CN106126003A - 触摸面板用电极的保护膜的形成方法、感光性树脂组合物及感光性元件、以及触摸面板的制造方法 - Google Patents

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Abstract

本发明的触摸面板用电极的保护膜的形成方法具备：在具有触摸面板用电极的基材上设置由含有粘合剂聚合物、光聚合性化合物以及光聚合引发剂的感光性树脂组合物构成的感光层的第1工序；通过活性光线的照射使感光层的规定部分固化的第2工序；以及将感光层的规定部分以外的部分除去、形成覆盖电极的一部分或全部的由感光层的规定部分的固化物构成的保护膜的第3工序，其中，感光性树脂组合物的羟值为40mgKOH/g以下。

Description

触摸面板用电极的保护膜的形成方法、感光性树脂组合物及 感光性元件、以及触摸面板的制造方法
本申请是申请日为2012年12月4日、发明名称为“触摸面板用电极的保护膜的形成方法、感光性树脂组合物及感光性元件、以及触摸面板的制造方法”的中国申请号为201280059836.8的分案申请。
技术领域
本发明涉及触摸面板用电极的保护膜的形成方法，特别涉及适合于静电电容方式触摸面板的电极保护的保护膜的形成方法、该方法中使用的感光性树脂组合物及感光性元件、以及触摸面板的制造方法。
背景技术
从个人电脑或电视的大型电子设备到汽车导航、手机、电子词典等小型电子设备以及OA/FA设备等的显示设备中都要使用液晶显示元件或触摸面板(触摸传感器)。这些液晶显示元件或触摸面板中设有由透明导电电极材料构成的电极。作为透明导电电极材料，已知有ITO(铟锡氧化物)、氧化铟及氧化锡，这些材料由于显示高的可见光透射率，因此作为液晶显示元件用基板等的电极材料成为主流。
触摸面板已经实用化了各种方式，近年来静电电容方式的触摸面板的利用不断发展。静电电容方式触摸面板中，当作为导电体的指尖接触到触摸输入面时，指尖与导电膜之间发生静电电容耦合，形成电容器。因此，静电电容方式触摸面板通过捕捉指尖接触位置处的电荷变化来检测其坐标。
特别是投影型静电电容方式的触摸面板，由于可进行指尖的多点检测，因此具备可进行复杂的指示这一良好的操作性，因其操作性的优良，作为手机或便携式音乐播放器等具有小型显示装置的设备中的显示面上的输入装置的利用不断发展。
一般来说，投影型静电电容方式的触摸面板中，为了表现利用X轴和Y轴的2维坐标，多个X电极和与该X电极正交的多个Y电极形成2层结构，作为该电极，使用ITO(铟锡氧化物)。
但是，由于触摸面板的边框区域是无法检测触摸位置的区域，因此将其边框区域的面积变窄是用于提高产品价值的重要要素。在边框区域上，为了传送触摸位置的检测信号，需要金属配线，而为了谋求边框面积的狭小化，需要将金属配线的宽度变窄。由于ITO的导电性不够高，因此通常金属配线由铜形成。
但是，上述那样的触摸面板在被指尖接触时，有时水分或盐分等腐蚀成分会从传感区域侵入到内部。腐蚀成分侵入到触摸面板的内部时，金属配线会腐蚀，有可能发生电极与驱动用电路间的电阻的增加或者断线。
为了防止金属配线的腐蚀，公开了在金属上形成有绝缘层的静电电容方式的投影型触摸面板(例如专利文献1)。该触摸面板中，利用等离子体化学气相沉积法(等离子体CVD法)在金属上形成二氧化硅层，防止了金属的腐蚀。但是，由于该手法使用等离子体CVD法，因此存在需要高温处理而使基材受到限定、制造成本变高等问题。
另外，作为在所需位置上设置抗蚀剂膜的方法，已知有在规定的基材上设置由感光性树脂组合物构成的感光层、并将该感光层进行曝光、显影的方法(例如专利文献2～4)。
现有技术文献
专利文献
专利文献1：日本特开2011-28594号公报
专利文献2：日本特开平7-253666号公报
专利文献3：日本特开2005-99647号公报
专利文献4：日本特开平11-133617号公报
发明内容
发明要解决的课题
利用感光性树脂组合物制作保护膜与等离子体CVD法相比，可期待成本的缩减。但是，在触摸面板用电极上形成保护膜时，如果保护膜的厚度大，则有时在有膜的位置和没有膜的位置上高度差明显。为此，优选使保护膜尽可能地薄。但是尚没有在厚度为10μm以下的水平下对由感光性树脂组合物形成的膜的防锈性进行研究的例子。
本发明的目的在于提供可以在规定的触摸面板用电极上形成即使是薄的膜也具有充分的防锈性的保护膜的触摸面板用电极的保护膜的形成方法、可以形成这样的保护膜的感光性树脂组合物及感光性元件、以及触摸面板的制造方法。
用于解决课题的手段
为了解决上述课题，本发明人们进行潜心研究的结果发现，通过调节含有粘合剂聚合物、光聚合性化合物以及光聚合引发剂的感光性树脂组合物的羟值，可以确保显影性，并且即使由光固化形成的膜为10μm以下的厚度也可显示充分的防锈性，可充分地防止铜等金属的腐蚀，从而完成了本发明。
本发明作为第1方案提供一种触摸面板用电极的保护膜的形成方法，其具备：在具有触摸面板用电极的基材上设置由含有粘合剂聚合物、光聚合性化合物以及光聚合引发剂的感光性树脂组合物构成的感光层的第1工序；通过活性光线的照射使所述感光层的规定部分固化的第2工序；以及除去所述感光层的除所述规定部分以外的部分、形成覆盖所述电极的一部分或全部的由所述感光层的所述规定部分的固化物构成的保护膜的第3工序，其中，所述感光性树脂组合物的羟值为40mgKOH/g以下
根据本发明的第1方案的触摸面板用电极的保护膜的形成方法，通过使用上述特定的感光性树脂组合物，可以确保显影性及对基材的密合性、并且以10μm以下的厚度形成具有充分防锈性的保护膜。根据本发明，可以使用感光性树脂组合物形成美观性和防锈性这两者都充分的保护膜，因此可以谋求触摸面板的制造中的制造成本的降低。
上述第1方案中，从提高保护膜的防锈性的观点出发，上述粘合剂聚合物的羟值优选为50mgKOH/g以下。
上述第1方案中，从进一步提高保护膜的防锈性的观点出发，优选上述光聚合性化合物的羟值为90mgKOH/g以下。
进而，从进一步提高保护膜的防锈性的观点出发，优选上述粘合剂聚合物的酸值为120mgKOH/g以下。
另外，从兼顾密合性和防锈性的观点出发，上述感光性树脂组合物优选进一步含有包含光聚合性不饱和键的磷酸酯。
从充分确保触摸面板的视觉辨认性的观点出发，上述感光层优选400～700nm下的可见光透射率的最小值为90％以上。此时，本发明的第1方案的触摸面板用电极的保护膜的形成方法适合于形成覆盖传感区域的电极的保护膜。
另外，从进一步提高显影性的观点出发，上述感光性树脂组合物优选进一步含有选自具有巯基的***化合物、具有巯基的四唑化合物、具有巯基的噻二唑化合物、具有氨基的***化合物以及具有氨基的四唑化合物中的一种以上的化合物。此时，可以减少显影残渣，易于以良好的图案形成保护膜。
上述第1方案中，优选光聚合引发剂包含肟酯化合物和/或膦氧化物化合物。通过含有肟酯化合物或者膦氧化物化合物作为光引发剂，即使感光层薄时，也可以以充分的析像度形成图案。
如果考虑到触摸面板的视觉辨认性或美观性，则优选保护膜的透明性更高。但是另一方面本发明人们发现了，在将透明性高的薄膜的感光层进行布图时有分辨率降低的倾向。关于其原因，本发明人们认为这是因为，如果感光层的厚度变小，则容易受到来自基材的光散射的影响，产生光晕。
就通过颜料或染料来控制感光特性的现有的感光性树脂组合物而言，难以确保透明性。
与此相对，本发明中通过上述光聚合引发剂包含肟酯化合物和/或膦氧化物化合物，可以以充分的析像度形成图案。
另外，本发明人们推测获得上述效果的理由是由于肟酯化合物中所含的肟部位或者膦氧化物化合物中所含的膦氧化物部位具有比较高的光分解效率且具有一点点的漏光不会发生分解的适度阈值、因此由漏光产生的影响得到了抑制的结果。
另外，本发明的第1方案中，上述第1工序优选是准备具备支撑膜和设置在该支撑膜上的由所述感光性树脂组合物构成的感光层的感光性元件、将该感光性元件的感光层转印在所述基材上来设置所述感光层的工序。此时，通过使用感光性元件，卷对卷工艺可以容易地实现、可以缩短溶剂干燥工序等对制造工序的缩短和成本降低作出大的贡献。
本发明作为第2方案还提供一种用于形成触摸面板用电极的保护膜的感光性树脂组合物，其是含有粘合剂聚合物、光聚合性化合物以及光聚合引发剂的感光性树脂组合物，其中，所述感光性树脂组合物的羟值为40mgKOH/g以下。
根据本发明的第2方案的感光性树脂组合物，可以在规定的触摸面板用电极上形成即使是薄的膜也具有充分的防锈性的保护膜。
上述第2方案中，从提高保护膜的防锈性的观点出发，优选上述粘合剂聚合物成分的羟值为50mgKOH/g以下。
上述第2方案中，从进一步提高保护膜的防锈性的观点出发，优选上述光聚合性化合物成分的羟值为90mgKOH/g以下。
进而，从进一步提高保护膜的防锈性的观点出发，优选上述粘合剂聚合物成分的酸值为120mgKOH/g以下。
另外，从兼顾密合性和显影性的观点出发，上述本发明的第2方案的感光性树脂组合物优选进一步含有包含光聚合性不饱和键的磷酸酯。
从充分确保触摸面板的视觉辨认性的观点出发，本发明的第2方案的感光性树脂组合物优选400～700nm下的可见光透射率的最小值为90％以上。
从进一步提高显影性的观点出发，本发明的第2方案的感光性树脂组合物优选进一步含有选自具有巯基的***化合物、具有巯基的四唑化合物、具有巯基的噻二唑化合物、具有氨基的***化合物以及具有氨基的四唑化合物中的一种以上的化合物。此时，可以减少显影残渣，易于以良好的图案形成保护膜。
另外，本发明的第2方案的感光性树脂组合物中，优选上述光聚合引发剂包含肟酯化合物和/或膦氧化物化合物。此时，可以以具有充分析像度的图案形成透明性高的薄膜的保护膜。
本发明作为第3方案还提供一种感光性元件，其具备支撑膜和设置在该支撑膜上的由上述本发明的第2方案的感光性树脂组合物构成的感光层。
根据本发明的第3方案的感光性元件，可以在规定的触摸面板用电极上形成即使是薄的膜也具有充分的防锈性的保护膜。
上述感光层的厚度可以为10μm以下。
本发明作为第4方案还提供一种触摸面板的制造方法，其具备在具有触摸面板用电极的基材上通过上述本发明的第1方案的保护膜的形成方法形成覆盖电极的一部分或全部的保护膜的工序。
