CN106339144A - 激光触控面板、显示设备、显示***和激光触控方法 - Google Patents

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Abstract

本发明提供了一种激光触控面板、激光触控显示设备、激光触控显示***和激光触控面板的激光触控方法。该激光触控面板包括第一导电层、第二导电层和光致电阻变化材料层。光致电阻变化材料层设置在第一导电层和第二导电层之间并与第一导电层和第二导电层电连接，光致电阻变化材料层被配置为在受到激光照射的触控位置发生电阻变化。该激光触控面板可以实现对显示设备的远距离激光触控。

Description

激光触控面板、显示设备、显示***和激光触控方法
技术领域
本发明的实施例涉及一种激光触控面板、激光触控显示设备、激光触控显示***和激光触控面板的激光触控方法。
背景技术
随着智能手机等消费电子产品的普及，触控显示屏得到了人们的广泛认可。为了满足人们对大尺寸可触控显示产品的需求，各种触控技术应运而生。由于传统触控屏只能通过人手或触控笔的接触式操作实现触控，从而限制了能够实现触控的距离。在使用大尺寸显示屏时，操作者需要接近触控屏以实现触控，但是此时难以实现全屏触控，并且操作者也不能较好的观察整个屏幕，进而限制了大尺寸触控显示屏及其相关产品的发展。
发明内容
本发明的至少一个实施例提供了一种激光触控面板，包括第一导电层、第二导电层和光致电阻变化材料层。所述光致电阻变化材料层设置在所述第一导电层和所述第二导电层之间并与所述第一导电层和所述第二导电层电连接，所述光致电阻变化材料层被配置为在受到激光照射的触控位置发生电阻变化。
本发明的另一个实施例提供了一种激光触控显示设备，包括上述的激光触控面板。
本发明的再一个实施例提供了一种激光触控面板的激光触控方法，包括向所述第一导电层和/或所述第二导电层施加驱动电压；测量所述第一导电层和/或所述第二导电层的响应电压；以及根据所述驱动电压和所述响应电压获取所述激光触控面板上受到激光照射的触控位置。
附图说明
为了更清楚地说明本发明实施例的技术方案，下面将对实施例的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅涉及本发明的一些实施例，而非对本发明的限制。
图1(a)是本发明一个实施例提供的激光触控面板的结构示意图；
图1(b)是图1(a)所示的激光触控面板沿A-A’线的剖面示意图；
图2(a)是本发明一个实施例提供的激光触控面板的第一导电层和第二导电层的平面示意图；
图2(b)是本发明一个实施例提供的激光触控面板在受到激光照射时的等效电路图；
图3(a)是本发明另一个实施例提供的激光触控面板的结构示意图；
图3(b)是图3(a)所示的激光触控面板沿A-A’线的剖面示意图；
图4(a)是本发明另一个实施例提供的激光触控面板的第一导电层和第二导电层的平面示意图；
图4(b)是本发明另一个实施例提供的激光触控面板在受到激光照射时的等效电路图；
图5(a)是本发明另一个实施例提供的激光触控面板的另一种结构的剖面示意图；
图5(b)是本发明另一个实施例提供的激光触控面板的另一种结构的第一导电层和第二导电层的平面示意图；
图6是本发明再一个实施例提供的激光触控面板的另一种结构的第一导电层和第二导电层的平面示意图；
图7是本发明再一个实施例提供的激光触控显示设备的结构示意图；
图8是本发明再一个实施例提供的激光触控显示***；以及
图9是本发明再一个实施例提供的激光触控面板的激光触控方法的流程图。
具体实施方式
为使本发明实施例的目的、技术方案和优点更加清楚，下面将结合本发明实施例的附图，对本发明实施例的技术方案进行清楚、完整地描述。显然，所描述的实施例是本发明的一部分实施例，而不是全部的实施例。基于所描述的本发明的实施例，本领域普通技术人员在无需创造性劳动的前提下所获得的所有其他实施例，都属于本发明保护的范围。
除非另作定义，本发明所使用的技术术语或者科学术语应当为本发明所属领域内具有一般技能的人士所理解的通常意义。本发明专利申请说明书以及权利要求书中使用的“第一”“第二”以及类似的词语并不表示任何顺序、数量或者重要性，而只是用来区分不同的组成部分。“连接”或者“相连”等类似的词语并非限定于物理的或者机械的连接，而是可以包括电性的连接，不管是直接的还是间接的。
本发明的实施例提供了一种激光触控面板及其激光触控方法、激光触控显示设备和激光触控显示***，实现了对显示设备的远距离激光触控。
