线圈架的状态的截面图；

图9A和图9B分别为示出了常规的透镜移动设备和根据实施方式的透镜移动设备的截面图；

图10A为示出了根据实施方式的透镜移动设备的内部的视图；

图10B为示出了根据实施方式的透镜移动设备的截面图；

图10C为图10B的局部放大图；

图11A为示出了根据实施方式的透镜移动设备的特定部分的仰视图；

图11B为示出了根据实施方式的透镜移动设备的特定部分的平面图；

图12A和图12B分别为示出了根据实施方式的盖构件的平面图和仰视图；

图13为示出了根据实施方式的线圈架的透视图；

图14为示出了根据实施方式的缠绕环的透视图；

图15为示出了根据实施方式的线圈架、缠绕环以及线圈彼此耦接的状态的透视图；

图16为示出了根据又一实施方式的透镜移动设备的分解透视图；

图17A和17B分别为示出了根据实施方式的盖构件的透视图和仰视透视图；

图18为示出了根据实施方式的缠绕环的改型的透视图；以及

图19为示出了柔性电路板的实施方式的示意图。

具体实施方式

现在将详细参照优选实施方式，优选实施方式的示例在附图中被图示。尽管本公开容许各种修改和替代形式，但是本公开的特定实施方式在附图中以示例的方式示出。然而，本公开不应被解释为受限于本文所阐述的实施方式，而是相反，本公开将覆盖落入实施方式的精神和范围内的所有修改、等同方案和替代方案。在附图中，为了描述的方便和清楚起见，元件的尺寸和形状可能被放大。

可以理解的是，虽然术语“第一”“第二”等在本文中可以用于描述各种元件，但这些元件不应受这些术语限制。这些术语通常仅用于将一个元件与另一元件区分开。此外，考虑到实施方式的构型和操作而特别定义的术语仅用于描述实施方式，而不是限定实施方式的范围。

应当理解的是，当元件被称为在另一元件“上”或“下”时，该元件可以直接位于元件上/下，并且还可以存在一个或更多个中间元件。当元件被称为在另一元件“上”或“下”时，可以包括以元件为基准“在元件的上方”以及“在元件的下方”。

此外，诸如“上/上部/上方”和“下/下部/下方”的相关术语仅用于区分一个本体或元件与另一本体和元件，而不一定需要或涉及这些本体或元件之间的任何物理或逻辑关系或顺序。

此外，在附图中可以使用直角坐标系(x，y，z)。在附图中，x轴和y轴是垂直于光轴的平面。为了方便起见，光轴方向(z轴方向)可以被称为第一方向，x轴方向可以被称为第二方向，并且y轴方向可以被称为第三方向。

图1A为示出了根据实施方式的透镜移动设备的分解透视图。图1B为示出了根据另一实施方式的透镜移动设备的分解透视图。图2为图1A和图1B中图示的透镜移动设备的局部剖视图。

图1A、图1B和图2图示的透镜移动设备可以包括移动器100、盖构件200、第一磁体500和基座700。盖构件200可以耦接至基座700，并且盖构件200的下侧可以由基座700支承。此外，盖构件200可以是中空的，并且用于阻挡磁场的内磁轭210可以与盖构件200一体地形成。内磁轭210的详细结构将在后面进行描述。

盖构件200可以由诸如铁的铁磁材料制成。此外，当从上方观看时，盖构件200的外边缘可以是角形的(angle-shaped)，并且盖构件200的内边缘可以是圆形的，使得盖构件200可以围绕线圈架150。然而，本公开是不限制于此。如图1A和1B所示，盖构件200可以是八边形的。与所示的不同，盖构件200可以是四边形的。此外，在布置于盖部件200的角部处的第一磁铁500的形状在从上方观看时为梯形的情况下，能够使磁场从盖部件200的角部向外的泄漏最小。

第一磁体500设置在盖构件200处以驱动移动器100。第一磁体500可以直接固定至盖构件200。在第一磁体500直接固定至盖构件200的情况下，第一磁体500可以通过结合直接固定至盖构件200的边缘或角部。

在盖构件200由金属制成的情况下，第一磁体500与其面接触的盖构件200的表面的数目越大，磁场可以越有效地被阻挡。此外，每个第一磁体500的至少两个表面可以接触盖构件200。例如，在每个第一磁体500的形状在从第一方向的上方观看时为梯形的情况下，每个第一磁体500的至少三个表面可接触盖构件200的内边缘。在图示的实施方式中，第一磁体500布置在盖构件200的两个角部处。替代地，第一磁体500可以布置在盖构件200的四个角部处。

同时，移动器100可以包括线圈架150、缠绕环180和线圈190。

线圈架150可以安装在盖构件200中，以便沿第一方向往复运动。缠绕环180可以耦接至线圈架150的外周表面，使得线圈架150可以与第一磁体500电磁地相互作用。此外，线圈190可以缠绕或耦接至缠绕环180的外周表面。

线圈架150可以耦接至透镜镜筒(未示出)，在该透镜镜筒中安装有至少一个透镜。透镜镜筒可以形成为螺旋耦接至线圈架150的内部。然而，本公开不限制于此。尽管未示出，透镜镜筒可以使用除了螺旋耦接之外的方法直接固定至线圈架150的内部，或者一个或更多个透镜可以与线圈架150一体地形成，而没有透镜镜筒。可以设置单个透镜，或者可以设置两个或更多个透镜以构成光学***。

同时，如图2所示，每个第一磁体500可以与缠绕环180间隔开预定距离g。根据该结构，如图2所示，当线圈架150在第一方向上上下移动时，防止上弹性构件410与第一磁体500接触和干涉，由此可以使线圈架150平滑地移动。距离g可以设定在水平方向、圆形方向、竖向方向或满足上述条件的方向上。其原因在于，当线圈架150移动时，需要使缠绕环180与第一磁体500间隔开预定距离或更大距离。

同时，缠绕环180可以耦接至线圈架150，并且线圈190可以缠绕在缠绕环180的外周表面184的周围，以便具有环形形状。

在下文中，将参考附图来详细描述移动器100的线圈架150、缠绕环180和线圈190的实施方式。为了便于描述，缠绕环180和线圈架150将被描述为单独的构件。替代性地，线圈架150和缠绕环180可以通过嵌件注塑成型(insert injection molding)而一体地形成。缠绕环180可以可拆卸地附接至线圈架150。

