CN105549250A - 一种阵列基板、显示面板及其相应制备方法和显示装置 - Google Patents

一种阵列基板、显示面板及其相应制备方法和显示装置 Download PDF

Info

Publication number
CN105549250A
CN105549250A CN201610109241.9A CN201610109241A CN105549250A CN 105549250 A CN105549250 A CN 105549250A CN 201610109241 A CN201610109241 A CN 201610109241A CN 105549250 A CN105549250 A CN 105549250A
Authority
CN
China
Prior art keywords
array base
base palte
groove structure
plastic box
sealed plastic
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
CN201610109241.9A
Other languages
English (en)
Other versions
CN105549250B (zh
Inventor
周纪登
张伟
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
BOE Technology Group Co Ltd
Hefei Xinsheng Optoelectronics Technology Co Ltd
Original Assignee
BOE Technology Group Co Ltd
Hefei Xinsheng Optoelectronics Technology Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by BOE Technology Group Co Ltd, Hefei Xinsheng Optoelectronics Technology Co Ltd filed Critical BOE Technology Group Co Ltd
Priority to CN201610109241.9A priority Critical patent/CN105549250B/zh
Publication of CN105549250A publication Critical patent/CN105549250A/zh
Priority to EP16840365.7A priority patent/EP3420407A4/en
Priority to PCT/CN2016/094631 priority patent/WO2017143734A1/en
Priority to US15/521,295 priority patent/US10490578B2/en
Application granted granted Critical
Publication of CN105549250B publication Critical patent/CN105549250B/zh
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Classifications

    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L27/00—Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate
    • H01L27/02—Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate including semiconductor components specially adapted for rectifying, oscillating, amplifying or switching and having potential barriers; including integrated passive circuit elements having potential barriers
    • H01L27/12—Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate including semiconductor components specially adapted for rectifying, oscillating, amplifying or switching and having potential barriers; including integrated passive circuit elements having potential barriers the substrate being other than a semiconductor body, e.g. an insulating body
    • H01L27/1214—Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate including semiconductor components specially adapted for rectifying, oscillating, amplifying or switching and having potential barriers; including integrated passive circuit elements having potential barriers the substrate being other than a semiconductor body, e.g. an insulating body comprising a plurality of TFTs formed on a non-semiconducting substrate, e.g. driving circuits for AMLCDs
    • H01L27/1259—Multistep manufacturing methods
    • H01L27/127—Multistep manufacturing methods with a particular formation, treatment or patterning of the active layer specially adapted to the circuit arrangement
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
    • G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
    • G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour 
    • G02F1/13—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour  based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
    • G02F1/133—Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
    • G02F1/1333—Constructional arrangements; Manufacturing methods
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
    • G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
    • G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour 
    • G02F1/0102—Constructional details, not otherwise provided for in this subclass
    • G02F1/0107—Gaskets, spacers or sealing of cells; Filling and closing of cells
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
    • G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
    • G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour 
    • G02F1/13—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour  based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
    • G02F1/133—Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
    • G02F1/1333—Constructional arrangements; Manufacturing methods
    • G02F1/133345—Insulating layers
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
    • G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
    • G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour 
    • G02F1/13—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour  based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
    • G02F1/133—Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
    • G02F1/1333—Constructional arrangements; Manufacturing methods
    • G02F1/1339—Gaskets; Spacers; Sealing of cells
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
    • G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
    • G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour 
    • G02F1/13—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour  based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
    • G02F1/133—Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
    • G02F1/1333—Constructional arrangements; Manufacturing methods
    • G02F1/1343—Electrodes
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
    • G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
    • G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour 
    • G02F1/13—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour  based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
    • G02F1/133—Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
    • G02F1/1333—Constructional arrangements; Manufacturing methods
    • G02F1/1343—Electrodes
    • G02F1/13439—Electrodes characterised by their electrical, optical, physical properties; materials therefor; method of making
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
    • G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
    • G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour 
    • G02F1/13—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour  based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
    • G02F1/133—Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
    • G02F1/136—Liquid crystal cells structurally associated with a semi-conducting layer or substrate, e.g. cells forming part of an integrated circuit
    • G02F1/1362—Active matrix addressed cells
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
    • G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
    • G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour 
    • G02F1/13—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour  based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
    • G02F1/133—Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
    • G02F1/1333—Constructional arrangements; Manufacturing methods
    • G02F1/1335—Structural association of cells with optical devices, e.g. polarisers or reflectors
    • G02F1/133509—Filters, e.g. light shielding masks
    • G02F1/133514—Colour filters
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
    • G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
    • G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour 
    • G02F1/13—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour  based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
    • G02F1/133—Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
    • G02F1/136—Liquid crystal cells structurally associated with a semi-conducting layer or substrate, e.g. cells forming part of an integrated circuit
    • G02F1/1362—Active matrix addressed cells
    • G02F1/13625—Patterning using multi-mask exposure