本发明的至少一个实施例提供了一种激光触控面板，该激光触控面板包括第一导电层、第二导电层和光致电阻变化材料层。该光致电阻变化材料层设置在第一导电层和第二导电层之间并与第一导电层和第二导电层电连接，光致电阻变化材料层被配置为在受到激光照射的触控位置发生电阻变化。通过该第一导电层和第二导电层，在该触控面板上该发生电阻变化的位置能够被检测到从而可以用于实现触控。
在不同的实施例中，例如，该光致电阻变化材料层可以包括彼此层叠的热敏电阻材料层和激光吸收材料层，该激光吸收材料层被配置为在被激光照射时在所述触控位置产生热量以使得触控位置发生温度变化，该热敏电阻材料层被配置为根据温度变化而发生电阻变化；又例如，该光致电阻变化材料层包括光敏电阻材料层，在被激光照射时在触控位置产生电阻变化。
为了通过该第一导电层和第二导电层，检测出在该触控面板上发生电阻变化的位置，从而可以实现触控，可以采用不同的检测方式，这些检测方式包括但不限于四线式检测方式、五线式检测方式、矩阵型检测方式等，这些检测方式可以适用于不同光致电阻变化材料层。
下面将结合附图对本发明不同的实施例及其具体示例进行非限制性的说明，如下面所描述的，在不相互抵触的情况下这些具体实施例中不同特征可以相互组合，从而得到新的实施例，这些实施例也都属于本发明保护的范围。
例如，图1(a)和图1(b)分别示出了本发明一个实施例的激光触控面板100的结构示意图和剖面示意图，图1(b)示出的剖面示意图是沿图1(a)所示的A-A’线剖切得到。
如图1(a)和图1(b)所示，该激光触控面板100包括第一导电层111，第二导电层131，以及设置在第一导电层111和第二导电层131之间并与第一导电层111和第二导电层131电连接的光致电阻变化材料层120。光致电阻变化材料层120被配置为在受到激光照射的触控位置发生电阻变化。该发生电阻变化的位置能够被检测到从而可以用于实现触控。
例如，如图1(a)和图1(b)所示，光致电阻变化材料层120包括激光吸收材料层121和热敏电阻材料层122。激光吸收材料层121被配置为受到激光照射时在被激光照射的触控位置产生热量，以使得该触控位置发生温度变化，该温度变化由激光吸收材料层121传导至热敏电阻材料层122，热敏电阻材料层122被配置为根据该温度变化发生电阻变化。从而可以实现受到激光照射的触控位置发生电阻变化。
例如，制作激光吸收材料层121的材料可以选用对激光具有高吸收率的材料，激光吸收材料层121通过将吸收的激光转化为热量，使得触控位置发生温度变化。例如，对于波长在1.06微米附近的激光，激光吸收材料层121可以选用碳钢、不锈钢、铝或者其它适合的材料。在本发明的实施例中，可以根据实现触控用的激光选择相应的激光吸收材料层。
例如，热敏电阻材料层122可以根据温度变化发生电阻变化。制作热敏电阻材料层122的材料可以选用具有负温度系数的材料，负温度系数材料是指电阻值随而温度增大时减小的材料。例如，负温度系数材料可以是利用锰、铜、硅、钴、铁、镍、锌中的两种或两种以上的金属氧化物进行充分混合、成型、烧结等工艺而成的热敏陶瓷，其电阻率随材料成分比例、烧结气氛、烧结温度和结构状态不同而变化。又例如，负温度系数材料还可以是碳化硅、硒化锡、氮化钽等非氧化物热敏陶瓷。
例如，为了提供保护、支撑等作用，优选地，该激光触控面板100还可以包括彼此平行相对设置的第一透明基板112和第二透明基板132。第一透明基板112和第二透明基板132可以是玻璃基板、石英基板、塑料基板(例如聚对苯二甲酸乙二醇酯(PET)基板)或者由其它适合的材料制成的基板。
例如，第一导电层111设置在第一透明基板112上面向光致电阻变化材料层120的一侧，第二导电层131设置在第二透明基板132上面向光致电阻变化材料层120的一侧。
例如，第一导电层111可以包括第一透明导电薄膜113和设置在第一透明导电薄膜113上并与第一透明导电薄膜113电连接的第一电极114。虽然图1(b)中示出第一电极114形成在第一透明导电薄膜113的下侧，但是二者的层叠位置可以交换，从而第一电极114可以形成在第一透明导电薄膜113的上侧。
例如，第二导电层131包括第二透明导电薄膜133和设置在第二透明导电薄膜133上与第二透明导电薄膜133之电连接的第二电极134。第一电极114包括两个平行设置的条状第一子电极115，第二电极134包括两个平行设置的条状第二子电极135。虽然图1(b)中示出第二电极134形成在第二透明导电薄膜133的上侧，但是二者的层叠位置可以交换，从而第二电极134可以形成在第二透明导电薄膜133的下侧。
例如，第一子电极115与第二子电极135交叉排布。例如，第一子电极115与第二子电极135的延伸方向相互垂直。
例如，制作第一透明导电薄膜113和第二透明导电薄膜133可以采用氧化铟锡(ITO)、氧化铟锌(IZO)或者其它适合的透明导电材料制作。例如，制作第一电极114和第二电极134的材料可以设置采用银、铜、铝、铝合金或者其它适合的导电材料。