发明的效果
根据本发明，能够提供可以在规定的触摸面板用电极上形成即使是薄的膜也具有充分的防锈性的保护膜的触摸面板用电极的保护膜的形成方法、可以形成这样的保护膜的感光性树脂组合物及感光性元件、以及触摸面板的制造方法。
另外，根据本发明，可以保护静电电容式触摸面板的金属电极。进而，根据本发明，可以对形成容易因水分或盐分而生锈的铜等的金属层以提高导电性的触摸面板的边框区域上的电极进行保护。
附图说明
图1为表示本发明的感光性元件的一个实施方式的示意截面图。
图2为用于说明本发明的触摸面板用电极的保护膜的形成方法的一个实施方式的示意截面图。
图3为表示静电电容式的触摸面板的一例的示意俯视图。
图4为表示静电电容式的触摸面板的另一例的示意俯视图。
图5(a)为图3所示C部分的沿V-V线的部分截面图，图5(b)为表示另一方式的部分截面图。
具体实施方式
以下对用于实施本发明的方式进行详细说明。但本发明并不限定于以下的实施方式。
本发明的感光性树脂组合物只要目的是形成透明性及防锈性优异的保护膜以保护触摸面板(触摸传感器)的电极形成部位，则无论触摸面板的构成如何变化均可优选地使用。具体来说，触摸面板的构成由护罩玻璃、触摸面板、液晶面板这3片构成，因此在变换为护罩玻璃一体型、On-Cell型时，只要目的是保护触摸面板(触摸传感器)的电极形成部位，则都可以优选地使用。
另外，本说明书中，触摸面板用电极不仅包含位于触摸面板的传感区域上的电极，而且也包含边框区域的金属配线。要设置保护膜的电极可以是其中任意一者，也可以是两者。
另外，本说明书中，透明性优异是指400～700nm的可见光透过90％以上，即使光有某种程度的散射也包括在透明的概念中。
另外，(甲基)丙烯酸是指丙烯酸或者甲基丙烯酸，(甲基)丙烯酸酯是指丙烯酸酯或者与其对应的甲基丙烯酸酯，(甲基)丙烯酰基是指丙烯酰基或者甲基丙烯酰基。另外，(聚)氧化乙烯链是指氧化乙烯基或者聚氧化乙烯基，(聚)氧化丙烯链是指氧化丙烯基或者聚氧化丙烯基。另外，“(EO)改性”是指具有(聚)氧化乙烯链的化合物，“(PO)改性”是指具有(聚)氧化丙烯链的化合物，“(EO)·(PO)改性”是指具有(聚)氧化乙烯链以及(聚)氧化丙烯链这两者的化合物。
另外，本说明书中“工序”的用语不仅是指独立的工序，在与其它工序无法明确区别时，只要能实现该工序所预期的作用则也包括在本用语中。另外，本说明书中用“～”表示的数值范围是指将“～”前后记载的数值分别作为最小值及最大值包括在内的范围。
此外，本说明书中，组合物中的各成分的含量在组合物中含有多个相当于各成分的物质时，如果没有特别说明则是指组合物中存在的该多个物质的合计量。
图1为表示本发明的感光性元件的一个实施方式的示意截面图。图1所示的感光性元件1由支撑膜10、设置在支撑膜10上的由本发明的感光性树脂组合物构成的感光层20、以及设置在感光层20的与支撑膜10相反侧上的保护膜30构成。
本实施方式的感光性元件1优选用于形成触摸面板用电极的保护膜。
作为支撑膜10，可以使用聚合物膜。作为聚合物膜，例如可举出由聚对苯二甲酸乙二醇酯、聚碳酸酯、聚乙烯、聚丙烯、聚醚砜等构成的膜。
支撑膜10的厚度从确保被覆性和抑制透过支撑膜10照射活性光线时的析像度降低的观点出发，优选为5～100μm、更优选为10～70μm、进一步优选为15～40μm、特别优选为20～35μm。
构成感光层20的本发明的感光性树脂组合物含有粘合剂聚合物(以下也称为(A)成分)、光聚合性化合物(以下也称为(B)成分)以及光聚合引发剂(以下也称为(C)成分)，感光性树脂组合物的羟值为40mgKOH/g以下。通过使用由羟值为上述范围那样的上述感光性树脂组合物构成的膜作为保护膜，可以以10μm以下的厚度发挥充分的防锈性。根据本实施方式的感光性树脂组合物，可以形成兼顾美观性和防锈性的保护膜。
感光性树脂组合物的羟值可以如下测定。
首先，精密称取作为羟值测定对象的感光性树脂组合物1g。在上述精密称取的感光性树脂组合物中加入10质量％的醋酸酐吡啶溶液10mL，将其均匀溶解，在100℃下加热1小时。加热后，加入水10mL和吡啶10mL，在100℃下加热10分钟。之后，使用自动滴定机(平沼产业株式会社制“COM-1700”)，利用0.5mol/L的氢氧化钾的乙醇溶液进行中和滴定，由此测定上述羟值。
此外，羟值可以由下式算出。
羟值＝(A-B)×f×28.05/试样(g)+酸值
式中，A表示空白试验中使用的0.5mol/L氢氧化钾乙醇溶液的量(mL)，B表示滴定中使用的0.5mol/L氢氧化钾乙醇溶液的量(mL)，f表示因数。
此外，在测定对象为含有感光性树脂组合物及溶剂的涂布液时，感光性树脂组合物的羟值是预先除去所述溶剂后再进行测定。具体来说，在精密称取作为羟值测定对象的感光性树脂组合物1g之前，预先将涂布液在比上述溶剂的沸点高10℃以上的温度下加热1～4小时来除去溶剂。
另外，后述的感光性元件中的感光层20的羟值可以如下测定。首先，将感光性元件在玻璃基板上层叠多次，在仅使感光性元件的感光层重叠后，利用金属刮刀将形成作为羟值测定对象的感光层20的感光性树脂组合物刮下，精密称取1g。将精密称取的感光性树脂组合物移到三角烧瓶中，加入10质量％的醋酸酐吡啶溶液10mL，将其均匀溶解，在100℃下加热1小时。加热后，加入水10mL和吡啶10mL，在100℃下加热10分钟。之后，使用自动滴定机(平沼产业株式会社制“COM-1700”)，利用0.5mol/L的氢氧化钾的乙醇溶液进行中和滴定，由此可以测定上述羟值。
对于获得即使是薄的膜也能发挥充分防锈性的效果的理由，本发明人们进行了如下推定。本发明人们认为，在使用感光性树脂组合物形成10μm以下的薄膜时，水分或盐分等腐蚀成分容易含有在膜内，该倾向会因感光性树脂组合物中所含的羟基、特别是羟基烷基而进一步变大。本实施方式中，通过使感光性树脂组合物的形成保护膜的成分整体的羟值在上述范围内，充分地抑制了羟基所导致的防锈性降低。
作为(A)成分的粘合剂聚合物，只要感光性树脂组合物的羟值为40mgKOH/g以下的范围则可以没有特别限制地使用。从保护膜的防锈性优异的方面出发，(A)成分的羟值优选为50mgKOH/g以下、更优选为45mgKOH/g以下。
(A)成分的羟值可以在精密称取作为羟值测定对象的粘合剂聚合物1g后、对该粘合剂聚合物与上述的羟值测定同样地求得羟值。此外，在将粘合剂聚合物以与合成溶剂或稀释溶剂混合的状态下配合时，预先在比所述合成溶剂或稀释溶剂的沸点高10℃以上的温度下加热1～4小时以除去上述溶剂后测定羟值。
作为(A)成分，例如可以使用具有羧基的聚合物。
具有羧基的聚合物中，(A)成分优选是含有来自于(a)(甲基)丙烯酸以及(b)(甲基)丙烯酸烷基酯的结构单元的共聚物。
作为(b)(甲基)丙烯酸烷基酯，例如可以举出(甲基)丙烯酸甲酯、(甲基)丙烯酸乙酯、(甲基)丙烯酸丁酯、(甲基)丙烯酸2-乙基己酯、(甲基)丙烯酸双环戊二烯酯以及(甲基)丙烯酸羟基乙酯。
在使用上述(甲基)丙烯酸羟基乙酯那样的含有羟基的(甲基)丙烯酸烷基酯时，优选将(A)成分的羟值调节为50mgKOH/g以下、更优选调节为45mgKOH/g以下、进一步优选调节为40mgKOH/g以下。
上述共聚物还可以进一步在结构单元中含有可与上述的(a)成分和/或(b)成分发生共聚的其它单体。
作为可与上述的(a)成分和/或(b)成分发生共聚的其它单体，例如可以举出(甲基)丙烯酸四氢糠酯、(甲基)丙烯酸二甲基氨基乙酯、(甲基)丙烯酸二乙基氨基乙酯、(甲基)丙烯酸缩水甘油酯、(甲基)丙烯酸苄酯、(甲基)丙烯酸2,2,2-三氟乙酯、(甲基)丙烯酸2,2,3,3-四氟丙酯、(甲基)丙烯酸(2-异氰酸根合乙酯)、(甲基)丙烯酰胺、(甲基)丙烯腈、二丙酮(甲基)丙烯酰胺、N-环己基马来酰亚胺、苯乙烯以及乙烯基甲苯。在合成作为(A)成分的粘合剂聚合物时，上述的单体可以单独使用1种，也可以组合使用2种以上。
作为(A)成分的粘合剂聚合物的分子量没有特别限制，但从涂布性以及涂膜强度、显影性的立场出发，通常优选重均分子量为10,000～200,000、更优选为30,000～150,000、极其优选为50,000～100,000。此外，重均分子量的测定条件设为与本申请说明书的实施例相同的测定条件。
对于作为(A)成分的粘合剂聚合物的酸值，从在显影工序中可利用公知的各种显影液进行显影、且提高在作为电极的保护膜发挥作用时对水分或盐分等腐蚀成分的耐受性的观点出发，优选为120mgKOH/g以下。
另外，例如在使用碳酸钠、碳酸钾、氢氧化四甲基铵、三乙醇胺等碱水溶液进行显影时，优选使(A)成分的酸值为50～120mgKOH/g。从显影性优异的方面出发，该酸值优选为50mgKOH/g以上、更优选为60mgKOH/g以上、进一步优选为70mgKOH/g以上。另外，从在保护触摸面板用电极时保护电极不受水分或盐分等腐蚀成分的腐蚀的观点出发，上述酸值优选为120mgKOH/g以下。
作为(A)成分的粘合剂聚合物的酸值可以如下测定。精密称取作为酸值测定对象的粘合剂聚合物1g。
在上述粘合剂聚合物中加入丙酮30g，将其均匀溶解。接着，在上述溶液中滴加适量的作为指示剂的酚酞，使用0.1N的KOH水溶液进行滴定，由此可以测定酸值。另外，酸值可以由下式算出。
酸值＝0.1×Vf×56.1/(Wp×I/100)
式中，Vf表示KOH水溶液的滴定量(mL)，Wp表示测得的树脂溶液的重量(g)，I表示测得的树脂溶液中的不挥发成分的比例(质量％)。
此外，在将粘合剂聚合物以与合成溶剂或稀释溶剂混合的状态配合时，预先在比所述合成溶剂或稀释溶剂的沸点高10℃以上的温度下加热1～4小时以除去上述溶剂后测定酸值。
作为(B)成分的光聚合性化合物，只要满足感光性树脂组合物的羟值为40mgKOH/g以下，则可以根据所要求的特性没有特别限制地使用。(B)成分的羟值优选为90mgKOH/g以下、更优选为60mgKOH/g以下。
作为(B)成分的光聚合性化合物的羟值可以通过精密称取作为羟值测定对象的光聚合性化合物1g、与对上述感光性树脂组合物的羟值测定同样地进行测定来求得。此外，在将光聚合性化合物以与合成溶剂或稀释溶剂混合的状态下配合时，预先在比所述合成溶剂或稀释溶剂的沸点高10℃以上的温度下加热1～4小时以除去上述溶剂后测定酸值。