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Nonlinear Science (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Optics & Photonics (AREA)
  • Mathematical Physics (AREA)
  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Crystallography & Structural Chemistry (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • Power Engineering (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
  • Computer Hardware Design (AREA)
  • Devices For Indicating Variable Information By Combining Individual Elements (AREA)
  • Liquid Crystal (AREA)
  • Electroluminescent Light Sources (AREA)

Abstract

本发明的目的是提供一种阵列基板、显示面板及其相应制备方法和显示装置，以解决封框胶的下方的有机膜层在受高温、高压及高湿度的环境影响时，导致封框胶和所粘接的膜层之间的密封性变差的问题。所述阵列基板，包括衬底基板、依次形成于所述衬底基板之上的栅极保护层、有机膜层和绝缘层，所述阵列基板上形成有设置封框胶的凹槽结构，所述凹槽结构在垂直于基板的方向上由所述绝缘层向所述栅极保护层延伸，并暴露栅极保护层。

Description

一种阵列基板、显示面板及其相应制备方法和显示装置
技术领域
本发明涉及液晶显示领域，尤其涉及一种阵列基板、显示面板及其相应制备方法和显示装置。
背景技术
薄膜晶体管液晶显示器(ThinFilmTransistorLiquidCrystalDisplay，TFT-LCD)具有体积小、功耗低、无辐射、制造成本相对较低等特点，在当前的平板显示器市场占据了主导地位。
TFT-LCD包括阵列基板、彩膜基板以及二者之间的液晶。其中，阵列基板和彩膜基板通过封框胶对二者之间的液晶进行密封。阵列基板在设置封框胶的位置下方一般还依次包括有：绝缘层、有机膜层、栅极保护层以及栅极金属层等。
然而，当处于高温、高压及高湿度的环境条件时，有机膜层相对于其相邻的无机膜层或金属膜层存在的较大张应力差异，以及有机膜层自身在较高温度下由层间的间隙向外释放溶剂的过程均会导致有机膜层和其相邻膜层之间的粘附力变差，并最终会导致有机膜层的上方膜层与封框胶的部分区域发生分离，进而降低了封框胶的密封性能。
发明内容
本发明的目的是提供一种阵列基板、显示面板及其相应制备方法和显示装置，以解决封框胶的下方的有机膜层在受高温、高压及高湿度的环境影响时，导致封框胶和所粘接的膜层之间的密封性变差的问题。
本发明的目的是通过以下技术方案实现的：
本发明实施例提供一种阵列基板，包括衬底基板、依次形成于所述衬底基板之上的栅极保护层、有机膜层和绝缘层，所述阵列基板上形成有用于设置封框胶的凹槽结构，所述凹槽结构在垂直于基板的方向上由所述绝缘层向所述栅极保护层延伸，并暴露栅极保护层。