在本实施例中，基于激光触控面板100的工作原理，可以有多种触控位置确定方法。下面结合图2(a)和图2(b)所示的示例，阐述该激光触控面板100的工作原理以及触控位置确定方法。
例如，如图2(a)所示，两个平行设置的条状第一子电极115之间的间距为L1，第一引线151与其中一个条状第一子电极115电连接，第二引线152与另一个条状第一子电极115电连接。两个平行设置的条状第二子电极135之间的间距为L2，第三引线153与其中一个条状第二子电极135电连接，第四引线154与另一个条状第二子电极135电连接。
例如，当被激光触控(例如被激光照射)时，激光吸收材料层121在被激光束照射的触控位置产生热量并使得该触控位置的温度升高，使得热敏电阻材料层122在该触控位置处的电阻值降低，进而使得第一导电层111和第二导电层131在该触控位置导通。例如，激光束的横截面(照射斑点的直径)例如可以为0.1～2mm。
此时，第一导电层111、第二导电层131、激光吸收材料层121和热敏电阻材料层122形成的等效电路如图2(b)所示。触控位置与第一引线151电连接的条状第一子电极115之间形成了第一电阻161(其阻值为R1)，触控位置与第二引线152电连接的条状第一子电极115之间形成了第二电阻162(其阻值为R2)，触控位置与第三引线153电连接的条状第二子电极135之间形成了第三电阻163(其阻值为R3)，触控位置与第四引线154电连接的条状第二子电极135之间形成了第四电阻164(其阻值为R4)。
例如，为了清楚的表示触控位置，引入了直角坐标系。X轴与条状第二子电极135平行，Y轴与条状第一子电极115平行，与第四引线154电连接的条状第二子电极135在Y轴方向的对称轴与X轴重合，与第一引线151电连接的条状第一子电极115在X轴方向的对称轴与Y轴重合。
例如，为了获得触控位置的X坐标，向第二引线152施加第一驱动电压Vdrive1，并将第一引线151接地，因此第一导电层111的两个条状第一子电极115之间形成了均匀连续的平行电压分布。由于第一导电层111和第二导电层131在触控位置导通，可以通过第三引线153获取第一响应电压V1＝R1/(R1+R2)×Vdrive1。由于第二透明导电薄膜133(例如，ITO层)均匀导电，触控位置的X轴坐标(即第一坐标)Loc1＝V1/Vdrive1×L1。
例如，为了获得触控位置的Y坐标，向第三引线153施加第二驱动电压Vdrive2，并将第四引线154接地，因此第二导电层131的两个条状第二子电极135之间形成了均匀连续的平行电压分布。由于第一导电层111和第二导电层131在触控位置导通，可以通过第二引线152处获取第二响应电压V2＝R4/(R3+R4)×Vdrive2。由于第二透明导电薄膜133(例如，ITO层)均匀导电，触控位置的Y轴坐标(即第二坐标)Loc2＝V2/Vdrive2×L2。
例如，本发明的实施例包括但不局限于上述方式获得触控位置的坐标，例如也可以向第一引线151施加第一驱动电压，并将第二引线152接地，通过第三引线153或第四引线154获取第一响应电压；也可以向第四引线154施加第二驱动电压，并将第三引线153接地，通过第一引线151或第二引线152获取第二响应电压。
例如，根据施加驱动电压和获取响应电压方式的变化和/或直角坐标系设置的变化，计算控制位置坐标的公式可以相应变化。
例如，当两个条状第一子电极115分别沿触控面板宽度方向(图2(b)中的X方向)的两个边缘设置，并且两个条状第一子电极115的宽度相对于触控面板的宽度可以忽略不计时，两个条状第一子电极115的间距L1可以使用触控面板宽度数值；当两个条状第二子电极135分别沿触控面板长度方向(图2(b)中的Y方向)的两个边缘设置，并且两个条状第二子电极135的宽度相对于触控面板的长度可以忽略不计时，两个条状第二子电极135的间距L2可以使用触控面板长度数值。当条状第一子电极115与条状第二子电极135没有按照上述方法设置时，其间距可以通过测量获得。因此，可以通过上述方法获得受到激光照射的触控位置坐标。进而实现触控操作。