作为(B)成分的光聚合性化合物，可以使用具有烯键式不饱和基团的光聚合性化合物。
作为具有烯键式不饱和基团的光聚合性化合物，例如可以举出单官能乙烯基单体、二官能乙烯基单体、具有至少3个可聚合的烯键式不饱和基团的多官能乙烯基单体。
作为上述单官能乙烯基单体，例如可以举出作为在上述(A)成分的优选例的共聚物的合成中使用的单体例示出的(甲基)丙烯酸、(甲基)丙烯酸烷基酯以及可与它们共聚的单体。
作为上述二官能乙烯基单体，例如可以举出聚乙二醇二(甲基)丙烯酸酯、三羟甲基丙烷二(甲基)丙烯酸酯、聚丙二醇二(甲基)丙烯酸酯、双酚A聚氧化乙烯二聚氧化丙烯二(甲基)丙烯酸酯(2,2-双(4-(甲基)丙烯酰氧基聚乙氧基聚丙氧基苯基)丙烷)、双酚A二缩水甘油基醚二(甲基)丙烯酸酯、多元羧酸(苯二甲酸酐等)与具有羟基及烯键式不饱和基团的物质(丙烯酸β-羟基乙酯、甲基丙烯酸β-羟基乙酯等)的酯化物。
作为上述具有至少3个可聚合的烯键式不饱和基团的多官能乙烯基单体，例如可以举出三羟甲基丙烷三(甲基)丙烯酸酯、四羟甲基甲烷三(甲基)丙烯酸酯、四羟甲基甲烷四(甲基)丙烯酸酯、二季戊四醇五(甲基)丙烯酸酯、二季戊四醇六(甲基)丙烯酸酯等使α,β-不饱和羧酸与多元醇反应而获得的化合物；三羟甲基丙烷三缩水甘油基醚三丙烯酸酯等在含缩水甘油基的化合物上加成α,β-不饱和羧酸而获得的化合物。
(B)成分优选含有上述中的具有至少3个可聚合的烯键式不饱和基团的多官能乙烯基单体。进而，从抑制电极腐蚀以及显影容易性的观点出发，优选含有选自具有来自季戊四醇的骨架的(甲基)丙烯酸酯化合物、具有来自二季戊四醇的骨架的(甲基)丙烯酸酯化合物以及具有来自三羟甲基丙烷的骨架的(甲基)丙烯酸酯化合物中的至少1种，更优选含有选自具有来自二季戊四醇的骨架的(甲基)丙烯酸酯化合物以及具有来自三羟甲基丙烷的骨架的(甲基)丙烯酸酯化合物中的至少1种。
这里，上述具有来自二季戊四醇的骨架的(甲基)丙烯酸酯是指二季戊四醇与(甲基)丙烯酸的酯化物，该酯化物中还包含用氧化烯基改性了的化合物。上述的酯化物优选一分子中的酯键的数目为6，但也可以混合酯键的数目为1～5的化合物。
另外，上述具有来自三羟甲基丙烷的骨架的(甲基)丙烯酸酯化合物是指三羟甲基丙烷与(甲基)丙烯酸的酯化物，该酯化物中还包含用氧化烯基改性了的化合物。上述的酯化物优选一分子中的酯键的数目为3，但也可以混合酯键的数目为1～2的化合物。
上述具有至少3个可聚合的烯键式不饱和基团的多官能乙烯基单体中，从使电极腐蚀的抑制力以及显影容易性进一步提高的观点出发，优选含有选自环氧烷烃改性三羟甲基丙烷(甲基)丙烯酸酯化合物、环氧烷烃改性四羟甲基甲烷(甲基)丙烯酸酯化合物、环氧烷烃改性季戊四醇(甲基)丙烯酸酯化合物、环氧烷烃改性二季戊四醇(甲基)丙烯酸酯化合物、环氧烷烃改性甘油(甲基)丙烯酸酯化合物以及环氧烷烃改性三羟甲基丙烷三缩水甘油基醚(甲基)丙烯酸酯中的至少1种化合物，更优选含有选自环氧烷烃改性二季戊四醇(甲基)丙烯酸酯化合物以及环氧烷烃改性三羟甲基丙烷(甲基)丙烯酸酯化合物中的至少1种化合物。
作为上述环氧烷烃改性四羟甲基甲烷(甲基)丙烯酸酯化合物，例如可以使用EO改性季戊四醇四丙烯酸酯。EO改性季戊四醇四丙烯酸酯可以作为RP-1040(日本化药株式会社制)获得。
上述的化合物可以单独使用1种或者组合使用2种以上。
在将分子内具有至少3个可聚合的烯键式不饱和基团的多官能乙烯基单体与单官能乙烯基单体或二官能乙烯基单体组合使用时，对使用的比例没有特别限制，但从获得光固化性以及电极腐蚀的抑制力的观点出发，分子内具有至少3个可聚合的烯键式不饱和基团的多官能乙烯基单体的比例优选相对于感光性树脂组合物中所含的光聚合性化合物的合计量100质量份为30质量份以上、更优选为50质量份以上、进一步优选为75质量份以上。
本实施方式的感光性树脂组合物中的(A)成分以及(B)成分的含量相对于(A)成分以及(B)成分的合计量100质量份分别是：优选(A)成分为40～80质量份、(B)成分为20～60质量份，更优选(A)成分为50～70质量份、(B)成分为30～50质量份，进一步优选(A)成分为55～65质量份、(B)成分为35～45质量份。
通过使(A)成分以及(B)成分的含量在上述范围内，可以充分确保涂布性或感光性元件中的膜性、并且获得充分的感度，可以充分地确保光固化性、显影性以及电极腐蚀的抑制力。
作为(C)成分的光聚合引发剂，例如可以举出二苯甲酮、N,N,N’,N’-四甲基-4,4’-二氨基二苯甲酮(米氏酮)、N,N,N’,N’-四乙基-4,4’-二氨基二苯甲酮、4-甲氧基-4’-二甲基氨基二苯甲酮、2-苄基-2-二甲基氨基-1-(4-吗啉代苯基)-丁酮-1、2-甲基-1-[4-(甲基硫代)苯基]-2-吗啉代-丙酮-1等芳香族酮；苯偶姻甲基醚、苯偶姻乙基醚、苯偶姻苯基醚等苯偶姻醚化合物；苯偶姻、甲基苯偶姻、乙基苯偶姻等苯偶姻化合物；1,2-辛二酮,1-[4-(苯基硫代)苯基-,2-(O-苯甲酰基肟)]、乙酮,1-[9-乙基-6-(2-甲基苯甲酰基)-9H-咔唑-3-基]-,1-(O-乙酰基肟)等肟酯化合物；苄基二甲基缩酮等苄基衍生物；9-苯基吖啶、1,7-双(9,9’-吖啶基)庚烷等吖啶衍生物；N-苯基甘氨酸等N-苯基甘氨酸衍生物；香豆素化合物；噁唑化合物；2,4,6-三甲基苯甲酰基-二苯基-膦氧化物等膦氧化物化合物。
其中，从所形成的保护膜的透明性以及使膜厚为10μm以下时的图案形成能力出发，优选肟酯化合物和/或膦氧化物化合物。
从触摸面板的视觉辨认性或美观性的观点出发，保护膜的透明性优选更高，但本发明人们发现了，在将透明性高的薄膜的感光层进行布图时有分辨率降低的倾向。对于其原因，本发明人们认为这是因为，如果感光层的厚度变小，则容易受到来自基材的光散射的影响，产生光晕。与此相对，在含有上述化合物作为(C)成分时，即使在将透明性高的薄膜的感光层进行布图时，也可以以充分的析像度形成图案。
本发明人们推测获得上述效果的理由是由于肟酯化合物中所含的肟部位或者膦氧化物化合物中所含的膦氧化物部位具有比较高的光分解效率且具有一点点的漏光不会发生分解的适度阈值、因此由漏光产生的影响得到了抑制的结果。
作为肟酯化合物，可以举出下述通式(C-1)以及通式(C-2)所示的化合物，从速固化性、透明性的观点出发，优选下述通式(C-1)所示的化合物。
上述通式(C-1)中，R1表示碳数为1～12的烷基或者碳数为3～20的环烷基。另外，只要不损害本发明的效果，则也可以在上述通式(C-1)中的芳香环上具有取代基。
上述通式(C-1)中，R1优选是碳数为3～10的烷基或者碳数为4～15的环烷基，更优选是碳数为4～8的烷基或者碳数为4～10的环烷基。
上述通式(C-2)中，R2表示氢原子或者碳数为1～12的烷基，R3表示碳数为1～12的烷基或者碳数为3～20的环烷基，R4表示碳数为1～12的烷基，R5表示碳数为1～20的烷基或者芳基。p1表示0～3的整数。此外，p1为2以上时，多个存在的R4可以彼此相同或不同。此外，咔唑上在不损害本发明效果的范围内可以具有取代基。
上述通式(C-2)中，R2优选是碳数为1～8的烷基、更优选是碳数为1～4的烷基、进一步优选为乙基。
上述通式(C-2)中，R3优选是碳数为1～8的烷基或者碳数为4～15的环烷基、更优选是碳数为1～4的烷基或者碳数为4～10的环烷基。
作为上述通式(C-1)所示的化合物，可以举出1,2-辛二酮,1-[4-(苯基硫代)苯基-,2-(O-苯甲酰基肟)]等。作为上述通式(C-2)所示的化合物，可以举出乙酮,1-[9-乙基-6-(2-甲基苯甲酰基)-9H-咔唑-3-基]-,1-(O-乙酰基肟)等。1,2-辛二酮,1-[4-(苯基硫代)苯基-,2-(O-苯甲酰基肟)]可以作为IRGACURE OXE 01(BASF株式会社制、商品名)获得。另外，乙酮,1-[9-乙基-6-(2-甲基苯甲酰基)-9H-咔唑-3-基]-,1-(O-乙酰基肟)可以作为IRGACURE OXE 02(BASF株式会社制、商品名)从商业途径获得。它们可以单独使用或者组合使用2种以上。
上述通式(C-1)中，特别是及其优选1,2-辛二酮,1-[4-(苯基硫代)苯基-,2-(O-苯甲酰基肟)]。上述通式(C-2)中，特别是极其优选乙酮,1-[9-乙基-6-(2-甲基苯甲酰基)-9H-咔唑-3-基]-,1-(O-乙酰基肟)。
作为上述膦氧化物化合物，可以举出下述通式(C-3)以及通式(C-4)所示的化合物。从速固化性、透明性的观点出发，优选下述通式(C-3)所示的化合物。
上述通式(C-3)中，R6、R7以及R8各自独立地表示碳数为1～20的烷基或者芳基。通式(C-4)中，R9、R10以及R11各自独立地表示碳数为1～20的烷基或者芳基。
上述通式(C-3)中的R6、R7或者R8是碳数为1～20的烷基时、以及上述通式(C-4)中的R9、R10或者R11是碳数为1～20的烷基时，该烷基可以是直链状、支链状以及环状中的任一种，另外，该烷基的碳数更优选为5～10。
上述通式(C-3)中的R6、R7或者R8为芳基时、以及上述通式(C-4)中的R9、R10或者R11为芳基时，该芳基也可以具有取代基。作为该取代基，例如可举出碳数为1～6的烷基以及碳数为1～4的烷氧基。
其中，上述通式(C-3)优选R6、R7以及R8为芳基。另外，上述通式(C-4)优选R9、R10以及R11为芳基。
作为上述通式(C-3)所示的化合物，从所形成的保护膜的透明性以及使膜厚为10μm以下时的图案形成能力出发，优选2,4,6-三甲基苯甲酰基-二苯基-膦氧化物。2,4,6-三甲基苯甲酰基-二苯基-膦氧化物例如可以作为LUCIRIN TPO(BASF株式会社社制、商品名)从商业途径获得。
作为(C)成分的光聚合引发剂的含量相对于(A)成分以及(B)成分的合计量100质量份优选为0.1～20质量份、更优选为1～10质量份、进一步优选为2～5质量份。
通过使(C)成分的含量在上述范围内，光感度变得充分、并且可以抑制照射活性光线时组合物表面上的吸收增加而使内部的光固化变得不充分或可见光透射率降低等不良情况。
