CN106191783A - 蒸镀遮罩、蒸镀方法及蒸镀遮罩之制造方法 - Google Patents

Abstract

本发明提供一种用于在显示面板基板上形成电致发光材料层的蒸镀遮罩，该蒸镀遮罩包括主体膜及掺杂在主体膜内部的磁性颗粒，该主体膜为树脂材料，该主体膜包括至少一像素区域，每一像素区域上形成有蒸镀所需要之第一开口。由于本发明之蒸镀遮罩于主体膜内掺杂磁性颗粒使得主体膜具有磁性，蒸镀遮罩借助磁性颗粒的磁力固定，主体膜采用较易加工的树脂材质来代替现有技术之金属材质的蒸镀遮罩，有助于提高蒸镀之精度。

Description

蒸镀遮罩、蒸镀方法及蒸镀遮罩之制造方法

技术领域

本发明涉及一种蒸镀遮罩、蒸镀方法及蒸镀遮罩之制造方法。

背景技术

目前之有机电致发光显示面板通过在基板上蒸镀有机发光物质以将有机发光物质形成在基板上。蒸镀遮罩一般选用金属材质，蒸镀时藉由一磁铁将基板与蒸镀遮罩紧密接合，蒸镀遮罩上之遮罩图案通常藉由蚀刻方式进行加工。然，于金属材质上加工图案的精细程度较难控制，从而影响蒸镀之精度。

发明内容

鉴于以上问题,有必要提供一种高精度之蒸镀遮罩、蒸镀方法及蒸镀遮罩之制造方法。

一种蒸镀遮罩，用于在显示面板基板上形成电致发光材料层，该蒸镀遮罩包括主体膜及掺杂在该主体膜内部的磁性颗粒，该主体膜为树脂材料，该主体膜包括至少一像素区域，每一所述像素区域上形成有蒸镀所需要之第一开口。

一种蒸镀方法，该方法包括如下步骤：

将该蒸镀遮罩贴置于显示面板基板上方；

从该蒸镀遮罩一侧向该显示面板基板提供电致发光材料，以于该显示面板基板上形成电致发光材料层。

一种蒸镀遮罩之制作方法，该蒸镀遮罩用于在显示面板基板上形成电致发光材料层，该方法包括如下步骤：

形成一主体膜，并在形成该主体膜的过程中掺入磁性颗粒；

在该主体膜上定义出至少一像素区域，并在该至少一像素区域上形成蒸镀所需之第一开口。

本发明之蒸镀遮罩于主体膜内掺杂磁性颗粒使得所述主体膜具有磁性，在蒸镀过程中所述蒸镀遮罩借助所述磁性颗粒的磁力固定，所述主体膜采用较易加工的树脂材质来代替现有技术之金属材质的蒸镀遮罩，有助于提高蒸镀之精度。

附图说明

图1是本发明第一实施方式所提供之蒸镀遮罩的结构示意图。

图2是图1中蒸镀遮罩沿II-II线之剖视图。

图3是本发明第一实施方式所提供之蒸镀遮罩制作方法的步骤流程图。

图4至图7是图3中各步骤流程的示意图。

图8是本发明第二实施方式所提供之蒸镀遮罩的结构示意图。

图9是图8中蒸镀遮罩沿IX-IX线之剖视图。

图10是本发明第二实施方式所提供之蒸镀遮罩制作方法的步骤流程图。

图11至图14是图10中各步骤流程的示意图。

图15是本发明第三实施方式所提供之蒸镀遮罩的结构示意图。

图16是图15中蒸镀遮罩沿XVI-XVI线之剖视图。

图17是本发明第三实施方式所提供之蒸镀遮罩制作方法的步骤流程图。

图18至图25是图17中各步骤流程的示意图。

图26是使用本发明所提供之蒸镀遮罩进行蒸镀的步骤流程图。

主要元件符号说明

蒸镀遮罩	100，200，300
		第一框架	110，210，310
第二开口	111，211，311
		主体膜	120，220，320
像素区域	121，221，321
		第一开口	1211，2211，3211
磁性颗粒	130，230，330
		第二框架	340
第三开口	341
		第二基板	10
第一表面	11
		第二表面	12
光阻层	20
		光阻层图案	21
光学掩膜	30
		激光	L

