CN106137774B - 基于牙体表面疏水化理念的窝沟封闭剂 - Google Patents
基于牙体表面疏水化理念的窝沟封闭剂 Download PDFInfo
- Publication number
- CN106137774B CN106137774B CN201610642503.8A CN201610642503A CN106137774B CN 106137774 B CN106137774 B CN 106137774B CN 201610642503 A CN201610642503 A CN 201610642503A CN 106137774 B CN106137774 B CN 106137774B
- Authority
- CN
- China
- Prior art keywords
- component
- pit
- methacrylate
- agent
- filler
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Active
Links
- 239000000068 pit and fissure sealant Substances 0.000 title claims abstract description 28
- 239000000178 monomer Substances 0.000 claims abstract description 43
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 claims abstract description 40
- 239000000945 filler Substances 0.000 claims abstract description 25
- 238000006116 polymerization reaction Methods 0.000 claims abstract description 24
- 238000007789 sealing Methods 0.000 claims abstract description 23
- 239000002904 solvent Substances 0.000 claims abstract description 20
- 230000002209 hydrophobic effect Effects 0.000 claims abstract description 18
- 239000003999 initiator Substances 0.000 claims abstract description 17
- 239000003153 chemical reaction reagent Substances 0.000 claims abstract 4
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 80
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 68
- VNQXSTWCDUXYEZ-UHFFFAOYSA-N 1,7,7-trimethylbicyclo[2.2.1]heptane-2,3-dione Chemical compound C1CC2(C)C(=O)C(=O)C1C2(C)C VNQXSTWCDUXYEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 41
- AMFGWXWBFGVCKG-UHFFFAOYSA-N Panavia opaque Chemical compound C1=CC(OCC(O)COC(=O)C(=C)C)=CC=C1C(C)(C)C1=CC=C(OCC(O)COC(=O)C(C)=C)C=C1 AMFGWXWBFGVCKG-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 41
- 229930006711 bornane-2,3-dione Natural products 0.000 claims description 41
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 claims description 40
- 239000000126 substance Substances 0.000 claims description 24
- 239000000203 mixture Substances 0.000 claims description 23
- CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N Acetone Chemical compound CC(C)=O CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 22
- RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N Diethyl ether Chemical compound CCOCC RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 21
- -1 alkyl chlorosilane Chemical compound 0.000 claims description 16
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Chemical compound CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 15
- KRHYYFGTRYWZRS-UHFFFAOYSA-M Fluoride anion Chemical compound [F-] KRHYYFGTRYWZRS-UHFFFAOYSA-M 0.000 claims description 14
- 230000000844 anti-bacterial effect Effects 0.000 claims description 12
- NROKBHXJSPEDAR-UHFFFAOYSA-M potassium fluoride Chemical compound [F-].[K+] NROKBHXJSPEDAR-UHFFFAOYSA-M 0.000 claims description 10
- PUZPDOWCWNUUKD-UHFFFAOYSA-M sodium fluoride Chemical compound [F-].[Na+] PUZPDOWCWNUUKD-UHFFFAOYSA-M 0.000 claims description 10
- VVQNEPGJFQJSBK-UHFFFAOYSA-N Methyl methacrylate Chemical compound COC(=O)C(C)=C VVQNEPGJFQJSBK-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 9
- KWOLFJPFCHCOCG-UHFFFAOYSA-N Acetophenone Chemical compound CC(=O)C1=CC=CC=C1 KWOLFJPFCHCOCG-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 8
- XEFQLINVKFYRCS-UHFFFAOYSA-N Triclosan Chemical compound OC1=CC(Cl)=CC=C1OC1=CC=C(Cl)C=C1Cl XEFQLINVKFYRCS-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- KOPOQZFJUQMUML-UHFFFAOYSA-N chlorosilane Chemical compound Cl[SiH3] KOPOQZFJUQMUML-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- 239000011521 glass Substances 0.000 claims description 6
- ARYZCSRUUPFYMY-UHFFFAOYSA-N methoxysilane Chemical compound CO[SiH3] ARYZCSRUUPFYMY-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- 229960003500 triclosan Drugs 0.000 claims description 6
- 239000005046 Chlorosilane Substances 0.000 claims description 5
- STVZJERGLQHEKB-UHFFFAOYSA-N ethylene glycol dimethacrylate Substances CC(=C)C(=O)OCCOC(=O)C(C)=C STVZJERGLQHEKB-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 5
- 239000012046 mixed solvent Substances 0.000 claims description 5
- 239000011698 potassium fluoride Substances 0.000 claims description 5
- 235000003270 potassium fluoride Nutrition 0.000 claims description 5
- 239000011775 sodium fluoride Substances 0.000 claims description 5
- 235000013024 sodium fluoride Nutrition 0.000 claims description 5
- 229940044192 2-hydroxyethyl methacrylate Drugs 0.000 claims description 4
- VTYYLEPIZMXCLO-UHFFFAOYSA-L Calcium carbonate Chemical compound [Ca+2].[O-]C([O-])=O VTYYLEPIZMXCLO-UHFFFAOYSA-L 0.000 claims description 4
- WOBHKFSMXKNTIM-UHFFFAOYSA-N Hydroxyethyl methacrylate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCCO WOBHKFSMXKNTIM-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- CWAFVXWRGIEBPL-UHFFFAOYSA-N ethoxysilane Chemical compound CCO[SiH3] CWAFVXWRGIEBPL-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- 239000011256 inorganic filler Substances 0.000 claims description 4
- 229910003475 inorganic filler Inorganic materials 0.000 claims description 4
- 239000012766 organic filler Substances 0.000 claims description 4
- SXMPQZFGMQBFMT-UHFFFAOYSA-N 1,3-dihydroxypropyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(=C)C(=O)OC(O)CCO SXMPQZFGMQBFMT-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- SOFCUHQPMOGPQX-UHFFFAOYSA-N 2,3-dibromopropyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCC(Br)CBr SOFCUHQPMOGPQX-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- VHSHLMUCYSAUQU-UHFFFAOYSA-N 2-hydroxypropyl methacrylate Chemical compound CC(O)COC(=O)C(C)=C VHSHLMUCYSAUQU-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- JTQXJDWMNNIVRS-UHFFFAOYSA-N 2-methylpent-2-enoyl chloride Chemical compound CCC=C(C)C(Cl)=O JTQXJDWMNNIVRS-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- GNSFRPWPOGYVLO-UHFFFAOYSA-N 3-hydroxypropyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCCCO GNSFRPWPOGYVLO-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 239000002202 Polyethylene glycol Substances 0.000 claims description 3
- 239000002250 absorbent Substances 0.000 claims description 3
- 230000002745 absorbent Effects 0.000 claims description 3
- 239000003086 colorant Substances 0.000 claims description 3
- SUPCQIBBMFXVTL-UHFFFAOYSA-N ethyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CCOC(=O)C(C)=C SUPCQIBBMFXVTL-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- HKZGNJXNTYQXGZ-UHFFFAOYSA-N fluoromethoxysilane Chemical compound FCO[SiH3] HKZGNJXNTYQXGZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 229910001512 metal fluoride Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 229920001223 polyethylene glycol Polymers 0.000 claims description 3
- BOQSSGDQNWEFSX-UHFFFAOYSA-N propan-2-yl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(C)OC(=O)C(C)=C BOQSSGDQNWEFSX-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 239000000565 sealant Substances 0.000 claims description 3
- 239000003381 stabilizer Substances 0.000 claims description 3
- BTJPUDCSZVCXFQ-UHFFFAOYSA-N 2,4-diethylthioxanthen-9-one Chemical compound C1=CC=C2C(=O)C3=CC(CC)=CC(CC)=C3SC2=C1 BTJPUDCSZVCXFQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- HWSSEYVMGDIFMH-UHFFFAOYSA-N 2-[2-[2-(2-methylprop-2-enoyloxy)ethoxy]ethoxy]ethyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCCOCCOCCOC(=O)C(C)=C HWSSEYVMGDIFMH-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- ZCDADJXRUCOCJE-UHFFFAOYSA-N 2-chlorothioxanthen-9-one Chemical compound C1=CC=C2C(=O)C3=CC(Cl)=CC=C3SC2=C1 ZCDADJXRUCOCJE-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- DBCAQXHNJOFNGC-UHFFFAOYSA-N 4-bromo-1,1,1-trifluorobutane Chemical compound FC(F)(F)CCCBr DBCAQXHNJOFNGC-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- JWUCJOJIDVOSLZ-UHFFFAOYSA-N CCCCC(C=C1)=CC=C1OCCOC(C(C)=C)=O Chemical compound CCCCC(C=C1)=CC=C1OCCOC(C(C)=C)=O JWUCJOJIDVOSLZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N Fluorine atom Chemical compound [F] YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 229920000459 Nitrile rubber Polymers 0.000 claims description 2
- 239000004952 Polyamide Substances 0.000 claims description 2
- GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N Titan oxide Chemical compound O=[Ti]=O GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- OKKRPWIIYQTPQF-UHFFFAOYSA-N Trimethylolpropane trimethacrylate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCC(CC)(COC(=O)C(C)=C)COC(=O)C(C)=C OKKRPWIIYQTPQF-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- ULQMPOIOSDXIGC-UHFFFAOYSA-N [2,2-dimethyl-3-(2-methylprop-2-enoyloxy)propyl] 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCC(C)(C)COC(=O)C(C)=C ULQMPOIOSDXIGC-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N aluminium oxide Inorganic materials [O-2].[O-2].[O-2].[Al+3].[Al+3] PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- WURBFLDFSFBTLW-UHFFFAOYSA-N benzil Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(=O)C(=O)C1=CC=CC=C1 WURBFLDFSFBTLW-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- ZYGHJZDHTFUPRJ-UHFFFAOYSA-N benzo-alpha-pyrone Natural products C1=CC=C2OC(=O)C=CC2=C1 ZYGHJZDHTFUPRJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- QUZSUMLPWDHKCJ-UHFFFAOYSA-N bisphenol A dimethacrylate Chemical compound C1=CC(OC(=O)C(=C)C)=CC=C1C(C)(C)C1=CC=C(OC(=O)C(C)=C)C=C1 QUZSUMLPWDHKCJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 229910000019 calcium carbonate Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 235000010216 calcium carbonate Nutrition 0.000 claims description 2
- 239000001506 calcium phosphate Substances 0.000 claims description 2
- 229910000389 calcium phosphate Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 235000011010 calcium phosphates Nutrition 0.000 claims description 2
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 claims description 2
- KVRXUBCNDACNHK-UHFFFAOYSA-N chloro(fluoro)silicon Chemical compound F[Si]Cl KVRXUBCNDACNHK-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 235000001671 coumarin Nutrition 0.000 claims description 2
- 150000004775 coumarins Chemical class 0.000 claims description 2
- MHCLJIVVJQQNKQ-UHFFFAOYSA-N ethyl carbamate;2-methylprop-2-enoic acid Chemical compound CCOC(N)=O.CC(=C)C(O)=O MHCLJIVVJQQNKQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 229910052731 fluorine Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 239000011737 fluorine Substances 0.000 claims description 2
- 125000000524 functional group Chemical group 0.000 claims description 2
- 229910052588 hydroxylapatite Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 230000000977 initiatory effect Effects 0.000 claims description 2
- 150000002734 metacrylic acid derivatives Chemical class 0.000 claims description 2
- RVTZCBVAJQQJTK-UHFFFAOYSA-N oxygen(2-);zirconium(4+) Chemical compound [O-2].[O-2].[Zr+4] RVTZCBVAJQQJTK-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- XYJRXVWERLGGKC-UHFFFAOYSA-D pentacalcium;hydroxide;triphosphate Chemical compound [OH-].[Ca+2].[Ca+2].[Ca+2].[Ca+2].[Ca+2].[O-]P([O-])([O-])=O.[O-]P([O-])([O-])=O.[O-]P([O-])([O-])=O XYJRXVWERLGGKC-UHFFFAOYSA-D 0.000 claims description 2
- 229920001483 poly(ethyl methacrylate) polymer Polymers 0.000 claims description 2
- 229920003229 poly(methyl methacrylate) Polymers 0.000 claims description 2
- 229920002647 polyamide Polymers 0.000 claims description 2
- 239000004926 polymethyl methacrylate Substances 0.000 claims description 2
- 229920000915 polyvinyl chloride Polymers 0.000 claims description 2
- 239000004800 polyvinyl chloride Substances 0.000 claims description 2
- 150000004756 silanes Chemical class 0.000 claims description 2
- 229920003048 styrene butadiene rubber Polymers 0.000 claims description 2
- OGIDPMRJRNCKJF-UHFFFAOYSA-N titanium oxide Inorganic materials [Ti]=O OGIDPMRJRNCKJF-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- QORWJWZARLRLPR-UHFFFAOYSA-H tricalcium bis(phosphate) Chemical compound [Ca+2].[Ca+2].[Ca+2].[O-]P([O-])([O-])=O.[O-]P([O-])([O-])=O QORWJWZARLRLPR-UHFFFAOYSA-H 0.000 claims description 2
- 229910001928 zirconium oxide Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 239000002981 blocking agent Substances 0.000 claims 3
- SPEUIVXLLWOEMJ-UHFFFAOYSA-N 1,1-dimethoxyethane Chemical compound COC(C)OC SPEUIVXLLWOEMJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 2
- 125000001797 benzyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(C([H])=C1[H])C([H])([H])* 0.000 claims 2
- ANOKTTKHGIYQAF-UHFFFAOYSA-N decyl(2-methylprop-2-enoyloxy)azanium chloride Chemical compound [Cl-].CCCCCCCCCC[NH2+]OC(=O)C(C)=C ANOKTTKHGIYQAF-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 2
- DHKHKXVYLBGOIT-UHFFFAOYSA-N 1,1-Diethoxyethane Chemical compound CCOC(C)OCC DHKHKXVYLBGOIT-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- HQQGKPRQLBHQNW-UHFFFAOYSA-N ethoxy(fluoro)silane Chemical compound CCO[SiH2]F HQQGKPRQLBHQNW-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- 239000005368 silicate glass Substances 0.000 claims 1
- 235000012239 silicon dioxide Nutrition 0.000 claims 1
- 238000000034 method Methods 0.000 abstract description 8
- 230000000694 effects Effects 0.000 abstract description 3
- 230000004048 modification Effects 0.000 abstract description 3
- 238000012986 modification Methods 0.000 abstract description 3
- 230000008859 change Effects 0.000 abstract description 2
- 230000008569 process Effects 0.000 abstract description 2
- 210000003781 tooth socket Anatomy 0.000 abstract description 2
- BLRPTPMANUNPDV-UHFFFAOYSA-N Silane Chemical compound [SiH4] BLRPTPMANUNPDV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 40
- 229910000077 silane Inorganic materials 0.000 description 40
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 39
- 239000000843 powder Substances 0.000 description 39
- PYJJCSYBSYXGQQ-UHFFFAOYSA-N trichloro(octadecyl)silane Chemical compound CCCCCCCCCCCCCCCCCC[Si](Cl)(Cl)Cl PYJJCSYBSYXGQQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-N Phosphoric acid Chemical compound OP(O)(O)=O NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- NLZUEZXRPGMBCV-UHFFFAOYSA-N Butylhydroxytoluene Chemical compound CC1=CC(C(C)(C)C)=C(O)C(C(C)(C)C)=C1 NLZUEZXRPGMBCV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 235000010354 butylated hydroxytoluene Nutrition 0.000 description 6
- 210000003298 dental enamel Anatomy 0.000 description 6
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 5
- 229910000147 aluminium phosphate Inorganic materials 0.000 description 4
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 4
- 208000002925 dental caries Diseases 0.000 description 4
- BXDGSXMFTGZLDT-UHFFFAOYSA-N dichloro-bis(2-ethylhexyl)silane Chemical compound CCCCC(CC)C[Si](Cl)(Cl)CC(CC)CCCC BXDGSXMFTGZLDT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- YUYCVXFAYWRXLS-UHFFFAOYSA-N trimethoxysilane Chemical compound CO[SiH](OC)OC YUYCVXFAYWRXLS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 230000001476 alcoholic effect Effects 0.000 description 3
- 238000007664 blowing Methods 0.000 description 3
- BAAAEEDPKUHLID-UHFFFAOYSA-N decyl(triethoxy)silane Chemical compound CCCCCCCCCC[Si](OCC)(OCC)OCC BAAAEEDPKUHLID-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 230000007547 defect Effects 0.000 description 3
- BYLOHCRAPOSXLY-UHFFFAOYSA-N dichloro(diethyl)silane Chemical compound CC[Si](Cl)(Cl)CC BYLOHCRAPOSXLY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- IPIWUBVZCIGHAC-UHFFFAOYSA-N dichloro-methyl-propan-2-ylsilane Chemical compound CC(C)[Si](C)(Cl)Cl IPIWUBVZCIGHAC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- YQGOWXYZDLJBFL-UHFFFAOYSA-N dimethoxysilane Chemical compound CO[SiH2]OC YQGOWXYZDLJBFL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000000463 material Substances 0.000 description 3
- 230000003405 preventing effect Effects 0.000 description 3
- WEUBQNJHVBMUMD-UHFFFAOYSA-N trichloro(3,3,3-trifluoropropyl)silane Chemical compound FC(F)(F)CC[Si](Cl)(Cl)Cl WEUBQNJHVBMUMD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- UMFJXASDGBJDEB-UHFFFAOYSA-N triethoxy(prop-2-enyl)silane Chemical compound CCO[Si](CC=C)(OCC)OCC UMFJXASDGBJDEB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- QQQSFSZALRVCSZ-UHFFFAOYSA-N triethoxysilane Chemical compound CCO[SiH](OCC)OCC QQQSFSZALRVCSZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- DVQGJDYDHQULIU-UHFFFAOYSA-N 3,3-dimethylbutyl(triethoxy)silane Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)CCC(C)(C)C DVQGJDYDHQULIU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 241000283690 Bos taurus Species 0.000 description 2
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 description 2
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 description 2