本实施方式的感光性树脂组合物从抑制想要除去的金属表面的显影残余的产生的方面出发，优选进一步含有选自具有巯基的***化合物、具有巯基的四唑化合物、具有巯基的噻二唑化合物、具有氨基的***化合物以及具有氨基的四唑化合物中的一种以上的化合物(以下也称为(D)成分)。
作为具有巯基的***化合物，例如可以举出3-巯基-***(和光纯药株式会社制、商品名：3MT)。作为具有巯基的四唑化合物，例如可以举出1-甲基-5-巯基-1H-四唑(东洋纺织株式会社制、商品名：MMT)。另外，作为具有巯基的噻二唑化合物，例如可以举出2-氨基-5-巯基-1,3,4-噻二唑(和光纯药株式会社制、商品名：ATT)。
作为上述具有氨基的***化合物，可以举出苯并***、1H-苯并***-1-乙腈、苯并***-5-羧酸、1H-苯并***-1-甲醇、羧基苯并***等上经氨基取代的化合物、3-巯基***、5-巯基***等含巯基的***化合物上经氨基取代的化合物。
其中，从可以进一步减少显影残渣的观点出发，优选含有含巯基的***化合物上经氨基取代的化合物。具体地例如可举出3-氨基-5-巯基***(BASF株式会社公司制、商品名：AMT)。
作为上述具有氨基的四唑化合物，可以举出下述通式(D-1)所示的化合物。
上述通式(D-1)中的R11及R12各自独立地表示氢、碳数为1～20的烷基、氨基、巯基或者羧基甲基，R11以及R12中的至少一个具有氨基。
作为烷基，可以举出甲基、乙基、丙基等。
上述通式(D-1)所示的四唑化合物中，优选5-氨基-1H-四唑、1-甲基-5-氨基-四唑、1-羧基甲基-5-氨基-四唑。
作为(D)成分，可以使用上述通式(D-1)所示的四唑化合物的水溶性盐。作为具体例，可以举出1-甲基-5-氨基-四唑的钠、钾、锂等碱金属盐等。
这些四唑化合物及其水溶性盐可以单独使用1种，也可以组合使用2种以上。
作为(D)成分，上述物质中，从电极腐蚀的抑制力、与金属电极的密合性、显影容易性、透明性的观点出发，特别优选5-氨基-1H-四唑、1-甲基-5-巯基-1H-四唑。
另外，从进一步提高要设置保护膜的电极表面具有铜、铜合金、镍合金等金属时的显影性的观点出发，感光性树脂组合物优选进一步含有上述化合物中的特别是具有氨基的四唑化合物或者含巯基的***化合物上经氨基取代的化合物。此时，可以减少显影残渣，以良好的图案形成保护膜变得容易。作为其理由，可以认为是体现出了表面的适度密合性。
含有具有氨基的四唑化合物或者含巯基的***化合物上经氨基取代的化合物时，从可获得上述效果的方面出发，本发明的感光性树脂组合物以及感光性元件适合于用于保护形成铜等金属层以提高了导电性的触摸面板的边框区域上的电极的保护膜的形成。
本实施方式的感光性树脂组合物中的(D)成分的含量相对于(A)成分以及(B)成分的合计量100质量份优选为0.05～10.0质量份、更优选为0.1～2.0质量份、进一步优选为0.2～1.0质量份。
通过使(D)成分的含量在上述范围内，可以抑制显影性或析像度降低等不良情况、并且充分地获得提高电极腐蚀的抑制力或与金属电极的密合性的效果。
但是，在触摸面板的ITO电极上的一部分上设置保护膜时，例如在传感区域不形成保护膜、而在边框区域的ITO电极以及在ITO电极上形成了铜等金属层的部分上设置保护膜时，可以在整体上设置感光层后照射活性光线以进行显影而除去不需要的部分。此时，感光层要求充分具有对所保护的电极的密合性、并且在不需要的部分上不产生显影残余那样良好的显影性。从兼顾这时的密合性和显影性的观点出发，本实施方式的感光性树脂组合物优选含有包含光聚合性不饱和键的磷酸酯(以下也称为(E)成分)。
作为(E)成分的包含光聚合性不饱和键的磷酸酯，从充分确保所形成的保护膜的防锈性、并且以高的水准兼顾对ITO电极的密合性和显影性的观点出发，优选使用具有下述结构的化合物。该化合物可以获得PM21(日本化药株式会社制)等市售品。
此外，磷酸酯的含量优选按照实施方式的感光性树脂组合物的羟值达到40mgKOH/g以下的方式来进行调整。
本实施方式的感光性树脂组合物中，除了上述成分以外，还可以根据需要含有相对于(A)成分以及(B)成分的合计量100质量份各自为0.01～20质量份左右的硅烷偶联剂等密合性赋予剂、流平剂、增塑剂、填充剂、消泡剂、阻燃剂、稳定剂、抗氧化剂、香料、热交联剂、阻聚剂等。它们可以单独使用或组合使用2种以上。
本实施方式的感光性树脂组合物优选400～700nm下的可见光透射率的最小值为90％以上、更优选为92％以上、进一步优选为95％以上。
这里，感光性树脂组合物的可见光透射率如下求得。首先，在支撑膜上按照干燥后的厚度达到10μm以下的方式涂布含有感光性树脂组合物的涂布液，通过将其干燥，形成感光性树脂组合物层。接着，按照感光性树脂组合物层与玻璃基板接触的方式使用层压机进行层压。这样，获得在玻璃基板上层叠有感光性树脂组合物层以及支撑膜的测定用试样。接着，对所得的测定用试样照射紫外线，将感光性树脂组合物层光固化后，使用紫外可见分光光度计对测定波长区域400～700nm下的透射率进行测定。
如果在通常的可见光波长区域的光线即400～700nm的波长区域下的透射率为90％以上，则例如在保护触摸面板(触摸传感器)的传感区域的透明电极时、或者在保护触摸面板(触摸传感器)的边框区域的金属层(例如ITO电极上形成了铜层的层等)时从传感区域的端部可见保护膜时，可以充分抑制传感区域上的画像显示品质、色调、亮度的降低。
本实施方式的感光性树脂组合物可以用于在具有触摸面板用电极的基材上形成感光层。例如可以制备能使感光性树脂组合物均匀地溶解或分散于溶剂中获得的涂布液，通过将其涂布在基材上而形成涂膜，通过干燥除去溶剂而形成感光层。
作为溶剂，从各成分的溶解性、涂膜形成的容易性等方面出发，可以使用酮、芳香族烃、醇、二醇醚、二醇烷基醚、二醇烷基醚醋酸酯、酯、二乙二醇、氯仿、二氯甲烷等。这些溶剂可以单独使用1种，也可以制成由2种以上的溶剂构成的混合溶剂来使用。
上述溶剂中，优选使用二乙二醇二甲基醚、二乙二醇乙基甲基醚、二乙二醇二***、丙二醇单甲基醚、乙二醇单丁基醚醋酸酯、二乙二醇单乙基醚醋酸酯、丙二醇单甲基醚醋酸酯等。
本实施方式的感光性树脂组合物优选像感光性元件那样制成感光性膜来使用。通过将感光性膜层叠在具有触摸面板用电极的基材上，可以容易地实现卷对卷工艺、可以缩短溶剂干燥工序等对制造工序的短缩和成本降低作出大的贡献。
感光性元件1的感光层20可以通过制备含有本实施方式的感光性树脂组合物的涂布液、将其涂布在支撑膜10上并进行干燥来形成。涂布液可以通过将上述的构成本实施方式的感光性树脂组合物的各成分均匀地溶解或分散在溶剂中来获得。
作为溶剂，没有特别限制，可以使用公知的溶剂，例如可以举出丙酮、甲乙酮、甲基异丁基酮、甲苯、甲醇、乙醇、丙醇、丁醇、甲二醇、乙二醇、丙二醇、乙二醇单甲基醚、乙二醇单乙基醚、二乙二醇二甲基醚、二乙二醇乙基甲基醚、二乙二醇二***、丙二醇单甲基醚、乙二醇单丁基醚醋酸酯、二乙二醇单乙基醚醋酸酯、丙二醇单甲基醚醋酸酯、氯仿、二氯甲烷。这些溶剂可以单独使用1种，也可以制成由2种以上的溶剂构成的混合溶剂来使用。
作为涂布方法，例如可以举出刮刀涂布法、线棒涂布法、辊涂布、丝网涂布法、旋涂法、喷墨涂布法、喷涂法、浸涂法、凹版涂布法、帘涂法、模涂法。
对干燥条件没有特别限制，干燥温度优选设为60～130℃，干燥时间优选设为30秒～30分钟。
为了发挥对电极保护的充分效果、且尽可能减小由局部的电极保护膜形成所产生的触摸面板(触摸传感器)表面的高度差，感光层20的厚度以干燥后的厚度计优选为1μm以上且10μm以下，更优选为1μm以上且9μm以下，进一步优选为1μm以上且8μm以下，更进一步优选为2μm以上且8μm以下，特别优选为3μm以上且8μm以下。
本实施方式的感光性元件1中，感光层20的可见光透射率的最小值优选为90％以上、更优选为92％以上、进一步优选为95％以上。
关于感光层20的粘度，在将感光性元件制成卷状时，从防止感光性树脂组合物从感光性元件的端面渗出达1个月以上的方面以及防止在将感光性元件切断时由于感光性树脂组合物的碎片附着于基板所引起的照射活性光线时的曝光不良或显影残余等的方面出发，在30℃下优选为15～100mPa·s、更优选为20～90mPa·s、进一步优选为25～80mPa·s。
另外，上述的粘度是如下得到的值：将由感光性树脂组合物形成的直径为7mm、厚度为2mm的圆形膜作为测定用试样，测定沿该试样的厚度方向、在30℃以及80℃下施加1.96×10-2N的负荷时的厚度的变化速度，由该变化速度假定牛顿流体而换算成粘度。
作为保护膜30(覆膜)，例如可以举出由聚乙烯、聚丙烯、聚对苯二甲酸乙二醇酯、聚碳酸酯、聚乙烯-醋酸乙烯酯共聚物以及聚乙烯-醋酸乙烯酯共聚物与聚乙烯的层叠膜等构成的膜。
保护膜30的厚度优选为5～100μm左右，但从卷成卷状进行保管的观点出发，优选为70μm以下、更优选为60μm以下、进一步优选为50μm以下、特别优选为40μm以下。
感光性元件1可以卷成卷状来进行保管、使用。
本发明中，还可以将含有前述的本实施方式的感光性树脂组合物以及溶剂的涂布液涂布在具有触摸面板用电极的基材上并进行干燥来设置由感光性树脂组合物构成的感光层。在该用途时，感光层也优选满足对上述的感光性元件1的感光层20设定的膜厚、可见光透射率的条件。
下面，对本发明的触摸面板用电极的保护膜的形成方法进行说明。图2是用于说明本发明的触摸面板用电极的保护膜的形成方法的一个实施方式的示意截面图。
本实施方式的触摸面板用电极的保护膜22的形成方法具备：在具有触摸面板用电极110及120的基材100上设置由上述的本发明的感光性树脂组合物构成的感光层20的第1工序；通过活性光线照射使感光层20的规定部分固化的第2工序；以及在活性光线的照射后除去感光层20的规定部分以外的部分、形成覆盖电极的一部分或全部的由感光层的规定部分的固化物构成的保护膜22的第3工序。这样，可以获得作为触摸输入片材的带有保护膜的触摸面板(触摸传感器)200。
作为本实施方式中使用的基材100，可以举出通常作为触摸面板(触摸传感器)用使用的玻璃板、塑料板、陶瓷板等基板。在该基板上设置作为要形成保护膜的对象的触摸面板用电极。作为电极，可以举出ITO、Cu、Al、Mo等电极、TFT等。另外，在基板上还可以在基板与电极之间设置有绝缘层。