线圈架150可以包括第一本体单元B1和支承部B1S。

第一本体单元B1可以在其中接纳至少一个透镜。第一本体单元B1可以形成为中空圆筒形形状。圆筒形线圈架150可以包括上端部152和与上端部152相对的下端部154。

为了在其中接纳透镜，线圈架150可以在其内周表面处设置有内螺纹，并且透镜镜筒可以耦接至该内螺纹。

线圈架150的支承部B1S可以从第一本体单元B1的外周表面156向外突出。

如图1A、图1B和图2所示，支承部B1S可以与第一本体单元B1一体地形成。然而，本公开不限制于此。也就是说，在其他实施方式中，支承部B1S和第一本体单元B1可以单独设置，并且支承部B1S可以附接至第一本体单元B1。

此外，支承部B1S被示出为从第一本体单元B1的下端部突出。然而，本公开不限制于此。也就是说，在其他实施方式中，只要支承部B1S支承缠绕环180，支承部B1S除了可以从第一本体单元B1的下端部突出之外，还可以从第一本体单元B1的中间端部或上端部突出。

图3A至图3D分别为示出了图1A、图1B和图2中图示的线圈架150的实施方式150A、150B、150C和150D的截面图。

如图3A至图3D所示，支承部B1S可以包括第一凹部H1。第一凹部H1可以在透镜的第一方向上延伸。在这种情况下，如图2所示，缠绕环180可以形成为被接纳在第一凹部H1中。

此外，如图3B和图3D所示，支承部B1S可以进一步包括第二凹部H2。第二凹部H2可以与第一凹部H1相连通，并且在不同于第一方向的第二方向(例如Y轴方向)上延伸。在这种情况下，如图2所示，缠绕环180可以形成为被接纳在第一凹部H1和第二凹部H2两者中。因此，缠绕环180可以被支承部B1S牢固地支承。

此外，如图3A至图3D所示，第一凹部H1可以与第一本体单元B1的外周表面156间隔开。

此外，如图3C和图3D所示，支承部B1S可以进一步包括第三凹部H3。第三凹部H3可以在第一凹部H1与第一本体单元B1外周表面156之间沿第一方向延伸。

本公开不受限于第一凹部H1的深度至第三凹部H3的深度。例如，第一凹部H1可以具有适当的深度，以接纳和支承缠绕环180。

此外，在图示的实施方式中，缠绕环180可以包括磁性材料。然而，本公开不受限于构成缠绕环180的材料的种类。也就是说，在其他实施方式中，缠绕环180可以包括非磁性材料。

重新参照图1A、图1B和图2，形成为由由线圈架150支承的缠绕环180可以包括第二本体单元。第二本体单元可以包括至少一个第二本体B2、引导部B2S1以及卡合(catching)突出部B2S2。

线圈190可以缠绕第二本体B2的外周表面184的周围。线圈190可以布置在与第一磁体500相对应的位置处。在图示的实施方式中，线圈190被示出为呈圆形平面形状。在其他实施方式中，线圈190可以呈有角度的形状，例如八边形形状。由于线圈190缠绕在缠绕环180周围，所以线圈190的平面形状可以与缠绕环180的平面形状相同。

例如，线圈190可以是圆形线圈或四边形线圈，并且可以由铜、铝或铜和铝的合金制成。然而，本公开不限制于此。此外，线圈可以涂覆有绝缘材料。

线圈190和每个第一磁体150的面向表面可以具有相同的曲率。然而，本公开不限制于此。考虑到电磁作用，线圈190被布置成与每个第一磁体150相对。其原因在于，当每个第一磁体150的表面是平坦的并且线圈190的对应表面是平坦的时，可以使电磁力最大化。

然而，本公开不限制于此。每个第一磁体150的表面和线圈190的对应表面可以基于设计规格是弯曲的或平坦的。替代性地，每个第一磁体150的表面可以是弯曲的，而线圈190的对应表面可以是平坦的，或者每个第一磁体150的表面可以是平坦的，而线圈190的对应表面可以是弯曲的。

第二本体单元的第二本体B2可以由线圈架150的支承部B1S支承。第二本体B2的内周表面182可以与线圈架150的外周表面156相对。

根据实施方式，缠绕环180可以具有与线圈架150相同的平面形状。如图1A和图1B所示，缠绕环180和线圈架150被示出为具有环形平面形状。然而，本公开不限制于此。

也就是说，线圈架150和缠绕环180可以具有各种平面形状，诸如多边形平面形状。替代性地，线圈架150的平面形状可以不同于缠绕环180的平面形状。可以改变缠绕有线圈190的缠绕环180的形状，使得线圈190的面向每个第一磁体500的表面具有期望的曲率。

缠绕环180的第二本体B2可以在第二方向上与线圈架150的第一本体单元B1间隔开。第二方向可以是不同于第一方向的Y轴方向。

在下文中，将参照图4A至图4D以及图5A至图5C来描述缠绕环180的各种实施方式。

图4A至图4D为示出了图2中图示的缠绕环180的实施方式180A、180B、180C和180D的透视图。

如图4B和图4D所示，缠绕环180B或180D可以包括引导单元B2S1。引导单元B2S1可以限定从缠绕环180B或180D的第二本体B2的上端部向外突出的缠绕区域CA，使得线圈190缠绕在缠绕区域CA中。也就是说，如图2所示，线圈190可以向上缠绕到引导单元B2S1的正下方。

根据情况，如图4A和图4C所示，可以从缠绕环180A或180C省略引导单元B2S1。

此外，如图4C和图4D所示，缠绕环180C或180D可以进一步包括卡合突出部B2S2。卡合突出部B2S2可以从第二本体B2的内周表面182的下端部向内突出，并且每个可以具有合适的形状，以被接纳在图3B或图3D中图示的线圈架150B或150D的支承部B1S的第二凹部H2中。根据情况，如图4A和图4B所示，可以从缠绕环180A或180B省略卡合突出部B2S2。

在如上所述的卡合突出部B2S2形成在缠绕环180C或180D处的情况下，可以增大线圈架150B或150D与缠绕环180C或180D之间的耦接力，由此线圈架150B或150D与缠绕环180C或180D可以彼此不分离。卡合突出部B2S2被示出为齿状的。然而，本公开不限制于此。

