CN105826458B - 一种带金属围坝的dpc陶瓷基板制备方法 - Google Patents

一种带金属围坝的dpc陶瓷基板制备方法 Download PDF

Info

Publication number
CN105826458B
CN105826458B CN201610262791.4A CN201610262791A CN105826458B CN 105826458 B CN105826458 B CN 105826458B CN 201610262791 A CN201610262791 A CN 201610262791A CN 105826458 B CN105826458 B CN 105826458B
Authority
CN
China
Prior art keywords
ceramic substrate
weld layer
box dam
copper plate
finished product
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Active
Application number
CN201610262791.4A
Other languages
English (en)
Other versions
CN105826458A (zh
Inventor
章军
吴朝晖
康为
罗素扑
唐莉萍
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Jinhua Xinci Technology Co.,Ltd.
Original Assignee
Dongguan Kechenda Electronic Technology Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Dongguan Kechenda Electronic Technology Co Ltd filed Critical Dongguan Kechenda Electronic Technology Co Ltd
Priority to CN201610262791.4A priority Critical patent/CN105826458B/zh
Publication of CN105826458A publication Critical patent/CN105826458A/zh
Application granted granted Critical
Publication of CN105826458B publication Critical patent/CN105826458B/zh
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Classifications

    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L33/00Semiconductor devices having potential barriers specially adapted for light emission; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof
    • H01L33/48Semiconductor devices having potential barriers specially adapted for light emission; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof characterised by the semiconductor body packages
    • H01L33/62Arrangements for conducting electric current to or from the semiconductor body, e.g. lead-frames, wire-bonds or solder balls
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2933/00Details relating to devices covered by the group H01L33/00 but not provided for in its subgroups
    • H01L2933/0008Processes
    • H01L2933/0033Processes relating to semiconductor body packages
    • H01L2933/0066Processes relating to semiconductor body packages relating to arrangements for conducting electric current to or from the semiconductor body

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Computer Hardware Design (AREA)
  • Power Engineering (AREA)
  • Cooling Or The Like Of Semiconductors Or Solid State Devices (AREA)
  • Casings For Electric Apparatus (AREA)

Abstract

本发明公开一种带金属围坝的DPC陶瓷基板制备方法,包括有以下步骤:(1)制作好陶瓷基板和围坝;(2)在陶瓷基板上镀上熔点为240℃‑400℃合金材料而形成第一焊接层,并在围坝的外表面镀上熔点为240℃‑400℃合金材料而形成第二焊接层;(3)在第一焊接层的表面覆盖一层助焊剂或焊料而形成连接层,将围坝置于陶瓷基板上,使得第二焊接层叠于连接层的表面,从而形成半成品;(4)将半成品过回流焊,并在惰性气体的保护下,温度控制在240℃‑400℃之间,使得第一焊接层和第二焊接层熔接在一起;(5)取出冷却即可形成成品。本发明方法可在240℃‑400℃的低温环境下进行,有效避免了高温对产品品质的影响,工艺简单,既节能,又便于批量化生产。