图2所示的具有触摸面板用电极110及120的基材100例如可以按照以下步骤获得。在PET膜等基材上按照ITO、Cu的顺序通过溅射形成金属膜后，在金属膜上粘贴蚀刻用感光性膜，形成所希望的抗蚀图案，将不需要的Cu用氯化铁水溶液等蚀刻液除去后，剥离除去抗蚀图案。
本实施方式的第1工序中，将本实施方式的感光性元件1的保护膜30除去后，一边加热感光性元件1，一边将感光层20压接在基材100的设有触摸面板用电极110及120的表面上，由此进行转印、层叠(参照图2的(a))。
作为压接手段，可以举出压接辊。压接辊还可以具备加热手段以能够实施加热压接。
为了充分确保感光层20与基材100的密合性、以及感光层20与触摸面板用电极110及120的密合性、并且使感光层20的构成成分难以发生热固化或热裂解，加热压接时的加热温度优选设为10～180℃、更优选设为20～160℃、进一步优选设为30～150℃。
另外，加热压接时的压接压力从充分确保感光层20与基材100的密合性、并且抑制基材100的变形的观点出发，以线压计优选设为50～1×105N/m、更优选设为2.5×102～5×104N/m、进一步优选设为5×102～4×104N/m。
如果将感光性元件1如上述那样进行加热，则无需对基材100进行预热处理，但从进一步提高感光层20与基材100的密合性的方面出发，优选将基材100进行预热处理。此时的预热温度优选设为30～180℃。
对于本实施方式，可以不使用感光性元件1而如下形成感光层20：制备含有本实施方式的感光性树脂组合物以及溶剂的涂布液，将其涂布在基材100的设有触摸面板用电极110及120的表面上并进行干燥，从而形成感光层20。
本实施方式的第2工序中，对感光层20的规定部分隔着光掩模130以图案状照射活性光线L(参照图2的(b))。
照射活性光线时，在感光层20上的支撑膜10为透明时，可以直接照射活性光线，在该支撑膜10为不透明时将其除去后照射活性光线。从感光层20的保护的方面出发，优选使用透明的聚合物膜作为支撑膜10、在残留该聚合物膜的情况下透过其照射活性光线。
作为活性光线L的照射中使用的光源，可以使用公知的活性光源，例如可以举出碳弧灯、超高压汞灯、高压汞灯、氙灯，只要是有效放射紫外线的光源，则没有特别限制。
此时的活性光线L的照射量通常为1×102～1×104J/m2，照射时也可以伴有加热。该活性光线照射量低于1×102J/m2时，有光固化的效果变得不充分的倾向，超过1×104J/m2时，有感光层20变色的倾向。
本实施方式的第3工序中，将活性光线照射后的感光层20用显影液进行显影，除去未被照射活性光线的部分(即感光层的规定部分以外的部分)，形成覆盖电极的一部分或全部的由本发明的感光层的规定部分的固化物构成的保护膜22(参照图2的(c))。所形成的保护膜22可以具有规定的图案。
此外，活性光线照射后，在感光层20上层叠有支撑膜10时将其除去后利用显影液进行除去未被照射活性光线的部分的显影。
作为显影方法，可以举出使用碱水溶液、水系显影液、有机溶剂等公知的显影液、通过喷雾、淋浴、摇动浸渍、刷洗、擦洗等公知的方法进行显影以除去不需要的部分的方法等，其中，从环境、安全性的观点出发，优选使用碱水溶液。
碱水溶液之中，优选使用碳酸钠的水溶液。例如优选使用20～50℃的碳酸钠的稀溶液(0.5～5质量％水溶液)。
显影温度以及时间可以根据本实施方式的感光性树脂组合物的显影性进行调整。
另外，碱水溶液中可以混入表面活性剂、消泡剂、用于促进显影的少量有机溶剂等。
另外，显影后，可以将光固化后的感光层20上残存的碱水溶液的碱利用有机酸、无机酸或者这些酸的水溶液、通过喷雾、摇动浸渍、刷洗、擦洗等公知方法进行酸处理(中和处理)。还可以进一步在酸处理(中和处理)后进行实施水洗的工序。
显影后，根据需要可以通过活性光线的照射(例如5×103～2×104J/m2)使固化物进一步固化。此外，本实施方式的感光性树脂组合物在没有显影后的加热工序的情况下也会显示出对金属的优异密合性，但也可以根据需要代替显影后的活性光线的照射而实施加热处理(80～250℃)、或者与活性光线照射一起实施加热处理(80～250℃)。
如上所述，本实施方式的感光性树脂组合物以及感光性元件优选用于形成触摸面板用电极的保护膜。关于感光性树脂组合物的上述用途，可以使用与溶剂混合而成的涂布液来形成保护膜。
另外，本发明可以提供含有本发明的感光性树脂组合物的触摸面板用电极的保护膜的形成材料。该触摸面板用电极的保护膜形成材料可以含有上述的本实施方式的感光性树脂组合物，优选是进一步含有上述溶剂的涂布液。
接着，使用图3、图4以及图5来说明本发明的保护膜的使用位置的一例。图3为表示静电电容式的触摸面板的一例的示意俯视图。图3所示的触摸面板在透明基板101的单面上具有用于检测触摸位置坐标的触摸画面102，用于检测该区域的静电电容变化的透明电极103以及透明电极104设置在透明基板101上。透明电极103以及透明电极104分别检测触摸位置的X位置坐标以及Y位置坐标。
透明基板101上设有用于将触摸位置的检测信号从透明电极103及透明电极104传送到外部电路的引出配线105。另外，引出配线105与透明电极103及透明电极104通过设置在透明电极103及透明电极104上的连接电极106连接。另外，在引出配线105的与透明电极103及透明电极104的连接部的相反侧的端部上设有与外部电路连接的连接端子107。本实施方式的感光性树脂组合物可以优选用于形成引出配线105、连接电极106以及连接端子107的保护膜122。此时，还可以同时保护位于传感区域(触摸画面102)的电极。图3中，通过保护膜122保护引出配线105、连接电极106、传感区域的一部分电极以及连接端子107的一部分，但也可以适当变更设置保护膜的位置。例如如图4所示，可以按照保护整个触摸画面102的方式来设置保护膜123。
使用图5来说明图3所示的触摸面板中透明电极与引出配线的连接部的截面结构。图5是图3所示的C部分的沿V-V线的部分截面图，是用于说明透明电极104与引出配线105的连接部的图。如图5(a)所示，透明电极104与引出配线105介由连接电极106电连接。如图5(a)所示，透明电极104的一部分、以及引出配线105和连接电极106的全部被保护膜122覆盖。同样地，透明电极103与引出配线105介由连接电极106电连接。本实施方式的感光性树脂组合物以及感光性元件优选用于形成上述的连接结构的保护膜。
对本实施方式的触摸面板的制造方法进行说明。首先，在设于基材100上的透明电极101上形成透明电极(X位置坐标)103。接着，形成透明电极(Y位置坐标)104。透明电极103以及透明电极104的形成可以使用将形成在基材100上的透明电极层进行蚀刻的方法等。
接着，在透明基板101的表面上形成用于与外部电路连接的引出配线105、连接该引出配线与透明电极103及透明电极104的连接电极106。引出配线105以及连接电极106可以在形成透明电极103及透明电极104之后形成，也可以在各透明电极形成时同时地形成。引出配线105以及连接电极106的形成可以在金属溅射后使用蚀刻法等。引出配线105例如可以使用含有片状的银的导电糊剂材料、利用丝网印刷法在形成连接电极106的同时来形成。接着，形成用于连接引出配线105与外部电路的连接端子107。
按照覆盖通过上述工序形成的透明电极103及透明电极104、引出配线105、连接电极106以及连接端子107的方式压接本实施方式的感光性元件1，在上述电极上设置感光层20。接着，对转印来的感光层20以所希望的形状隔着光掩模以图案状照射活性光线L。照射活性光线L后进行显影，除去感光层20的规定部分以外的部分，由此形成由感光层20的规定部分的固化物构成的保护膜122。这样，可以制造具备保护膜122的触摸面板。
实施例
以下举出实施例来对本发明进一步具体地说明。但本发明并不限于以下的实施例。
[粘合剂聚合物溶液(A1)的制作]
在具备搅拌器、回流冷却机、不活泼性气体导入口以及温度计的烧瓶内装入表1所示的(1)，在氮气气氛下升温至80℃，在将反应温度保持在80℃±2℃的同时用4小时的时间均匀地滴加表1所示的(2)。滴加(2)后在80℃±2℃下持续搅拌6小时，获得重均分子量为约65,000、羟值为2mgKOH/g、酸值为78mgKOH/g的粘合剂聚合物的溶液(固体成分为45质量％)(A1)。
[粘合剂聚合物溶液(A2)～(A4)以及(A6)～(A8)的制作]
按照表1以及表2所示的组成，与上述(A1)同样地获得粘合剂聚合物溶液(A2)～(A4)以及(A6)～(A8)。将结果示于表1以及表2。
[粘合剂聚合物溶液(A5)的准备]
准备MIS-115(下述化合物的丙二醇单甲基醚醋酸酯/乳酸甲酯溶液：使甲基丙烯酸12g、N-环己基马来酰亚胺11.1g、甲基丙烯酸双环戊二烯酯27.2g、甲基丙烯酸2-羟基乙酯31.1g反应，使2-异氰酸酯甲基丙烯酸乙酯18.6g与上述反应获得的共聚物反应而获得的化合物)，将其作为粘合剂聚合物溶液(A5)。其重均分子量为约26,000、羟值为80.2mgKOH/g、酸值为55mgKOH/g。
表1
*1：MIS-115。
表2
此外，重均分子量(Mw)通过利用凝胶渗透色谱法(GPC)进行测定、使用标准聚苯乙烯的标准曲线进行换算而导出。以下示出GPC的条件。
GPC条件
泵：日立L-6000型(株式会社日立制作所制、产品名)
色谱柱：Gelpack GL-R420、Gelpack GL-R430、Gelpack GL-R440(以上为日立化成工业株式会社制、产品名)
洗脱液：四氢呋喃
测定温度：40℃
流量：2.05mL/分钟
检测器：日立L-3300型RI(株式会社日立制作所制、产品名)
[酸值的测定方法]
酸值如下测定。首先，将粘合剂聚合物溶液在130℃下加热1小时，除去挥发成分，获得固体成分。然后，精密称取要测定酸值的聚合物1g后，将精密称取的聚合物放入三角烧瓶中，在该聚合物中添加丙酮30g，将其均匀溶解。接着，在该溶液中适量添加作为指示剂的酚酞，使用0.1N的KOH水溶液进行滴定。然后，由下式算出酸值。
酸值＝0.1×Vf×56.1/(Wp×I/100)