例如，优选地，为了保护设置在激光触控面板100后侧的显示面板，如图1(a)和图1(b)所示，激光触控面板100还可以包括激光防护层141，激光防护层141可以设置在第二透明基板132上远离光致电阻变化材料层120的一侧，但是本发明的实施例不限于此。激光防护层141被配置为吸收透过激光吸收材料层121和热敏电阻材料层122的多余的激光，从而防止透过的激光损伤与激光触控面板100配套使用的显示面板。激光防护层141的材料可以选用对激光具有高吸收率并且对显示面板发出的光线具有高透过率的材料。例如，可以使用稀土掺杂玻璃作为激光防护层141的材料。稀土掺杂玻璃中掺杂的稀土离子可以根据激光触控面板100的工作波长(能够响应的激光波长)进行选择，例如，对于1.06微米附近的激光，可以选用镱离子或者钐离子作为稀土掺杂玻璃中的稀土离子。玻璃基质的选择可以根据触控面板对玻璃基质的透过率要求、成本要求以及其它因素进行选择，例如可以选择硼硅酸盐玻璃或者石英玻璃作为玻璃基质。激光防护层141的厚度可以根据能够透过激光吸收材料层121和热敏电阻材料层122的多余的激光强度以及稀土掺杂玻璃对所选用激光的吸收系数进行设定，以使透过激光防护层141的激光强度不会对与激光触控面板100配套使用的显示面板造成损伤。从而，保证了显示面板的安全性。
例如，优选地，为了更好地保护设置在激光触控面板100后侧的显示面板，如图1(a)和图1(b)所示，激光触控面板100还可以包括隔热层142，隔热层142可以设置在激光防护层141上远离第二透明基板132的一侧。制作隔热层142的材料可以选择对显示面板发出的光线具有高透射率的隔热玻璃，例如，隔热层142可以采用磷酸盐玻璃或者硅酸盐玻璃制成。隔热层142可以对激光吸收材料层121和激光防护层141中因吸收激光而产生的热量起到阻隔作用，防止上述热量向与激光触控面板100配套使用的显示面板传递，进而可以避免激光吸收材料层121和激光防护层141产生的热量对显示面板的工作性能和寿命产生影响；隔热层142还可以阻隔显示面板在工作中产生的热量向热敏电阻材料层122传递，进而可以避免热敏电阻材料层122受到显示面板产生热量的影响而产生错误的电阻变化，避免造成误触控。
虽然在图1(a)和图1(b)示出了激光吸收材料层121与热敏电阻材料层122在激光触控面板100上整面形成，但是本实施例不限于此，例如激光吸收材料层121或与热敏电阻材料层122也可以形成为纵横交错的网格状。例如在激光吸收材料层121形成为网格状时，则每个网格中露出下面的热敏电阻材料层122，第一导电层可以通过网格与热敏电阻材料层122直接接触。这样不但可以提高检测精度，降低串扰，而且还拓宽了激光吸收材料层121的材料选择范围，不但可以选择电阻较小的材料(例如导电材料)，也可以选择电阻较大的材料(例如绝缘材料)。
例如，图3(a)和图3(b)示出了本发明另一个实施例的激光触控面板300的结构示意图和剖面示意图，图3(b)示出的剖面示意图是沿图3(a)所示激光触控面板300的A-A’线剖切得到。
例如，如图3(a)和图3(b)所示，该激光触控面板300包括第一导电层311，第二导电层331，以及设置在第一导电层311和第二导电层331之间并与第一导电层311和第二导电层331电连接的光致电阻变化材料层320。光致电阻变化材料层320被配置为在受到激光照射的触控位置发生电阻变化。该发生电阻变化的位置能够被检测到从而可以用于实现触控。
例如，如图3(a)和图3(b)所示，光致电阻变化材料层320包括光敏电阻材料层323，光敏电阻材料层323被设置为受到激光照射时在被激光照射的触控位置的阻值随着激光强度的增加而降低。制作光敏电阻材料层323的材料可以根据激光触控面板300的工作波长进行选择，例如，光敏电阻材料层323的材料可以包括硫化铅、硒化铅、硫化镉和硒化镉中的一种或其组合。
例如，优选地，为了提高触控精度，激光触控面板300还可以包括滤波材料层343，滤波材料层343设置在光敏电阻材料层323上面向第一导电层311的一侧。滤波材料层343被配置成仅能透过特定的激光波段，进而可以避免环境光对光敏电阻材料层323产生作用，由此避免造成误触控。由于滤波材料层343对可与激光触控面板300配套使用的显示面板发射的光线可能具有滤除作用，因此，滤波材料仅能设置在显示面板像素单元之间的间隙处，以免影响显示面板发出光线的透过率。例如，滤波材料层343可以采用针对特定波段设计的多层介质膜。
例如，该激光触控面板300还可以包括彼此平行相对设置的第一透明基板312和第二透明基板332。第一透明基板312和第二透明基板332可以是玻璃基板、石英基板、塑料基板(例如PET基板)或者由其它适合的材料制成的基板。
例如，第一导电层311设置在第一透明基板312上面向光致电阻变化材料层320的一侧，第二导电层331设置在第二透明基板332上面向光致电阻变化材料层320的一侧。第一导电层311包括第一透明导电薄膜313和设置在第一透明导电薄膜313上并与第一透明导电薄膜313电连接的第一电极314；第一透明导电薄膜313和第一电极314的层叠位置关系可以相互交换。第二导电层331包括第二透明导电薄膜333和设置在第二透明导电薄膜333上并与第二透明导电薄膜333电连接的第二电极334；第二透明导电薄膜333和第二电极334的层叠位置关系也可以相互交换。第一电极314包括一个沿激光触控面板300一侧边缘设置的一个电极316(电极316例如为条状电极)。第二电极334包括两个平行设置的条状第三子电极336和两个平行设置的条状第四子电极337，第三子电极336与第四子电极337交叉排布。例如，第一子电极315与第二子电极335相互垂直。