- XGZGKDQVCBHSGI-UHFFFAOYSA-N butyl(triethoxy)silane Chemical compound CCCC[Si](OCC)(OCC)OCC XGZGKDQVCBHSGI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- OOSZILWKTQCRSZ-UHFFFAOYSA-N butyl-dimethoxy-methylsilane Chemical compound CCCC[Si](C)(OC)OC OOSZILWKTQCRSZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VNVRPYPOLKSSCA-UHFFFAOYSA-N butyl-methoxy-dimethylsilane Chemical compound CCCC[Si](C)(C)OC VNVRPYPOLKSSCA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- AKYGPHVLITVSJE-UHFFFAOYSA-N chloro-dimethyl-(3,3,4,4,5,5,6,6,7,7,8,8,8-tridecafluorooctyl)silane Chemical compound C[Si](C)(Cl)CCC(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)F AKYGPHVLITVSJE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KMVZWUQHMJAWSY-UHFFFAOYSA-N chloro-dimethyl-prop-2-enylsilane Chemical compound C[Si](C)(Cl)CC=C KMVZWUQHMJAWSY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XSDCTSITJJJDPY-UHFFFAOYSA-N chloro-ethenyl-dimethylsilane Chemical compound C[Si](C)(Cl)C=C XSDCTSITJJJDPY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- NQKBNSIOLMRTDL-UHFFFAOYSA-N chloro-hex-5-enyl-dimethylsilane Chemical compound C[Si](C)(Cl)CCCCC=C NQKBNSIOLMRTDL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- NJKDOKBDBHYMAH-UHFFFAOYSA-N dibutyl(dichloro)silane Chemical compound CCCC[Si](Cl)(Cl)CCCC NJKDOKBDBHYMAH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- YPENMAABQGWRBR-UHFFFAOYSA-N dibutyl(dimethoxy)silane Chemical compound CCCC[Si](OC)(OC)CCCC YPENMAABQGWRBR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- CNMRTWIPHVMKBT-UHFFFAOYSA-N dichloro(didodecyl)silane Chemical compound CCCCCCCCCCCC[Si](Cl)(Cl)CCCCCCCCCCCC CNMRTWIPHVMKBT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- CVAGYCLEIYGJQT-UHFFFAOYSA-N dichloro(dioctyl)silane Chemical compound CCCCCCCC[Si](Cl)(Cl)CCCCCCCC CVAGYCLEIYGJQT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QCBOFFVPUUXQEA-UHFFFAOYSA-N dichloro(dipentyl)silane Chemical compound CCCCC[Si](Cl)(Cl)CCCCC QCBOFFVPUUXQEA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- UOZZKLIPYZQXEP-UHFFFAOYSA-N dichloro(dipropyl)silane Chemical compound CCC[Si](Cl)(Cl)CCC UOZZKLIPYZQXEP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KGTZBTUOZOIOBJ-UHFFFAOYSA-N dichloro(ethenyl)silicon Chemical compound Cl[Si](Cl)C=C KGTZBTUOZOIOBJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- PFMKUUJQLUQKHT-UHFFFAOYSA-N dichloro(ethyl)silicon Chemical compound CC[Si](Cl)Cl PFMKUUJQLUQKHT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KTQYJQFGNYHXMB-UHFFFAOYSA-N dichloro(methyl)silicon Chemical compound C[Si](Cl)Cl KTQYJQFGNYHXMB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- MJVFSDBAXDCTOC-UHFFFAOYSA-N dichloro(prop-2-enyl)silicon Chemical compound Cl[Si](Cl)CC=C MJVFSDBAXDCTOC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- PVBMWIXRKLGXPI-UHFFFAOYSA-N dichloro-(3,3,4,4,5,5,6,6,7,7,8,8,9,9,10,10,10-heptadecafluorodecyl)-methylsilane Chemical compound C[Si](Cl)(Cl)CCC(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)F PVBMWIXRKLGXPI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- MAYIDWCWWMOISO-UHFFFAOYSA-N dichloro-bis(ethenyl)silane Chemical compound C=C[Si](Cl)(Cl)C=C MAYIDWCWWMOISO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VTEHVUWHCBXMPI-UHFFFAOYSA-N dichloro-bis(prop-2-enyl)silane Chemical compound C=CC[Si](Cl)(Cl)CC=C VTEHVUWHCBXMPI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- UFVFNJHZBMHRCO-UHFFFAOYSA-N dichloro-decyl-methylsilane Chemical compound CCCCCCCCCC[Si](C)(Cl)Cl UFVFNJHZBMHRCO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ZAADUWCLWTWDSZ-UHFFFAOYSA-N dichloro-dodecyl-methylsilane Chemical compound CCCCCCCCCCCC[Si](C)(Cl)Cl ZAADUWCLWTWDSZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- JPBGVRDEQPIMFO-UHFFFAOYSA-N dichloro-ethenyl-ethylsilane Chemical compound CC[Si](Cl)(Cl)C=C JPBGVRDEQPIMFO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- YLJJAVFOBDSYAN-UHFFFAOYSA-N dichloro-ethenyl-methylsilane Chemical compound C[Si](Cl)(Cl)C=C YLJJAVFOBDSYAN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- PNECSTWRDNQOLT-UHFFFAOYSA-N dichloro-ethyl-methylsilane Chemical compound CC[Si](C)(Cl)Cl PNECSTWRDNQOLT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- LFHKZPRSRNZHDM-UHFFFAOYSA-N dichloro-heptyl-methylsilane Chemical compound CCCCCCC[Si](C)(Cl)Cl LFHKZPRSRNZHDM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KKRMHVJQWMXYBZ-UHFFFAOYSA-N dichloro-hexyl-methylsilane Chemical compound CCCCCC[Si](C)(Cl)Cl KKRMHVJQWMXYBZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- NEOYJEJPABKFQO-UHFFFAOYSA-N dichloro-hexyl-prop-2-enylsilane Chemical compound CCCCCC[Si](Cl)(Cl)CC=C NEOYJEJPABKFQO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- LYAOQSKLBKFKFA-UHFFFAOYSA-N dichloro-methyl-(2-methylpropyl)silane Chemical compound CC(C)C[Si](C)(Cl)Cl LYAOQSKLBKFKFA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- OHABWQNEJUUFAV-UHFFFAOYSA-N dichloro-methyl-(3,3,3-trifluoropropyl)silane Chemical compound C[Si](Cl)(Cl)CCC(F)(F)F OHABWQNEJUUFAV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- SNVXETNSVRUKHB-UHFFFAOYSA-N dichloro-methyl-(3,3,4,4,5,5,6,6,6-nonafluorohexyl)silane Chemical compound C[Si](Cl)(Cl)CCC(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)F SNVXETNSVRUKHB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VBDMVWQNRXVEGC-UHFFFAOYSA-N dichloro-methyl-(3,3,4,4,5,5,6,6,7,7,8,8,8-tridecafluorooctyl)silane Chemical compound C[Si](Cl)(Cl)CCC(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)F VBDMVWQNRXVEGC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- GYWBHBXGYTYXRG-UHFFFAOYSA-N dichloro-methyl-octadecylsilane Chemical compound CCCCCCCCCCCCCCCCCC[Si](C)(Cl)Cl GYWBHBXGYTYXRG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QHBMMABVNRSRHW-UHFFFAOYSA-N dichloro-methyl-octylsilane Chemical compound CCCCCCCC[Si](C)(Cl)Cl QHBMMABVNRSRHW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- APGQQLCRLIBICD-UHFFFAOYSA-N dichloro-methyl-pentylsilane Chemical compound CCCCC[Si](C)(Cl)Cl APGQQLCRLIBICD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- YCEQUKAYVABWTE-UHFFFAOYSA-N dichloro-methyl-prop-2-enylsilane Chemical compound C[Si](Cl)(Cl)CC=C YCEQUKAYVABWTE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- GNVPGBIHGALKRR-UHFFFAOYSA-N dichloro-methyl-propylsilane Chemical compound CCC[Si](C)(Cl)Cl GNVPGBIHGALKRR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- BUMGIEFFCMBQDG-UHFFFAOYSA-N dichlorosilicon Chemical compound Cl[Si]Cl BUMGIEFFCMBQDG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ZMAPKOCENOWQRE-UHFFFAOYSA-N diethoxy(diethyl)silane Chemical compound CCO[Si](CC)(CC)OCC ZMAPKOCENOWQRE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- UDFQIGODCFRNJY-UHFFFAOYSA-N diethoxy(dihexyl)silane Chemical compound CCCCCC[Si](OCC)(OCC)CCCCCC UDFQIGODCFRNJY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- GAURFLBIDLSLQU-UHFFFAOYSA-N diethoxy(methyl)silicon Chemical compound CCO[Si](C)OCC GAURFLBIDLSLQU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- WOZOEHNJNZTJDH-UHFFFAOYSA-N diethoxy-bis(2-methylpropyl)silane Chemical compound CCO[Si](CC(C)C)(CC(C)C)OCC WOZOEHNJNZTJDH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- DJVQMRRXRRBRIH-UHFFFAOYSA-N diethoxy-methyl-octadecylsilane Chemical compound CCCCCCCCCCCCCCCCCC[Si](C)(OCC)OCC DJVQMRRXRRBRIH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ZXPDYFSTVHQQOI-UHFFFAOYSA-N diethoxysilane Chemical compound CCO[SiH2]OCC ZXPDYFSTVHQQOI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- JJQZDUKDJDQPMQ-UHFFFAOYSA-N dimethoxy(dimethyl)silane Chemical compound CO[Si](C)(C)OC JJQZDUKDJDQPMQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- PKTOVQRKCNPVKY-UHFFFAOYSA-N dimethoxy(methyl)silicon Chemical compound CO[Si](C)OC PKTOVQRKCNPVKY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- IBWXKMBLEOLOLY-UHFFFAOYSA-N dimethoxy(prop-2-enyl)silicon Chemical compound CO[Si](OC)CC=C IBWXKMBLEOLOLY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XFAOZKNGVLIXLC-UHFFFAOYSA-N dimethoxy-(2-methylpropyl)-propan-2-ylsilane Chemical compound CO[Si](C(C)C)(OC)CC(C)C XFAOZKNGVLIXLC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- NHYFIJRXGOQNFS-UHFFFAOYSA-N dimethoxy-bis(2-methylpropyl)silane Chemical compound CC(C)C[Si](OC)(CC(C)C)OC NHYFIJRXGOQNFS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VHPUZTHRFWIGAW-UHFFFAOYSA-N