Description

一种带金属围坝的DPC陶瓷基板制备方法
技术领域
本发明涉及LED支架领域技术,尤其是指一种带金属围坝的DPC陶瓷基板制备方法。
背景技术
对于目前要求气密性封装的光器件来说,通常需要在DPC陶瓷基板上设置有围坝,利用围坝所围构形成的空间可填充封装胶水,从而实现更好的气密性。现有技术中,通常是采用金属围坝并利用焊料直接焊接在镀铜的DPC陶瓷基板上,这种方式虽然能够实现围坝与DPC陶瓷基板的焊接连接,然而,由于铜的熔点较高,往往这种封装需要800℃以上的高温才能将围坝焊接在DPC陶瓷基板上,这种高温对于DPC陶瓷基板来说是一个很大的考验,严重影响产品的品质,并且这种高温的焊接方式既耗能,又不利于量化生产。
发明内容
有鉴于此,本发明针对现有技术存在之缺失,其主要目的是提供一种带金属围坝的DPC陶瓷基板制备方法,其能有效解决现有之采用高温方式将围坝焊接在DPC陶瓷基板上容易导致产品品质下降并且耗能不利于量化生产的问题。
为实现上述目的,本发明采用如下之技术方案:
一种带金属围坝的DPC陶瓷基板制备方法,包括有以下步骤:
(1)制作好陶瓷基板和围坝;
(2)在陶瓷基板上镀上熔点为240℃-400℃合金材料而形成第一焊接层,并在围坝的外表面镀上熔点为240℃-400℃合金材料而形成第二焊接层;
(3)在第一焊接层的表面覆盖一层助焊剂或焊料而形成连接层,将围坝置于陶瓷基板上,使得第二焊接层叠于连接层的表面,从而形成半成品;
(4)将半成品过回流焊,并在惰性气体的保护下,温度控制在240℃-400℃之间,使得第一焊接层和第二焊接层熔接在一起;
(5)取出冷却即可形成成品。
作为一种优选方案,所述陶瓷基板包括有底板、上镀铜层和下镀铜层,该上镀铜层和下镀铜层分别设置于底板的上下表面,该底板上设置有导通孔,该导通孔导通连接于上镀铜层和下镀铜层之间,前述第一焊接层设置于上镀铜层的表面上。
本发明与现有技术相比具有明显的优点和有益效果,具体而言,由上述技术方案可知:
通过预先在陶瓷基板和围坝上镀上熔点为240℃-400℃合金材料而形成第一焊接层和第二焊接层,并配合将助焊剂或焊料置于第一焊接层和第二焊接层之间,然后过回流焊,使得第一焊接层和第二焊接层熔接在一起,本发明方法可在240℃-400℃的低温环境下进行,有效避免了高温对产品品质的影响,工艺简单,既节能,又便于批量化生产,本发明方法可用于金属管壳、IC、LED等气密封装和芯片封装,有广阔的应用前景,尤其是对目前发展看涨的UV LED是一种实现量产化的有效方法。
为更清楚地阐述本发明的结构特征和功效,下面结合附图与具体实施例来对本发明进行详细说明。
附图说明
图1是本发明之较佳实施例完成制作过程的立体示意图;
图2是本发明之较佳实施例完成制作过程的截面图。
附图标识说明:
10、陶瓷基板 11、底板
12、上镀铜层 13、下镀铜层
101、导通孔 20、围坝
30、第一焊接层 40、第二焊接层
50、连接层。
具体实施方式
请参照图1和图2所示,其显示出了本发明之较佳实施例的具体结构,包括有陶瓷基板10和围坝20。
该陶瓷基板10上设置有第一焊接层30,围坝20的外表面设置有第二焊接层40,第二焊接层40叠设于第一焊接层30上,且第一焊接层30与第二焊接层40之间夹设有连接层50,该连接层50为助焊剂或焊料,
在本实施例中,所述陶瓷基板10包括有底板11、上镀铜层12和下镀铜层13,该上镀铜层12和下镀铜层13分别设置于底板11的上下表面,该底板11上设置有导通孔101,该导通孔101导通连接于上镀铜层12和下镀铜层13之间,前述第一焊接层30设置于上镀铜层12的表面上。
本发明还揭示一种带金属围坝的DPC陶瓷基板制备方法,包括有以下步骤:
(1)制作好陶瓷基板10和围坝20。
(2)在陶瓷基板10上镀上熔点为240℃-400℃合金材料而形成第一焊接层30,并在围坝20的外表面镀上熔点为240℃-400℃合金材料而形成第二焊接层40;240℃-400℃合金材料最好采用金锡合金、镍金合金或镍钯金合金等含金合金,金含量为75-90%之间,性能稳定,不会黄化。
(3)在第一焊接层30的表面覆盖一层助焊剂或焊料而形成连接层50,将围坝20置于陶瓷基板10上,使得第二焊接层40叠于连接层50的表面,从而形成半成品,焊料为合金材料,其熔点为240℃-400℃。
(4)将半成品过回流焊,并在惰性气体的保护下,温度控制在240℃-400℃之间,使得第一焊接层30和第二焊接层40熔接在一起;
(5)取出冷却即可形成成品。
本发明的设计重点在于:通过预先在陶瓷基板和围坝上镀上熔点为240℃-400℃合金材料而形成第一焊接层和第二焊接层,并配合将助焊剂或焊料置于第一焊接层和第二焊接层之间,然后过回流焊,使得第一焊接层和第二焊接层熔接在一起,本发明方法可在240℃-400℃的低温环境下进行,有效避免了高温对产品品质的影响,工艺简单,既节能,又便于批量化生产,本发明方法可用于金属管壳、IC、LED等气密封装和芯片封装,有广阔的应用前景,尤其是对目前发展看涨的UV LED是一种实现量产化的有效方法。
以上所述,仅是本发明的较佳实施例而已,并非对本发明的技术范围作任何限制,故凡是依据本发明的技术实质对以上实施例所作的任何细微修改、等同变化与修饰,均仍属于本发明技术方案的范围内。