如下具体实施方式将结合上述附图进一步说明本发明。

具体实施方式

请一并参照图1及图2，图1是本发明第一实施方式所提供之蒸镀遮罩100的结构示意图。图2是图1中蒸镀遮罩100沿II-II线之剖视图。本发明第一实施方式提供一种蒸镀遮罩100，用于在基板上形成电致发光材料。具体地，该蒸镀遮罩100可用于在显示面板（例如手机显示面板或计算机显示面板等）（图未示）基板上形成有机电致发光材料层。该蒸镀遮罩100包括第一框架110、主体膜120及磁性颗粒130。该第一框架110贯穿开设有一第二开口111，该第一框架110呈中空的口字形。该磁性颗粒130掺杂在该主体膜120的内部，在本实施方式中，该磁性颗粒130均匀地掺杂在该主体膜120的内部，该磁性颗粒130的掺杂量可根据实际需求调整，在其他实施方式中，该磁性颗粒130也可根据实际需求调整掺杂在该主体膜120内部的均匀度。掺杂有该磁性颗粒130的该主体膜120贴附于该第一框架110的表面，使该第一框架110支撑于该主体膜120周侧以起支撑和加强的作用。该主体膜120上具有一像素区域121，该像素区域121与所述显示面板对应，本实施方式中，藉由激光L于该像素区域121上形成蒸镀所需要的多个第一开口1211。在其他实施方式中，也可以通过蚀刻的方式形成所述第一开口1211。该多个第一开口1211均显露于所述第二开口111。

在其他实施方式中，该蒸镀遮罩100也可以不包括所述第一框架110，而仅由掺杂有所述磁性颗粒130的所述主体膜120构成。

该第一框架110可为玻璃材质或磁性金属材质，在本实施方式中，该第一框架110为因瓦合金（Invar）材质。该主体膜120与所述第一框架110通过焊接或黏接的方式结合在一起。此外，由于所述磁性颗粒130的存在，所述主体膜120通过所述磁性颗粒130的磁力进一步与具有磁性的该第一框架110相吸附。在其他实施方式中，当该第一框架110使用玻璃材质时，所述主体膜120通过黏接的方式与所述第一框架110结合在一起。

该主体膜120为树脂材料，例如聚酰亚胺、聚萘二甲酸乙醇酯、聚对苯二甲酸乙二醇或聚醚砜中的任一种。在本实施方式中，该主体膜120为聚酰亚胺树脂(Polyimide resin)。形成于该主体膜120上的所述多个第一开口1211的大小和形状根据实际蒸镀的需要确定。所述第一开口1211的形状可以是正方形、矩形、圆形、椭圆形或者其它规则多边形或不规则多边形。本实施方式中，所述第一开口1211为正方形。

该磁性颗粒130可以为球形、椭圆形或无规则多边形，本实施方式为球形，其中，球形结构的该磁性颗粒130的直径小于1μm，较佳是小于50nm，最佳是小于20nm。本实施方式中，所述磁性颗粒130的直径小于20nm。在其他实施方式中，椭圆形或无规则多边形结构的所述磁性颗粒130的最长处的直径小于1μm。该磁性颗粒130可以为铁磁性材料、顺磁性材料、超顺磁性材料或反磁性材料。优选地，该磁性颗粒130为磁性较强的铁磁性材料，比如：铁、钴、镍及其合金或任一种或几种的化合物、氧化铁、四氧化三铁中的任一种或几种的组合。本实施方式选用四氧化三铁。

请同时参阅图26，图26是使用本发明所提供之蒸镀遮罩100进行蒸镀的步骤流程图。以下将陈述该蒸镀方法的各步骤。

步骤S401，将该蒸镀遮罩100贴置于显示面板基板上方。

具体地，藉由一磁板(图未示)所提供之磁性吸力将刻有所述多个第一开口1211的所述主体膜120吸附在所要蒸镀的显示面板基板(图未示)上，可以理解，当选用了具有磁性的该第一框架110时，所述磁板将所述第一框架110一并吸附，从而固定。