式中，Vf表示KOH水溶液的滴定量(mL)，Wp表示测得的树脂溶液的重量(g)，I表示测得的树脂溶液中的不挥发成分的比例(质量％)。
[羟值的测定方法]
羟值如下测定。首先，将粘合剂聚合物的溶液在130℃下加热1小时，除去挥发成分，获得固体成分。然后，精密称取要测定羟值的聚合物1g后，将精密称取的感光性树脂组合物放入三角烧瓶中，添加10质量％的醋酸酐吡啶溶液10mL，将其均匀溶解，在100℃下加热1小时。加热后，加入水10mL和吡啶10mL，在100℃下加热10分钟后，使用自动滴定机(平沼产业株式会社制“COM-1700”)，利用0.5mol/L的氢氧化钾的乙醇溶液进行中和滴定。然后，由下式算出羟值。
羟值＝(A-B)×f×28.05/试样(g)+酸值
式中，A表示空白试验中使用的0.5mol/L氢氧化钾乙醇溶液的量(mL)，B表示滴定中使用的0.5mol/L氢氧化钾乙醇溶液的量(mL)，f表示因数。
另外，下述中使用的光聚合性化合物的羟值也利用与上述相同的手法测定。
(实施例1)
[含有感光性树脂组合物的涂布液的制作]
将表3所示的材料使用搅拌器混合15分钟，制作含有溶剂和实施例1的感光性树脂组合物的涂布液。
[感光性树脂组合物的羟值的测定]
将制作的涂布液在130℃下加热1小时以除去溶剂后，精密称取1g。将精密称取的感光性树脂组合物放入三角烧瓶中，加入10质量％的醋酸酐吡啶溶液10mL，将其均匀溶解，在100℃下加热1小时。加热后加入水10mL和吡啶10mL，在100℃下加热10分钟后，使用自动滴定机(平沼产业株式会社制“COM-1700”)，利用0.5mol/L的氢氧化钾的乙醇溶液进行中和滴定，由此测定了羟值。
[感光性元件的制作]
作为支撑膜，使用厚度为50μm的聚对苯二甲酸乙二醇酯膜，将上述制作的含有感光性树脂组合物以及溶剂的涂布液利用缺角轮涂布机均匀地涂布在支撑膜上，用100℃的热风对流式干燥机干燥3分钟以除去溶剂，形成由感光性树脂组合物构成的感光层(感光性树脂组合物层)。所得感光层的厚度为5μm。
接着，在所得的感光层上进一步贴合25μm厚度的聚乙烯膜作为覆膜，制作了用于形成保护膜的感光性元件。
[保护膜的透射率的测定]
一边剥离所得感光性元件的聚乙烯膜，一边按照感光层与厚度为1mm的玻璃基板接触的方式使用层压机(日立化成工业株式会社制、商品名HLM-3000型)、在辊温度为120℃、基板传送速度为1m/分钟、压接压力(滚筒压力)为4×105Pa(由于使用了厚度为1mm、长10cm×宽10cm的基板，因此此时的线压为9.8×103N/m)的条件下进行层压，制作了在玻璃基板上层叠有感光层以及支撑膜的层叠体。
接着，对所得层叠体的感光层用平行光线曝光机(Orc制作所株式会社制、EXM1201)由感光层侧上方以曝光量5×102J/m2(i线(波长为365nm)下的测定值)照射紫外线后，除去支撑膜，获得具有由厚度为5.0μm的感光层的固化物构成的保护膜的透射率测定用试样。
接着，将所得的试样用分光光度计U-3310(株式会社日立制作所制)在测定波长区域400～700nm下测定可见光透射率。所得保护膜在400～700nm下的透射率的最小值为94％，确保了良好的透射率。
[保护膜的盐水喷雾试验(人工汗液耐受性评价试验)]
一边剥离所得感光性元件的聚乙烯膜，一边按照感光层与带有溅射铜的聚酰亚胺膜(Toray Film加工株式会社制)接触的方式使用层压机(日立化成工业株式会社制、商品名HLM-3000型)、在辊温度为120℃、基板传送速度为1m/分钟、压接压力(滚筒压力)为4×105Pa(由于使用了厚度为1mm、长10cm×宽10cm的基板，因此此时的线压为9.8×103N/m)的条件下进行层压，制作了在溅射铜上层叠有感光层以及支撑膜的层叠体。
接着，对所得层叠体的感光层使用平行光线曝光机(Orc制作所株式会社制、EXM1201)由感光侧上方以曝光量5×102J/m2(i线(波长为365nm)下的测定值)照射紫外线后，除去支撑膜，再由感光层侧上方以曝光量1×104J/m2(i线(波长为365nm)下的测定值)照射紫外线，获得具有由厚度为5.0μm的感光层的固化物构成的保护膜的人工汗液耐受性评价用试样。
接着，以JIS标准(Z 2371)为参考，使用盐水喷雾试验机(Suga试验机株式会社制STP-90V2)，在试验槽内放置前述的试样，将浓度为50g/L的盐水(pH＝6.7)在试验槽温度为35℃下以1.5mL/小时的喷雾量喷雾48小时。喷雾结束后，擦去盐水，观察评价用试样的表面状态，按照以下的评分进行评价。
A：保护膜表面上完全没有变化。
B：保护膜表面上可见极少的痕迹，但铜无变化。
C：保护膜表面上可见痕迹，但铜无变化。
D：保护膜表面上有痕迹，且铜发生变色。
观察评价用试样的表面状态，结果是保护膜表面上可见极少的痕迹但铜无变化，评价为B。
[感光层的显影残渣试验]
一边剥离所得感光性元件的作为覆膜的聚乙烯膜，一边按照感光层与带有溅射铜的聚酰亚胺膜(Toray Film加工株式会社制)接触的方式使用层压机(日立化成工业株式会社制、商品名HLM-3000型)、在辊温度为120℃、基板传送速度为1m/分钟、压接压力(滚筒压力)为4×105Pa(由于使用了厚度为1mm、长10cm×宽10cm的基板，因此此时的线压为9.8×103N/m)的条件下进行层压，制作了在溅射铜上层叠有感光层以及支撑膜的层叠体。
将上述获得的层叠体在制作后在温度为23℃、湿度为60％的条件下保管24小时后，使用活性光线透过部和活性光线遮光部交替布图而成的线/间距为300μm/300μm的光掩模，在支撑膜上放置光掩模，使用平行光线曝光机(Orc制作所株式会社制、EXM1201)由光掩模面垂直上方以曝光量5×102J/m2(i线(波长为365nm)下的测定值)以图案状照射紫外线。
接着，除去感光层上层叠的支撑膜，使用1.0质量％碳酸钠水溶液，在30℃下喷雾显影40秒，选择性地除去感光层，形成保护膜图案。用显微镜观察所得的带有保护膜图案的基板的选择性地除去了感光层的部分的基材表面状态，按照以下的评分评价显影残渣。
A：基材表面上完全没有变化。
B：基材表面的铜有一点变色，但没有显影残渣。
C：基材表面的铜有一点变色，而且产生一点显影残渣。
D：产生显影残渣。
观察评价用试样的表面状态，结果是基材表面上完全没有变化，评价为A。
[保护膜的划格密合性试验]
一边剥离所得感光性元件的作为覆膜的聚乙烯膜，一边按照感光层与带有溅射铜的聚酰亚胺膜(Toray Film加工株式会社制)接触的方式使用层压机(日立化成工业株式会社制、商品名HLM-3000型)、在辊温度为120℃、基板传送速度为1m/分钟、压接压力(滚筒压力)为4×105Pa(由于使用了厚度为1mm、长10cm×宽10cm的基板，因此此时的线压为9.8×103N/m)的条件下进行层压，制作了溅射铜上层叠有感光层以及支撑膜的层叠体。
接着，对所得的层叠体的感光层使用平行光线曝光机(Orc制作所株式会社制、EXM1201)由感光层侧上方以曝光量5×102J/m2(i线(波长为365nm)下的测定值)照射紫外线后，除去支撑膜，再由感光层侧上方以曝光量1×104J/m2(i线(波长为365nm)下的测定值)照射紫外线，获得具有由厚度为5.0μm的感光层的固化物构成的保护膜的划格密合性试验用试样。
接着，以JIS标准(K5400)为参考，实施100格的划格试验。在试验面上使用切刀切出1×1mm见方的棋盘格的切口，对棋盘格部分用力压接隐形胶带(mending tape)#810(3M株式会社制)，将胶带的端部以大致0°的角度缓慢地揭下后，观察棋盘格的状态，按照以下的评分评价划格密合性。
A：全部面积的几乎100％密合。
B：全部面积中的95以上但小于100％密合，有残留。
B～C：全部面积中的85以上但小于95％密合，有残留。
C：全部面积中的65以上但小于85％密合，有残留。
C～D：全部面积中的35以上但小于65％密合，有残留。
D：全部面积中的0以上但小于35％密合，有残留。
观察评价用试样的棋盘格的状态，结果是溅射铜上全部面积中的95％以上密合而有残留的状态，评价为B。
(实施例2～20以及比较例1～12)
除了使用表3～表7(表中的数值的单位为质量份)所示的感光性树脂组合物以外，与实施例1同样地制作感光性元件，并进行了透射率的测定、盐水喷雾试验、显影残渣试验、划格密合性试验。如表8～12所示，实施例的透射率的测定、盐水喷雾耐受性评价、划格密合性中的任一种均为良好的结果。
表4
*2：表示除去了溶剂后的粘合剂聚合物的质量份。
表5
*2：表示除去了溶剂后的粘合剂聚合物的质量份。
表6
*2：表示除去了溶剂后的粘合剂聚合物的质量份。
表7
*2：表示除去了溶剂后的粘合剂聚合物的质量份。
(A)成分
(A1)：单体配合比为甲基丙烯酸/甲基丙烯酸甲酯/丙烯酸乙酯＝12/58/30(质量比)的共聚物的丙二醇单甲基醚/甲苯溶液、重均分子量为65,000、羟值为2mgKOH/g、酸值为78mgKOH/g
(A2)：单体配合比为甲基丙烯酸/甲基丙烯酸甲酯/丙烯酸乙酯＝17.5/52.5/30(质量比)的共聚物的丙二醇单甲基醚/甲苯溶液、重均分子量为80,000、羟值为1mgKOH/g、酸值为115mgKOH/g
(A3)：单体配合比为甲基丙烯酸/甲基丙烯酸甲酯/丙烯酸乙酯/甲基丙烯酸2-羟基乙酯＝12/48/30/10(质量比)的共聚物的丙二醇单甲基醚/甲苯溶液、重均分子量为45,000、羟值为43mgKOH/g、酸值为78mgKOH/g
(A4)：单体配合比为甲基丙烯酸/甲基丙烯酸甲酯/丙烯酸乙酯/甲基丙烯酸2-羟基乙酯＝12/28/30/30(质量比)的共聚物的丙二醇单甲基醚/甲苯溶液、重均分子量为47,000、羟值为129mgKOH/g、酸值为78mgKOH/g
(A5)：MIS-115(下述化合物的丙二醇单甲基醚醋酸酯/乳酸甲酯溶液：使甲基丙烯酸12g、N-环己基马来酰亚胺11.1g、甲基丙烯酸双环戊二烯酯27.2g、甲基丙烯酸2-羟基乙酯31.1g反应，使2-异氰酸酯甲基丙烯酸乙酯18.6g与上述反应获得的共聚物反应而获得的化合物)、重均分子量为26,000、羟值为80.2mgKOH/g、酸值为55mgKOH/g