图5A至图5E是示出了图4D中图示的缠绕环180D的改型180D-1、180D-2、180D-3、180D-4和180D-5的透视图。

图4D中图示的缠绕环180D具有引导单元B2S1和卡合突出部B2S2。缠绕环180D可以被修改成具有如图5A至5E中图示的各种形状。

在图4D中图示的缠绕环180D中，第二本体B2的内周表面182可以与线圈架150的整个外周表面156相对。

替代性地，如图5A至图5E所示，第二本体B2的内周表面182可以与线圈架150的外周表面156的一部分相对。

此外，如图5A至图5C所示，可以设置有多个第二本体182。在这种情况下，第二本体182中每一个可以形成为柱状。然而，本公开不限制于此。

参照图5A，缠绕环180D-1的第二本体B21-1、B22-1、B23-1和B24-1可以间隔布置。第二本体B21-1、B22-1、B23-1和B24-1可以以规则或不规则的间隔来布置。

此外，第二本体B21-1、B22-1、B23-1和B24-1彼此间隔开的第一距离D1可以大于第二本体B21-1、B22-1、B23-1和B24-1中的每一个的第一宽度W1。然而，本公开不限制于此。在其他实施方式中，第一距离D1可以等于或小于第一宽度W1。

以类似的方式，参照图5B，缠绕环180D-2的第二本体B21-2、B22-2、B23-2和B24-2可以间隔布置。第二本体B21-2、B22-2、B23-2和B24-2可以以规则或不规则的间隔来布置。

此外，第二本体B21-2、B22-2、B23-2和B24-2彼此间隔开的第二距离D2可以大于第二本体B21-2、B22-2、B23-2和B24-2中的每一个的第二宽度W2。然而，本公开不限制于此。在其他实施方式中，第二距离D2可以等于或小于第二宽度W2。

以与图5A和图5B中示出的方式类似的方式，参照图5C，缠绕环180D-3的第二本体B21-3、B22-3、B23-3和B24-3可以以间隔来布置。第二本体B21-3、B22-3、B23-3和B24-3可以以规则或不规则的间隔来布置。

然而，与图5A和图5B不同，图5C中图示的第二本体B21-3、B22-3、B23-3和B24-3彼此间隔开的第三距离D3可以小于第二本体B21-3、B22-3、B23-3和B24-3中的每一个的第三宽度W3。然而，本公开不限制于此。在其他实施方式中，第三距离D2可以等于或大于第三宽度W3。

此外，如图5A所示，第二本体B21-1、B22-1、B23-1和B24-1可以彼此不连接。另一方面，图5B中图示的第二本体B21-2、B22-2、B23-2和B24-2的下端部可以经由第一下端连接部186彼此连接。此外，图5C中图示的第二本体B21-3、B22-3、B23-3和B24-3的下端部可以经由第二下端连接部188彼此连接。

此外，卡合突出部B2S2可以是第一下端连接部186或第二下端连接部188的部分。

此外，如图5D和图5E所示，缠绕环180D-4或180D-5的第二本体B2的上部可以形成为具有凹凸形状。

同时，线圈190可以缠绕在缠绕环180的第二本体B2的外周表面184周围。

图6A至图6D是示出了线圈190耦接至图4A至图4D中图示的缠绕环180A至180D的状态的视图。

图示了缠绕环180A、180B、180C和180D的图6A至图6D可以是图4A至图4D中图示的缠绕环180A、180B、180C和180D的截面图。参照图6A至图6D，线圈190可以缠绕在缠绕区域CA中。如图6B或图6D所示，缠绕区域CA可以由引导单元B2S1限定。

图7是示出了线圈190耦接至缠绕环180B或180D的状态的透视图。参照图7，线圈190可以缠绕在图6B或图6D中图示的缠绕环180B或180D的外周表面184周围。

此外，缠绕环180和线圈190可以使用粘合剂或通过嵌件注塑成型耦接至彼此。然而，本公开内容不限于此。

图8是示出了根据另一实施方式的缠绕环180E耦接至线圈架150E的状态的截面图。

如图8所示，在实施方式中，缠绕环180E可以通过涂覆而形成在线圈架150E的外周表面156周围。在这种情况下，形成在线圈架150E的外周表面156周围的缠绕环180E可以进一步包括引导单元B2S1。引导单元B2S1可以限定从缠绕环180E的第二本体B2的上端部向外突出的缠绕区域，使得线圈190缠绕在缠绕区域中。

再参照图1A、图1B和图2，第一磁体500可以与线圈190相对，使得第一磁体500与线圈190相互作用，以使线圈架150沿第一方向移动。也就是说，根据弗莱明(Fleming)左手定则，线圈架150可以通过由每个第一磁体500和线圈190中流动的电流产生的磁场所产生的力沿第一方向向上移动。

此时，如前所述，线圈架150可以由上弹性构件410和下弹性构件420挠性地支承。可以精细地调整向线圈190供给的电流量，以便精确地调整线圈架150沿第一方向的移动距离。

图9A和图9B是分别示出了常规透镜移动设备和根据实施方式的透镜移动设备的截面图。参照图9A，在常规透镜移动设备中，线圈90可以直接缠绕在线圈架50的外周表面56周围，或者可以使用粘合剂来将作为块的线圈90附接至线圈架50的外周表面56。在线圈90直接缠绕在线圈架50周围的情况下，可以在缠绕线圈90之后改变透镜组件扭矩。

参照图9B，另一方面，在根据实施方式的透镜移动设备中，线圈190缠绕在缠绕环180的外周表面184的周围。因此，可以防止由线圈缠绕期间产生的热量或张力引起的线圈架150变形，从而防止透镜组件扭矩的改变。

此外，参照图9A，在常规透镜移动设备中，由于线圈90直接缠绕在线圈架50的外周表面56周围，因此外部异物12可以容易地被引入到线圈90与第一磁体500之间的空间中。

另一方面，参照图9B，在根据实施方式的透镜移动设备中，缠绕环180的内周表面182可以与线圈架150的外周表面156间隔开预定距离d。因此，当外部异物12被引入到透镜移动设备中时，异物12中的一些部分14可以被引入到由距离D限定的空间中，从而只有异物12的剩余部分16可以被引入到线圈190与第一磁体500之间的空间中。

因此，与图9A相比，可以显著地减少被引入到线圈190与第一磁体500之间的空间中的异物16的量。因此，线圈190与第一磁体500之间的磁场较少受异物12影响。因此，与在常规透镜移动设备中相比，可以更准确地控制线圈架150的向上移动和向下移动。为此，例如，第一距离d可以为0.05mm至0.5mm。然而，本公开内容不限于此。