步骤S402，从该蒸镀遮罩100一侧向该显示面板基板提供电致发光材料，以于该显示面板基板上形成电致发光材料层。

请同时参阅图3至图7，图3是本发明第一实施方式所提供之蒸镀遮罩100制作方法的步骤流程图。图4至图7是图3中各步骤流程的示意图。为方便说明，下述方法流程中之组件沿用前述第一实施方式的组件标号。以下将陈述该蒸镀遮罩100的制作方法的各步骤，应说明的是，本发明的该蒸镀遮罩100的制作方法并不受限于下述步骤的顺序，且在其他实施方式中，本发明的该蒸镀遮罩100的制作方法可以只包括以下所述步骤的其中一部分，或者其中的部分步骤可以被删除。

步骤S101，如图4所示，利用掺入有磁性颗粒130的树脂材料制备主体膜120。在本实施方式中，该主体膜120为聚酰亚胺树脂(Polyimide resin)。该磁性颗粒130可以为球形、椭圆形或无规则多边形，本实施方式为球形，其中，球形结构的该磁性颗粒130的直径小于1μm，较佳是小于50nm，最佳是小于20nm。该主体膜120为方形结构。

步骤S102，如图5所示，提供一基板（图未示），并在该基板上开设第二开口111以形成中空的第一框架110。该基板为玻璃材质或磁性金属材质，在本实施方式中，该第一框架110为因瓦合金(Invar)材质。该第二开口111的面积小于所述主体膜120的面积，以使所述主体膜120的周侧为所述第一框架110所支撑。

步骤S103，如图6所示，将该主体膜120贴附于该第一框架110的表面。该主体膜120上与所述第一框架110可通过焊接或黏接的方式结合在一起。在本实施方式中，由于所述磁性颗粒130的存在，所述主体膜120通过所述磁性颗粒130的磁力进一步与Invar材质的所述第一框架110相吸附从而更稳固结合。

步骤S104，如图7所示，在该主体膜120上定义出一像素区域121，该像素区域121与所述显示面板对应，并藉由激光L在该像素区域121上形成蒸镀所需之多个第一开口1211，得到所述蒸镀遮罩100。

其中，该像素区域121与该第二开口111相对应，所述像素区域121的面积不大于所述第二开口111的面积。可以理解的是，在其他实施方式中，若该蒸镀遮罩100也可以不包括所述第一框架110，而仅由掺杂有所述磁性颗粒130的所述主体膜120构成，则步骤S102及S103均可以省略。

请一并参照图8及图9，图8是本发明第二实施方式所提供之蒸镀遮罩200的结构示意图。图9是图8中蒸镀遮罩200沿IX-IX线之剖视图。本发明第二实施方式提供一种蒸镀遮罩200，用于在基板上形成电致发光材料。具体地，该蒸镀遮罩100可用于在显示面板（例如手机显示面板或计算机显示面板等）（图未示）基板上形成有机电致发光材料层。该蒸镀遮罩200包括第一框架210、主体膜220及磁性颗粒230。该第一框架210贯穿开设有一第二开口211，该第一框架210呈中空的口字形。该磁性颗粒230掺杂在该主体膜220的内部，在本实施方式中，该磁性颗粒130均匀地掺杂在该主体膜120的内部，该磁性颗粒130的掺杂量可根据实际需求调整，在其他实施方式中，该磁性颗粒130也可根据实际需求调整掺杂在该主体膜120内部的均匀度。掺杂有该磁性颗粒230的该主体膜220贴附于该第一框架210表面，使该第一框架210支撑于该主体膜220周侧以起支撑和加强的作用。该主体膜220上间隔设有多个像素区域221，每一所述像素区域221与一所述显示面板对应，本实施方式中，藉由激光L分别于该多个像素区域221上形成蒸镀所需要的多个第一开口2211。在其他实施方式中，也可以通过蚀刻的方式形成所述第一开口2211。该多个第一开口2211均显露于所述第二开口211。在其他实施方式中，该蒸镀遮罩200也可以不包括所述第一框架210，而仅由掺杂有所述磁性颗粒230的所述主体膜220构成。