Claims (2)

1.一种带金属围坝的DPC陶瓷基板制备方法,其特征在于:包括有以下步骤:
(1)制作好陶瓷基板和围坝;
(2)在陶瓷基板上镀上熔点为240℃-400℃合金材料而形成第一焊接层,并在围坝的外表面镀上熔点为240℃-400℃合金材料而形成第二焊接层;
(3)在第一焊接层的表面覆盖一层助焊剂或焊料而形成连接层,将围坝置于陶瓷基板上,使得第二焊接层叠于连接层的表面,从而形成半成品;
(4)将半成品过回流焊,并在惰性气体的保护下,温度控制在240℃-400℃之间,使得第一焊接层和第二焊接层熔接在一起;
(5)取出冷却即可形成成品。
2.根据权利要求1所述的一种带金属围坝的DPC陶瓷基板制备方法,其特征在于:所述陶瓷基板包括有底板、上镀铜层和下镀铜层,该上镀铜层和下镀铜层分别设置于底板的上下表面,该底板上设置有导通孔,该导通孔导通连接于上镀铜层和下镀铜层之间,前述第一焊接层设置于上镀铜层的表面上。
CN201610262791.4A 2016-04-26 2016-04-26 一种带金属围坝的dpc陶瓷基板制备方法 Active CN105826458B (zh)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN201610262791.4A CN105826458B (zh) 2016-04-26 2016-04-26 一种带金属围坝的dpc陶瓷基板制备方法

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN201610262791.4A CN105826458B (zh) 2016-04-26 2016-04-26 一种带金属围坝的dpc陶瓷基板制备方法

Publications (2)

Publication Number Publication Date
CN105826458A CN105826458A (zh) 2016-08-03
CN105826458B true CN105826458B (zh) 2018-02-16

Family

ID=56527456

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
CN201610262791.4A Active CN105826458B (zh) 2016-04-26 2016-04-26 一种带金属围坝的dpc陶瓷基板制备方法

Country Status (1)

Country Link
CN (1) CN105826458B (zh)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN111162154A (zh) * 2020-03-05 2020-05-15 华引芯(武汉)科技有限公司 紫外发光元件及全无机封装方法

Families Citing this family (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2019504179A (ja) * 2016-12-07 2019-02-14 東莞市國瓷新材料科技有限公司 銅メッキボックスダムを有するセラミック封入基板の調製方法
CN107863436B (zh) * 2017-10-13 2019-11-19 武汉利之达科技股份有限公司 一种含金属腔体的三维陶瓷基板及其制备方法
CN112289753B (zh) * 2019-07-25 2023-12-22 松山湖材料实验室 用于紫外led封装的围坝陶瓷基板制作方法及其制品
CN111182728A (zh) * 2020-01-22 2020-05-19 惠州中京电子科技有限公司 一种铝围坝金属基板印制电路板的制作方法
CN111908952A (zh) * 2020-05-14 2020-11-10 山西华微紫外半导体科技有限公司 氧化铝陶瓷基板上围坝的烧结焊接方法
CN111792941A (zh) * 2020-05-14 2020-10-20 山西华微紫外半导体科技有限公司 氮化硅陶瓷基板上围坝的烧结焊接方法
CN111792942A (zh) * 2020-05-14 2020-10-20 山西华微紫外半导体科技有限公司 氮化铝陶瓷基板上围坝的烧结焊接方法
CN111613710B (zh) * 2020-06-29 2021-08-13 松山湖材料实验室 一种电子设备、半导体器件、封装结构、支架及其制作方法
CN112670250B (zh) * 2020-12-25 2022-04-08 东莞先导先进科技有限公司 红外探测器模组的制造方法

Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN201307606Y (zh) * 2008-12-10 2009-09-09 潮州三环(集团)股份有限公司 一种新型陶瓷封装基座
CN101267011B (zh) * 2007-03-13 2010-09-08 夏普株式会社 半导体发光装置、半导体发光装置用多引线框架
CN203225276U (zh) * 2013-02-01 2013-10-02 河北星火灯饰股份有限公司 Led集成光源模块

Family Cites Families (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR101659357B1 (ko) * 2010-05-12 2016-09-23 엘지이노텍 주식회사 발광소자패키지

Patent Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN101267011B (zh) * 2007-03-13 2010-09-08 夏普株式会社 半导体发光装置、半导体发光装置用多引线框架
CN201307606Y (zh) * 2008-12-10 2009-09-09 潮州三环(集团)股份有限公司 一种新型陶瓷封装基座
CN203225276U (zh) * 2013-02-01 2013-10-02 河北星火灯饰股份有限公司 Led集成光源模块