同时，在以上实施方式中，线圈缠绕在缠绕环180周围，并且第一磁体50设置在盖构件200的内部，以便与线圈190相对。在其它实施方式中，可以设置相对结构。也就是说，可以以多边形形状来形成缠绕环，第一磁体500可以固定至或耦接至多边形的相应表面，并且线圈19可以设置在盖构件200的内部，以便与第一磁体500相对。

在这种情况下，缠绕环引导固定至或耦接至缠绕环的第一磁体500，以便沿第一方向移动，并且线圈190未缠绕在缠绕环周围。因此，缠绕环可以被称为引导环。

图10A是示出了根据实施方式的透镜移动设备的内部的视图。图10B是根据实施方式的透镜移动设备的截面图。图10C是图10B的局部放大图。

在实施方式中，用于阻挡磁场以防止磁场泄漏至外部的内磁轭210与盖构件200的上部的内周表面一体地形成。盖构件200可以主要阻挡磁场泄漏至盖构件200的上表面和外表面，并且内磁轭210可以主要阻挡磁场沿其内周方向的泄漏。

在实施方式中，当沿第一方向或从上方观看时，内磁轭210具有圆形截面形状。然而，本公开内容不限于此。内磁轭210可以具有多边形的截面形状。此外，缠绕环180和线圈190可以具有对应于内磁轭210的截面形状的圆形或多边形截面形状。然而，本公开内容不限于此。缠绕环180的形状可以不同于线圈190的形状或内磁轭210的形状。

由于内磁轭210的外表面与盖构件200的内表面彼此间隔开预定距离，因此在内磁轭210的外表面与盖构件200的内表面之间形成接纳部220。也就是说，以具有封闭上端部和开放下端部的形状来形成接纳部220(其为形成在内磁轭210与盖构件200之间的空间)。接纳部220沿内磁轭210的周向方向延伸。与该实施方式不同，盖构件200可以单独设置，而没有磁轭构件210。

线圈190和/或缠绕环180的至少一部分可以被接纳在接纳部220中。此外，可以在接纳部220中接纳：第一磁体500的至少一部分；用于感测的第二磁体310，其耦接至线圈架150；以及位置传感器320，其被设置成面对第二磁体310，用于感测第二磁体310在第一方向上的位置。

至少一个第一磁体500可以与第二磁体310沿缠绕环180的周向方向间隔开预定距离。在实施方式中，可以在接纳部220的角部处设置有位于接纳部220的角部的相对侧的成对的第一磁体500，在该角部的相对侧，第二磁体310和位置传感器320被设置成彼此面对。

第一磁体500可以形成为梯形柱形状，以便对应于接纳部220的相应角部。然而，本公开内容不限于此。第一磁体500可以形成为多边形形状，诸如三角形形状。在第一磁体500形成为梯形柱形状的情况下，可以使从盖构件200的角部泄漏至外部的磁场最小化。此外，每个棱柱形第一磁体500的每个角部均可以包括弯曲表面，该弯曲表面可以是通过切割形成的弯曲表面，或者可以具有弯曲形状。

如上所述，考虑到接纳部220的形状，第一磁体500、第二磁体310和位置传感器320最佳地被布置在接纳部220中。然而，本公开内容不限于此。第一磁体500、第二磁体310和位置传感器320可以被布置在接纳部220中，以便具有与上述位置关系不同的位置关系。

例如，2个、4个或8个第一磁体500可以被布置在接纳部220的边缘处，而不是接纳部220的角部处，以便彼此面对，并且第一磁体500可以形成为长方体形状、正六面体形状或四棱柱形状，而不是梯形形状。此外，这种布置可以取决于盖构件200的形状和内磁轭210而改变。此外，每个棱柱形第一磁体500的每个角部均可以包括弯曲表面，该弯曲表面可以是通过切割形成的弯曲表面，或者可以具有弯曲形状。

在实施方式中使用具有以上结构的集成内磁轭210的情况下，可以显著地减少被引入到透镜移动设备的上端部的异物量。也就是说，由于内磁轭210被布置在线圈架150的上部与缠绕环180之间的空间的至少一部分中，所以外部异物被引入到透镜移动设备中的路径是复杂的，由此可以显著地减少被引入到透镜移动设备中的异物量。

同时，在实施方式中，内磁轭210和缠绕环180设置在接纳部220中，使得在内磁轭210的外表面与缠绕环180的内表面彼此间隔开预定距离l的状态下，内磁轭210的外表面与缠绕环180的内表面彼此相对应。距离l有效地对应于线圈架150的倾斜现象，倾斜现象在线圈架150沿第一方向移动时发生。

倾斜现象是以下现象：线圈架150并未由于透镜移动设备的结构因素或者施加至线圈架150的电磁力所引起的偏转而沿第一方向移动，而是沿第二轴线方向和/或第三轴线方向倾斜。

即使当倾斜现象发生时，也可以防止由于通过距离l的提供引起的缠绕环180与内磁轭210之间的过度接触所产生的摩擦而使线圈架150沿第一方向的有限的的移动或不自然的移动。此外，由于这种摩擦，可以显著地减少对线圈架150和/或缠绕环180的磨损或损坏。

图11A是示出了根据实施方式的透镜移动设备的特定部分的仰视图。图11B是示出了根据实施方式的透镜移动设备的特定部分的平面图。在下文中，将参照图1A、图1B、图11A和图11B来描述实施方式的具体结构。

线圈架150的下侧设置有导电构件600，并且该导电构件600连接至线圈190，该线圈190耦接至线圈架150。图1A中所示的柔性电路板600a可以用作导电构件600的实施方式。替代性地，可以使用板簧。在使用板簧的情况下，板簧可以被分成至少两个部分，以便用作导电构件600。

柔性电路板600a设置在移动器100的下侧，并且连接至线圈190。柔性电路板600a可以由柔性材料制成，以便响应于移动器100沿第一方向的移动而沿第一方向变形。

在实施方式中，柔性电路板600a连接至线圈190，以向线圈190供给电流，并且线圈架150沿第一方向的移动由位移感测单元300和连接至的位移感测单元300的控制驱动器(未示出)控制。因此，在实施方式中，可以简化透镜移动设备的结构。

如图11A所示，柔性电路板600a的一侧耦接至线圈架150的下部，并且柔性电路板600a的另一侧耦接至第二电路板610。在实施方式中，柔性电路板板600a的一侧可以耦接至形成在线圈架150的下端部处的第一突出部151，并且柔性电路板600a的另一侧可以使用导电粘合材料耦接至第二电路板610。柔性电路板600a可以设置有用于与第一突出部151耦接的耦接孔601或耦接凹部。