该第一框架210可为玻璃材质或磁性金属材质，在本实施方式中，该第一框架210为Invar材质。该主体膜220上与所述第一框架210通过焊接或黏接的方式结合在一起。此外，由于所述磁性颗粒230的存在，所述主体膜120通过所述磁性颗粒230的磁力进一步与具有磁性的该第一框架210相吸附。在其他实施方式中，当该第一框架210使用玻璃材质时，所述主体膜220通过黏接的方式与所述第一框架210结合在一起。

该主体膜220为树脂材料，例如聚酰亚胺、聚萘二甲酸乙醇酯、聚对苯二甲酸乙二醇或聚醚砜树脂中的任一种。在本实施方式中，该主体膜220为聚酰亚胺树脂(Polyimide resin)。形成于该主体膜220上的所述多个第一开口2211的大小和形状根据实际蒸镀的需要确定。所述第一开口2211的形状可以是正方形、矩形、圆形、椭圆形或者其它规则多边形或不规则多边形。本实施方式中，所述第一开口2211为正方形。

该磁性颗粒230可以为球形、椭圆形或无规则多边形，本实施方式为球形，其中，球形结构的该磁性颗粒230的直径小于1μm，较佳是小于50nm，最佳是小于20nm。本实施方式中，所述磁性颗粒130的直径小于20nm。在其他实施方式中，椭圆形或无规则多边形结构的所述磁性颗粒230的最长处的直径小于1μm。该磁性颗粒230可以为铁磁性材料、顺磁性材料、超顺磁性材料或反磁性材料。优选地，该磁性颗粒230为磁性较强的铁磁性材料，比如：铁、钴、镍及其合金或任一种或几种的化合物、氧化铁、四氧化三铁中的任一种或几种的组合。本实施方式选用四氧化三铁。

请同时参阅图26，图26是使用本发明所提供之蒸镀遮罩200进行蒸镀的步骤流程图。以下将陈述该蒸镀方法的各步骤。

步骤S401，将该蒸镀遮罩200贴置于显示面板基板上方。

具体地，藉由一磁板(图未示)所提供之磁性吸力将刻有该多个第一开口2211的该主体膜220吸附在所要蒸镀的显示面板基板(图未示)上，可以理解，当选用了具有磁性的所述第一框架210时，所述磁板将所述第一框架210一并吸附，从而固定。

步骤S402，从该蒸镀遮罩200一侧向该显示面板基板提供电致发光材料，以于该显示面板基板上形成电致发光材料层。

请同时参阅图10至图14，图10是本发明第二实施方式所提供之蒸镀遮罩200制作方法的步骤流程图。图11至图14是图10中各步骤流程的示意图。为方便说明，下述方法流程中之组件沿用前述第二实施方式的组件标号。以下将陈述该蒸镀遮罩200的制作方法的各步骤，应说明的是，本发明的该蒸镀遮罩200的制作方法并不受限于下述步骤的顺序，且在其他实施方式中，本发明的该蒸镀遮罩200的制作方法可以只包括以下所述步骤的其中一部分，或者其中的部分步骤可以被删除。

步骤S201，如图11所示，利用掺入有磁性颗粒230的树脂材料制备主体膜220。在本实施方式中，该主体膜220为聚酰亚胺树脂(Polyimide resin)。该磁性颗粒230可以为球形、椭圆形或无规则多边形，本实施方式为球形，其中，球形结构的该磁性颗粒230的直径小于1μm，较佳是小于50nm，最佳是小于20nm。本实施方式中，所述磁性颗粒130的直径小于20nm。该主体膜220为方形结构。

步骤S202，如图12所示，提供一基板（图未示），并在该基板上开设第二开口211以形成中空的第一框架210。该基板为玻璃材质或磁性金属材质，在本实施方式中，该第一框架210为Invar材质。该第二开口211的面积小于所述主体膜220的面积，以使所述主体膜220的周侧为所述第一框架210所支撑。