例如，制作第一透明导电薄膜313可以采用镍金合金、氧化铟锡(ITO)、氧化铟锌(IZO)或者其它适合的透明导电材料；制作第二透明导电薄膜333可以采用氧化铟锡(ITO)、氧化铟锌(IZO)或者其它适合的材料。制作第一电极314和第二电极334的材料可以设置采用银、铜、铝、铝合金或者其它适合的导电材料。
在本实施例中，基于激光触控面板300的工作原理，可以有多种触控位置确定方法。下面结合图4(a)和图4(b)所示的示例，阐述该激光触控面板300的工作原理以及触控位置确定方法。
例如，如图4(a)所示，两个平行设置的条状第三子电极336之间的间距为L1，第一引线351与其中一个条状第三子电极336电连接，第二引线352与另一个条状第三子电极336电连接。两个平行设置的条状第四子电极337之间的间距为L2，第三引线353与其中一个条状第四子电极337电连接，第四引线354与另一个条状第四子电极337电连接。此外，第五引线355与位于第一导电层311的电极316(例如，条状电极)电连接。
例如，当被激光触控(例如被激光照射)时，光敏电阻材料层323在触控位置的电阻值降低，进而使得第一导电层311和第二导电层331在该触控位置导通，从第五引线355可以获取触控位置对应的第二导电层331上的电压。此时，第一导电层311、第二导电层331和光敏电阻材料层323形成的等效电路如图4(b)所示。触控位置与第一引线351电连接的条状第三子电极336之间形成了第一电阻361(其阻值为R1)，触控位置与第二引线352电连接的条状第三子电极336之间形成了第二电阻362(其阻值为R2)，触控位置与第三引线353电连接的条状第四子电极337之间形成了第三电阻363(其阻值为R3)，触控位置与第四引线354电连接的条状第四子电极337之间形成了第四电阻364(其阻值为R4)。
例如，为了清楚的表示触控位置，引入了直角坐标系。X轴与条状第四子电极337平行，Y轴与条状第三子电极336平行，与第四引线354电连接的条状第四子电极337在Y轴方向的对称轴与X轴重合，与第一引线351电连接的条状第三子电极336在X轴方向的对称轴与Y轴重合。
例如，为了获得触控位置的X坐标，向第二引线352施加第一驱动电压Vdrive1，并将第一引线351接地，因此第二导电层331的两个条状第三子电极336之间形成了均匀连续的平行电压分布。由于第一导电层311和第二导电层331在触控位置导通，可以从第一导电层311的第五引线355获取第一响应电压V1＝R1/(R1+R2)×Vdrive1。由于第二透明导电薄膜333(例如，ITO层)均匀导电，触控位置的X轴坐标(第一坐标)Loc1＝V1/Vdrive1×L1。
例如，为了获得触控位置的Y坐标，向第三引线353施加第二驱动电压Vdrive2，并将第四引线354接地，因此第二导电层331的两个条状第四子电极337之间形成了均匀连续的平行电压分布。由于第一导电层311和第二导电层331在触控位置导通，可以从第一导电层311的第五引线355获取第二响应电压V2＝R4/(R3+R4)×Vdrive2。由于第二透明导电薄膜333(例如，ITO层)均匀导电，触控位置的Y轴坐标(第二坐标)Loc2＝V2/Vdrive2×L2。
例如，本发明的实施例包括但不局限于上述方式获得触控位置的坐标，例如也可以向第一引线351施加第一驱动电压，并将第二引线352接地，通过第五引线355获取第一响应电压；也可以向第四引线354施加第二驱动电压，并将第三引线353接地，通过第五引线355获取第二响应电压。
例如，根据施加驱动电压和获取响应电压方式的变化和/或直角坐标系设置的变化，计算控制位置坐标的公式可以相应变化。
例如，当两个条状第三子电极336分别沿触控面板宽度方向(图4(b)中的X方向)的两个边缘设置，并且两个条状第三子电极336的宽度相对于触控面板的宽度可以忽略不计时，两个条状第三子电极336的间距L1可以使用触控面板宽度数值；当两个条状第四子电极337分别沿触控面板长度方向(图4(b)中的Y方向)的两个边缘设置，并且两个条状第四子电极337的宽度相对于触控面板的长度可以忽略不计时，两个条状第四子电极337的间距L2可以使用触控面板长度数值。当条状第三子电极336与条状第四子电极337没有按照上述方法设置时，其间距可以通过测量获得。因此，可以通过上述方法获得受到激光照射的触控位置坐标。进而实现触控操作。
