CN106521526A - 金属材料清洗剂 - Google Patents

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蔡泽
蔡洛明
蔡文卿
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    • C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23G—CLEANING OR DE-GREASING OF METALLIC MATERIAL BY CHEMICAL METHODS OTHER THAN ELECTROLYSIS
    • C23G1/00—Cleaning or pickling metallic material with solutions or molten salts
    • C23G1/14—Cleaning or pickling metallic material with solutions or molten salts with alkaline solutions

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Abstract

金属材料清洗剂，包括如下重量比组分：羧酸盐10‑15％，烷基酚聚氧乙烯醚10‑15％，碳酸氢钠5‑10％，其余为去离子水补至100％。本发明提出的金属材料清洗剂组分合理，清洗效果优良，清洗时间短，节省人力和工时；呈碱性，对设备的腐蚀性较低，使用安全可靠；为水溶性液体，清洗后的废液便于处理排放，不会污染环境。

Description

金属材料清洗剂
技术领域
本发明涉及一种清洗剂，具体涉及一种水基型的金属材料清洗剂。
背景技术
金属材料在进行加工前需要进行清洗，而采用金属材料加工制备的普通机械零件以及其他领域中使用的精密元器件的用量相当大，因此对这类金属零件清洗的工作量也相应的很大，清洗过程中需要的清洗剂的使用量肯定也是很大的。随着环境保护要求标准的严格化，对工业废水的排放控制也越来越严格，因此大量的废弃清洗剂的排放成为该行业需要研究的重要课题。另外，现有金属材料清洗剂大都为溶剂型，含磷水洗清洗剂等，这些清洗剂的清洗效果一般，清洗后的金属材料较易出现黑色的表层，给后续加工带来麻烦，特别对精密元器件的加工造成困惑。并且清洗剂对设备腐蚀性较强，增加设备成本，清晰时间较长，需要10-30分钟。
发明内容
本发明的目的在于提出一种清洗效果优良、直接排放无污染的金属材料清洗剂。
本发明的目的是采用以下技术方案来实现。依据本发明提出的金属材料清洗剂，包括如下重量比组分：羧酸盐10-15％，烷基酚聚氧乙烯醚10-15％，碳酸氢钠5-10％，其余为去离子水补至100％。
本发明提出的金属材料清洗剂组分合理，清洗效果优良，清洗时间短，节省人力和工时；呈碱性，对设备的腐蚀性较低，使用安全可靠；为水溶性液体，清洗后的废液便于处理排放，不会污染环境。
上述说明仅是本发明技术方案的概述，为了能更清楚了解本发明的技术手段，而可依照说明书的内容予以实施，并且为让本发明的上述和其他目的、特征和优点能够更明显易懂，以下特举较佳实施例详细说明。
具体实施方式
为更进一步阐述本发明为达成预定发明目的所采取的技术手段及功效，以下结合较佳实施例，对依据本发明提出的金属材料清洗剂其具体实施方式、结构、特征及其功效，详细说明如后。
实施例1
本发明金属材料清洗剂，包括如下重量比组分：羧酸盐10％，烷基酚聚氧乙烯醚10％，碳酸氢钠5％，去离子水75％。
实施例2
本发明金属材料清洗剂，包括如下重量比组分：羧酸盐13％，烷基酚聚氧乙烯醚12％，碳酸氢钠8％，去离子水67％。
实施例3
本发明金属材料清洗剂，包括如下重量比组分：羧酸盐15％，烷基酚聚氧乙烯醚15％，碳酸氢钠10％，去离子水60％。
以上所述，仅是本发明的较佳实施例而已，并非对本发明做任何形式上的限制，任何熟悉本专业的技术人员，在不脱离本发明技术方案范围内，依据本发明的技术实质对以上实施例所做的任何简单修改、等同变化与修饰，均仍属于本发明技术方案的范围内。

Claims (1)

1.金属材料清洗剂，其特征在于包括如下重量比组分：羧酸盐10-15％，烷基酚聚氧乙烯醚10-15％，碳酸氢钠5-10％，其余为去离子水补至100％。
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