同时，柔性电路板600a可以被布置在线圈架150与基座700之间，以便沿第二方向和/或垂直于第一方向的第三方向延伸。当线圈架150沿第一方向例如向上移动时，柔性电路板600a的耦接至线圈架150的部分向上移动。当线圈架150向下移动时，柔性电路板600a的耦接至线圈架150的部分向下移动。

此外，在实施方式中，可以降低成本，并且可以简化过程。此外，第一磁体500的数目可以是4个。

同时，实施方式可以进一步包括附接至基座700和/或盖构件200的一侧并且连接至柔性电路板600a的第二电路板610。第二电路板610可以将柔性电路板600a与控制驱动器互连。位置传感器320可以安装在第二电路板610上。

第二电路板610可以如柔性电路板600a那样地由柔性材料制成。然而，本公开内容不限于此。第二电路板610可以由刚性材料制成。第二电路板610可以取决于透镜移动设备的整体结构、制造第二电路板610的容易性以及第二电路板610的制造成本而由柔性材料或刚性材料制成。

图1B中所示的弹性构件600b可以用作导电构件600的另一实施方式。弹性构件600b的一侧可以连接至线圈架150，并且导电构件600的另一侧可以连接至第二电路板610。

在实施方式中，弹性构件600b可以具有与一般透镜移动设备中所使用的下弹性构件的形状类似的形状。弹性构件600b可以将被布置在线圈架150上的线圈190与第二电路板610互连，以便向线圈190供给电流。弹性构件600b在降低成本方面是有利的，这是由于弹性构件600b的制造成本比柔性电路板600a的制造成本低。

同时，与该实施方式不同，如在一般透镜移动设备中那样，透镜移动设备可以包括：弹性构件，其被设置在线圈架150的上部和下部以便连接至线圈190，用于向线圈供给电流并且柔性地或弹性地支承线圈架150沿第一方向的移动。

基座700可以包括耦接至盖构件200的下端部的基座支腿720。基座支腿720沿第一方向突出，以支承被布置在盖构件200中的第一磁体500。

因此，可以设置与第一磁体500相同数目的基座支腿720，以便对应于相应的第一磁体500。替代性地，可以在盖部件的各个角部处形成四个基座支腿720，而不考虑第一磁体500的数目。例如，基座支腿720可以在其上端部处设置有阶梯(未示出)，第一磁体500的下端部的部分位于在该阶梯上，以便支承第一磁体500。在另一实施方式中，基座支腿720的上端部可以使用诸如环氧树脂的粘合剂固定至或耦接至第一磁体500的下端部。

位移感测单元300确定线圈架150沿第一方向的位移值。位移感测单元300可以包括第二磁体310和位置传感器320。

在位移感测单元300的实施方式中，如图1A和图11B所示，第二磁体310安装至移动器100的线圈架150，并且位置传感器320可以设置在盖构件200中的对应于第二磁体310的位置处，以便与第二磁体310间隔开预定距离。

在位移感测单元300的另一实施方式中，第二磁体310和位置传感器320可以被布置在与前述实施方式中的位置相反的位置处。也就是说，位置传感器320可以安装至移动器100的线圈架150，并且第二磁体310可以设置在盖构件200中的对应于位置传感器320的位置处，以便与位置传感器320间隔开预定距离。

同时，线圈架150可以进一步设置有第三磁体155。如图11B所示，第三磁体155在与第二磁体310对称的位置处耦接至线圈架150，以抵消由第二磁体310引起的磁力变化和/或重量变化。因此，第三磁体155抵消由第二磁体310引起的磁力变化，由此可以显著地减少由磁力变化和/或重量变化引起的线圈架150和透镜镜筒的倾斜现象的发生。

此外，即使在位置传感器320安装至线圈架150的情况下，第三磁体155也可以在与位置传感器320对称的位置处耦接至线圈架150。

位置传感器320可以构成用于与安装至线圈架150的第二磁体310一起确定线圈架150沿第一方向的位移值的位移感测单元300。为此，位置传感器320可以被布置在对应于第二磁体310的位置处，以感测第二磁体310的相对移动。

位置传感器320可以是用于感测从线圈架150的第二磁体310释放的磁力变化的传感器。此外，位置传感器320可以是霍尔传感器。然而，本公开内容不限于此。可以使用任何能够感测磁力变化的传感器。替代性地，可以使用用于除了感测磁力之外还感测位置的传感器。例如，可以使用光反射器。

位移感测单元300、经由导电构件600连接至线圈190的第二电路板610和图像传感器可以连接至设置在透镜移动设备外部和/或内部的控制驱动器。在该连接中，通过控制装置使用反馈控制方法即闭环控制方法来控制线圈架150沿第一方向的移动。

使线圈架150执行沿第一方向的移动，以将对象的图像自动对焦在图像传感器的表面上。如下面那样，通过用于自动对焦的控制驱动器执行反馈控制。

在接纳线圈架150的第一方向位移值(其由位移感测单元300测量)和对象的图像(其形成在图像传感器上)时，控制驱动器确定对象是否对焦。在确定对象没有对焦时，改变向线圈架150供给的电流量，以使线圈架150沿第一方向移动。通过控制驱动器再次接纳线圈架150的第一方向位移值和对象的图像，然后控制驱动器确定对象是否对焦。

重复以上过程，直到控制驱动器在对象上准确地对焦为止。控制驱动器重复地调整线圈架150的第一方向位移值，以执行自动对焦。如上所述，使用反馈控制方法来执行该过程。

同时，包括透镜移动设备的摄像机模块可以包括盖构件200、线圈架150、透镜镜筒、导电构件600、图像传感器和印刷电路板。

如上所述，盖构件200可以是中空的，并且可以与用于阻挡磁场的内磁轭210一体地形成。线圈架150可以设置在盖构件200中，以便通过电磁相互作用沿第一方向移动。

如上所述，透镜镜筒可以使用诸如螺旋耦接方法的各种耦接方法耦接至线圈架150的内部。如上所述，导电构件600设置在线圈架150的下侧，并且连接至线圈190(其耦接至线圈架150)。