dimethoxy-di(propan-2-yl)silane Chemical compound CO[Si](OC)(C(C)C)C(C)C VHPUZTHRFWIGAW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- JUESRADRPFMUCL-UHFFFAOYSA-N dimethoxy-methyl-(2-methylpropyl)silane Chemical compound CO[Si](C)(OC)CC(C)C JUESRADRPFMUCL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- DIJRHOZMLZRNLM-UHFFFAOYSA-N dimethoxy-methyl-(3,3,3-trifluoropropyl)silane Chemical compound CO[Si](C)(OC)CCC(F)(F)F DIJRHOZMLZRNLM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- UWZZATWXHUNWJV-UHFFFAOYSA-N dimethoxy-methyl-(3,3,4,4,5,5,6,6,7,7,8,8,8-tridecafluorooctyl)silane Chemical compound CO[Si](C)(OC)CCC(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)F UWZZATWXHUNWJV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- UBCPEZPOCJYHPM-UHFFFAOYSA-N dimethoxy-methyl-octadecylsilane Chemical compound CCCCCCCCCCCCCCCCCC[Si](C)(OC)OC UBCPEZPOCJYHPM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- GOIPELYWYGMEFQ-UHFFFAOYSA-N dimethoxy-methyl-octylsilane Chemical compound CCCCCCCC[Si](C)(OC)OC GOIPELYWYGMEFQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- WQTNGCZMPUCIEX-UHFFFAOYSA-N dimethoxy-methyl-prop-2-enylsilane Chemical compound CO[Si](C)(OC)CC=C WQTNGCZMPUCIEX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XKRPWHZLROBLDI-UHFFFAOYSA-N dimethoxy-methyl-propylsilane Chemical compound CCC[Si](C)(OC)OC XKRPWHZLROBLDI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- LIKFHECYJZWXFJ-UHFFFAOYSA-N dimethyldichlorosilane Chemical compound C[Si](C)(Cl)Cl LIKFHECYJZWXFJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- YYLGKUPAFFKGRQ-UHFFFAOYSA-N dimethyldiethoxysilane Chemical compound CCO[Si](C)(C)OCC YYLGKUPAFFKGRQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 2
- NKSJNEHGWDZZQF-UHFFFAOYSA-N ethenyl(trimethoxy)silane Chemical compound CO[Si](OC)(OC)C=C NKSJNEHGWDZZQF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- MBGQQKKTDDNCSG-UHFFFAOYSA-N ethenyl-diethoxy-methylsilane Chemical compound CCO[Si](C)(C=C)OCC MBGQQKKTDDNCSG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ZLNAFSPCNATQPQ-UHFFFAOYSA-N ethenyl-dimethoxy-methylsilane Chemical compound CO[Si](C)(OC)C=C ZLNAFSPCNATQPQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- NUFVQEIPPHHQCK-UHFFFAOYSA-N ethenyl-methoxy-dimethylsilane Chemical compound CO[Si](C)(C)C=C NUFVQEIPPHHQCK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- DRUOQOFQRYFQGB-UHFFFAOYSA-N ethoxy(dimethyl)silicon Chemical compound CCO[Si](C)C DRUOQOFQRYFQGB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- JKGQTAALIDWBJK-UHFFFAOYSA-N fluoro(trimethoxy)silane Chemical compound CO[Si](F)(OC)OC JKGQTAALIDWBJK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- NCHMPORHGFKNSI-UHFFFAOYSA-N methoxy-dimethyl-propylsilane Chemical compound CCC[Si](C)(C)OC NCHMPORHGFKNSI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- MSRJTTSHWYDFIU-UHFFFAOYSA-N octyltriethoxysilane Chemical compound CCCCCCCC[Si](OCC)(OCC)OCC MSRJTTSHWYDFIU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 2
- 239000005053 propyltrichlorosilane Substances 0.000 description 2
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 2
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 2
- 239000003566 sealing material Substances 0.000 description 2
- CAJIIZKPZKCXOG-UHFFFAOYSA-N tert-butyl-dichloro-methylsilane Chemical compound CC(C)(C)[Si](C)(Cl)Cl CAJIIZKPZKCXOG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- NETBVGNWMHLXRP-UHFFFAOYSA-N tert-butyl-dimethoxy-methylsilane Chemical compound CO[Si](C)(OC)C(C)(C)C NETBVGNWMHLXRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VBRKIFAYTJZAFZ-UHFFFAOYSA-N tert-butyl-dimethoxy-propan-2-ylsilane Chemical compound CO[Si](OC)(C(C)C)C(C)(C)C VBRKIFAYTJZAFZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- PSWKAZOCOHMXCW-UHFFFAOYSA-N tert-butyl-ethyl-dimethoxysilane Chemical compound CC[Si](OC)(OC)C(C)(C)C PSWKAZOCOHMXCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- PISDRBMXQBSCIP-UHFFFAOYSA-N trichloro(3,3,4,4,5,5,6,6,7,7,8,8,8-tridecafluorooctyl)silane Chemical compound FC(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)CC[Si](Cl)(Cl)Cl PISDRBMXQBSCIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ZFUVZJADECZZMS-UHFFFAOYSA-N trichloro(3,3,4,4,5,5,6,6,7,7,8,8,9,9,10,10,11,11,12,12,12-henicosafluorododecyl)silane Chemical compound FC(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)CC[Si](Cl)(Cl)Cl ZFUVZJADECZZMS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- GQIUQDDJKHLHTB-UHFFFAOYSA-N trichloro(ethenyl)silane Chemical compound Cl[Si](Cl)(Cl)C=C GQIUQDDJKHLHTB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- PGHWHQUVLXTFLZ-UHFFFAOYSA-N trichloro(fluoro)silane Chemical compound F[Si](Cl)(Cl)Cl PGHWHQUVLXTFLZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- IHYCWJYGNRZAOB-UHFFFAOYSA-N trichloro(hex-5-enyl)silane Chemical compound Cl[Si](Cl)(Cl)CCCCC=C IHYCWJYGNRZAOB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- MFISPHKHJHQREG-UHFFFAOYSA-N trichloro(oct-7-enyl)silane Chemical compound Cl[Si](Cl)(Cl)CCCCCCC=C MFISPHKHJHQREG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- MYBZUWXXEFKPEE-UHFFFAOYSA-N trichloro(prop-1-enyl)silane Chemical compound CC=C[Si](Cl)(Cl)Cl MYBZUWXXEFKPEE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- DOEHJNBEOVLHGL-UHFFFAOYSA-N trichloro(propyl)silane Chemical compound CCC[Si](Cl)(Cl)Cl DOEHJNBEOVLHGL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ZDHXKXAHOVTTAH-UHFFFAOYSA-N trichlorosilane Chemical compound Cl[SiH](Cl)Cl ZDHXKXAHOVTTAH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000005052 trichlorosilane Substances 0.000 description 2
- ALVYUZIFSCKIFP-UHFFFAOYSA-N triethoxy(2-methylpropyl)silane Chemical compound CCO[Si](CC(C)C)(OCC)OCC ALVYUZIFSCKIFP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- DENFJSAFJTVPJR-UHFFFAOYSA-N triethoxy(ethyl)silane Chemical compound CCO[Si](CC)(OCC)OCC DENFJSAFJTVPJR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XVYIJOWQJOQFBG-UHFFFAOYSA-N triethoxy(fluoro)silane Chemical compound CCO[Si](F)(OCC)OCC XVYIJOWQJOQFBG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- OYGYKEULCAINCL-UHFFFAOYSA-N triethoxy(hexadecyl)silane Chemical compound CCCCCCCCCCCCCCCC[Si](OCC)(OCC)OCC OYGYKEULCAINCL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- WUMSTCDLAYQDNO-UHFFFAOYSA-N triethoxy(hexyl)silane Chemical compound CCCCCC[Si](OCC)(OCC)OCC WUMSTCDLAYQDNO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- CPUDPFPXCZDNGI-UHFFFAOYSA-N triethoxy(methyl)silane Chemical compound CCO[Si](C)(OCC)OCC CPUDPFPXCZDNGI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- FHVAUDREWWXPRW-UHFFFAOYSA-N triethoxy(pentyl)silane Chemical compound CCCCC[Si](OCC)(OCC)OCC FHVAUDREWWXPRW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- NBXZNTLFQLUFES-UHFFFAOYSA-N triethoxy(propyl)silane Chemical compound CCC[Si](OCC)(OCC)OCC NBXZNTLFQLUFES-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- HUZZQXYTKNNCOU-UHFFFAOYSA-N triethyl(methoxy)silane Chemical compound CC[Si](CC)(CC)OC HUZZQXYTKNNCOU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- RKLXSINPXIQKIB-UHFFFAOYSA-N trimethoxy(oct-7-enyl)silane Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CCCCCCC=C RKLXSINPXIQKIB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- LFRDHGNFBLIJIY-UHFFFAOYSA-N trimethoxy(prop-2-enyl)silane Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CC=C LFRDHGNFBLIJIY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- HNEGJTWNOOWEMH-UHFFFAOYSA-N 1-fluoropropane Chemical group [CH2]CCF HNEGJTWNOOWEMH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZFFMLCVRJBZUDZ-UHFFFAOYSA-N 2,3-dimethylbutane Chemical group CC(C)C(C)C ZFFMLCVRJBZUDZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VKBCQUSUYFQHCC-UHFFFAOYSA-N 3-fluoropropylsilane Chemical compound FCCC[SiH3] VKBCQUSUYFQHCC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 241000894006 Bacteria Species 0.000 description 1
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-M Chloride anion Chemical compound [Cl-] VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 229910020323 ClF3 Inorganic materials 0.000 description 1
- BYIOOYGLUVPHQX-UHFFFAOYSA-M [Si+](=O)=O.[F-] Chemical compound [Si+](=O)=O.[F-] BYIOOYGLUVPHQX-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- ALGMMOABJUUDNV-UHFFFAOYSA-N [SiH4].C(C)OC(CCCCCCCCCCCCCCCCC)(OCC)OCC Chemical compound [SiH4].C(C)OC(CCCCCCCCCCCCCCCCC)(OCC)OCC ALGMMOABJUUDNV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 1