步骤S203，如图13所示，该主体膜220贴附于该第一框架210表面。其中，该主体膜220上与所述第一框架210可通过焊接或黏接的方式结合在一起。此外，由于所述磁性颗粒230的存在，所述主体膜220通过所述磁性颗粒230的磁力进一步与Invar材质的所述第一框架210相吸附从而更稳固结合。

步骤S204，如图14所示，在该主体膜220上定义出分别与多个显示面板对应的多个像素区域221，并藉由激光L分别在该多个像素区域221上形成蒸镀所需之多个第一开口2211，得到所述蒸镀遮罩200。

可以理解的是，在其他实施方式中，若该蒸镀遮罩200也可以不包括所述第一框架210，而仅由均匀掺杂有所述磁性颗粒230的所述主体膜220构成，则步骤S202及S203均可以省略。

请一并参照图15及图16，图15是本发明第三实施方式所提供之蒸镀遮罩300的结构示意图。图16是图15中蒸镀遮罩300沿XVI-XVI线之剖视图。本发明第三实施方式提供一种蒸镀遮罩300，用于在基板上形成电致发光材料。具体地，该蒸镀遮罩300可用于在显示面板（例如手机显示面板或计算机显示面板等）（图未示）基板上形成有机电致发光材料层。

该蒸镀遮罩300包括第一框架310、主体膜320、磁性颗粒330及第二框架340。该磁性颗粒330均匀地掺杂在该主体膜320的内部，掺杂有该磁性颗粒330的该主体膜320贴附于该第二框架340表面。该主体膜320上间隔设有多个像素区域321，每一所述像素区域321与一所述显示面板对应，本实施方式中，藉由激光L分别于该多个像素区域321上形成蒸镀所需要的多个第一开口3211。在其他实施方式中，也可通过蚀刻的方式形成所述第一开口3211。该第二框架340设于第一框架310及该主体膜320之间用于起支撑和加强所述主体膜320的作用。该第二框架340与所述多个像素区域321对应地贯穿开设有多个第三开口341，每一所述第三开口341的大小大于或等于每一所述像素区域321的大小。该第一框架310中间贯穿开设有一第二开口311，使所述第一框架310呈中空的口字形，该第一框架310用于支撑所述第二框架340，所述多个第三开口341均显露于所述第二开口311。在其他实施方式中，所述蒸镀遮罩300也可以不包括所述第一框架310，即所述蒸镀遮罩300包括掺入有所述磁性颗粒330的所述主体膜320及用于承载该主体膜320的第二框架340。

该第一框架310及该第二框架340均可为玻璃材质或磁性金属材质，在本实施方式中，该第一框架310及该第二框架340均为因瓦合金（Invar）材质。其中，该第一框架310较所述第二框架340薄以尽量减免由于所述第二框架340的增加而使整个所述蒸镀遮罩300的厚度增大。所述第一框架310及所述第二框架340藉由相互间的磁力、焊接或黏粘等方式之一结合在一起。该主体膜320上与所述第二框架340通过焊接或黏接的方式结合在一起。此外，由于所述磁性颗粒330的存在，所述主体膜320通过所述磁性颗粒330的磁力进一步与具有磁性的该第一框架310相吸附。在其他实施方式中，当该第一框架310使用玻璃材质时，所述主体膜320通过黏接的方式与所述第一框架310结合在一起。

该主体膜320为树脂材料，例如聚酰亚胺、聚萘二甲酸乙醇酯、聚对苯二甲酸乙二醇或聚醚砜树脂中的任一种。在本实施方式中，该主体膜320为聚酰亚胺树脂(Polyimide resin)。形成于该主体膜320上的所述多个第一开口3211的大小和形状根据实际蒸镀的需要确定。所述第一开口3211的形状可以是正方形、矩形、圆形、椭圆形或者其它规则多边形或不规则多边形。本实施方式中，所述第一开口3211为正方形。