例如，通过采用上述设置方式，第一导电层311仅作为导体，因此可以采用延展性好、电阻率低的镍金透明导电层，从而第一导电层111的寿命可以大幅提高。
例如，优选地，为了保护设置在激光触控面板300后侧的显示面板，如图3(a)和图3(b)所示，激光触控面板300还可以包括隔热层342，隔热层342可以设置在激光防护层341上远离第二透明基板332的一侧。制作隔热层342的材料可以选择对显示面板发出的光线具有高透射率的隔热玻璃，例如，隔热层342可以采用磷酸盐玻璃或者硅酸盐玻璃。隔热层342可以对光敏电阻材料层323因吸收激光而产生的热量起到阻隔作用，防止上述热量向显示面板传递，进而可以避免热量对显示面板的工作性能和寿命产生影响。
在本实施例中，光致电阻变化材料层320不限于采用上述光敏电阻材料层323，也可以采用结合图1(a)和图1(b)描述的彼此层叠的热敏电阻材料层和激光吸收材料层的结构；相应地，结合图1(a)和图1(b)描述的实施例中，光致电阻变化材料层320也可以采用光敏电阻材料层。
例如，图5(a)示出了本发明另一个实施例的激光触控面板500的一种结构的剖面示意图。与图3(b)示出的激光触控面板300的结构相比，该触控面板没有设置第二透明基板332和第二电极334，第二透明导电薄膜533为导电玻璃。图5(b)示出了本发明另一个实施例的激光触控面板100的另一种结构的第一导电层和第二导电层的平面示意图。如图5(b)所示，在透明导电薄膜的左上角、左下角、右上角和右下角分别设置第一接触点571、第二接触点572、第三接触点573、第四接触点574。第一接触点571和第三接触点573的间距为L1，第一接触点571和第二接触点572的间距为L2。
例如，为了获得触控位置的X坐标，可向第三接触点573和第四接触点574施加第一驱动电压Vdrive1，并将第一接触点571和第二接触点572接地。此时，可以在X方向上形成平行电场，通过第五引线555可以获得第一响应电压V1。因此，触控位置的X坐标(第一坐标)Loc1＝V1/Vdrive1×L1。为了获得触控位置的Y坐标，可向第一接触点571和第三接触点573施加第二驱动电压Vdrive2，将第二接触点572和第四接触点574接地。此时，可以在Y方向上形成平行电场，通过第五引线555可以获得第二响应电压V2。因此，触控位置的Y坐标(第二坐标)Loc2＝V2/Vdrive2×L2。
例如，将第二透明导电薄膜设置成导电玻璃，可以提高第二透明导电薄膜层的寿命。通过在该导电玻璃的四个角设置接触点形成所需的平行电场，可以提升触控面板的触控区域的面积。
例如，第一透明导电薄膜也可以设置为导电玻璃，电极516可以设置在导电玻璃上，这种情况下不需设置第一透明基板。
同样，在本实施例中，光致电阻变化材料层520不限于采用上述光敏电阻材料层523，也可以采用结合图1(a)和图1(b)描述的彼此层叠的热敏电阻材料层和激光吸收材料层的结构。
在本发明的另一个实施例中，如图6所示，激光触控面板600包括第一导电层611、第二导电层631和光致电阻变化材料层620，该光致电阻变化材料层620设置在第一导电层611和第二导电层631之间并与第一导电层611和第二导电层631电连接，第一导电层611例如包括沿第一方向(例如横向，即X方向)延伸的多个彼此平行的条状电极615，第二导电层631例如包括沿第二方向(例如纵向，即Y方向)延伸的多个彼此平行的条状电极635。例如，第一导电层611和第二导电层631可以由透明导电材料制备。第一导电层和第二导电层的各个条状电极例如通过引线连接到触控处理电路(例如，触控处理芯片)。
当激光照射到激光触控面板上时，例如照射到第一导电层的条状电极和第二导电层的条状电极彼此交叉处的位置时，对应位置的光致电阻变化材料层的电阻减小，从而彼此交叉的条状电极之间的电阻减小或变导通。由此，例如通过施加驱动信号依次扫描第一导电层的各条状电极，从第二导电层的各条状电极接收输出信号，通过分析每次扫描时第二导电层的各条状电极上的输出信号，就能够获得被激光照射的触控位置在第一方向和第二方向上的坐标，在触控面板上从而确定触控位置。
在该实施例中，同样，该光致电阻变化材料层可以包括彼此层叠的热敏电阻材料层和激光吸收材料层，或者该光致电阻变化材料层包括光敏电阻材料层。
例如，图7示出了本发明再一个实施例提供了一种激光触控显示设备10。如图7所示，该激光触控显示设备10包括如上所述的激光触控面板100和显示面板200。显示面板200设置在第二导电层131远离光致电阻变化材料层120的一侧。根据实际应用需求，显示面板200可以设置成液晶显示面板或者OLED显示面板等，在此不做限定。