- 239000012752 auxiliary agent Substances 0.000 description 1
- 239000012620 biological material Substances 0.000 description 1
- IISBACLAFKSPIT-UHFFFAOYSA-N bisphenol A Chemical class C=1C=C(O)C=CC=1C(C)(C)C1=CC=C(O)C=C1 IISBACLAFKSPIT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000000861 blow drying Methods 0.000 description 1
- LBIQRIHYRDEVIR-UHFFFAOYSA-N but-2-enyl(dichloro)silane Chemical compound CC=CC[SiH](Cl)Cl LBIQRIHYRDEVIR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IUHAVIBHWNOQFG-UHFFFAOYSA-N chloro(2-methoxyethoxy)silane Chemical compound COCCO[SiH2]Cl IUHAVIBHWNOQFG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 description 1
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 1
- AIJBPHZUXQWWQI-UHFFFAOYSA-N dichloro(2-methoxyethoxy)silane Chemical compound COCCO[SiH](Cl)Cl AIJBPHZUXQWWQI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NYKYPUSQZAJABL-UHFFFAOYSA-N dichloro(hexyl)silane Chemical compound CCCCCC[SiH](Cl)Cl NYKYPUSQZAJABL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MROCJMGDEKINLD-UHFFFAOYSA-N dichlorosilane Chemical class Cl[SiH2]Cl MROCJMGDEKINLD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000003085 diluting agent Substances 0.000 description 1
- PRWJWJFNTJLFKK-UHFFFAOYSA-N ditert-butyl(chloro)silicon Chemical compound CC(C)(C)[Si](Cl)C(C)(C)C PRWJWJFNTJLFKK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CHDXIRWZZHEOTN-UHFFFAOYSA-N docosyl(triethoxy)silane Chemical compound CCCCCCCCCCCCCCCCCCCCCC[Si](OCC)(OCC)OCC CHDXIRWZZHEOTN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000003822 epoxy resin Substances 0.000 description 1
- 238000005530 etching Methods 0.000 description 1
- VDKHPSQNOPSPEG-UHFFFAOYSA-N ethenyl(triethoxy)silane 1,2,2-triethoxyethenylsilane Chemical compound C(C)OC(=C(OCC)OCC)[SiH3].C(C)O[Si](C=C)(OCC)OCC VDKHPSQNOPSPEG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000002222 fluorine compounds Chemical class 0.000 description 1
- GEFQKQZAZUSIBP-UHFFFAOYSA-N fluoro(methoxy)silane Chemical class CO[SiH2]F GEFQKQZAZUSIBP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000003055 glycidyl group Chemical group C(C1CO1)* 0.000 description 1
- 230000006872 improvement Effects 0.000 description 1
- 230000001678 irradiating effect Effects 0.000 description 1
- 125000001449 isopropyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 230000014759 maintenance of location Effects 0.000 description 1
- 239000005048 methyldichlorosilane Substances 0.000 description 1
- BFXIKLCIZHOAAZ-UHFFFAOYSA-N methyltrimethoxysilane Chemical compound CO[Si](C)(OC)OC BFXIKLCIZHOAAZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000002114 nanocomposite Substances 0.000 description 1
- 230000035699 permeability Effects 0.000 description 1
- 229920000647 polyepoxide Polymers 0.000 description 1
- 239000002952 polymeric resin Substances 0.000 description 1
- 150000003254 radicals Chemical class 0.000 description 1
- 229920005613 synthetic organic polymer Polymers 0.000 description 1
- HBYCZEOYOCONCV-UHFFFAOYSA-N tert-butyl(dichloro)silane Chemical compound CC(C)(C)[SiH](Cl)Cl HBYCZEOYOCONCV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CFWAESPQSRZDQT-UHFFFAOYSA-N tert-butyl-dimethoxy-propylsilane Chemical compound CCC[Si](OC)(OC)C(C)(C)C CFWAESPQSRZDQT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AKIOHULKHAVIMI-UHFFFAOYSA-N trichloro(1,1,2,2,3,3,4,4,5,5,6,6,7,7,8,8,9,9,10,10,11,11,12,12,12-pentacosafluorododecyl)silane Chemical compound FC(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)[Si](Cl)(Cl)Cl AKIOHULKHAVIMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YVRYYVDHGQKMMU-BQYQJAHWSA-N trichloro-[(e)-oct-1-enyl]silane Chemical compound CCCCCC\C=C\[Si](Cl)(Cl)Cl YVRYYVDHGQKMMU-BQYQJAHWSA-N 0.000 description 1
- PKDCQJMRWCHQOH-UHFFFAOYSA-N triethoxysilicon Chemical compound CCO[Si](OCC)OCC PKDCQJMRWCHQOH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000005050 vinyl trichlorosilane Substances 0.000 description 1
Images
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08F—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
- C08F220/00—Copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and only one being terminated by only one carboxyl radical or a salt, anhydride ester, amide, imide or nitrile thereof
- C08F220/02—Monocarboxylic acids having less than ten carbon atoms; Derivatives thereof
- C08F220/10—Esters
- C08F220/26—Esters containing oxygen in addition to the carboxy oxygen
- C08F220/32—Esters containing oxygen in addition to the carboxy oxygen containing epoxy radicals
-
- A—HUMAN NECESSITIES
- A61—MEDICAL OR VETERINARY SCIENCE; HYGIENE
- A61K—PREPARATIONS FOR MEDICAL, DENTAL OR TOILETRY PURPOSES
- A61K6/00—Preparations for dentistry
- A61K6/20—Protective coatings for natural or artificial teeth, e.g. sealings, dye coatings or varnish
-
- A—HUMAN NECESSITIES
- A61—MEDICAL OR VETERINARY SCIENCE; HYGIENE
- A61K—PREPARATIONS FOR MEDICAL, DENTAL OR TOILETRY PURPOSES
- A61K6/00—Preparations for dentistry
- A61K6/60—Preparations for dentistry comprising organic or organo-metallic additives
-
- A—HUMAN NECESSITIES
- A61—MEDICAL OR VETERINARY SCIENCE; HYGIENE
- A61K—PREPARATIONS FOR MEDICAL, DENTAL OR TOILETRY PURPOSES
- A61K6/00—Preparations for dentistry
- A61K6/60—Preparations for dentistry comprising organic or organo-metallic additives
- A61K6/69—Medicaments
-
- A—HUMAN NECESSITIES
- A61—MEDICAL OR VETERINARY SCIENCE; HYGIENE
- A61K—PREPARATIONS FOR MEDICAL, DENTAL OR TOILETRY PURPOSES
- A61K6/00—Preparations for dentistry
- A61K6/80—Preparations for artificial teeth, for filling teeth or for capping teeth
- A61K6/884—Preparations for artificial teeth, for filling teeth or for capping teeth comprising natural or synthetic resins
- A61K6/887—Compounds obtained by reactions only involving carbon-to-carbon unsaturated bonds
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08F—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
- C08F220/00—Copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and only one being terminated by only one carboxyl radical or a salt, anhydride ester, amide, imide or nitrile thereof
- C08F220/02—Monocarboxylic acids having less than ten carbon atoms; Derivatives thereof
- C08F220/10—Esters
- C08F220/26—Esters containing oxygen in addition to the carboxy oxygen
- C08F220/32—Esters containing oxygen in addition to the carboxy oxygen containing epoxy radicals
- C08F220/325—Esters containing oxygen in addition to the carboxy oxygen containing epoxy radicals containing glycidyl radical, e.g. glycidyl (meth)acrylate
Landscapes
- Health & Medical Sciences (AREA)
- Oral & Maxillofacial Surgery (AREA)
- Epidemiology (AREA)
- Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- Animal Behavior & Ethology (AREA)
- General Health & Medical Sciences (AREA)
- Public Health (AREA)
- Veterinary Medicine (AREA)
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Plastic & Reconstructive Surgery (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Medicinal Chemistry (AREA)
- Polymers & Plastics (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Addition Polymer Or Copolymer, Post-Treatments, Or Chemical Modifications (AREA)
- Dental Preparations (AREA)
Abstract
本发明提供一种基于牙体表面疏水化理念的窝沟封闭剂,由单组份窝沟封闭剂和双组份窝沟封闭剂组成,必要组成成分有疏水化试剂、溶剂、疏水性聚合单体、光聚合引发剂、填料。本发明窝沟封闭剂,解决窝沟封闭剂密合性差、易脱落等问题。与传统的窝沟封闭剂相比,本发明在窝沟封闭过程中对牙体表面进行疏水化修饰,改变牙表面的亲水性,使其从亲水向疏水转变;效果和益处是,增强窝沟封闭剂对牙表面的浸润性,最终形成均一、稳定的牙‑窝沟封闭剂界面,提高窝沟封闭的密合性和持久性,降低界面渗漏率。
Description
技术领域
本发明属于医用生物材料领域,涉及基于牙体表面疏水化理念的窝沟封闭剂。
背景技术
窝沟封闭术是一种预防窝沟龋的方法,窝沟封闭的防龋效果取决于封闭剂的完整保留及封闭材料与牙面的密合性。尽管窝沟封闭材料和技术不断改进,封闭剂脱落及微渗漏发生率仍较高。因此,提高封闭剂的渗透性及与牙面的密合性对提高窝沟封闭的防龋效果有切实意义。传统的窝沟封闭剂,通常由合成有机高分子树脂、稀释剂、引发剂和一些辅助剂(溶剂、填料、氟化物、涂料等)组成,对酸蚀、清洗、吹干后的牙表面润湿性差,导致窝沟封闭剂和牙面之间的界面存在缺陷,尤其是窝沟底部,缺陷局部容易堆积食物参加和细菌聚集,导致龋病发生;此外,界面缺陷的存在也是导致窝沟封闭脱落的主要原因。
发明内容
本发明的目的是提供一种基于牙体表面疏水化理念的窝沟封闭剂,可为单组份窝沟封闭剂和双组份窝沟封闭剂。
基于牙体表面疏水化理念的窝沟封闭剂,由单组份窝沟封闭剂和双组份窝沟封闭剂组成,
(1)双组份型窝沟封闭剂必要组成成分为组份A何组份B,组份A:疏水化试剂(a)和溶剂(b);组份B:疏水性聚合单体(c)、光聚合引发剂(d)、填料(e)作为必要的成分配合而成。
(2)单组份型窝沟封闭剂必要组成成分,由疏水化试剂(a)、疏水性聚合单体(c)、光聚合引发剂(d)、填料(e)作为必要的组成配合而成。
组份A中疏水化试剂(a)可为氯硅烷或甲氧基硅烷或乙氧基硅烷,包括烷基氯硅烷、氟代氯硅烷、官能化氯硅烷、烷基甲氧基硅烷、官能化甲氧基硅烷、氟代甲氧基硅烷、烷基乙氧基硅烷、官能化乙氧基硅烷、氟代乙氧基硅烷(包括但不限于表1到表25中所提供的能对牙表面进行疏水化修饰的试剂,见附表1~25),以及两种或两种以上不同硅烷任意比例的混合物;溶剂(b)包括但不限于乙醇、***、甲苯、丙酮,以及两种或两种以上的上述溶剂任意比例的混合溶剂。其中,组分A中的疏水化试剂的总浓度为0.001(V/V)%~100(V/V)%。