本实施例中，设置封框胶的位置形成凹槽结构，凹槽结构由绝缘层向栅极保护层延伸，封框胶直接与栅极保护层粘结，其下方不存在有机膜层，可以避免有机膜层在受环境影响时对封框胶和所粘接的膜层之间粘附力造成影响，使封框胶保持良好的密封性能。
优选的，所述凹槽结构的表面设置有透明电极，所述透明电极还覆盖邻近所述凹槽结构开口处的部分所述栅极绝缘层。
本实施例中，以透明电极覆盖凹槽结构，对凹槽结构的侧壁进行密封，可以进一步避免凹槽结构的侧壁的有机膜层受环境影响时导致封框胶和栅极保护层之间的密闭性变差的问题。
优选的，所述阵列基板还包括设置于所述栅极绝缘层与所述衬底基板之间的栅极金属层。
优选的，所述透明电极为氧化铟锡。
优选的，所述凹槽结构设置于所述阵列基板的非显示区内，并环绕所述阵列基板的显示区。
本发明实施例有益效果如下：设置封框胶的位置形成凹槽结构，凹槽结构由绝缘层向栅极保护层延伸，封框胶直接与栅极保护层粘结，其下方不存在有机膜层，可以避免有机膜层在受环境影响时对封框胶和所粘接的膜层之间粘附力造成影响，使封框胶保持良好的密封性能。
本发明实施例提供一种显示面板，包括所述的阵列基板，还包括与所述阵列基板相对设置的对向基板、及设置于所述对向基板与所述阵列基板之间的封框胶；
所述封框胶的一端设置于所述阵列基板的所述凹槽结构之内且端面粘接所述凹槽结构的底部表面，所述封框胶的另一端的端面粘接所述对向基板。
优选的，所述凹槽结构的侧壁与所述封框胶之间具有间隙。
优选的，所述对向基板为彩膜基板或封装基板。
本发明实施例有益效果如下：设置封框胶的位置形成凹槽结构，凹槽结构由绝缘层向栅极保护层延伸，封框胶直接与栅极保护层粘结，其下方不存在有机膜层，可以避免有机膜层在受环境影响时对封框胶和所粘接的膜层之间粘附力造成影响，使封框胶保持良好的密封性能。
本发明实施例提供一种显示装置，包括所述显示面板。
本发明实施例提供一种阵列基板的制备方法，包括：
在衬底基板上依次形成栅极保护层、有机膜层和绝缘层；
在用于设置封框胶的位置，通过构图工艺形成凹槽结构；其中，所述凹槽结构在垂直于基板的方向上由所述绝缘层向所述栅极保护层延伸，并暴露栅极保护层。
优选的，所述制备方法还包括在所述凹槽结构的表面设置透明电极，并使所述透明电极覆盖邻近所述凹槽结构开口处的部分所述栅极绝缘层。
优选的，在所述衬底基板上形成所述栅极保护层之前，还包括在所述衬底基板上形成栅极金属层。
本发明实施例提供一种显示面板的制备方法，采用本发明实施例提供的所述阵列基板进行制备，所述制备方法包括：
在所述阵列基板上的所述凹槽结构之内设置封框胶；
使所述对向基板和所述阵列基板通过所述封框胶粘结。
本发明实施例有益效果如下：设置封框胶的位置形成凹槽结构，凹槽结构由绝缘层向栅极保护层延伸，封框胶直接与栅极保护层粘结，其下方不存在有机膜层，可以避免有机膜层在受环境影响时对封框胶和所粘接的膜层之间粘附力造成影响，使封框胶保持良好的密封性能。
附图说明
图1为本发明实施例提供的一种阵列基板的结构示意图；
图2为本发明实施例提供的另一种阵列基板的结构示意图；
图3为本发明实施例提供的一种显示面板的局部结构示意图；
图4为本发明实施例提供的一种阵列基板的制备流程图；
图5为本发明实施例提供的另一种阵列基板的制备流程图；