例如，显示设备10不局限于包括激光触控面板100，也可以包括激光触控面板300、激光触控面板500、激光触控面板600或具体实施例中不同特征相互组合得到激光触控面板的其它实施例。
例如，显示面板200包括多个像素单元210，这些像素单元210例如布置为像素阵列，多个像素单元210在横向和纵向之间可以具有间隙211，光致电阻变化材料层120设置在激光触控面板100上对应间隙211的位置处。例如，光致电阻变化材料层120可以形成为网格状。上述设置方式实现了对激光触控显示设备10的远距离激光触控，并且可以避免光致电阻变化材料层120阻挡显示面板发出的光线，提高激光触控面板对显示面板发出光线的透过率。
例如，该激光触控显示设备10还包括触控处理电路(图中未示出)，触控处理电路与第一导电层111和第二导电层131连接且被配置为向第一导电层111施加第一驱动电压Vdrive1，测量第二导电层131的第一响应电压V1，向第二导电层131施加第二驱动电压Vdrive2，测量第一导电层111的第二响应电压V2；或者，向第二导电层131施加第一驱动电压Vdrive1，测量第一导电层111的第一响应电压V1，向第二导电层131施加第二驱动电压Vdrive2，测量第一导电层111的第二响应电压V2；根据第一响应电压V1与第一驱动电压Vdrive1的第一比值获取受到激光照射的触控位置的第一坐标Loc1；以及根据第二响应电压V2与第二驱动电压Vdrive1的第二比值获取受到激光照射的触控位置的第二坐标Loc2。第一坐标Loc1和第二坐标Loc2的具体计算公式可参见激光触控显示面板的实施例，在此不做赘述。
例如，触控处理电路可以通过本发明实施例中所述的第一引线、第二引线、第三引线、第四引线和第五引线中的一些线施加第一驱动电压和/第二驱动电压，读取第一响应电压和/或第二响应电压。
例如，本发明再一个实施例提供了一种激光触控显示***30，该激光触控显示***30包括激光发射设备20以及上述的激光触控显示设备10。激光发射设备20被配置为输出用于触控操作的激光，激光发射设备20输出激光的波长可以根据激光触控显示设备10的工作波长进行选择，例如，可以根据激光触控显示设备10中光致电阻变化材料层响应的激光波长进行选择，所发射的激光可以为可见光或不可见光(例如红外光)；又例如，在采用不可见光的情况下，激光发射设备20可以还包括触控点指示装置，该触控点指示装置可发出可见光光束照射到触控面板之上以指示触控位置。该激光触控显示***30可以实现对激光触控显示设备10的远距离激光触控。
例如，图9是本发明再一个实施例提供的一种用于上述激光触控面板的激光触控方法的流程图。如图9所示，该触控方法可以包括以下步骤：
步骤S10：向第一导电层和/或第二导电层施加驱动电压。
步骤S20：测量第一导电层和/或第二导电层的响应电压。
例如，向第一导电层和/或第二导电层施加驱动电压，测量第一导电层和/或第二导电层的响应电压包括：向第一导电层施加第一驱动电压Vdrive1，测量第二导电层的第一响应电压V1，向第二导电层施加第二驱动电压Vdrive2，测量第一导电层的第二响应电压V2；或者，向第二导电层施加第一驱动电压Vdrive1，测量第一导电层的第一响应电压V1，向第二导电层施加第二驱动电压Vdrive2，测量第一导电层的第二响应电压V2。
步骤S30：根据驱动电压和响应电压获取激光触控面板上受到激光照射的触控位置。
例如，根据驱动电压和响应电压获取受到激光照射的触控位置包括：根据第一响应电压V1与第一驱动电压Vdrive1的第一比值获取受到激光照射的触控位置的第一坐标Loc1；以及根据第二响应电压V2与第二驱动电压Vdrive1的第二比值获取受到激光照射的触控位置的第二坐标Loc2。
例如，触控位置的第一坐标和第二坐标的计算公式以及L1和L2的含义可以参见图2(a)和图2(b)以及图4(a)和图4(b)描述的方法，在此不做赘述。
例如，第一比值为V1/Vdrive1，第二比值为V2/Vdrive2。触控位置的第一坐标Loc1＝V1/Vdrive1×L1，触控位置的第二坐标Loc2＝V2/Vdrive2×L2。
本发明的实施例提供了一种激光触控面板及其激光触控方法、激光触控显示设备和激光触控显示***，实现了对显示设备的远距离激光触控。
以上所述仅是本发明的示范性实施方式，而非用于限制本发明的保护范围，本发明的保护范围由所附的权利要求确定。

Claims (20)

1.一种激光触控面板，包括：
第一导电层；
第二导电层；以及
光致电阻变化材料层，其中，
所述光致电阻变化材料层设置在所述第一导电层和所述第二导电层之间并与所述第一导电层和所述第二导电层电连接，所述光致电阻变化材料层被配置为在受到激光照射的触控位置发生电阻变化。