该磁性颗粒330可以为球形、椭圆形或无规则多边形，本实施方式为球形，其中，球形结构的该磁性颗粒330的直径小于1μm，较佳是小于50nm，最佳是小于20nm。本实施方式中，所述磁性颗粒130的直径小于20nm。在其他实施方式中，椭圆形或无规则多边形结构的所述磁性颗粒330的最长处的直径小于1μm。该磁性颗粒330可以为铁磁性材料、顺磁性材料、超顺磁性材料或反磁性材料。优选地，该磁性颗粒330为磁性较强的铁磁性材料，比如：铁、钴、镍及其合金或任一种或几种的化合物、氧化铁、四氧化三铁中的任一种或几种的组合。本实施方式选用四氧化三铁。

请同时参阅图26，图26是使用本发明所提供之蒸镀遮罩300进行蒸镀的步骤流程图。以下将陈述该蒸镀方法的各步骤。

步骤S401，将该蒸镀遮罩300贴置于显示面板基板上方。具体地，藉由一磁板(图未示)所提供之磁性吸力将刻有该多个第一开口3211的该主体膜320吸附在所要蒸镀的显示面板基板(图未示)上，可以理解，当选用了具有磁性的所述第一框架310时，所述磁板将所述第一框架310一并吸附，从而固定。

步骤S402，从该蒸镀遮罩300一侧向该显示面板基板提供电致发光材料，以于该显示面板基板上形成电致发光材料层。

请同时参阅图17至图25，图17是本发明第三实施方式所提供之蒸镀遮罩300制作方法的步骤流程图。图18至图25是图17中各步骤流程的示意图。为方便说明，下述方法流程中之组件沿用前述第三实施方式的组件标号。以下将陈述该蒸镀遮罩300的制作方法的各步骤，应说明的是，本发明的该蒸镀遮罩300的制作方法并不受限于下述步骤的顺序，且在其他实施方式中，本发明的该蒸镀遮罩300的制作方法可以只包括以下所述步骤的其中一部分，或者其中的部分步骤可以被删除。

步骤S301，如图18所示，利用掺入有磁性颗粒330的树脂材料制备主体膜320。在本实施方式中，该主体膜320为聚酰亚胺树脂(Polyimide resin)。该磁性颗粒330可以为球形、椭圆形或无规则多边形，本实施方式为球形，其中，球形结构的该磁性颗粒330的直径小于1μm，较佳地，较佳是小于50nm，最佳是小于20nm。该主体膜320为方形结构。

步骤S302，如图19所示，提供一第二基板10，并将该主体膜320贴附于该第二基板10的第一表面11。该第二基板10为玻璃材质或磁性金属材质，在本实施方式中，该第二基板10为Invar材质。其中，该主体膜320上与所述第二基板10可通过焊接或黏接的方式结合在一起。此外，由于所述磁性颗粒330的存在，所述主体膜320通过所述磁性颗粒330的磁力进一步与Invar材质的所述第二基板10相吸附从而更稳固结合。

步骤S303，如图20所示，将该第二基板10翻转180度，使所述第二基板10形成覆盖于所述主体膜320上方的姿态，并于该第二基板10与该第一表面11相对的第二表面12上形成覆盖该第二表面12的一光阻层20。

步骤S304，如图21及图22所示，图案化该光阻层20，以形成光阻层图案21。具体地，利用一光学掩膜30通过黄光显影制程图案化该光阻层20以形成所述光阻层图案21。

步骤305，如图23所示，蚀刻未被该光阻层图案21遮盖的所述第二基板10，以于该第二基板10上间隔形成多个第三开口341从而形成第二框架340。

步聚306，如图24所示，提供一第一基板（图未示），并于该第一基板上开设一第二开口311以形成中空的第一框架310，然后将所述第二框架340远离所述主体膜320的一面贴附于所述第一框架310表面。该第一框架310支撑所述第一框架310的周侧，该多个所述第三开口341显露于所述第二开口311内。其中，该第一基板为玻璃材质或磁性金属材质，在本实施方式中，该第一基板为Invar材质。所述第一框架310及所述第二框架340藉由相互间的磁力、焊接或黏粘等方式之一结合在一起。本实施方式中，所述第一框架310及所述第二框架340藉由相互间的磁力固定在一起。