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN111162154A (zh) * 2020-03-05 2020-05-15 华引芯(武汉)科技有限公司 紫外发光元件及全无机封装方法
CN111162154B (zh) * 2020-03-05 2020-12-04 华引芯(武汉)科技有限公司 紫外发光元件及全无机封装方法

Also Published As

Publication number Publication date
CN105826458A (zh) 2016-08-03

Similar Documents

Publication Publication Date Title
CN105826458B (zh) 一种带金属围坝的dpc陶瓷基板制备方法
CN106449542B (zh) 一种视窗气密无硅胶的半导体发光芯片的封装结构
CN204614790U (zh) 一种微型化陶瓷管壳光电探测器封装结构
CN108461459A (zh) 一种负极对接双向整流二极管及其制造工艺
CN106847705B (zh) 将芯片封装pcb的方法及芯片封装结构
CN103840791A (zh) 低温玻璃-陶瓷封装外壳及使用该外壳的晶体振荡器
CN103840790A (zh) 冷压焊陶瓷封装外壳及使用该外壳的晶体振荡器
CN205789919U (zh) 一种混合集成电路用铝碳化硅一体封装管壳
CN203014757U (zh) 冷压焊陶瓷封装外壳及使用该外壳的晶体振荡器
CN219246707U (zh) 一种全无机led封装结构
US20130000712A1 (en) Solar cell device and packaging method thereof
CN104518066A (zh) 一种具有过渡基板的led器件及其封装方法
CN107946269B (zh) 一种传感芯片的封装结构及其封装方法
CN103840788A (zh) 储能焊陶瓷封装外壳及使用该外壳的晶体振荡器
CN105789097A (zh) ***级封装用陶瓷针栅阵列外壳平行缝焊用夹具
CN206505909U (zh) 一种双芯片垂直并联方式的二极体封装结构
WO2019062200A1 (zh) 一种超大功率 cob 光源及其制作工艺
KR20170025377A (ko) 전자부품 패키지
CN208127189U (zh) 一种负极对接双向整流二极管
CN102403281A (zh) 一种高性能芯片封装结构
CN216706303U (zh) 一种薄型管壳
CN203787410U (zh) 一种高散热芯片嵌入式电磁屏蔽封装结构
CN103021973A (zh) 一种集成电路气密性封装散热结构
CN203014756U (zh) 储能焊陶瓷封装外壳及使用该外壳的晶体振荡器
CN207250511U (zh) 一种超大功率cob光源

Legal Events

Date Code Title Description
C06 Publication
PB01 Publication
C10 Entry into substantive examination
SE01 Entry into force of request for substantive examination
GR01 Patent grant
GR01 Patent grant
TR01 Transfer of patent right
TR01 Transfer of patent right

Effective date of registration: 20180425

Address after: No. 12, Tangxia Town, Dongguan, Guangdong, Guangdong

Patentee after: DONGGUAN CHINA ADVANCED CERAMIC TECHNOLOGY Co.,Ltd.

Address before: 523000 Dongguan, Guangdong, Dongguan, Tangxia two Town Road 2 Dongguan Kai Chang Germany electronic Polytron Technologies Inc

Patentee before: DONGGUAN KECHENDA ELECTRONIC TECHNOLOGY Co.,Ltd.

TR01 Transfer of patent right
TR01 Transfer of patent right

Effective date of registration: 20200916

Address after: 710000 unit 1707, building 1, Wanke hi tech living Plaza, No.56 Xifeng Road, Yanta District, Xi'an, Shaanxi Province

Patentee after: Xi'an Boxin Chuangda Electronic Technology Co.,Ltd.

Address before: 523000 No. 12, ancient Liao Road, Tangxia Town, Dongguan, Guangdong

Patentee before: DONGGUAN CHINA ADVANCED CERAMIC TECHNOLOGY Co.,Ltd.

TR01 Transfer of patent right
TR01 Transfer of patent right

Effective date of registration: 20240429

Address after: 321000 No. 828 Jinshi Road, Jiangdong Town, Jindong District, Jinhua City, Zhejiang Province (self declared)

Patentee after: Jinhua Xinci Technology Co.,Ltd.

Country or region after: China

Address before: Unit 1707, unit 1, building 1, Vanke hi tech living Plaza, 56 Xifeng Road, Yanta District, Xi'an City, Shaanxi Province, 710000

Patentee before: Xi'an Boxin Chuangda Electronic Technology Co.,Ltd.

Country or region before: China