组份B中的疏水性聚合单体(c)为疏水的、不具有亲水基团的、分子内至少具有两个可以自由基引发聚合的官能团的聚合单体,聚合单体之间相互聚合,赋予窝沟封闭剂机械强度。通常牙科用疏水性聚合单体都可以,可单独使用,也可将两种或多种聚合单体任意比例组合使用,包括但不限于双酚A二甲基丙烯酸酯、双酚A二缩水甘油甲基丙烯酸酯、乙氧化双酚A二甲基丙烯酸缩水甘油酯、2,2-双(4-甲基丙烯酰氧基乙氧基苄基)丙烷等芳香族甲基丙烯酸酯类,乙二醇二甲基丙烯酸酯、三甘醇二甲基丙烯酸酯、季戊二醇二甲基丙烯酸酯、三羟甲基丙烷三甲基丙烯酸酯、氨基甲酸酯甲基丙烯酸酯等多官能团甲基丙烯酸酯类。其中,疏水性聚合单体总含量为1wt%~70wt%。
组份B中的光聚合引发剂(c)可以为牙科常用的光聚合引发剂,包括但不限于α-二酮类(樟脑醌、偶苯酰等)、缩酮类(苄基二甲醛缩苯乙酮、苄基二乙醛缩苯乙酮等)、噻吨酮类(2-氯噻吨酮、2,4-二乙基噻吨酮等)、酰基氧化膦类、香豆素类等。引发剂可以单独使用,亦可以两种或两种以上引发剂任意比例配合。光聚合引发剂的总含量为0.01wt%~10wt%。
填料(e)可以为牙科用的任何类型填料,可为无机填料或有机填料,可以加入一种填料,亦可为两种或两种以上任意比例组成的填料混合物。有机填料包括但不限于聚甲基丙烯酸甲酯、聚甲基丙烯酸乙酯、聚酰胺、聚氯乙烯、丁晴橡胶、丁苯橡胶等;无机填料包括但不限于二氧化硅、陶瓷、玻璃、氧化铝、碳酸钙、氟化钠、氟化钾、羟基磷灰石、氧化钛、氧化锆、磷酸钙等。填料可以直接加入,亦可用前述硅烷试剂表面疏水化预先处理或氟化物预处理后加入。填料的总含量在1wt%~45wt%。
填料(e)的平均粒径大小为10nm~400nm,其中粒径大于400nm的填料含量少于填料总量的10wt%。
单组份窝沟封闭剂,其疏水化试剂(a)、疏水性聚合单体(c)、光聚合引发剂(d)、填料(e)与双组份窝沟封闭剂中的疏水化试剂(a)、疏水性聚合单体(c)、光聚合引发剂(d)、填料(e)范围一致。
此外,本发明中,不论双组份***,还是单组份***,在必要组成成分的基础上,可以加入氟离子释放物质,可以为纯净物也可以为混合物,包括但不限于氟铝硅酸盐玻璃等氟玻璃,氟化钠、氟化钾等金属氟化物等。可以加入一种氟离子释放物,亦可为两种或两种以上任意比例组成的混合物,其中氟离子释放物质的总含量小于10wt%(氟化物预处理的填料不计入此处)。
此外,本发明中,不论双组份***,还是单组份***,在必要组成成分的基础上,可以加入稳定剂、着色剂、荧光剂、紫外吸收剂、聚合促进剂等,各类成分的含量分别小于5wt%。
此外,本发明中,不论双组份***,还是单组份***,在必要组成成分的基础上,可以加入抗菌性物质,可以加入一种抗菌物质,亦可为两种或两种以上抗菌物质任意比例组成的混合物,包含但不限于甲基丙烯酰氧基癸基氯化铵、三氯生等,其中抗菌物质的总含量小于10wt%。
此外,本发明中,不论双组份***,还是单组份***,在必要组成成分的基础上,为调节粘接剂的黏度,可以引入单官能团性聚合单体,可以引入一种单官能团性聚合单体,亦可为两种或两种以上单官能团性聚合单体任意比例组成的混合物,单官能团性聚合单体包括但不限于甲基丙烯酸甲酯、甲基丙烯酸乙酯、甲基丙烯酸异丙酯、甲基丙烯酸2,3-二溴丙酯等。其中,单官能团性聚合单体含量小于40wt%。
此外,本发明中,双组份***组份B在必要组成成分的基础上,可以引入两亲聚合单体,可以加入一种两亲聚合单体,亦可为两种或两种以上两亲聚合单体任意比例组成的混合物。两亲聚合单体包括但不限于甲基丙烯酸2羟基乙酯、甲基丙烯酸3-羟基丙酯、甲基丙烯酸2-羟基丙酯、甲基丙烯酸1,3-二羟基丙酯、甲基丙烯酸2,3-二羟基丙酯,2-三甲基铵乙基甲基丙烯酰氯、聚乙二醇二甲基丙烯酸酯。其中,两亲聚合单体的总含量小于20wt%。
此外,本发明中,不论双组份***组份(B),还是单组份***中,在必要组成成分的基础上,可以加入溶剂,包括但不限于乙醇、***、甲苯、丙酮,以及两种或两种以上的上述溶剂任意比例的混合溶剂,其中溶剂的总含量小于30wt%。
本发明的目的是提供一种基于牙体表面疏水化理念的窝沟封闭剂,解决窝沟封闭剂密合性差、易脱落等问题。与传统的窝沟封闭剂相比,本发明在窝沟封闭过程中对牙体表面进行疏水化修饰,改变牙表面的亲水性,使其从亲水向疏水转变;效果和益处是,增强窝沟封闭剂对牙表面的浸润性,最终形成均一、稳定的牙-窝沟封闭剂界面,提高窝沟封闭的密合性和持久性,降低界面渗漏率。
说明书附图
图1使用本发明窝沟封闭剂疏水化组份处理对釉质亲水性的影响。
图2窝沟封闭剂对牙釉质的粘接力测试。
具体实施方式
以下结合附图和实施例对本发明做进一步说明,但本发明并不限于这些实施例。
实施例一
1.组份A:0.1(V/V)%烷基三氯硅烷(详见附表1,以十八烷基三氯硅烷为例)***溶液。
2.组份B:20wt%双酚A二缩水甘油甲基丙烯酸酯,40wt%10乙氧化双酚A二甲基丙烯酸缩水甘油酯,30wt%4乙氧化双酚A二甲基丙烯酸缩水甘油酯,1wt%樟脑醌,9wt%硅烷处理的二氧化硅粉体,混合后配制。
实施例二
1.组份A:1(V/V)%氟代三氯硅烷(详见附表2)乙醇溶液。
2.组份B:20wt%双酚A二缩水甘油甲基丙烯酸酯,40wt%10乙氧化双酚A二甲基丙烯酸缩水甘油酯,30wt%4乙氧化双酚A二甲基丙烯酸缩水甘油酯,1wt%樟脑醌,9wt%硅烷处理的二氧化硅粉体,混合后配制。
实施例三
1.组份A:1(V/V)%官能化三氯硅烷(详见附表3)乙醇溶液。
2.组份B:20wt%双酚A二缩水甘油甲基丙烯酸酯,40wt%10乙氧化双酚A二甲基丙烯酸缩水甘油酯,30wt%4乙氧化双酚A二甲基丙烯酸缩水甘油酯,1wt%樟脑醌,9wt%硅烷处理的二氧化硅粉体,混合后配制。
实施例四
1.组份A:1(V/V)%烷基三甲氧基硅烷(详见附表4)乙醇溶液。
2.组份B:20wt%双酚A二缩水甘油甲基丙烯酸酯,40wt%10乙氧化双酚A二甲基丙烯酸缩水甘油酯,30wt%4乙氧化双酚A二甲基丙烯酸缩水甘油酯,1wt%樟脑醌,9wt%硅烷处理的二氧化硅粉体,混合后配制。
实施例五
1.组份A:1(V/V)%氟代三甲氧基硅烷(详见附表5)乙醇溶液。
2.组份B:20wt%双酚A二缩水甘油甲基丙烯酸酯,40wt%10乙氧化双酚A二甲基丙烯酸缩水甘油酯,30wt%4乙氧化双酚A二甲基丙烯酸缩水甘油酯,1wt%樟脑醌,9wt%硅烷处理的二氧化硅粉体,混合后配制。
实施例六
1.组份A:1(V/V)%官能化三甲氧基硅烷(详见附表6)乙醇溶液。
2.组份B:20wt%双酚A二缩水甘油甲基丙烯酸酯,40wt%10乙氧化双酚A二甲基丙烯酸缩水甘油酯,30wt%4乙氧化双酚A二甲基丙烯酸缩水甘油酯,1wt%樟脑醌,9wt%硅烷处理的二氧化硅粉体,混合后配制。
实施例七
1.组份A:1(V/V)%烷基三乙氧基硅烷(详见附表7)乙醇溶液。
2.组份B:20wt%双酚A二缩水甘油甲基丙烯酸酯,40wt%10乙氧化双酚A二甲基丙烯酸缩水甘油酯,30wt%4乙氧化双酚A二甲基丙烯酸缩水甘油酯,1wt%樟脑醌,9wt%硅烷处理的二氧化硅粉体,混合后配制。
实施例八
1.组份A:1(V/V)%氟代三乙氧基硅烷(详见附表8)乙醇溶液。
2.组份B:20wt%双酚A二缩水甘油甲基丙烯酸酯,40wt%10乙氧化双酚A二甲基丙烯酸缩水甘油酯,30wt%4乙氧化双酚A二甲基丙烯酸缩水甘油酯,1wt%樟脑醌,9wt%硅烷处理的二氧化硅粉体,混合后配制。
实施例九
1.组份A:1(V/V)%官能化三乙氧基硅烷(详见附表9)乙醇溶液。
2.组份B:20wt%双酚A二缩水甘油甲基丙烯酸酯,40wt%10乙氧化双酚A二甲基丙烯酸缩水甘油酯,30wt%4乙氧化双酚A二甲基丙烯酸缩水甘油酯,1wt%樟脑醌,9wt%硅烷处理的二氧化硅粉体,混合后配制。
实施例十
1.组份A:1(V/V)%烷基二氯硅烷(详见附表10)乙醇溶液。
2.组份B:20wt%双酚A二缩水甘油甲基丙烯酸酯,40wt%10乙氧化双酚A二甲基丙烯酸缩水甘油酯,30wt%4乙氧化双酚A二甲基丙烯酸缩水甘油酯,1wt%樟脑醌,9wt%硅烷处理的二氧化硅粉体,混合后配制。
实施例十一
1.组份A:1(V/V)%氟代二氯硅烷(详见附表11)乙醇溶液。
2.组份B:20wt%双酚A二缩水甘油甲基丙烯酸酯,40wt%10乙氧化双酚A二甲基丙烯酸缩水甘油酯,30wt%4乙氧化双酚A二甲基丙烯酸缩水甘油酯,1wt%樟脑醌,9wt%硅烷处理的二氧化硅粉体,混合后配制。
实施例十二
1.组份A:1(V/V)%官能化二氯硅烷(详见附表12)乙醇溶液。
2.组份B:20wt%双酚A二缩水甘油甲基丙烯酸酯,40wt%10乙氧化双酚A二甲基丙烯酸缩水甘油酯,30wt%4乙氧化双酚A二甲基丙烯酸缩水甘油酯,1wt%樟脑醌,9wt%硅烷处理的二氧化硅粉体,混合后配制。
实施例十三
1.组份A:1(V/V)%烷基二甲氧基硅烷(详见附表13)乙醇溶液。
2.组份B:20wt%双酚A二缩水甘油甲基丙烯酸酯,40wt%10乙氧化双酚A二甲基丙烯酸缩水甘油酯,30wt%4乙氧化双酚A二甲基丙烯酸缩水甘油酯,1wt%樟脑醌,9wt%硅烷处理的二氧化硅粉体,混合后配制。
实施例十四
1.组份A:1(V/V)%氟代二甲氧基硅烷(详见附表14)乙醇溶液。
2.组份B:20wt%双酚A二缩水甘油甲基丙烯酸酯,40wt%10乙氧化双酚A二甲基丙烯酸缩水甘油酯,30wt%4乙氧化双酚A二甲基丙烯酸缩水甘油酯,1wt%樟脑醌,9wt%硅烷处理的二氧化硅粉体,混合后配制。
实施例十五
1.组份A:1(V/V)%官能化二甲氧基硅烷(详见附表15)乙醇溶液。
2.组份B:20wt%双酚A二缩水甘油甲基丙烯酸酯,40wt%10乙氧化双酚A二甲基丙烯酸缩水甘油酯,30wt%4乙氧化双酚A二甲基丙烯酸缩水甘油酯,1wt%樟脑醌,9wt%硅烷处理的二氧化硅粉体,混合后配制。
实施例十六
1.组份A:1(V/V)%烷基二乙氧基硅烷(详见附表16)乙醇溶液。
2.组份B:20wt%双酚A二缩水甘油甲基丙烯酸酯,40wt%10乙氧化双酚A二甲基丙烯酸缩水甘油酯,30wt%4乙氧化双酚A二甲基丙烯酸缩水甘油酯,1wt%樟脑醌,9wt%硅烷处理的二氧化硅粉体,混合后配制。
实施例十七
1.组份A:1(V/V)%氟代二乙氧基硅烷(详见附表17)乙醇溶液。
2.组份B:20wt%双酚A二缩水甘油甲基丙烯酸酯,40wt%10乙氧化双酚A二甲基丙烯酸缩水甘油酯,30wt%4乙氧化双酚A二甲基丙烯酸缩水甘油酯,1wt%樟脑醌,9wt%硅烷处理的二氧化硅粉体,混合后配制。
实施例十八
1.组份A:1(V/V)%官能化二乙氧基硅烷(详见附表18)乙醇溶液。
2.组份B:20wt%双酚A二缩水甘油甲基丙烯酸酯,40wt%10乙氧化双酚A二甲基丙烯酸缩水甘油酯,30wt%4乙氧化双酚A二甲基丙烯酸缩水甘油酯,1wt%樟脑醌,9wt%硅烷处理的二氧化硅粉体,混合后配制。
实施例十九
1.组份A:1(V/V)%烷基一氯硅烷(详见附表19)乙醇溶液。
2.组份B:20wt%双酚A二缩水甘油甲基丙烯酸酯,40wt%10乙氧化双酚A二甲基丙烯酸缩水甘油酯,30wt%4乙氧化双酚A二甲基丙烯酸缩水甘油酯,1wt%樟脑醌,9wt%硅烷处理的二氧化硅粉体,混合后配制。
实施例二十
1.组份A:1(V/V)%氟代一氯硅烷(详见附表20)乙醇溶液。
2.组份B:20wt%双酚A二缩水甘油甲基丙烯酸酯,40wt%10乙氧化双酚A二甲基丙烯酸缩水甘油酯,30wt%4乙氧化双酚A二甲基丙烯酸缩水甘油酯,1wt%樟脑醌,9wt%硅烷处理的二氧化硅粉体,混合后配制。
实施例二十一
1.组份A:1(V/V)%官能化一氯硅烷(详见附表21)乙醇溶液。
2.组份B:20wt%双酚A二缩水甘油甲基丙烯酸酯,40wt%10乙氧化双酚A二甲基丙烯酸缩水甘油酯,30wt%4乙氧化双酚A二甲基丙烯酸缩水甘油酯,1wt%樟脑醌,9wt%硅烷处理的二氧化硅粉体,混合后配制。
实施例二十二
1.组份A:1(V/V)%烷基一甲氧基硅烷(详见附表22)乙醇溶液。
2.组份B:20wt%双酚A二缩水甘油甲基丙烯酸酯,40wt%10乙氧化双酚A二甲基丙烯酸缩水甘油酯,30wt%4乙氧化双酚A二甲基丙烯酸缩水甘油酯,1wt%樟脑醌,9wt%硅烷处理的二氧化硅粉体,混合后配制。
实施例二十三
1.组份A:1(V/V)%氟代一甲氧基硅烷(详见附表23)乙醇溶液。
2.组份B:20wt%双酚A二缩水甘油甲基丙烯酸酯,40wt%10乙氧化双酚A二甲基丙烯酸缩水甘油酯,30wt%4乙氧化双酚A二甲基丙烯酸缩水甘油酯,1wt%樟脑醌,9wt%硅烷处理的二氧化硅粉体,混合后配制。
实施例二十四
1.组份A:1(V/V)%官能化一甲氧基硅烷(详见附表24)乙醇溶液。
2.组份B:20wt%双酚A二缩水甘油甲基丙烯酸酯,40wt%10乙氧化双酚A二甲基丙烯酸缩水甘油酯,30wt%4乙氧化双酚A二甲基丙烯酸缩水甘油酯,1wt%樟脑醌,9wt%硅烷处理的二氧化硅粉体,混合后配制。
实施例二十五
1.组份A:1(V/V)%烷基一乙氧基硅烷(详见附表25)乙醇溶液。
2.组份B:20wt%双酚A二缩水甘油甲基丙烯酸酯,40wt%10乙氧化双酚A二甲基丙烯酸缩水甘油酯,30wt%4乙氧化双酚A二甲基丙烯酸缩水甘油酯,1wt%樟脑醌,9wt%硅烷处理的二氧化硅粉体,混合后配制。
实施例二十六
1.组份A:0.5(V/V)%十八烷基三氯硅烷,1(V/V)%丙基三氯硅烷,乙醇溶剂。
2.组份B:20wt%双酚A二缩水甘油甲基丙烯酸酯,40wt%10乙氧化双酚A二甲基丙烯酸缩水甘油酯,30wt%4乙氧化双酚A二甲基丙烯酸缩水甘油酯,1wt%樟脑醌,9wt%硅烷处理的二氧化硅粉体,混合后配制。
实施例二十七
1.组份A:0.5(V/V)%十八烷基三氯硅烷,0.5(V/V)%丙基三氯硅烷,1(V/V)%三氟丙基三氯硅烷,乙醇溶剂。
2.组份B:20wt%双酚A二缩水甘油甲基丙烯酸酯,40wt%10乙氧化双酚A二甲基丙烯酸缩水甘油酯,30wt%4乙氧化双酚A二甲基丙烯酸缩水甘油酯,1wt%樟脑醌,9wt%硅烷处理的二氧化硅粉体,混合后配制。
实施例二十八
1.组份A:1(V/V)%三甲氧基硅烷丙酮溶液。
2.组份B:20wt%双酚A二缩水甘油甲基丙烯酸酯,40wt%10乙氧化双酚A二甲基丙烯酸缩水甘油酯,30wt%4乙氧化双酚A二甲基丙烯酸缩水甘油酯,1wt%樟脑醌,9wt%硅烷处理的二氧化硅粉体,混合后配制。
实施例二十九
1.组份A:1(V/V)%三甲氧基硅烷,50(V/V)%丙酮,49(V/V)%乙醇。
2.组份B:20wt%双酚A二缩水甘油甲基丙烯酸酯,40wt%10乙氧化双酚A二甲基丙烯酸缩水甘油酯,30wt%4乙氧化双酚A二甲基丙烯酸缩水甘油酯,1wt%樟脑醌,9wt%硅烷处理的二氧化硅粉体,混合后配制。
实施例三十
1.组份A:1(V/V)%三甲氧基硅烷,0.5(V/V)%甲基三甲氧基硅烷,49.5(V/V)%丙酮,
49(V/V)%乙醇。
2.组份B:20wt%双酚A二缩水甘油甲基丙烯酸酯,40wt%10乙氧化双酚A二甲基丙烯酸缩水甘油酯,30wt%4乙氧化双酚A二甲基丙烯酸缩水甘油酯,1wt%樟脑醌,9wt%硅烷处理的二氧化硅粉体,混合后配制。
实施例三十一
30wt%双酚A二缩水甘油甲基丙烯酸酯,35wt%10乙氧化双酚A二甲基丙烯酸缩水甘油酯,20wt%4乙氧化双酚A二甲基丙烯酸缩水甘油酯,9wt%硅烷处理的二氧化硅粉体,1wt%樟脑醌,5wt%乙醇,总体积2%的十八烷基三氯硅烷,混合后配制。
实施例三十二
1.组份A:0.1(V/V)%十八烷基三氯硅烷***溶液。
2.组份B:20wt%双酚A二缩水甘油甲基丙烯酸酯,40wt%10乙氧化双酚A二甲基丙烯酸缩水甘油酯,30wt%4乙氧化双酚A二甲基丙烯酸缩水甘油酯,0.9wt%樟脑醌,9wt%硅烷处理的二氧化硅粉体,0.1wt%2,6-二叔丁基-4-甲基苯酚,混合后配制。
实施例三十三
1.组份A:0.1(V/V)%十八烷基三氯硅烷***溶液。
2.组份B:20wt%双酚A二缩水甘油甲基丙烯酸酯,39wt%10乙氧化双酚A二甲基丙烯酸缩水甘油酯,30wt%4乙氧化双酚A二甲基丙烯酸缩水甘油酯,0.9wt%樟脑醌,9wt%硅烷处理的二氧化硅粉体,0.1wt%2,6-二叔丁基-4-甲基苯酚,1wt%甲基丙烯酸甲酯,混合后配制。
实施例三十四
30wt%双酚A二缩水甘油甲基丙烯酸酯,35wt%10乙氧化双酚A二甲基丙烯酸缩水甘油酯,20wt%4乙氧化双酚A二甲基丙烯酸缩水甘油酯,9wt%硅烷处理的二氧化硅粉体,0.9wt%樟脑醌,0.1wt%2,6-二叔丁基-4-甲基苯酚,5wt%乙醇,总体积2%的十八烷基三氯硅烷,混合后配制。
实施例三十五
30wt%双酚A二缩水甘油甲基丙烯酸酯,35wt%10乙氧化双酚A二甲基丙烯酸缩水甘油酯,20wt%4乙氧化双酚A二甲基丙烯酸缩水甘油酯,9wt%硅烷处理的二氧化硅粉体,0.9wt%樟脑醌,0.1wt%2,6-二叔丁基-4-甲基苯酚,4wt%乙醇,1wt%甲基丙烯酸甲酯,总体积2%的十八烷基三氯硅烷,混合后配制。
实施例三十六
30wt%双酚A二缩水甘油甲基丙烯酸酯,35wt%10乙氧化双酚A二甲基丙烯酸缩水甘油酯,20wt%4乙氧化双酚A二甲基丙烯酸缩水甘油酯,9wt%硅烷处理的二氧化硅粉体,0.9wt%樟脑醌,0.1wt%2,6-二叔丁基-4-甲基苯酚,4wt%丙酮,1wt%甲基丙烯酸甲酯,总体积2%的十八烷基三氯硅烷,混合后配制。
实施例三十七
1.组份A:1(V/V)%三甲氧基硅烷丙酮溶液。
2.组份B:20wt%双酚A二缩水甘油甲基丙烯酸酯,39wt%10乙氧化双酚A二甲基丙烯酸缩水甘油酯,29wt%4乙氧化双酚A二甲基丙烯酸缩水甘油酯,1wt%樟脑醌,9wt%氟化物的二氧化硅粉体,1wt%甲基丙烯酸甲酯,1wt%三氯生,混合后配制。
实施例三十八
29wt%双酚A二缩水甘油甲基丙烯酸酯,35wt%10乙氧化双酚A二甲基丙烯酸缩水甘油酯,20wt%4乙氧化双酚A二甲基丙烯酸缩水甘油酯,9wt%硅烷处理的二氧化硅粉体,0.9wt%樟脑醌,0.1wt%2,6-二叔丁基-4-甲基苯酚,4wt%丙酮,1wt%甲基丙烯酸甲酯,1wt%三氯生,总体积2%的十八烷基三氯硅烷,混合后配制。
实施例三十九
1.组份A:1(V/V)%三甲氧基硅烷丙酮溶液。
2.组份B:20wt%双酚A二缩水甘油甲基丙烯酸酯,37wt%10乙氧化双酚A二甲基丙烯酸缩水甘油酯,29wt%4乙氧化双酚A二甲基丙烯酸缩水甘油酯,1wt%樟脑醌,9wt%氟化物的二氧化硅粉体,1wt%甲基丙烯酸甲酯,1wt%三氯生,2wt%甲基丙烯酸2羟基乙酯,混合后配制。
实施例四十 提供一种使用方法
1.37%磷酸凝胶处理牙表面30s,充分冲洗。
2.吹干牙面,涂布双组份窝沟封闭剂组份A 20s,轻吹10s。
3.涂布双组份窝沟封闭剂组份B,光照15s,检查咬合。
实施例四十一 提供一种使用方法
1.37%磷酸凝胶处理牙表面30s,充分冲洗。
2.吹干牙面,涂布单组份窝沟封闭剂,轻吹10s,光照15s,检查咬合。
实施例四十二
牛牙唇面釉质,打磨,35%磷酸凝胶处理30s,充分冲洗后吹干,用实施例一组份A处理不同时间,检测釉质表面的接触角(图1)。
实施例四十三
牛牙唇面釉质,35%磷酸凝胶处理30s,涂布薄层3M窝沟封闭剂,轻吹10s后光照固化,堆3M树脂,切条(对照组);按实施例四十提供的方法使用实施例一试样,堆3M树脂,切条(实验组),检测窝沟封闭剂与釉质的粘接力(图2)。
表1烷基三氯硅烷
表2氟代三氯硅烷
中文名 | 分子式 | CAS |