2.根据权利要求1所述的激光触控面板，其中，所述光致电阻变化材料层包括彼此层叠的热敏电阻材料层和激光吸收材料层，所述激光吸收材料层被配置为在被激光照射时在所述触控位置产生热量以使得所述触控位置发生温度变化，所述热敏电阻材料层被配置为根据所述温度变化发生电阻变化。
3.根据权利要求2所述的激光触控面板，其中，制作所述热敏电阻材料层的材料包括负温度系数的热敏陶瓷。
4.根据权利要求2所述的激光触控面板，其中，制作所述激光吸收材料层的材料包括碳钢。
5.根据权利要求1所述的激光触控面板，其中，所述光致电阻变化材料层包括光敏电阻材料层。
6.根据权利要求5所述的激光触控面板，其中，制作所述光敏电阻材料层的材料包括硫化铅、硒化铅、硫化镉和硒化镉中的一种或其组合。
7.根据权利要求1-6任一项所述的激光触控面板，还包括彼此平行相对设置的第一透明基板和第二透明基板，其中，所述第一导电层设置在所述第一透明基板上面向所述光致电阻变化材料层的一侧，所述第二导电层设置在所述第二透明基板上面向所述光致电阻变化材料层的一侧。
8.根据权利要求1-6任一项所述的激光触控面板，其中，所述第一导电层包括第一透明导电薄膜和设置在所述第一透明导电薄膜上与之电连接的第一电极，所述第二导电层包括第二透明导电薄膜和设置在所述第二透明导电薄膜上与之电连接的第二电极。
9.根据权利要求8所述的激光触控面板，其中，所述第一电极包括两 个平行设置的条状第一子电极，所述第二电极包括两个平行设置的条状第二子电极，所述第一子电极与所述第二子电极交叉排布。
10.根据权利要求8所述的激光触控面板，其中，所述第二电极包括两个平行设置的条状第三子电极和两个平行设置的条状第四子电极，所述第三子电极与所述第四子电极交叉排布。
11.根据权利要求7所述的激光触控面板，还包括：
激光防护层，设置在所述第二透明基板上远离所述光致电阻变化材料层的一侧。
12.根据权利要求11所述的激光触控面板，其中，制作所述激光防护层的材料包括稀土掺杂玻璃。
13.根据权利要求11所述的激光触控面板，还包括：
隔热层，设置在所述激光防护层上远离所述第二透明基板的一侧。
14.根据权利要求13所述的激光触控面板，其中，制作所述隔热层的材料包括隔热玻璃。
15.一种激光触控显示设备，包括如权利要求1-14任一项所述的激光触控面板。
16.根据权利要求15所述的激光触控显示设备，还包括显示面板，设置在所述第二导电层远离所述光致电阻变化材料层的一侧。
17.根据权利要求16所述的激光触控显示设备，其中，所述显示面板包括多个像素单元，所述多个像素单元之间具有间隙，所述光致电阻变化材料层设置在所述激光触控面板上对应所述间隙的位置。
18.根据权利要求15-17任一项所述的激光触控显示设备，还包括触控处理电路，所述触控处理电路与所述第一导电层和所述第二导电层连接且被配置为：
向所述第一导电层施加第一驱动电压，测量所述第二导电层的第一响应电压，向所述第二导电层施加第二驱动电压，测量所述第一导电层的第二响应电压；或者，向所述第二导电层施加第一驱动电压，测量所述第一导电层的第一响应电压，向所述第二导电层施加第二驱动电压，测量所述第一导电层的第二响应电压；
根据所述第一响应电压与所述第一驱动电压的第一比值获取受到激光照射的触控位置的第一坐标；以及
根据所述第二响应电压与所述第二驱动电压的第二比值获取所述受到激光照射的触控位置的第二坐标。
19.一种用于如权利要求1-14任一项所述激光触控面板的激光触控方法，包括：
向所述第一导电层和/或所述第二导电层施加驱动电压；
测量所述第一导电层和/或所述第二导电层的响应电压；以及
根据所述驱动电压和所述响应电压获取所述激光触控面板上受到激光照射的触控位置。
20.根据权利要求19所述的激光触控方法，其中，
所述向所述第一导电层和/或所述第二导电层施加驱动电压，测量所述第一导电层和/或所述第二导电层的响应电压包括：
向所述第一导电层施加第一驱动电压，测量所述第二导电层的第一响应电压，向所述第二导电层施加第二驱动电压，测量所述第一导电层的第二响应电压；或者，向所述第二导电层施加第一驱动电压，测量所述第一导电层的第一响应电压，向所述第二导电层施加第二驱动电压，测量所述第一导电层的第二响应电压；
根据所述驱动电压和所述响应电压获取所述受到激光照射的触控位置包括：
根据所述第一响应电压与所述第一驱动电压的第一比值获取受到激光照射的触控位置的第一坐标；以及
根据所述第二响应电压与所述第二驱动电压的第二比值获取所述受到激光照射的触控位置的第二坐标。
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