(A6)：单体配合比为甲基丙烯酸/甲基丙烯酸甲酯/丙烯酸丁酯/甲基丙烯酸丁酯＝24/43.5/15/17.5(质量比)的共聚物的丙二醇单甲基醚/甲苯溶液、重均分子量为35,000、羟值为1mgKOH/g、酸值为156mgKOH/g
(A7)：单体配合比为甲基丙烯酸/甲基丙烯酸甲酯/甲基丙烯酸丁酯＝30/35/35(质量比)的共聚物的丙二醇单甲基醚/甲苯溶液、重均分子量为45,000、羟值为2mgKOH/g、酸值为195mgKOH/g
(A8)：单体配合比为甲基丙烯酸/甲基丙烯酸甲酯/丙烯酸乙酯＝24/46/30(质量比)的共聚物的丙二醇单甲基醚/甲苯溶液、重均分子量为45,000、羟值为1mgKOH/g、酸值为155mgKOH/g
(B)成分
DPHA：二季戊四醇六丙烯酸酯(日本化药株式会社制)、羟值为40mgKOH/g
TMPTA：三羟甲基丙烷三丙烯酸酯(日本化药株式会社制)、羟值为0mgKOH/g
A-9550：二季戊四醇聚丙烯酸酯(日本化药株式会社制)、羟值为40mgKOH/g
A-9570：二季戊四醇聚丙烯酸酯(日本化药株式会社制)、羟值为70mgKOH/g
PET-30：季戊四醇三丙烯酸酯(日本化药株式会社制)、羟值为110mgKOH/g
A-TMM-3：季戊四醇三丙烯酸酯(新中村化学工业株式会社制)、羟值为110mgKOH/g
A-TMM-3LM-N：季戊四醇三丙烯酸酯(新中村化学工业株式会社制)、羟值为114mgKOH/g
A-TMMT：季戊四醇四丙烯酸酯(新中村化学工业株式会社制)、羟值为0(mgKOH/g)
RP-1040：EO改性季戊四醇四丙烯酸酯(日本化药株式会社制)、羟值为0(mgKOH/g)
BPE-500：乙氧基化双酚A二甲基丙烯酸酯(新中村化学工业株式会社制)、羟值为0(mgKOH/g)
(C)成分
IRGACURE OXE 01：1,2-辛二酮,1-[(4-苯基硫代)苯基-,2-(O-苯甲酰基肟)](BASF株式会社制)
LUCIRIN TPO：2,4,6-三甲基苯甲酰基-二苯基-膦氧化物(BASF株式会社制)
IRGACURE 184：1-羟基-环己基-苯基-酮(BASF株式会社制)
IRGACURE 651：2,2-二甲氧基-1,2-二苯基乙烷-1-酮(BASF株式会社制)
N-1717：1,7-双(9-吖啶基)庚烷(株式会社ADEKA制)
EAB：4,4’-双(二乙基氨基)二苯甲酮(保土ヶ谷化学株式会社制)
(D)成分
AMT：3-氨基-5-巯基***(和光纯药株式会社制)
HAT：5-氨基-1H-四唑(东洋纺织株式会社制)
1HT：1H-四唑(东洋纺织株式会社制)
MMT：1-甲基-5-巯基-1H-四唑(东洋纺织株式会社制)
3MT：3-巯基-***(和光纯药株式会社制)
ATT：2-氨基-5-巯基-1,3,4-噻二唑(和光纯药株式会社制)
(E)成分
PM21：包含光聚合性不饱和键的磷酸酯(日本化药株式会社制)
其它成分
Antage W-500：2,2’-亚甲基-双(4-乙基-6-叔丁基苯酚)(川口化学株式会社制)
SH30：八甲基环四硅氧烷(Dow Corning Toray株式会社制)
甲乙酮：东燃化学株式会社制
表8
表9
表10
表11
表12
符号说明
1感光性元件、10支撑膜、20感光层、22保护膜、30保护膜、100基材、101透明基板、102触摸画面、103透明电极(X位置坐标)、104透明电极(Y位置坐标)、105引出配线、106连接电极、107连接端子、110、120触摸面板用电极、122、123保护膜、130光掩模、200触摸面板。

Claims (10)

1.感光性树脂组合物的用于形成触摸面板用电极的保护膜的用途，其中，所述感光性树脂组合物含有粘合剂聚合物、光聚合性化合物以及光聚合引发剂，所述感光性树脂组合物的羟值为40mgKOH/g以下。
2.根据权利要求1所述的用途，其中，所述粘合剂聚合物的羟值为50mgKOH/g以下。
3.根据权利要求1或2所述的用途，其中，所述光聚合性化合物的羟值为90mgKOH/g以下。
4.根据权利要求1～3中任一项所述的用途，其中，所述粘合剂聚合物的酸值为120mgKOH/g以下。
5.根据权利要求1～4中任一项所述的用途，其中，所述感光性树脂组合物进一步含有包含光聚合性不饱和键的磷酸酯。
6.根据权利要求1～5中任一项所述的用途，其中，在形成了保护膜时的400～700nm下的可见光透射率的最小值为90％以上。
7.根据权利要求1～6中任一项所述的用途，其中，所述感光性树脂组合物进一步含有选自具有巯基的***化合物、具有巯基的四唑化合物、具有巯基的噻二唑化合物、具有氨基的***化合物以及具有氨基的四唑化合物中的一种以上的化合物。
8.根据权利要求1～7中任一项所述的用途，其中，所述光聚合引发剂包含肟酯化合物和/或膦氧化物化合物。
9.感光性元件的用于形成触摸面板用电极的保护膜的用途，其中，所述感光性元件具备支撑膜和设置在该支撑膜上的由含有粘合剂聚合物、光聚合性化合物以及光聚合引发剂的感光性树脂组合物构成的感光层，所述感光性树脂组合物的羟值为40mgKOH/g以下。
10.根据权利要求9所述的用途，其中，所述感光层的厚度为10μm以下。
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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2019191990A1 (en) * 2018-04-04 2019-10-10 Microsoft Technology Licensing, Llc. Systems and methods of reducing corrosion in electrical contacts

Families Citing this family (21)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
TW201510798A (zh) * 2013-09-13 2015-03-16 Hon Hai Prec Ind Co Ltd 單片式玻璃觸控屏及其製造方法
JP6136827B2 (ja) * 2013-09-30 2017-05-31 Jsr株式会社 感放射線性樹脂組成物、感光性ドライフィルム、感放射線性樹脂層の積層方法、保護膜およびタッチパネル
KR102248976B1 (ko) * 2013-12-26 2021-05-06 아사히 가세이 가부시키가이샤 감광성 수지 조성물 및 감광성 수지 적층체
WO2016002026A1 (ja) * 2014-07-02 2016-01-07 日立化成株式会社 転写形感光性屈折率調整フィルム
JP2016021170A (ja) * 2014-07-15 2016-02-04 日立化成株式会社 静電容量結合方式タッチパネル入力装置付き表示装置
JP6284913B2 (ja) * 2014-08-29 2018-02-28 富士フイルム株式会社 タッチパネル電極保護膜形成用組成物、転写フィルム、積層体、タッチパネル用電極の保護膜及びその形成方法、静電容量型入力装置、並びに、画像表示装置
CN107077067B (zh) * 2014-09-24 2021-04-13 旭化成株式会社 感光性树脂组合物、感光性树脂层压体、树脂图案的制造方法、固化膜和显示装置
JP2016070973A (ja) * 2014-09-26 2016-05-09 日立化成株式会社 感光性導電フィルム、導電パターンの形成方法及び導電膜基板
CN107850846A (zh) * 2015-02-20 2018-03-27 日立化成株式会社 转印型感光性折射率调整膜、折射率调整图案的形成方法及电子部件
JP6284891B2 (ja) * 2015-02-26 2018-02-28 富士フイルム株式会社 タッチパネル電極保護膜形成用組成物、転写フィルム、透明積層体、タッチパネル用電極の保護膜及びその形成方法、静電容量型入力装置、並びに、画像表示装置
JP6801452B2 (ja) 2015-03-24 2020-12-16 東レ株式会社 感光性樹脂組成物
CN104750347A (zh) * 2015-04-17 2015-07-01 合肥京东方光电科技有限公司 电容式触摸屏及其制备工艺及触摸显示面板
KR20180004717A (ko) * 2015-05-11 2018-01-12 히타치가세이가부시끼가이샤 전사형 감광성 굴절률 조정 필름, 굴절률 조정 패턴의 형성 방법 및 전자 부품
CN108136722A (zh) * 2015-09-30 2018-06-08 日立化成株式会社 转印型感光性折射率调整膜
US10040967B2 (en) 2015-11-06 2018-08-07 Hitachi Chemical Company, Ltd. Photosensitive film, photosensitive element, cured product and touch panel
JP6551277B2 (ja) * 2016-03-24 2019-07-31 日立化成株式会社 硬化膜付きタッチパネル用基材の製造方法、それに用いる感光性樹脂組成物、感光性エレメント及びタッチパネル
JP6044732B1 (ja) * 2016-03-30 2016-12-14 東洋インキＳｃホールディングス株式会社 配線保護用樹脂組成物および配線板
SG11201806952SA (en) 2016-03-30 2018-09-27 Toray Industries Negative-type photosensitive resin composition, cured film, display device that includes the cured film, and production method therefor
CN114609864A (zh) * 2016-12-05 2022-06-10 旭化成株式会社 感光性树脂组合物