图像传感器设置在基座700的下部。对象通过透镜镜筒入射的图片形成在图像传感器上。印刷电路板可以连接至图像传感器，以从图像传感器接收对象的图像信息。

在实施方式中，使用了闭环控制方法，由此准确且快速地执行自动对焦。

此外，在实施方式中，不使用上弹性构件。因此，可以容易地调整线圈架150的上表面的高度，从而在透镜或透镜镜筒被组装至线圈架150时，可以容易地执行结合。

此外，由于在实施方式中，缠绕环180耦接至线圈架150，并且线圈190缠绕在缠绕环180周围，因此可以显著地减少由在线圈190的缠绕期间产生的热量或张力引起的线圈架150的变形，从而防止透镜组件扭矩的改变。

图12A和图12B分别是示出了根据实施方式的盖构件200的平面图和仰视图。图13是示出了根据实施方式的线圈架150的透视图。

在实施方式中，内磁轭的整体可以形成为凹凸形状，以构成第一凹凸部211。

此外，在实施方式中，可以在线圈架150处形成第二凹凸部153。第二凹凸部153可以具有沿第一方向形成的凹凸形状，并且可以具有闭合曲线，在沿第一方向观看时，该闭合曲线具有与线圈架150的整体形状相同的形状。

第一凹凸部211可以沿第一方向向下延伸，并且第二凹凸部153可以沿第一方向向上延伸。第一凹凸部211与第二凹凸部153可以彼此接合。由于第一凹凸部211与第二凹凸部153彼此接合，因此在线圈架150耦接至包括内磁轭的盖构件200时，可以防止线圈架150和盖构件200相对于彼此旋转。

同时，在附图中，第一凹凸部211和第二凹凸部153形成为四边形形状。然而，本公开内容不限于此。也就是说，盖构件200的第一凹凸部211可以形成为从四边形形状、梯形形状、三角形形状和圆形形状中所选择的至少一种形状，并且线圈架150的第二凹凸部153可以形成为能够与第一凹凸部211接合的形状。

此外，只要第一凹凸部211与第二凹凸部153彼此接合，第一凹凸部211和第二凹凸部153就可以形成为除了上述形状之外的各种形状。此外，凹凸部可以不是对称的和/或均匀的。

同时，在第一凹凸部211形成为四边形的情况下，第一凹凸部211可以进一步设置有第三凹凸部211a。第三凹凸部211a形成在第一凹凸部211的突出端上，以减小盖构件200的第一凹凸部211与线圈架150的第二凹凸部153之间的接触面积，从而减小由线圈架150与盖构件200之间的接触产生的噪声量。

此外，在第二凹凸部153形成为四边形的情况下，第二凹凸部153可以进一步设置有第四凹凸部153a。第四凹凸部153a形成在第二凹凸部153的突出端上，以减小线圈架150的第二凹凸部153与盖构件200的第一凹凸部211之间的接触面积，从而减小由线圈架150与盖构件200之间的接触产生的噪声量。

以与在第一凹凸部211和/或第二凹凸部153中相同的方式，第三凹凸部211a和/或第四凹凸部153a在附图中被示出形成为四边形。然而，本公开内容不限于此。也就是说，第三凹凸部211a和/或第四凹凸部153a可以形成为从四边形形状、梯形形状、三角形形状和波形形状中选择的至少一种形状。此外，第三凹凸部211a和/或第四凹凸部153a可以形成为除了上述形状之外的各种形状。此外，凹凸部可以不是对称的和/或均匀的。

图14是示出了根据实施方式的缠绕环180的透视图。图15是示出了根据实施方式的线圈架150、缠绕环180和线圈190耦接至彼此的状态的透视图。

在实施方式中，缠绕环180可以在其上端部设置有用于防止缠绕环180旋转的旋转防止部181。旋转防止部可以以与卡合突出部B2S2相同的方式来防止缠绕环180旋转。在实施方式中，缠绕环180可以在其上端部设置有用于防止缠绕环180旋转的旋转防止部181。图4至图8中所示的缠绕环180的实施方式中的每一个实施方式均可以设置有旋转防止部181。

可以通过弯曲在缠绕环180的上端部形成至少一个旋转防止部181，并且旋转防止部181的端部可以形成为直的形状，以便对应于盖构件200的内表面，该内表面的至少一部分是平坦的。

特别地，可以设置至少一对旋转防止部181，以便彼此面对。此外，旋转防止部181可以以对称或径向的方式设置在缠绕环180的上端部，以便对应于盖构件200的内表面，该内表面的至少一部分是平坦的。

在实施方式中，通过弯曲在缠绕环180的上端部径向地形成四个旋转防止部181。替代性地，可以设置2个旋转防止部181，以便彼此面对。此外，在盖构件200为八边形的情况下，可以以对称或径向的方式来设置2个、4个或8个旋转防止部181。此外，可以设置奇数或偶数个旋转防止部181。此外，多个旋转防止部181可以被设置成对应于盖构件200的内表面。

当在组装透镜移动设备期间，使透镜镜筒旋转以便将透镜镜筒螺旋耦接至线圈架时，透镜镜筒可以接触盖构件200的一部分或者盖构件的内表面的至少一部分，因此可以使移动器100旋转，由此可能会发生组装误差。旋转防止部181显著地降低了这种组装误差的发生率。旋转防止部181可以被布置在内磁轭210的各个凸部之间，即布置在内磁轭210的各个凹部中，使得内磁轭210的凸部与旋转防止部181在线圈架150的圆周表面周围交替布置。

由于卡合突出部B2S2和旋转阻止部181用于防止缠绕环180旋转，因此卡合突出部B2S2和旋转阻止部181均可以形成在缠绕环180处，或者从卡合突出部B2S2和旋转防止部181之中选择的仅一者可以根据需要形成在缠绕环180处。

图16是示出了根据又一实施方式的透镜移动设备的分解透视图。除了磁轭210之外，根据图16中所示的实施方式的透镜移动设备在构型上与图1A或图1B中所示的透镜移动设备相同。在下文中，将基于磁轭210和作为导电构件的实施方式的柔性电路板600来描述实施方式。

图17A和图17B分别是示出了根据实施方式的盖构件200的透视图和仰视透视图。盖构件200是中空的，并且盖构件200的外形大致为四边形。特别地，盖构件200的角部是圆形的。替代性地，盖构件200的角部可以被倒角，使得盖构件为八边形。

用于防止磁场泄漏的中空磁轭210设置在盖构件200的上部的内周表面处，以便与盖构件200一体地形成。内磁轭210的外表面与盖构件200的内表面彼此间隔开预定距离，以在内磁轭210的外表面与盖构件200的内表面之间形成接纳部220。