三氟丙基三氯硅烷 | C<sub>3</sub>H<sub>4</sub>Cl<sub>3</sub>F<sub>3</sub>Si | 592-09-6 |
1H,1H,2H,2H-全氟辛基三氯硅烷 | C<sub>8</sub>H<sub>4</sub>Cl<sub>3</sub>F<sub>13</sub>Si | 78560-45-9 |
全氟十二烷基三氯硅烷 | C<sub>10</sub>H<sub>4</sub>Cl<sub>3</sub>F<sub>17</sub>Si | 78560-44-8 |
1H,1H,2H,2H-全氟十二烷基三氯硅烷 | C<sub>12</sub>H<sub>4</sub>Cl<sub>3</sub>F<sub>21</sub>Si | 102488-49-3 |
表3官能化三氯硅烷
中文名 | 分子式 | CAS |
乙烯基三氯硅烷 | C<sub>2</sub>H<sub>3</sub>Cl<sub>3</sub>Si | 75-94-5 |
丙烯基三氯硅烷 | C<sub>3</sub>H<sub>5</sub>Cl<sub>3</sub>Si | 107-37-9 |
三氯-1-丙烯基硅烷 | C<sub>3</sub>H<sub>5</sub>Cl<sub>3</sub>Si | 18083-37-9 |
(E)-2-丁烯三氯硅烷 | C<sub>4</sub>H<sub>7</sub>Cl<sub>3</sub>Si | 52885-13-9 |
5-己烯基三氯硅烷 | C<sub>6</sub>H<sub>11</sub>Cl<sub>3</sub>Si | 18817-29-3 |
7-辛基-1-炔三氯硅烷 | C<sub>8</sub>H<sub>15</sub>Cl<sub>3</sub>Si | 52217-52-4 |
辛烯三氯硅烷 | C<sub>8</sub>H<sub>15</sub>Cl<sub>3</sub>Si | 153447-97-3 |
3,7-二甲基-2,6-二辛烯三氯硅烷 | C<sub>10</sub>H<sub>17</sub>Cl<sub>3</sub>Si | 28333-49-5 |
10-烯基十一烷基三氯硅烷 | C<sub>11</sub>H<sub>21</sub>Cl<sub>3</sub>Si | 17963-29-0 |
表4烷基三甲氧基硅烷
表5氟代三甲氧基硅烷
表6官能化三甲氧基硅烷
中文名 | 分子式 | CAS |
乙烯基三甲氧基硅烷 | C<sub>5</sub>H<sub>12</sub>O<sub>3</sub>Si | 2768-02-7 |
烯丙基三甲氧基硅烷 | C<sub>6</sub>H<sub>14</sub>O<sub>3</sub>Si | 2551-83-9 |
7-辛烯基三甲氧基硅烷 | C<sub>11</sub>H<sub>24</sub>O<sub>3</sub>Si | 52217-57-9 |
10-烯基十一烷基三甲氧基硅烷 | C<sub>14</sub>H<sub>30</sub>O<sub>3</sub>Si | 872575-06-9 |
11-烯丙氧基十一烷基三甲氧基硅烷 | C<sub>17</sub>H<sub>36</sub>O<sub>4</sub>Si | 1196453-35-6 |
表7烷基三乙氧基硅烷
中文名 | 分子式 | CAS |
三乙氧基硅烷 | C<sub>6</sub>H<sub>16</sub>O<sub>3</sub>Si | 998-30-1 |
甲基三乙氧基硅烷 | C<sub>7</sub>H<sub>18</sub>O<sub>3</sub>Si | 2031-67-6 |
三乙氧基乙基硅烷 | C<sub>8</sub>H<sub>20</sub>O<sub>3</sub>Si | 78-07-9 |
丙基三乙氧基硅烷 | C<sub>9</sub>H<sub>22</sub>O<sub>3</sub>Si | 2550-02-9 |
正丁基三乙氧基硅烷 | C<sub>10</sub>H<sub>24</sub>O<sub>3</sub>Si | 4781-99-1 |
异丁基三乙氧基硅烷 | C<sub>10</sub>H<sub>24</sub>O<sub>3</sub>Si | 17980-47-1 |
三乙氧基戊基硅烷 | C<sub>11</sub>H<sub>26</sub>O<sub>3</sub>Si | 2761-24-2 |
(3,3-二甲基丁基)三乙氧基硅烷 | C<sub>12</sub>H<sub>28</sub>O<sub>3</sub>Si | 41966-94-3 |
正己基三乙氧基硅烷 | C<sub>12</sub>H<sub>28</sub>O<sub>3</sub>Si | 18166-37-5 |
正辛基三乙氧基硅烷 | C<sub>14</sub>H<sub>32</sub>O<sub>3</sub>Si | 2943-75-1 |
正癸基三乙氧基硅烷 | C<sub>16</sub>H<sub>36</sub>O<sub>3</sub>Si | 2943-73-9 |
N-癸基三乙氧基硅烷 | C<sub>18</sub>H<sub>40</sub>O<sub>3</sub>Si | 18536-91-9 |
十六烷基三乙氧基硅烷 | C<sub>22</sub>H<sub>4</sub>8O<sub>3</sub>Si | 16415-13-7 |
三乙氧基十八烷硅烷 | C<sub>24</sub>H<sub>52</sub>O<sub>3</sub>Si | 7399-00-0 |
二十二烷基三乙氧基硅烷 | C<sub>28</sub>H<sub>60</sub>O<sub>3</sub>Si | 330457-44-8 |
表8氟代三乙氧基硅烷
表9官能化三乙氧基硅烷
中文名 | 英文名 | 分子式 | CAS |
乙烯基三乙氧基硅烷 | Triethoxyvinylsilane | C<sub>8</sub>H<sub>18</sub>O<sub>3</sub>Si | 78-08-0 |
烯丙基三乙氧基硅烷 | Allyltriethoxysilane | C<sub>9</sub>H<sub>20</sub>O<sub>3</sub>Si | 2550-04-1 |
3-丁烯基三乙氧基硅烷 | 3-Butenyltriethoxysilane | C<sub>10</sub>H<sub>22</sub>O<sub>3</sub>Si | 57813-67-9 |
5-己烯基三乙氧基硅烷 | 5-hexenyltriethoxysilane | C<sub>12</sub>H<sub>26</sub>O<sub>3</sub>Si | 52034-14-7 |
二氯(甲氧基、乙氧基)硅烷:
表10烷基二氯硅烷
中文名 | 分子式 | CAS |
甲基二氯硅烷 | CH<sub>4</sub>Cl<sub>2</sub>Si | 75-54-7 |
乙基二氯硅烷 | C<sub>2</sub>H<sub>6</sub>Cl<sub>2</sub>Si | 1789-58-8 |
二氯二甲基硅烷 | C<sub>2</sub>H<sub>6</sub>Cl<sub>2</sub>Si | 75-78-5 |
甲基乙基二氯硅烷 | C<sub>3</sub>H<sub>8</sub>Cl<sub>2</sub>Si | 4525-44-4 |
叔丁基二氯硅烷 | C<sub>4</sub>H<sub>10</sub>Cl<sub>2</sub>Si | 85121-42-2 |
二氯二乙基硅烷 | C<sub>4</sub>H<sub>10</sub>Cl<sub>2</sub>Si | 1719-53-5 |
异丙基甲基二氯硅烷 | C<sub>4</sub>H<sub>10</sub>Cl<sub>2</sub>Si | 5926-38-5 |
异丙基甲基二氯硅烷 | C<sub>4</sub>H<sub>10</sub>Cl<sub>2</sub>Si | 18236-89-0 |
二氯甲基-N-丙基硅烷 | C<sub>4</sub>H<sub>10</sub>Cl<sub>2</sub>Si | 4518-94-9 |
二氯异丁基甲基硅烷 | C<sub>5</sub>H<sub>12</sub>Cl<sub>2</sub>Si | 18028-96-1 |
叔丁基甲基二氯硅烷 | C<sub>5</sub>H<sub>12</sub>Cl<sub>2</sub>Si | 18147-18-7 |
N-丁基甲基二氯化硅 | C<sub>5</sub>H<sub>12</sub>Cl<sub>2</sub>Si | 18147-23-4 |
正己基二氯硅烷 | C<sub>6</sub>H<sub>14</sub>Cl<sub>2</sub>Si | 871-64-7 |
二氯甲基戊基硅烷 | C<sub>6</sub>H<sub>14</sub>Cl<sub>2</sub>Si | 13682-99-0 |
二正丙基二氯硅烷 | C<sub>6</sub>H<sub>14</sub>Cl<sub>2</sub>Si | 2295-24-1 |
二异丙基二氯硅烷 | C<sub>6</sub>H<sub>14</sub>Cl<sub>2</sub>Si | 7751-38-4 |
己基甲基二氯硅烷 | C<sub>7</sub>H<sub>16</sub>Cl<sub>2</sub>Si | 14799-94-1 |
二叔丁基氯硅烷 | C<sub>8</sub>H<sub>18</sub>Cl<sub>2</sub>Si | 18395-90-9 |
庚基甲基二氯硅烷 | C<sub>8</sub>H<sub>18</sub>Cl<sub>2</sub>Si | 18395-93-2 |
二丁基二氯硅烷 | C<sub>8</sub>H<sub>18</sub>Cl<sub>2</sub>Si | 3449-28-3 |
二氯甲基辛基甲硅烷 | C<sub>9</sub>H<sub>20</sub>Cl<sub>2</sub>Si | 14799-93-0 |
二戊基二氯硅烷 | C<sub>10</sub>H<sub>22</sub>Cl<sub>2</sub>Si | 18037-39-3 |
甲基癸基二氯硅烷 | C<sub>11</sub>H<sub>24</sub>Cl<sub>2</sub>Si | 18051-88-2 |
二氯二己基硅烷 | C<sub>12</sub>H<sub>26</sub>Cl<sub>2</sub>Si | 18204-93-8 |
甲基十二烷基二氯硅烷 | C<sub>13</sub>H<sub>28</sub>Cl<sub>2</sub>Si | 18407-07-3 |
二正辛基二氯硅烷 | C<sub>16</sub>H<sub>34</sub>Cl<sub>2</sub>Si | 18416-07-4 |
双(2-乙基己基)二氯硅烷 | C<sub>16</sub>H<sub>34</sub>Cl<sub>2</sub>Si | 1089687-03-5 |
双(2-乙基己基)二氯硅烷 | C<sub>16</sub>H<sub>34</sub>Cl<sub>2</sub>Si | 1089687-03-5 |
甲基十八烷基二氯化硅烷 | C<sub>19</sub>H<sub>40</sub>Cl<sub>2</sub>Si | 5157-75-5 |
二十二烷基甲基二氯化硅烷 | C<sub>23</sub>H<sub>48</sub>Cl<sub>2</sub>Si | 67892-56-2 |
二(十二烷基)二氯硅烷 | C<sub>24</sub>H<sub>50</sub>Cl<sub>2</sub>Si | 18768-06-4 |
表11氟代二氯硅烷
中文名 | 分子式 | CAS |
(3,3,3-三氟丙基)二氯甲基硅烷 | C<sub>4</sub>H<sub>7</sub>C<sub>l</sub>2F<sub>3</sub>Si | 675-62-7 |
甲基(3,3,4,4,5,5,6,6,6-九氟己基)二氯硅烷 | C<sub>7</sub>H<sub>7</sub>Cl<sub>2</sub>F<sub>9</sub>Si | 38436-16-7 |
1H,1H,2H,2H-全氟辛基甲基二氯硅烷 | C<sub>9</sub>H<sub>7</sub>Cl<sub>2</sub>F<sub>13</sub>Si | 73609-36-6 |
1H,1H,2H,2H-全氟癸基甲基二氯硅烷 | C<sub>11</sub>H<sub>7</sub>Cl<sub>2</sub>F<sub>17</sub>Si | 3102-79-2 |
表12官能化二氯硅烷
中文名 | 分子式 | CAS |
乙烯基二氯硅烷 | C<sub>2</sub>H<sub>4</sub>Cl<sub>2</sub>Si | 18076-99-8 |
烯丙基二氯硅烷 | C<sub>3</sub>H<sub>6</sub>Cl<sub>2</sub>Si | 3937-28-8 |
甲基乙烯基二氯硅烷 | C<sub>3</sub>H<sub>6</sub>Cl<sub>2</sub>Si | 124-70-9 |
烯丙基二氯甲基硅烷 | C<sub>4</sub>H<sub>8</sub>Cl<sub>2</sub>Si | 1873-92-3 |
1-丙烯基甲基二氯硅烷 | C<sub>4</sub>H<sub>8</sub>Cl<sub>2</sub>Si | 18142-37-5 |
乙烯基乙基二氯硅烷 | C<sub>4</sub>H<sub>8</sub>Cl<sub>2</sub>Si | 10138-21-3 |
二乙烯基二氯硅烷 | C<sub>4</sub>H<sub>6</sub>Cl<sub>2</sub>Si | 1745-72-8 |
丁烯基二氯甲基硅烷 | C<sub>5</sub>H<sub>10</sub>Cl<sub>2</sub>Si | 15983-86-5 |
二烯丙基二氯硅烷 | C<sub>6</sub>H<sub>10</sub>Cl<sub>2</sub>Si | 3651-23-8 |
烯丙基己基二氯硅烷 | C<sub>9</sub>H<sub>18</sub>Cl<sub>2</sub>Si | 168270-62-0 |
乙烯基二氯壬烷基硅烷 | C<sub>10</sub>H<sub>20</sub>Cl<sub>2</sub>Si | 211985-85-2 |
表13烷基二甲氧基硅烷
中文名 | 分子式 | CAS |
二甲氧基硅烷 | C<sub>3</sub>H<sub>10</sub>O<sub>2</sub>Si | 16881-77-9 |
二甲基二甲氧基硅烷 | C<sub>4</sub>H<sub>12</sub>O<sub>2</sub>Si | 1112-39-6 |
二甲氧基甲基丙基硅烷 | C<sub>6</sub>H<sub>16</sub>O<sub>2</sub>Si | 18173-73-4 |
甲基叔丁基二甲氧基硅烷 | C<sub>7</sub>H<sub>18</sub>O<sub>2</sub>Si | 18293-81-7 |
正丁基甲基二甲氧基硅烷 | C<sub>7</sub>H<sub>18</sub>O<sub>2</sub>Si | 18294-08-1 |
异丁基(甲基)二甲氧基硅烷 | C<sub>7</sub>H<sub>18</sub>O<sub>2</sub>Si | 18293-82-8 |
叔丁基(乙基)二甲氧基硅烷 | C<sub>8</sub>H<sub>20</sub>O<sub>2</sub>Si | 129880-07-5 |
二异丙基二甲氧基硅烷 | C<sub>8</sub>H<sub>20</sub>O<sub>2</sub>Si | 18230-61-0 |
叔丁基丙基二甲氧基硅烷 | C<sub>9</sub>H<sub>22</sub>O<sub>2</sub>Si | 150176-63-9 |
叔丁基异丙基二甲氧基硅烷 | C<sub>9</sub>H<sub>22</sub>O<sub>2</sub>Si | 109144-59-4 |
异丁基异丙基二甲氧基硅烷 | C<sub>9</sub>H<sub>22</sub>O<sub>2</sub>Si | 111439-76-0 |
二正丁基二甲氧基硅烷 | C<sub>10</sub>H<sub>24</sub>O<sub>2</sub>Si | 18132-63-3 |
二异丁基二甲氧基硅烷 | C<sub>10</sub>H<sub>24</sub>O<sub>2</sub>Si | 17980-32-4 |
辛基甲基二甲氧基硅烷 | C<sub>11</sub>H<sub>26</sub>O<sub>2</sub>Si | 85712-15-8 |
十八烷基甲基二甲氧基硅烷 | C<sub>21</sub>H<sub>46</sub>O<sub>2</sub>Si | 70851-50-2 |
表14氟代二甲氧基硅烷
中文名 | 分子式 | CAS |
3,3,3-三氟丙基甲基二甲氧基硅 | C<sub>6</sub>H<sub>13</sub>F<sub>3</sub>O<sub>2</sub>Si | 358-67-8 |
1H,1H,2H,2H-全氟辛基甲基二甲氧基硅烷 | C<sub>11</sub>H<sub>13</sub>F<sub>13</sub>O<sub>2</sub>Si | 85857-17-6 |
十二氟庚基丙基甲基二甲氧基硅烷 | C<sub>13</sub>H<sub>18</sub>F<sub>12</sub>O<sub>2</sub>Si | 1374604-19-9 |
表15官能化二甲氧基硅烷
中文名 | 分子式 | CAS |
烯丙基二甲氧基硅烷 | C<sub>5</sub>H<sub>12</sub>O<sub>2</sub>Si | 18147-35-8 |
甲基乙烯基二甲氧基硅烷 | C<sub>5</sub>H<sub>12</sub>O<sub>2</sub>Si | 16753-62-1 |
烯丙基甲基二甲氧基硅烷 | C<sub>6</sub>H<sub>14</sub>O<sub>2</sub>Si | 67681-66-7 |
表16烷基二乙氧基硅烷
中文名 | 分子式 | CAS |
甲基二乙氧基硅烷 | C<sub>5</sub>H<sub>14</sub>O<sub>2</sub>Si | 2031-62-1 |
二乙氧基二甲基硅烷 | C<sub>6</sub>H<sub>16</sub>O<sub>2</sub>Si | 78-62-6 |
二乙基二乙氧基硅烷 | C<sub>8</sub>H<sub>20</sub>O<sub>2</sub>Si | 5021-93-2 |
二异丁基二乙氧基硅烷 | C<sub>12</sub>H<sub>28</sub>O<sub>2</sub>Si | 18297-14-8 |
