CN106000566A - 用于磁性材料行业的新型球磨方法 - Google Patents

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Abstract

本发明涉及一种用于磁性材料行业的新型球磨方法，其是将研磨介质和待研磨物料加入球磨设备中，通过研磨介质的作用将待研磨物料研磨至规定粒度。所述待研磨物料为磁性材料，所述研磨介质选用莫氏硬度为7‑9、密度为3.0‑6.0g/cm3的陶瓷研磨体。本发明针对磁性材料生产过程中高能耗、研磨介质高损耗的缺陷进行改良，采用陶瓷研磨体作为生产过程中的研磨介质，并对陶瓷研磨体的硬度、密度等进行优化，使之相对于以往的高铬钢球磨介而言，不仅可以获得能耗、球耗的节约，而且也可以获得粒度分布更窄的物料，同时研磨效率也得以大幅提高。

Description

用于磁性材料行业的新型球磨方法
技术领域
本发明涉及球磨机球磨领域，尤其是涉及一种用于磁性材料行业的新型球磨方法。
背景技术
目前磁性材料球磨工艺采用的设备是卧室球磨机，研磨介质为高铬钢球，所选择高铬钢球的规格为6mm-8mm，球磨机转速为25rpm，将磁性材料从6μm研磨至0.8μm，产能为2.5T/(16-18h)，即150Kg/h左右，由于高铬钢球的密度较大，一般为7.8g/cm3左右，球磨机在生产过程中需要消耗的能量非常大，约为480度电/吨粉，且由于钢球硬度较低，研磨过程中球损耗较大，为15Kg/吨粉，且当钢球从6-8mm研磨至4mm左右时，钢球表面由于磨损及撞击，会产生凹凸不平现象，严重影响最终物料的粒度(或称细度)，从而影响研磨效率。
发明内容
为了克服上述现有技术之不足，本发明的目的在于提供一种用于磁性材料行业的新型球磨方法，旨在降低球磨生产的电能能耗、节约研磨球球耗以及提高研磨效率等。
本发明的目的通过以下技术方案予以实现：
一种用于磁性材料行业的新型球磨方法，其是将研磨介质和待研磨物料加入球磨设备中，通过研磨介质的作用将待研磨物料研磨至规定粒度。所述待研磨物料为磁性材料，所述研磨介质选用莫氏硬度为7-9、密度为3.0-6.0g/cm3的陶瓷研磨体。
优选的，所述研磨介质选用莫氏硬度为大于8且小于或等于9、密度为3.0-4.5g/cm3的陶瓷研磨体。
作为更进一步的优选，所述研磨介质选用莫氏硬度为大于8且小于或等于9、密度为3.5-4.0g/cm3的陶瓷研磨体。
作为一种实施方式，所述陶瓷研磨体可以为球形。
作为另一种实施方式，所述陶瓷研磨体也可以为柱形。
进一步的，所述陶瓷研磨体的直径为待研磨物料入料粒度的100-2000倍、出料粒度的1000-20000倍。
进一步的，所述陶瓷研磨体具有四种不同的规格，其中，各种规格的陶瓷研磨体直径以及各种规格的陶瓷研磨体用量占全部陶瓷研磨体总重量的百分比如下：
直径为1.5-2.5mm的陶瓷研磨体 15-25％；
直径为3.0-4.0mm的陶瓷研磨体 20-35％；
直径为5.0-6.0mm的陶瓷研磨体 20-30％；
直径为6.0-8.0mm的陶瓷研磨体 20-25％。
进一步的，所述陶瓷研磨体与待研磨物料的重量比为2：1-5：1。
优选的，所述陶瓷研磨体与待研磨物料的重量比为3：1-4：1。
进一步的，所述陶瓷研磨体的加入量为球磨设备容积的40％-70％。
与现有技术相比，本发明具有如下优点：
首先，本发明中陶瓷研磨体的密度远低于高铬钢球的密度，因此在同等装填体积的情况下，本发明陶瓷研磨体的装填重量更少，从而能降低球磨生产的电能能耗，经测试，该能耗可以降低至350-400度/吨粉左右。
其次，本发明中陶瓷研磨体的硬度较高铬钢球更高，研磨过程中，其磨损量非常小，以往高铬钢球的研磨球耗为15Kg高铬钢球/吨粉，而本发明陶瓷研磨体的研磨损耗仅为2-4Kg陶瓷研磨体/吨粉。同时，研磨同种物料时，本发明陶瓷研磨体与物料的硬度差较之高铬钢球与物料的硬度差更大，因而研磨效率也更高。
再者，本发明选用陶瓷研磨体替代高铬钢球来研磨磁性材料，不仅可以降低生产过程产生的噪音，而且由于陶瓷研磨体属于惰性材料，因此也可以减少铁杂质对物料的污染。
最后，本发明选用球径规格及用量配比更合理的陶瓷研磨体来对磁性材料进行研磨，可以获得粒度分布比高铬钢球研磨时更窄的物料，同时也能进一步保证球磨电耗及球耗处于低水平。
具体实施方式
按照本发明提供的一种用于磁性材料行业的新型球磨方法，其是将研磨介质和待研磨物料加入球磨设备中，通过研磨介质的作用将待研磨物料研磨至规定粒度(或称细度)。所述待研磨物料为磁性材料，例如铁合金、镍合金、钴合金等。所述研磨介质选用莫氏硬度为7-9、密度为3.0-6.0g/cm3的陶瓷研磨体。
优选的，所述研磨介质可以选用莫氏硬度为大于8且小于或等于9、密度为3.0-4.5g/cm3的陶瓷研磨体。
作为更进一步的优选，所述研磨介质还可以选用莫氏硬度为大于8且小于或等于9、密度为3.5-4.0g/cm3的陶瓷研磨体。
所述陶瓷研磨体可以是单一材质，也可以是二种或二种以上材质的混合体，例如可以是氧化铝陶瓷、硅酸锆陶瓷、氧化锆陶瓷中的任意一种或任意二种的混合体。所述陶瓷研磨体的形状可以是球形或柱形，本实施例优选为球形。
进一步的，陶瓷研磨体的尺寸规格和配比可根据待研磨物料的类型及相应的进出料粒度来确定。进料粒度越粗，相应的选择大尺寸球。进料粒度粗且出料粒度粗时(即破碎比小)，相应的大尺寸球配比多，进料粒度细且破碎比大时，选择小尺寸球且小尺寸球配比多。本发明为提高研磨效率及节能幅度，一方面对陶瓷研磨体的用球直径与待研磨物料进出料粒度的比例进行了优化改良，具体为：陶瓷研磨体的用球直径为待研磨物料入料粒度的100-2000倍(优选为250-1400倍)、出料粒度的1000-20000倍(优选为1800-10000倍)。另一方面对陶瓷研磨体尺寸规格的选择以及不同尺寸规格陶瓷研磨体的配比进行了优化改良，具体为：所述陶瓷研磨体具有四种不同的规格，其中，各种规格的陶瓷研磨体直径以及各种规格的陶瓷研磨体用量占全部陶瓷研磨体总重量的百分比如下：
直径为1.5-2.5mm的陶瓷研磨体 15-25％；
直径为3.0-4.0mm的陶瓷研磨体 20-35％；
直径为5.0-6.0mm的陶瓷研磨体 20-30％；
直径为6.0-8.0mm的陶瓷研磨体 20-25％。
优选的，所述陶瓷研磨体与待研磨物料的重量比为2：1-5：1，作为更进一步的优选，所述陶瓷研磨体与待研磨物料的重量比为3：1-4：1。该比值既是陶瓷研磨体首次加入研磨设备中时与待研磨物料的重量比值，也是后续研磨物料过程中因陶瓷研磨体出现损耗而需要对其进行补充装填时的参照值，根据该参照值，用户可得出陶瓷研磨体的实际损耗量而进行相应补充。此外，补充装填陶瓷研磨体时，只需按照比例补充球径规格最大的陶瓷研磨体即可，其它球径规格的陶瓷研磨体可不予补充。
进一步的，所述陶瓷研磨体的加入量为球磨设备容积的40％-70％，优选值为45％-60％。
以上所述者，仅为本发明的较佳实施例而已，当不能以此限定本发明实施的范围，即大凡依本发明申请专利范围及发明说明内容所作的简单的等效变化与修饰，皆仍属本发明专利涵盖的范围内。