如上所述，线圈190和/或缠绕环180的至少一部分可以被接纳在接纳部220中。此外，第一磁体500的至少一部分、耦接至线圈架150的第二磁体310和被设置成面对第二磁体310的位置传感器320可以被接纳在接纳部220中。

在实施方式中，成对的磁体可以设置在接纳部220的角部处，以便彼此面对，并且第二磁体310和位置传感器320可以设置在接纳部120的未设置磁体的角部处。

基于盖构件200的形状来优化接纳部220中的元件布置。然而，本公开内容不限于此。在其他实施方式中，元件的布置可以取决于第一磁体500的形状和数目、盖构件200的形状和磁轭210的形状而进行各种改变。

图18是示出了根据实施方式的缠绕环180的改型的透视图。在该改型中，缠绕环180可以在其上端部设置有用于防止缠绕环180旋转的旋转防止部181。图4至图8中所示的缠绕环180的实施方式中的每一个实施方式均可以设置旋转防止部181。

可以通过弯曲在缠绕环180的上端部形成至少一个旋转防止部181，并且旋转防止部181的端部可以形成为直的形状，以便对应于盖构件200的内表面，该内表面的至少一部分是平坦的。

特别地，可以设置至少一对旋转防止部181，以便彼此面对。此外，旋转防止部181可以以对称或径向的布置设置在缠绕环180的上端部，以便对应于盖构件200的内表面，该内表面的至少一部分是平坦的。

在该改型中，通过弯曲在缠绕环180的上端部径向地形成4个旋转防止部181。替代性地，可以设置2个旋转防止部181，以便彼此面对。此外，在盖构件200为八边形的情况下，可以以对称或径向的布置来设置2个、4个或8个旋转防止部181。此外，可以设置奇数或偶数个旋转防止部181。此外，多个旋转防止部181可以被设置成对应于盖构件200的内表面。

当在组装透镜移动设备期间，使透镜镜筒旋转以便将透镜镜筒螺旋耦接至线圈架时，透镜镜筒可以接触盖构件200内表面的至少一部分，因此可以使移动器100旋转，由此可能发生组装误差。旋转防止部181显著地降低了这种组装误差的发生率。

图19是示出了柔性电路板600的实施方式的示意图。只要柔性电路板600的一侧耦接至线圈架150的下部并且柔性电路板600的另一侧耦接至基座700的上部以向线圈190供给电流，柔性电路板600就可以形成为具有各种形状。然而，在这种情况下，柔性电路板600可以位于在线圈架150和基座700的边缘处，以便不妨碍设置在透镜移动设备的下部的图像传感器(未示出)的视野。

在实施方式中，柔性电路板600可以是新月形的。柔性电路板600的一侧可以耦接至线圈架150，并且柔性电路板600的另一侧可以耦接至基座700(a)。在另一实施方式中，柔性电路板600可以形成为具有开口(b)的马蹄形的形状。在另一实施方式中，柔性电路板600可以形成为中空封闭曲线(c)的形状。在又一实施方式中，可以设置多个新月形柔性电路板600，并且柔性电路板600可以设置在移动器100的下侧，以便沿第一方向彼此对称。

在实施方式中，柔性电路板600设置有用于与线圈架150或基座700耦接的耦接孔610。替代性地，可以不设置耦接孔610，或者可以取决于柔性电路板600如何耦接至线圈架150和基座700而设置突出部或凹部来代替耦接孔610。

同时，根据上述实施方式中的每一个实施方式的透镜移动设备可以用于诸如摄像机模块的各种应用。摄像机模块例如可以用于诸如移动电话的移动装置中。

摄像机模块可以包括耦接至线圈架150的透镜镜筒、图像传感器(未示出)、印刷电路板(未示出)和光学***。

透镜镜筒可以如前所述地构型。作为安装有图像传感器的部分的印刷电路板可以构成摄像机模块的下表面。

此外，光学***可以包括用于将图片发送至图像传感器的至少一个透镜。具有自动对焦功能和摄像机抖动校正功能的致动器模块可以安装在光学***中。可以对具有自动对焦功能的致动器模块以各种方式构型。通常使用音圈单元马达。根据上述实施方式中的每一个实施方式的透镜移动设备可以充当具有自动对焦功能和摄像机抖动校正功能的致动器模块。

此外，摄像机模块可以进一步包括红外截止滤波器(未示出)。红外截止滤波器防止红外光入射在图像传感器上。在这种情况下，红外截止滤波器可以安装在图16中图示的基座700处，以便对应于图像传感器。红外截止滤波器可以耦接至保持器构件(未示出)。此外，基座700可以支承保持器构件的下侧。

基座700可以设置有用于与印刷电路板导电的附加端子构件。端子构件可以使用表面电极一体地形成。同时，基座700可以充当用于保护图像传感器的传感器保持器。在这种情况下，可以沿着基座700的边缘形成突出部，以便向下突出。然而，这种结构不是必不可少的。尽管未示出，但是附加的传感器保持器可以被布置在基座700的下部。

尽管已经参照其多个说明性实施方式来描述了实施方式，但是应当理解的是，本领域的技术人员可以设计将落入实施方式的固有方面内的许多其它修改和应用。更具体地，可以在实施方式的实际组成元件中进行各种变化和修改。此外，应当理解的是，与变化和修改相关的差异落入所附权利要求中所限定的本公开内容的精神和范围内。

【工业适用性】

根据这些实施方式，可以提供一种透镜移动设备，该透镜移动设备被配置成使得噪声减小、机械共振现象减少、透镜移动设备的结构简化、并且透镜移动设备的制造成本降低。因此，这些实施方式具有工业适用性。

Claims (20)

1.一种透镜移动设备，包括：

盖构件；

线圈架，其设置在所述盖构件中，以便能够沿第一方向移动；

第一磁体，其设置在所述盖构件中，用于使所述线圈架沿所述第一方向移动；

缠绕环，其耦接至所述线圈架；

线圈，其缠绕在所述缠绕环的外周表面的周围，用于向所述线圈架供给电流，使得所述线圈架沿所述第一方向移动；

导电构件，其设置在所述线圈架的下部；

位置传感器和感测磁体，所述位置传感器和所述感测磁体耦接至从所述盖构件与所述线圈架之中所选择的一个；

内磁轭，其一体地形成在所述盖构件的内部；

第二电路板，其连接至所述导电构件；以及

位移感测单元，用于确定所述线圈架在所述第一方向上的位移值。

2.根据权利要求1所述的透镜移动设备，其中，所述导电构件被配置成使得所述导电构件的一侧耦接至所述线圈架的下部，并且所述导电构件的另一侧耦接至所述第二电路板，所述内磁轭具有第一凹凸部，并且所述线圈架具有与所述第一凹凸部接合的第二凹凸部。