图6为本发明实施例中，在阵列基板上依次形成栅极保护层、有机膜层和绝缘层的示意图；
图7为本发明实施例中，在阵列基板上依次形成凹槽结构的示意图；
图8为本发明实施例中，在阵列基板上依次形成透明电极的示意图；
图9为本发明实施例提供的一种显示面板的制备流程图；
图10为本发明实施例中，在阵列基板的凹槽结构形成封框胶的示意图；
图11为本发明实施例中，在阵列基板上形成对向基板的示意图。
具体实施方式
下面结合说明书附图对本发明实施例的实现过程进行详细说明。需要注意的是，自始至终相同或类似的标号表示相同或类似的元件或具有相同或类似功能的元件。下面通过参考附图描述的实施例是示例性的，仅用于解释本发明，而不能理解为对本发明的限制。
参见图1，本发明实施例提供一种阵列基板，包括衬底基板1、依次形成于衬底基板1之上的栅极保护层2、有机膜层3和绝缘层4，衬底基板1上形成有用于设置封框胶5的凹槽结构6，凹槽结构6在垂直于基板的方向上由绝缘层4向栅极保护层2延伸，并暴露栅极保护层2。
需要说明的是，阵列基板一般分为显示区和非显示区，封框胶设置于阵列基板的非显示区，优选的，本发明实施例中的凹槽结构6设置于阵列基板的非显示区且环绕整个显示区。其中，凹槽结构6在垂直于阵列基板的截面图形可以为弧形、半圆弧形、正方形、长方形、梯形、以及倒梯形，在具体实施时，可根据需要进行灵活设置。优选的，凹槽结构6的截面图形为图1所示的长方形时，工序简单，易于制作。
本实施例中，设置封框胶5的位置形成凹槽结构6，使栅极保护层2暴露，封框胶的下方不存在有机膜层3，其直接与栅极保护层2相粘结，因而，即使有机膜层3在受到高温、高压以及高湿度的影响时，有机膜层较大的张应力差异使其与相邻的膜层的粘附力变差，也不会影响封框胶5与栅极保护层2的接触，从而可以使封框胶保持较好的密封性能。
为了避免凹槽结构6的侧壁的有机膜层3释放的气体影响封框胶5和栅极保护层2之间的粘接，优选的，参见图2，凹槽结构的表面还设置有透明电极7，透明电极7还覆盖邻近凹槽开口处的部分栅极绝缘层4。本实施例中，凹槽结构6表面设置的透明电极7可以对凹槽结构6的侧壁进行密封，可以进一步避免凹槽结构6的侧壁的有机膜层3受环境影响时导致封框胶5和栅极保护层2之间的粘结性变差的问题。透明电极7还覆盖邻近凹槽开口处的部分栅极绝缘层4，可以降低在凹槽结构的表面制作透明电极时对工艺的精度要求，并且起到更好的密封性能。
优选的，透明电极7的材料可以选择氧化铟锡。
优选的，阵列基板还包括设置于栅极绝缘层4与衬底基板1之间的栅极金属层。
本发明实施例有益效果如下：设置封框胶5的位置形成凹槽结构6，凹槽结构6由绝缘层4向栅极保护层2延伸，封框胶5直接与栅极保护层2粘结，其下方不存在有机膜层3，可以避免有机膜层3在受环境影响时对封框胶5和所粘接的膜层之间粘附力造成影响，使封框胶5保持良好的密封性能。
本发明实施例提供一种显示面板，如图3所示为本发明实施例提供的显示面板在设置封框胶处的剖面图，包括本发明实施例提供的阵列基板，还包括与阵列基板相对设置的对向基板8、及设置于对向基板8与阵列基板之间的封框胶5。封框胶5的一端设置于阵列基板的凹槽结构之内且端面粘接凹槽结构6的底部表面，封框胶5的另一端的端面粘接对向基板8。