Claims (10)

1.一种用于磁性材料行业的新型球磨方法，其是将研磨介质和待研磨物料加入球磨设备中，通过研磨介质的作用将待研磨物料研磨至规定粒度，其特征在于：所述待研磨物料为磁性材料，所述研磨介质选用莫氏硬度为7-9、密度为3.0-6.0g/cm3的陶瓷研磨体。
2.根据权利要求1所述用于磁性材料行业的新型球磨方法，其特征在于：所述研磨介质选用莫氏硬度为大于8且小于或等于9、密度为3.0-4.5g/cm3的陶瓷研磨体。
3.根据权利要求2所述用于磁性材料行业的新型球磨方法，其特征在于：所述研磨介质选用莫氏硬度为大于8且小于或等于9、密度为3.5-4.0g/cm3的陶瓷研磨体。
4.根据权利要求1所述用于磁性材料行业的新型球磨方法，其特征在于：所述陶瓷研磨体为球形。
5.根据权利要求1所述用于磁性材料行业的新型球磨方法，其特征在于：所述陶瓷研磨体为柱形。
6.根据权利要求4所述用于磁性材料行业的新型球磨方法，其特征在于：所述陶瓷研磨体的直径为待研磨物料入料粒度的100-2000倍、出料粒度的1000-20000倍。
7.根据权利要求4所述用于磁性材料行业的新型球磨方法，其特征在于，所述陶瓷研磨体具有四种不同的规格，其中，各种规格的陶瓷研磨体直径以及各种规格的陶瓷研磨体用量占全部陶瓷研磨体总重量的百分比如下：
8.根据权利要求1或2或3或4或5或6或7所述用于磁性材料行业的新型球磨方法，其特征在于：所述陶瓷研磨体与待研磨物料的重量比为2：1-5：1。
9.根据权利要求8所述用于磁性材料行业的新型球磨方法，其特征在于：所述陶瓷研磨体与待研磨物料的重量比为3：1-4：1。
10.根据权利要求1或2或3或4或5或6或7所述用于磁性材料行业的新型球磨方法，其特征在于：所述陶瓷研磨体的加入量为球磨设备容积的40％-70％。
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