步聚307，如图25所示，在所述主体膜320上定义出分别与多个显示面板对应的多个像素区域321，使该多个像素区域321分别与所述多个开口一一对应设置，每一所述像素区域321显露于对应的所述第三开口341内，并通过激光L分别于该多个像素区域321上形成蒸镀所需之多个第一开口3211，得到所述蒸镀遮罩300。

在其他实施方式中，所述蒸镀遮罩300也可以不包括所述第一框架310，即所述蒸镀遮罩300包括掺入有所述磁性颗粒330的所述主体膜320及用于承载该主体膜320的第二框架340，则可省略步骤306。

本发明的该蒸镀遮罩及该蒸镀遮罩的制作方法的有益效果陈述如下，应指出的是，该蒸镀遮罩及该蒸镀遮罩的制作方法的有益效果不仅限于如下所述，还应括其它未列出之但领域的技术人员可以理解的有益效果。

1）. 采用树脂材料做为主体膜，因树脂材料的热膨胀系数可达到与用作手机或计算机的显示面板基板的热膨胀系数较为接近的数值，例如，3.39μm/m℃。所以采用树脂材料做为主体膜的蒸镀遮罩具有与所述显示面板基板较为接近的热膨胀系数，可减少在蒸镀过程中该蒸镀遮罩与所述显示面板基板因温度变化所导致之移位，从而提高蒸镀之精度。

2）. 在该主体膜上掺杂有所述磁性颗粒，使得所述主体膜具有一定的磁性，在蒸镀过程中所述蒸镀遮罩可以借助所述磁性颗粒的磁力固定而对所述第一框架的材质无严格要求，甚至可以省略所述第一框架，从而避免蒸镀过程中由于所述第一框架使用与所述显示面板的热膨胀系数相关较大而导致的形变或相对于显示面板基板偏移从而影响蒸镀的精度的现象。

3）. 所述第一框架选用具有磁性的金属材质，故在蒸镀过程中，可同时借助所述磁性颗粒及所述第一框架的磁性将所述蒸镀遮罩进行固定，使所述蒸镀遮罩与所述显示面板基板更紧密的贴紧，而由于贯设于所述第一框架的所述第二开口较大，所述第一框架仅支撑于所述主体膜的周边，故，所述主体膜贴附于所述第一框架时无需精准对位，使得在所述像素区域形成的蒸镀所需要的所述第一开口的大小取决于激光加工的能力，从而容易提高所述蒸镀遮罩的分辨率。

4）. 相较于现有技术是于金属遮罩上藉由蚀刻方式形成蒸镀所需之开口图案，本发明可省去蚀刻金属遮罩的步骤，而改用激光加工所述主体膜而形成蒸镀所需之第一开口，加工的精细程度较易控制，可有效提高加工精度及降低加工成本。

5）. 采用颗粒状的所述磁性颗粒掺杂于所述主体膜，有助于改善掺杂的容易度及易于掺杂均匀。

6）. 由于该主体膜上形成有分别与多个所述显示面板对应的多个所述像素区域，在进行蒸镀时，可以于大型被蒸镀基板上一次性蒸镀多个所述显示面板上的像素，可有效提高蒸镀效率，从而提高产能。

7）. 由于所述第二框架的存在，可对所述主体膜起到加强的作用，尤其是，当所述像素区域的数量较多时，所述第二框架可以支撑位于所述第一框架中部由于所述第二开口的存在而未被所述第一框架所支撑的所述主体膜，以防止所述主体膜中部下陷而影响蒸镀效果。

以上实施方式仅用以说明本发明的技术方案而非限制，尽管参照较佳实施方式对本发明进行了详细说明，本领域的普通技术人员应当理解，可以对本发明的技术方案进行修改或等同替换，而不脱离本发明技术方案的精神和范围。

Claims (22)

1.一种蒸镀遮罩，用于在显示面板基板上形成电致发光材料层，其特征在于：该蒸镀遮罩包括主体膜及掺杂在该主体膜内部的磁性颗粒，该主体膜为树脂材料，该主体膜包括至少一像素区域，每一所述像素区域上形成有蒸镀所需要之第一开口。