优选的，封框胶5与凹槽结构6的侧壁之间具有间隙。本实施例中，封框胶5与凹槽结构6的侧壁之间具有间隙，可以避免在形成凹槽结构6时，在设置凹槽结构6的区域和其相邻区域的交界处，绝缘层4与有机膜层3形成的段差和有机膜层3与栅极保护层2形成的段差不在一个垂直方向上时，封框胶5涂覆在高低起伏的段差上，影响封框胶5与栅极保护层2的粘结性，进而影响显示面板的品质。
优选的，对向基板8为彩膜基板或封装基板。
本发明实施例有益效果如下：设置封框胶5的位置形成凹槽结构6，凹槽结构6由绝缘层4向栅极保护层2延伸，封框胶5直接与栅极保护层2粘结，其下方不存在有机膜层3，可以进一步避免凹槽结构6的侧壁的有机膜层3受环境影响时导致封框胶5和栅极保护层2之间的密闭性变差的问题。
本发明实施例提供一种显示装置，包括本发明实施例提供的显示面板。
参见图4，本发明实施例提供一种阵列基板的制备方法，包括：
401、在衬底基板上依次形成栅极保护层、有机膜层和绝缘层。
402、在用于设置封框胶的位置，通过构图工艺形成凹槽结构；其中，凹槽结构在垂直于基板的方向上由绝缘层向栅极保护层延伸，并暴露栅极保护层。
优选的，参见图5，本发明实施例提供另一种阵列基板的制备方法，包括：
501、在衬底基板上依次形成栅极保护层、有机膜层和绝缘层。
502、在用于设置封框胶的位置，通过构图工艺形成凹槽结构；其中，凹槽结构由绝缘层向栅极保护层延伸，并暴露栅极保护层。
503、在凹槽结构的表面设置透明电极，并使透明电极覆盖邻近凹槽结构开口处的部分栅极绝缘层。
优选的，在衬底基板上形成栅极保护层之前，还包括在衬底基板上形成栅极金属层。
为了更清楚的描述本发明中阵列基板的制备方法，以图2所示阵列基板为例，结合图6至图8详细说明如下：
步骤一，在衬底基板1上依次形成栅极保护层2、有机膜层3和绝缘层4，如图6所示。
具体的，可以根据栅极保护层2、有机膜层3和绝缘层4的具体材质灵活选择合适的制备方法依次在衬底基板1上依次形成栅极保护层2、有机膜层3和绝缘层4。
步骤二，在用于设置封框胶5的位置，通过构图工艺形成凹槽结构6，如图7所示，其中，凹槽结构6在垂直于基板的方向上由绝缘层4向栅极保护层2延伸，并暴露栅极保护层2。具体的，可以根据栅极保护层2、有机膜层3和绝缘层4的具体材质选择合适的构图工艺使凹槽结构由绝缘层4向栅极保护层2延伸，并暴露栅极保护层2。
步骤三，在凹槽结构6的表面设置透明电7极，并使透明电极7覆盖栅极绝缘层4，如图8所示。
参见图9，本发明实施例提供一种显示面板的制备方法，采用本发明实施例提供的阵列基板进行制备，制备方法包括：
901、在阵列基板上的凹槽结构之内设置封框胶；
902、使对向基板和阵列基板通过封框胶粘结。
下面以图2所示的阵列基板为例，对本发明实施例提供的显示面板的制作方法进行如下说明：
步骤一、在阵列基板上的凹槽结构6之内形成封框胶5，参见图10。
具体的，在凹槽结构6形成封框胶5时，使封框胶5与凹槽结构6的侧边具有间隙9。
步骤二、使对向基板8和阵列基板通过封框胶5粘结，形成显示面板，参见图11。
本发明实施例有益效果如下：设置封框胶5的位置形成凹槽结构6，凹槽结构6由绝缘层4向栅极保护层2延伸，封框胶5直接与栅极保护层2粘结，其下方不存在有机膜层3，可以避免有机膜层3在受环境影响时对封框胶5和所粘接的膜层之间粘附力造成影响，使封框胶5保持良好的密封性能。
显然，本领域的技术人员可以对本发明进行各种改动和变型而不脱离本发明的精神和范围。这样，倘若本发明的这些修改和变型属于本发明权利要求及其等同技术的范围之内，则本发明也意图包含这些改动和变型在内。

