CN105810803A - 一种垂直结构led芯片的制备方法 - Google Patents

一种垂直结构led芯片的制备方法 Download PDF

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肖伟民
赵汉民
封�波
黄波
吕张轲
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Abstract

本发明提供一种垂直结构LED芯片的制备方法,包括如下制作步骤:将垂直结构LED芯片排列于蓝膜上;在垂直结构LED芯片正面覆盖一层保护薄膜;将高反胶包覆整个芯片并高温固化;去除芯片正面高反胶及保护膜;切割后得到单颗单面出光的垂直芯片。使用本发明制作的LED芯片,避免了侧面光被支撑薄膜芯片的材料吸收,使得侧面光成为有效光,提高LED芯片的出光效率。

Description

一种垂直结构LED芯片的制备方法
技术领域
本发明涉及半导体发光二极管领域,特别涉及一种垂直结构LED芯片的制备方法。
背景技术
LED(LightEmittingDiode,发光二极管)是一种能够将电能转化为可见光的固态的半导体器件,其发光原理是电激发光,即在PN结上加正向电流后,自由电子与空穴复合而发光,从而直接把电能转化为光能。LED作为一种新的照明光源材料被广泛应用着,它具有反应速度快、抗震性好、寿命长、节能环保等优点而快速发展,目前已被广泛应用于景观美化及室内外照明等领域。
垂直结构LED的制作采用的是垂直结构生长的模式,即是把所需要的材料一层一层生长到衬底上,这种方法制备的垂直结构LED芯片为五面出光,侧面发光面虽然很薄,但支撑芯片的材料如Si、WCu、MoCu等,会吸收LED发出的光,导致侧面光损失较多。另外,在一些要求LED产品具有小型化、集成化、发光角度更小等特点的应用领域,传统方法制备的LED芯片是达不到这些领域的要求的。因此,有必要提供一种新的LED芯片制备方法来解决上述问题。
发明内容
本发明所要解决的问题是:提供一种垂直结构LED芯片的制备方法,由该方法制得的LED芯片,侧面围有高反射白胶,解决LED芯片侧面光损失,提高光效。
为达到上述目的,本发明提供一种垂直结构LED芯片的制备方法,包括如下制作步骤:将垂直结构LED芯片排列于蓝膜上;在垂直结构LED芯片正面覆盖一层保护薄膜;将高反胶包覆整个芯片并高温固化;去除芯片正面高反胶及保护膜;切割后得到单颗单面出光的垂直结构LED芯片。
优选地,所述保护薄膜材料包括:光刻胶、UV膜。
优选地,所述去除芯片正面高反胶及保护膜的方式:先研磨至露出被覆盖的薄膜后,用去胶液或紫外光照去除。
优选地,所述垂直结构LED芯片电极处必须有保护膜。
本发明的有益效果:
使用本发明制备的LED芯片侧面围有高反射白胶,芯片侧面发出的光通过高反射白胶网框内壁反射出来,形成单面出光的LED芯片,避免了侧面光被支撑薄膜芯片的材料吸收,使得侧面光成为有效光,提高LED芯片的出光效率。
附图说明
图1~图3为本发明实施例一的制作过程的侧面示意图。
图中标识说明:
1为蓝膜,2为LED芯片,3为光刻胶,4为高反射白胶。
具体实施方式
实施例一
本实施例采用如下步骤:
将垂直结构蓝光LED芯片2用分选机或者排列机排列在蓝膜1上;在蓝光LED芯片正面覆盖一层光刻胶薄膜3;如图2所示,在准备好的图1材料上旋涂高反射白胶4,并放入烤箱中高温固化高反射白胶;将固化后的LED芯片通过研磨机减薄高反射白胶层,当研磨至露出被覆盖的光刻胶薄膜3后停止;用去胶液去除LED芯片正面的光刻胶,得到如图3所示的LED芯片;切割后得到侧面围白胶的单面出光LED芯片。
实施例二
本实施例采用如下步骤:
本实施例与实施例一的差别在于在LED芯片正面覆盖UV膜,在去除UV膜时通过紫外光照射去除。
以上所述,仅为本发明中的具体实施方式,但本发明的保护范围并不局限于此,任何熟悉该技术的人在本发明所揭露的技术范围内,可轻易想到的变换或替换都应涵盖在本发明的保护范围之内。因此,本发明的保护范围应该以权利要求书的保护范围为准。

Claims (4)

1.一种垂直结构LED芯片的制备方法,包括如下制作步骤:
(1)将垂直结构LED芯片排列于蓝膜上;
(2)在垂直结构LED芯片正面覆盖一层保护薄膜;
(3)将高反胶包覆整个芯片并高温固化;
(4)去除芯片正面高反胶及保护膜;
(5)切割后得到单颗单面出光的垂直结构LED芯片。
2.根据权利要求1所述的一种垂直结构LED芯片的制备方法,其特征在于所述保护薄膜材料包括:光刻胶、UV膜。
3.根据权利要求1所述的一种垂直结构LED芯片的制备方法,其特征在于所述去除芯片正面高反胶及保护膜的方式:先研磨至露出被覆盖的薄膜后,用去胶液或紫外光照去除。
4.根据权利要求1所述的一种垂直结构LED芯片的制备方法,其特征在于所述垂直结构LED芯片电极处必须有保护膜。
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PB01 Publication
SE01 Entry into force of request for substantive examination
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RJ01 Rejection of invention patent application after publication
RJ01 Rejection of invention patent application after publication

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