3.根据权利要求2所述的透镜移动设备，其中，所述第一凹凸部在其突出端处设置有第三凹凸部，并且所述第二凹凸部在其突出端处设置有第四凹凸部。

4.根据权利要求1所述的透镜移动设备，其中，所述位移感测单元包括：

第二磁体，其耦接至所述第二电路板；以及

位置传感器，其在所述线圈架的对应于所述第二磁体的位置处耦接至所述线圈架，以便与所述第二磁体间隔开预定距离。

5.根据权利要求1所述的透镜移动设备，其中，所述位移感测单元包括：

第二磁体，其耦接至所述线圈架，用于充当所述感测磁体；以及

位置传感器，其在所述第二电路板的对应于所述第二磁体的位置处耦接至所述第二电路板，以便与所述第二磁体间隔开预定距离。

6.根据权利要求1所述的透镜移动设备，其中，所述内磁轭在沿所述第一方向观看时具有圆形或多边形的截面形状，并且所述缠绕环和所述线圈各自具有与所述内磁轭的形状相对应的圆形或多边形的截面形状。

7.根据权利要求1所述的透镜移动设备，其中，

所述缠绕环在其上端部处设置有用于防止所述缠绕环旋转的旋转防止部，并且

所述旋转防止部包括：至少一个旋转防止部，其通过弯曲形成在所述缠绕环的上端部处，所述旋转防止部的端部形成为直的形状，以便与所述盖构件的内表面相对应，其中，所述盖构件的内表面的至少一部分是平坦的。

8.根据权利要求1所述的透镜移动设备，其中，

所述缠绕环设置有：卡合突出部，其从所述缠绕环的下端部朝向所述缠绕环的中心突出，用于增大所述线圈架与所述缠绕环之间的耦接力，

所述卡合突出部包括多个卡合突出部，所述卡合突出部被设置成关于所述缠绕环的中心彼此对称。

9.根据权利要求1所述的透镜移动设备，其中，

所述线圈架包括：第一本体单元，用于接纳至少一个透镜；以及支承部，其从所述第一本体单元向外突出，并且

所述缠绕环包括由所述支承部支承的第二本体单元，所述第二本体单元包括：内周表面，其与所述线圈架的外周表面相对；以及外周表面，所述线圈缠绕在所述外周表面的周围。

10.根据权利要求9所述的透镜移动设备，其中，

所述支承部包括：第一凹部，其沿所述第一方向延伸；以及第二凹部，其与所述第一凹部连通并沿与所述第一方向不同的第二方向延伸，并且

所述缠绕环被形成为被接纳在所述第一凹部中或者被接纳在所述第一凹部和所述第二凹部两者中。

11.根据权利要求9所述的透镜移动设备，其中，所述第二本体单元包括：

至少一个第二本体，所述线圈缠绕在所述至少一个第二本体的周围；

引导部，其从所述第二本体的外部上端部突出，用于限定从所述第二本体的上端部向外突出的线圈缠绕区域；以及

卡合突出部，其从所述第二本体的下端部向内突出，所述卡合突出部具有用于被接纳在所述支承部中的形状。

12.根据权利要求11所述的透镜移动设备，其中，所述第二本体包括：多个第二本体，其中的每一个第二本体形成为柱状形状，所述第二本体彼此间隔开，并且所述第二本体彼此间隔开的距离大于所述第二本体中的每一个第二本体的宽度。

13.根据权利要求12所述的透镜移动设备，其中，所述第二本体单元进一步包括：下端连接部，用于使所述第二本体的下端部相互连接，并且所述下端连接部包括：卡合突出部，其从所述第二本体单元向内突出。

14.一种透镜移动设备，包括：

盖构件；

线圈架，其设置在所述盖构件中，以便能够沿第一方向移动；

第一磁体，其设置在所述盖构件中，用于使所述线圈架沿所述第一方向移动；

缠绕环，其耦接至所述线圈架；

线圈，其缠绕在所述缠绕环的外周表面的周围，用于向所述线圈架供给电流，使得所述线圈架沿所述第一方向移动；

基座，其耦接至所述盖构件的下端部；以及

柔性电路板，其设置在所述线圈架的下侧，以便连接至所述线圈。

15.根据权利要求14所述的透镜移动设备，其中，

所述柔性电路板被配置成使得所述柔性电路板的一侧耦接至所述线圈架的下部，并且所述柔性电路板的另一侧耦接至所述基座的上部，并且

所述透镜移动设备进一步包括：第二电路板，其附接至所述基座和/或所述盖构件的一侧，所述第二电路板连接至所述柔性电路板。

16.根据权利要求15所述的透镜移动设备，其中，所述柔性电路板被配置成使得所述柔性电路板的一侧耦接至形成在所述线圈架的下部处的第一突出部，并且所述柔性电路板的另一侧耦接至形成在所述基座处的第二突出部。

17.根据权利要求14所述的透镜移动设备，其中，所述柔性电路板沿垂直于所述第一方向的第三方向和/或第二方向延伸。

18.根据权利要求14所述的透镜移动设备，其中，

在所述盖构件的上部的内周表面处设置有用于防止磁场泄漏的中空磁轭，

所述磁轭在沿所述第一方向观看时具有圆形或多边形的截面形状，并且

所述缠绕环和所述线圈各自具有与所述磁轭的形状相对应的圆形或多边形的截面形状。

19.根据权利要求18所述的透镜移动设备，其中，

所述磁轭的外表面与所述盖构件的内表面彼此间隔开预定距离，以在所述磁轭的外表面与所述盖构件的内表面之间形成接纳部，并且

所述接纳部形成为具有封闭的上端部和敞开的下端部的形状，所述接纳部沿所述磁轭的周向方向延伸。

20.根据权利要求19所述的透镜移动设备，其中，所述线圈和/或所述缠绕环的至少一部分被接纳在所述接纳部中，并且所述磁轭和所述缠绕环设置在所述接纳部中，使得所述磁轭的外表面与所述缠绕环的内表面在所述磁轭的外表面与所述缠绕环的内表面彼此隔开预定距离的状态下彼此相对应。