JP2019194709A (ja) * 2019-06-05 2019-11-07 日立化成株式会社 硬化膜付きタッチパネル用基材の製造方法、感光性樹脂組成物、感光性エレメント及びタッチパネル
JPWO2022102559A1 (zh) * 2020-11-11 2022-05-19

Citations (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH07159998A (ja) * 1993-12-06 1995-06-23 Japan Synthetic Rubber Co Ltd レジスト組成物
CN101185028A (zh) * 2005-05-30 2008-05-21 日立化成工业株式会社 感光性树脂组合物、使用该组合物的感光性元件、光致抗蚀图形形成方法及印刷电路板制造方法
JP4610416B2 (ja) * 2005-06-10 2011-01-12 日本写真印刷株式会社 静電容量型タッチパネル
JP2011039165A (ja) * 2009-08-07 2011-02-24 Hitachi Chem Co Ltd アルカリ可溶性光硬化型組成物、該組成物を使用した硬化塗膜及び透明部材
JP2011065393A (ja) * 2009-09-16 2011-03-31 Nissha Printing Co Ltd 導電性シート、積層導電性シート及び導電性パターンシート、並びに積層導電性シートの製造方法、透明アンテナ又は透明ディスプレイ又はタッチ入力シートの製造方法
JP2011065171A (ja) * 2004-07-14 2011-03-31 Asahi Kasei E-Materials Corp 感光性組成物、パターン形成材料、感光性積層体、並びにパターン形成装置及びパターン形成方法
CN102214024A (zh) * 2010-04-08 2011-10-12 新应材股份有限公司 触控板与其制造方法以及具有该触控板的触控显示面板
WO2011129312A1 (ja) * 2010-04-16 2011-10-20 東レ株式会社 ネガ型感光性樹脂組成物、硬化膜、およびタッチパネル用部材
WO2011129210A1 (ja) * 2010-04-14 2011-10-20 東レ株式会社 ネガ型感光性樹脂組成物、それを用いた保護膜およびタッチパネル部材

Family Cites Families (21)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH06306145A (ja) * 1993-04-23 1994-11-01 Nippon Kayaku Co Ltd エポキシ樹脂組成物及びその硬化物
JP3380616B2 (ja) 1994-03-16 2003-02-24 日立化成工業株式会社 カバーレイ形成用感光性樹脂組成物、感光性フィルム、カバーレイの製造方法及びカバーレイ
JPH11133617A (ja) 1997-10-28 1999-05-21 Hitachi Chem Co Ltd ケミカルミーリング用感光性樹脂組成物及びこれを用いた感光性フィルム
TWI296738B (zh) * 2001-03-29 2008-05-11 Hitachi Chemical Co Ltd
US7534500B2 (en) * 2001-10-05 2009-05-19 Bridgestone Corporation Transparent electroconductive film, method for manufacture thereof, and touch panel
JP4449402B2 (ja) 2003-08-25 2010-04-14 日立化成工業株式会社 永久レジスト用感光性樹脂組成物、永久レジスト用感光性フィルム、レジストパターンの形成方法及びプリント配線板
TW200613903A (en) * 2004-05-26 2006-05-01 Showa Denko Kk Photosensitive resin composition, and cured product and use thereof
US7700264B2 (en) * 2005-10-31 2010-04-20 Nippon Paint Co., Ltd. Photosensitive resin composition, image forming material and image forming method using thereof
WO2007144993A1 (ja) * 2006-06-12 2007-12-21 Sharp Kabushiki Kaisha タッチパネル、表示装置及びタッチパネルの製造方法
JP2009122224A (ja) * 2007-11-13 2009-06-04 Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd 着色感光性樹脂組成物
US8252507B2 (en) * 2008-04-10 2012-08-28 Lg Chem, Ltd. Photoactive compound and photosensitive resin composition comprising the same
JP5103254B2 (ja) * 2008-04-16 2012-12-19 株式会社ジャパンディスプレイイースト 静電容量方式タッチパネルおよびそれを備える画面入力型表示装置
JP5201066B2 (ja) * 2008-06-19 2013-06-05 Ｊｓｒ株式会社 タッチパネルの保護膜形成用感放射線性樹脂組成物とその形成方法
JP5446203B2 (ja) * 2008-10-15 2014-03-19 日立化成デュポンマイクロシステムズ株式会社 感光性樹脂組成物、該樹脂組成物を用いたパターン硬化膜の製造方法及び電子部品
JP2010160670A (ja) * 2009-01-08 2010-07-22 Seiko Epson Corp タッチパネルの製造方法、タッチパネル、表示装置、及び電子機器
JP2011028594A (ja) 2009-07-28 2011-02-10 Toshiba Mobile Display Co Ltd タッチパネル
CN102597042A (zh) * 2009-10-29 2012-07-18 日本化药株式会社 光半导体密封用可固化树脂组合物及其固化物
JP2011128674A (ja) * 2009-12-15 2011-06-30 Sony Corp 静電容量型入力装置およびその製造方法
TWI477904B (zh) * 2010-03-26 2015-03-21 Sumitomo Chemical Co Photosensitive resin composition
JP5617329B2 (ja) * 2010-04-28 2014-11-05 東洋インキＳｃホールディングス株式会社 感光性樹脂組成物およびタッチパネル用絶縁膜
JP5150842B2 (ja) * 2011-02-25 2013-02-27 綜研化学株式会社 タッチパネル用部材およびタッチパネル

Patent Citations (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH07159998A (ja) * 1993-12-06 1995-06-23 Japan Synthetic Rubber Co Ltd レジスト組成物
JP2011065171A (ja) * 2004-07-14 2011-03-31 Asahi Kasei E-Materials Corp 感光性組成物、パターン形成材料、感光性積層体、並びにパターン形成装置及びパターン形成方法
CN101185028A (zh) * 2005-05-30 2008-05-21 日立化成工业株式会社 感光性树脂组合物、使用该组合物的感光性元件、光致抗蚀图形形成方法及印刷电路板制造方法
JP4610416B2 (ja) * 2005-06-10 2011-01-12 日本写真印刷株式会社 静電容量型タッチパネル
JP2011039165A (ja) * 2009-08-07 2011-02-24 Hitachi Chem Co Ltd アルカリ可溶性光硬化型組成物、該組成物を使用した硬化塗膜及び透明部材
JP2011065393A (ja) * 2009-09-16 2011-03-31 Nissha Printing Co Ltd 導電性シート、積層導電性シート及び導電性パターンシート、並びに積層導電性シートの製造方法、透明アンテナ又は透明ディスプレイ又はタッチ入力シートの製造方法
CN102214024A (zh) * 2010-04-08 2011-10-12 新应材股份有限公司 触控板与其制造方法以及具有该触控板的触控显示面板
WO2011129210A1 (ja) * 2010-04-14 2011-10-20 東レ株式会社 ネガ型感光性樹脂組成物、それを用いた保護膜およびタッチパネル部材
WO2011129312A1 (ja) * 2010-04-16 2011-10-20 東レ株式会社 ネガ型感光性樹脂組成物、硬化膜、およびタッチパネル用部材

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2019191990A1 (en) * 2018-04-04 2019-10-10 Microsoft Technology Licensing, Llc. Systems and methods of reducing corrosion in electrical contacts

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