2.根据权利要求1所述的蒸镀遮罩，其特征在于：该蒸镀遮罩还包括一第一框架，所述第一框架贯设有一第二开口，该第一框架呈中空的口字形结构，用于支撑所述主体膜的周侧。

3.根据权利要求2所述的蒸镀遮罩，其特征在于：该第一框架为Invar材质。

4.根据权利要求1所述的蒸镀遮罩，其特征在于：蒸镀遮罩还包括一第二框架，所述第二框架上设有贯穿所述第二框架且分别与所述至少一像素区域对应的至少一第三开口，所述第三开口的大小不小于所述像素区域的大小。

5.根据权利要求1所述的蒸镀遮罩，其特征在于：所述磁性颗粒为球形。

6.根据权利要求5所述的蒸镀遮罩，其特征在于：所述磁性颗粒的直径小于1μm。

7.根据权利要求6所述的蒸镀遮罩，其特征在于：所述磁性颗粒的直径小于20nm。

8.根据权利要求1所述的蒸镀遮罩，其特征在于：所述磁性颗粒为椭圆形或不规则多边形。

9.根据权利要求8所述的蒸镀遮罩，其特征在于：所述磁性颗粒的最长直径小于1μm。

10.根据权利要求1所述的蒸镀遮罩，其特征在于：该主体膜的材料为聚酰亚胺树脂。

11.根据权利要求1所述的蒸镀遮罩，其特征在于：通过激光工艺在该像素区域上形成该第一开口。

12.根据权利要求1所述的蒸镀遮罩，其特征在于：该磁性颗粒选自铁、钴、镍及其合金或任一种或几种的化合物、氧化铁、四氧化三铁中的任一种或几种的组合。

13.一种使用如权利要求1到12任意一项所述的蒸镀遮罩的蒸镀方法，该方法包括如下步骤：

将该蒸镀遮罩贴置于显示面板基板上方；

从该蒸镀遮罩一侧向该显示面板基板提供电致发光材料，以于显示面板基板上形成电致发光材料层。

14.一种蒸镀遮罩之制作方法，该蒸镀遮罩用于在显示面板基板上形成电致发光材料层，该方法包括如下步骤：

形成一主体膜，并在形成该主体膜的过程中掺入磁性颗粒；

在该主体膜上定义出至少一像素区域，并在该至少一像素区域上形成蒸镀所需之第一开口。

15.根据权利要求14所述的蒸镀遮罩之制作方法，其特征在于：该方法还包括如下步骤：

提供一基板，在该基板上开设第二开口以形成中空的第一框架,并将掺入有该磁性颗粒的该主体膜设置于该第一框架表面。

16.根据权利要求15所述的蒸镀遮罩之制作方法，其特征在于：将该主体膜设置于该第一框架表面之前还包括如下步骤：

提供一第二基板，并将该主体膜贴附于该第二基板的一表面；

在所述第二基板与该主体膜相对的另一表面上形成与该至少一像素区域对应的至少一第三开口，以使该第二基板形成第二框架；

将该第二框架远离该主体膜的表面贴附于该第一框架的表面。

17.根据权利要求14所述的蒸镀遮罩之制作方法，其特征在于：所述磁性颗粒为球形、椭圆形或不规则多边形。

18.根据权利要求17所述的蒸镀遮罩之制作方法，其特征在于：所述磁性颗粒的最长直径小于1μm。

19.根据权利要求18所述的蒸镀遮罩之制作方法，其特征在于：所述磁性颗粒的最长直径小于20nm。

20.根据权利要求14所述的蒸镀遮罩之制作方法，其特征在于:藉由激光照该至少一射像素区域以形成该第一开口。

21.根据权利要求14所述的蒸镀遮罩之制作方法，其特征在于：该主体膜为树脂材料。

22.根据权利要求14所述的蒸镀遮罩之制作方法，其特征在于：该磁性颗粒选自铁、钴、镍及其合金或任一种或几种的化合物、氧化铁、四氧化三铁中的任一种或几种的组合。