二正己基二乙氧基硅烷 | C<sub>16</sub>H<sub>36</sub>O<sub>2</sub>Si | 18407-13-1 |
二烷基甲基二乙氧基硅烷 | C<sub>17</sub>H<sub>38</sub>O<sub>2</sub>Si | 60317-40-0 |
甲基十八烷基二乙氧基硅烷 | C<sub>23</sub>H<sub>50</sub>O<sub>2</sub>Si | 67859-75-0 |
表17氟代二乙氧基硅烷
表18官能化二乙氧基硅烷
中文名 | 分子式 | CAS |
甲基乙烯基二乙氧基硅烷 | C<sub>7</sub>H<sub>16</sub>O<sub>2</sub>Si | 5507-44-8 |
一氯(甲氧基、乙氧基)硅烷:
表19烷基一氯硅烷
表20氟代一氯硅烷
中文名 | 分子式 | CAS |
氯二甲基-3,3,3-氟丙基硅烷 | C<sub>5</sub>H<sub>10</sub>ClF<sub>3</sub>Si | 1481-41-0 |
九氟己基二甲基氯硅烷 | C<sub>8</sub>H<sub>10</sub>ClF<sub>9</sub>Si | 119386-82-2 |
1H,1H,2H,2H-全氟辛基二甲基氯硅烷 | C<sub>10</sub>H<sub>10</sub>ClF<sub>13</sub>Si | 102488-47-1 |
1H,1H,2H,2H-全氟十七烷二甲基氯硅烷 | C<sub>12</sub>H<sub>10</sub>ClF<sub>17</sub>Si | 74612-30-9 |
表21官能化一氯硅烷
中文名 | 分子式 | CAS |
5-己烯基二甲基氯硅烷 | C<sub>8</sub>H<sub>19</sub>ClSi | 30102-73-9 |
1-烯基十一烷基二甲基氯硅烷 | C<sub>13</sub>H<sub>27</sub>ClSi | 18406-97-8 |
二甲基乙烯基氯硅烷 | C<sub>4</sub>H<sub>9</sub>ClSi | 1719-58-0 |
烯丙基二甲基氯硅烷 | C<sub>5</sub>H<sub>11</sub>ClSi | 4028-23-3 |
表22烷基一甲氧基硅烷
中文名 | 分子式 | CAS |
二甲基甲氧基-N-丙基硅烷 | C<sub>6</sub>H<sub>16</sub>OSi | 18182-14-4 |
正丁基二甲基甲氧基硅烷 | C<sub>7</sub>H<sub>18</sub>OSi | 64712-50-1 |
三乙基甲氧基硅烷 | C<sub>7</sub>H<sub>18</sub>OSi | 2117-34-2 |
表23氟代一甲氧基硅烷
中文名 | 分子式 | CAS |
二甲基甲氧基(3,3,3-氟丙基)硅烷 | C<sub>6</sub>H<sub>13</sub>F<sub>3</sub>OSi | 4852-13-5 |
表24官能化一甲氧基硅烷
中文名 | 分子式 | CAS |
二甲基乙烯基甲氧基硅烷 | C<sub>5</sub>H<sub>12</sub>OSi | 16546-47-7 |
三烯丙基甲氧基硅烷 | C<sub>10</sub>H<sub>18</sub>OSi | 17984-83-7 |
表25烷基一乙氧基硅烷
中文名 | 分子式 | CAS |
二甲基乙氧基硅烷 | C<sub>4</sub>H<sub>12</sub>OSi | 14857-34-2 |
Claims (4)
1.一种基于牙体表面疏水化理念的窝沟封闭剂,其特征在于,由单组分窝沟封闭剂或双组分窝沟封闭剂组成,
(1)双组分型窝沟封闭剂由组分A和组分B组成,组分A:疏水化试剂(a)和溶剂(b);组分B:疏水性聚合单体(c)、光聚合引发剂(d)、 填料(e);
(2)单组分型窝沟封闭剂由疏水化试剂(a)、疏水性聚合单体(c)、光聚合引发剂(d)、填料(e)组成;
溶剂(b)选用乙醇、***、甲苯、丙酮,以及两种或两种以上的混合溶剂;
所述组分A中疏水化试剂(a)为氯硅烷或甲氧基硅烷或乙氧基硅烷,选用烷基氯硅烷、氟代氯硅烷、官能化氯硅烷、烷基甲氧基硅烷、官能化甲氧基硅烷、氟代甲氧基硅烷、烷基乙氧基硅烷、官能化乙氧基硅烷、氟代乙氧基硅烷,以及两种或两种以上不同硅烷的混合物;组分A中的疏水化试剂的体积比总浓度为0.001%~100%;
所述组分B中的疏水性聚合单体(c)不具有亲水基团、分子内至少具有两个自由基引发聚合的官能团的聚合单体,聚合单体之间相互聚合,单独使用,或将两种或多种聚合单体组合使用,选用但不限于双酚A二甲基丙烯酸酯、双酚A二缩水甘油甲基丙烯酸酯、乙氧化双酚A二甲基丙烯酸缩水甘油酯、2,2-双(4-甲基丙烯酰氧基乙氧基苄基)丙烷的芳香族甲基丙烯酸酯类,乙二醇二甲基丙烯酸酯、三甘醇二甲基丙烯酸酯、季戊二醇二甲基丙烯酸酯、三羟甲基丙烷三甲基丙烯酸酯、氨基甲酸酯甲基丙烯酸酯的多官能团甲基丙烯酸酯类,其中,疏水性聚合单体总含量为1wt% ~ 70wt%;
所述组分B中的光聚合引发剂(c)选用但不限于α-二酮类、缩酮类、噻吨酮类、酰基氧化膦类、香豆素类,单独使用,或两种或两种以上混合使用,光聚合引发剂的总含量为0.01wt%~ 10wt%;α-二酮类选用樟脑醌或偶苯酰,缩酮类选用苄基二甲醛缩苯乙酮、苄基二乙醛缩苯乙酮,噻吨酮类选用2-氯噻吨酮、2,4-二乙基噻吨酮;
所述填料(e)选用无机填料或有机填料,单独使用,或两种或两种以上混合使用,有机填料选用但不限于聚甲基丙烯酸甲酯、聚甲基丙烯酸乙酯、聚酰胺、聚氯乙烯、丁晴橡胶、丁苯橡胶;无机填料选用但不限于二氧化硅、陶瓷、玻璃、氧化铝、碳酸钙、氟化钠、氟化钾、羟基磷灰石、氧化钛、氧化锆、磷酸钙,填料的总含量在1wt% ~ 45wt%,填料(e)的平均粒径大小为10nm~400nm,其中粒径大于400nm的填料含量少于填料总量的10wt%;
其中单组分窝沟封闭剂,其疏水化试剂(a)、疏水性聚合单体(c)、光聚合引发剂(d)、填料(e)与双组分窝沟封闭剂中的疏水化试剂(a)、疏水性聚合单体(c)、光聚合引发剂(d)、填料(e)定义和范围一致。
2.根据权利要求1所述的一种基于牙体表面疏水化理念的窝沟封闭剂,其特征在于,所述双组分型窝沟封闭剂中,加入稳定剂、着色剂、荧光剂、紫外吸收剂、聚合促进剂,各类成分的含量分别小于5wt%;
所述单组分窝沟封闭剂,加入稳定剂、着色剂、荧光剂、紫外吸收剂、聚合促进剂等,各类成分的含量分别小于5wt%。
3.根据权利要求1所述的一种基于牙体表面疏水化理念的窝沟封闭剂,其特征在于,所述双组分型窝沟封闭剂中,加入氟离子释放物质,为纯净物或混合物,选用但不限于氟铝硅酸盐玻璃的氟玻璃,氟化钠、氟化钾 金属氟化物,加入一种氟离子释放物,或两种或两种以上组合的混合物,其中氟离子释放物质的总含量小于10wt%;
所述单组分型窝沟封闭剂,加入氟离子释放物质,为纯净物或混合物,选用但不限于氟铝硅酸盐玻璃的氟玻璃,氟化钠、氟化钾 金属氟化物,加入一种氟离子释放物,或两种或两种以上组合的混合物,其中氟离子释放物质的总含量小于10wt%。
4.根据权利要求1所述的一种基于牙体表面疏水化理念的窝沟封闭剂,其特征在于,所述双组分型窝沟封闭剂中,加入抗菌性物质,加入一种抗菌物质,或两种或两种以上抗菌物质组成的混合物,选用但不限于甲基丙烯酰氧基癸基氯化铵、三氯生,其中抗菌物质的总含量小于10wt%;
所述单组分窝沟封闭剂,加入抗菌性物质,加入一种抗菌物质,或两种或两种以上抗菌物质组成的混合物,选用但不限于甲基丙烯酰氧基癸基氯化铵、三氯生,其中抗菌物质的总含量小于10wt%;
所述双组分型窝沟封闭剂中,引入单官能团性聚合单体,引入一种单官能团性聚合单体,或两种或两种以上单官能团性聚合单体组成的混合物,选用但不限于甲基丙烯酸甲酯、甲基丙烯酸乙酯、甲基丙烯酸异丙酯、甲基丙烯酸2,3-二溴丙酯,其中,单官能团性聚合单体含量小于40wt%;
所述单组分型窝沟封闭剂,引入单官能团性聚合单体,引入一种单官能团性聚合单体,或两种或两种以上单官能团性聚合单体组成的混合物,选用但不限于甲基丙烯酸甲酯、甲基丙烯酸乙酯、甲基丙烯酸异丙酯、甲基丙烯酸2,3-二溴丙酯,其中,单官能团性聚合单体含量小于40wt%;
所述双组分型窝沟封闭剂中,引入两亲聚合单体,加入一种两亲聚合单体,或两种或两种以上两亲聚合单体组成的混合物,选用但不限于甲基丙烯酸2羟基乙酯、甲基丙烯酸3-羟基丙酯、甲基丙烯酸2-羟基丙酯、甲基丙烯酸1,3-二羟基丙酯、甲基丙烯酸2,3-二羟基丙酯,2-三甲基铵乙基甲基丙烯酰氯、聚乙二醇二甲基丙烯酸酯,其中,两亲聚合单体的总含量小于20wt%;
所述单组分型窝沟封闭剂,引入两亲聚合单体,加入一种两亲聚合单体,或两种或两种以上两亲聚合单体组成的混合物,选用但不限于甲基丙烯酸2羟基乙酯、甲基丙烯酸3-羟基丙酯、甲基丙烯酸2-羟基丙酯、甲基丙烯酸1,3-二羟基丙酯、甲基丙烯酸2,3-二羟基丙酯,2-三甲基铵乙基甲基丙烯酰氯、聚乙二醇二甲基丙烯酸酯,其中,两亲聚合单体的总含量小于20wt%;
所述双组分型窝沟封闭剂中,加入溶剂,选用但不限于乙醇、***、甲苯、丙酮,或两种或两种以上的组合的混合溶剂,其中溶剂的总含量小于30wt%;
所述单组分型窝沟封闭剂,加入溶剂,选用但不限于乙醇、***、甲苯、丙酮,或两种或两种以上的组合的混合溶剂,其中溶剂的总含量小于30wt%。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
CN201610642503.8A CN106137774B (zh) | 2016-08-08 | 2016-08-08 | 基于牙体表面疏水化理念的窝沟封闭剂 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
CN201610642503.8A CN106137774B (zh) | 2016-08-08 | 2016-08-08 | 基于牙体表面疏水化理念的窝沟封闭剂 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
CN106137774A CN106137774A (zh) | 2016-11-23 |
CN106137774B true CN106137774B (zh) | 2020-04-17 |
Family
ID=57329258
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
CN201610642503.8A Active CN106137774B (zh) | 2016-08-08 | 2016-08-08 | 基于牙体表面疏水化理念的窝沟封闭剂 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
CN (1) | CN106137774B (zh) |
Families Citing this family (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN108186371B (zh) * | 2018-02-05 | 2020-09-22 | 上海御齿台医疗科技有限公司 | 安全种植牙用粘合剂及其制备方法 |
CN110764175B (zh) * | 2019-11-27 | 2022-03-29 | 京东方科技集团股份有限公司 | 一种彩色滤光片及制备方法、显示面板及显示装置 |
Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP1849449A1 (en) * | 2006-04-26 | 2007-10-31 | 3M Innovative Properties Company | Filler containing composition and process for production and use thereof |
CN101167684A (zh) * | 2007-10-18 | 2008-04-30 | 同济大学 | 一种氟硅橡胶义齿软衬材料的制备方法 |
CN101385687A (zh) * | 2007-09-14 | 2009-03-18 | 株式会社松风 | 单液型牙科粘合性组合物 |
CN104546509A (zh) * | 2015-01-06 | 2015-04-29 | 吉林大学 | 一种预防龋齿修复后微渗漏的弹性层材料、制备方法及其应用 |
-
2016
- 2016-08-08 CN CN201610642503.8A patent/CN106137774B/zh active Active
Patent Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP1849449A1 (en) * | 2006-04-26 | 2007-10-31 | 3M Innovative Properties Company | Filler containing composition and process for production and use thereof |
CN101385687A (zh) * | 2007-09-14 | 2009-03-18 | 株式会社松风 | 单液型牙科粘合性组合物 |
CN101167684A (zh) * | 2007-10-18 | 2008-04-30 | 同济大学 | 一种氟硅橡胶义齿软衬材料的制备方法 |
CN104546509A (zh) * | 2015-01-06 | 2015-04-29 | 吉林大学 | 一种预防龋齿修复后微渗漏的弹性层材料、制备方法及其应用 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
CN106137774A (zh) | 2016-11-23 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
CN106176250B (zh) | 基于疏水粘接新理念的牙粘接剂*** | |
Pratap et al. | Resin based restorative dental materials: Characteristics and future perspectives | |
JP5123177B2 (ja) | 改善された貯蔵特性を有する親水化された硬化性シリコーン印象材 | |
Kim et al. | Effect of resin thickness on the microhardness and optical properties of bulk-fill resin composites | |
CN104066772B (zh) | 两组分和三组分硅氧烷以及相关的化合物和组合物 | |
Karabela et al. | Effect of the structure of silane coupling agent on sorption characteristics of solvents by dental resin-nanocomposites | |
US20100323330A1 (en) | Tooth Colorant and Whitener, Method of Manufacture, and Method of Use Thereof | |
CN106137774B (zh) | 基于牙体表面疏水化理念的窝沟封闭剂 | |
US11406585B2 (en) | Photocurable resin composition for nail or artificial nail | |
JP2013514105A (ja) | セラミック基材への骨セメントの接着性を改善するための表面調整法 | |
CN112280344B (zh) | 陶瓷复合涂料、杀毒陶瓷复合涂料及其制备方法和涂层 | |
JP6916444B2 (ja) | 爪または人工爪用光硬化性組成物、これらを含むベースコート剤、これらの硬化物、これらの硬化物の製造方法、およびこれらの硬化物の剥離方法、これらを用いた被覆方法、ならびにこれらの使用方法 | |
Kim et al. | Quantitative microleakage analysis of root canal filling materials in single‐rooted canals | |
KR101674067B1 (ko) | 우수한 스캐닝 성능 및 기계적 물성을 갖는 치과용 인상재 조성물 및 그를 포함하는 치과용 인상재 | |
CN104519855B (zh) | 用于根管治疗的改进的组合物 | |
JP2022520476A (ja) | 積層造形技術のためのメルカプト官能性ポリオルガノシロキサンを含有する放射線硬化性組成物 | |
Sowa et al. | Microstructure and surface free energy of light-cured dental composites after their modification with liquid rubber | |
WO2019150256A1 (en) | Radiation-curable composition containing mercapto-functional polyorganosiloxanes for additive-manufacturing technology | |
JP6341938B2 (ja) | 安定化歯科用印象組成物、部品キット、及びそれらの使用 | |
Skrtic et al. | Polymeric dental composites based on remineralizing amorphous calcium phosphate fillers | |
Mustafa et al. | The influence of experimental silane primers on dentin bond strength and morphology: A laboratory and finite element analysis study | |
Yadav et al. | A Study on the Silane Chemistry and Sorption/Solubility Characteristics of Dental Composites in a Wet Oral Environment | |
Yadav et al. | 17 A Study on the Silane | |
Margeas | Universal Adhesives: New Realm of Possibility. | |
JPS59216808A (ja) | 歯科用接着組成物 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
C06 | Publication | ||
PB01 | Publication | ||
C10 | Entry into substantive examination | ||
SE01 | Entry into force of request for substantive examination | ||
GR01 | Patent grant | ||
GR01 | Patent grant |