Claims (13)

1.一种阵列基板，包括衬底基板、依次形成于所述衬底基板之上的栅极保护层、有机膜层和绝缘层，其特征在于，所述阵列基板上形成有用于设置封框胶的凹槽结构，所述凹槽结构在垂直于基板的方向上由所述绝缘层向所述栅极保护层延伸，并暴露栅极保护层。
2.如权利要求1所述的阵列基板，其特征在于，所述凹槽结构的表面设置有透明电极，所述透明电极还覆盖邻近所述凹槽结构开口处的部分所述栅极绝缘层。
3.如权利要求2所述的阵列基板，其特征在于，所述阵列基板还包括设置于所述栅极绝缘层与所述衬底基板之间的栅极金属层。
4.如权利要求2所述的阵列基板，其特征在于，所述透明电极为氧化铟锡。
5.如权利要求1所述的阵列基板，其特征在于，所述凹槽结构设置于所述阵列基板的非显示区内，并环绕所述阵列基板的显示区。
6.一种显示面板，其特征在于，包括如权利要求1至5任一项所述的阵列基板，还包括与所述阵列基板相对设置的对向基板、及设置于所述对向基板与所述阵列基板之间的封框胶；
所述封框胶的一端设置于所述阵列基板的所述凹槽结构之内且端面粘接所述凹槽结构的底部表面，所述封框胶的另一端的端面粘接所述对向基板。
7.如权利要求6所述的显示面板，其特征在于，所述凹槽结构的侧壁与所述封框胶之间具有间隙。
8.如权利要求6所述的显示面板，其特征在于，所述对向基板为彩膜基板或封装基板。
9.一种显示装置，其特征在于，包括权利要求6至8任一项所述的显示面板。
10.一种阵列基板的制备方法，其特征在于，包括：
在衬底基板上依次形成栅极保护层、有机膜层和绝缘层；
在用于设置封框胶的位置，通过构图工艺形成凹槽结构；其中，所述凹槽结构在垂直于基板的方向上由所述绝缘层向所述栅极保护层延伸，并暴露栅极保护层。
11.如权利要求10所述的方法，其特征在于，还包括在所述凹槽结构的表面设置透明电极，并使所述透明电极覆盖邻近所述凹槽结构开口处的部分所述栅极绝缘层。
12.如权利要求10所述的方法，其特征在于，在所述衬底基板上形成所述栅极保护层之前，还包括在所述衬底基板上形成栅极金属层。
13.一种显示面板的制备方法，其特征在于，采用权利要求1至5任一项所述的阵列基板进行制备，所述制备方法包括：
在所述阵列基板上的所述凹槽结构之内设置封框胶；
使所述对向基板和所述阵列基板通过所述封框胶粘结。
CN201610109241.9A 2016-02-26 2016-02-26 一种阵列基板、显示面板及其相应制备方法和显示装置 Active CN105549250B (zh)

Priority Applications (4)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN201610109241.9A CN105549250B (zh) 2016-02-26 2016-02-26 一种阵列基板、显示面板及其相应制备方法和显示装置
EP16840365.7A EP3420407A4 (en) 2016-02-26 2016-08-11 ARRAY SUBSTRATE, DISPLAY BOARD AND MANUFACTURING METHOD THEREFOR
PCT/CN2016/094631 WO2017143734A1 (en) 2016-02-26 2016-08-11 Array substrate, display panel and manufacturing method thereof
US15/521,295 US10490578B2 (en) 2016-02-26 2016-08-11 Array substrate, display panel and manufacturing method thereof

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN201610109241.9A CN105549250B (zh) 2016-02-26 2016-02-26 一种阵列基板、显示面板及其相应制备方法和显示装置

Publications (2)

Publication Number Publication Date
CN105549250A true CN105549250A (zh) 2016-05-04
CN105549250B CN105549250B (zh) 2017-11-10

Family

ID=55828531

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
CN201610109241.9A Active CN105549250B (zh) 2016-02-26 2016-02-26 一种阵列基板、显示面板及其相应制备方法和显示装置

Country Status (4)

Country Link
US (1) US10490578B2 (zh)
EP (1) EP3420407A4 (zh)
CN (1) CN105549250B (zh)
WO (1) WO2017143734A1 (zh)

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2017143734A1 (en) * 2016-02-26 2017-08-31 Boe Technology Group Co., Ltd. Array substrate, display panel and manufacturing method thereof
CN108059335A (zh) * 2018-01-04 2018-05-22 京东方科技集团股份有限公司 切割方法

Citations (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN103869549A (zh) * 2012-12-14 2014-06-18 厦门天马微电子有限公司 一种液晶显示器的边框结构及其制造方法
CN103869548A (zh) * 2012-12-10 2014-06-18 京东方科技集团股份有限公司 液晶显示器的制造方法及其产品
CN204116768U (zh) * 2014-09-29 2015-01-21 厦门天马微电子有限公司 一种显示面板及其装置
US20150062515A1 (en) * 2013-09-03 2015-03-05 Japan Display Inc. Liquid crystal display device
CN105068373A (zh) * 2015-09-11 2015-11-18 武汉华星光电技术有限公司 Tft基板结构的制作方法
CN105206618A (zh) * 2015-08-26 2015-12-30 京东方科技集团股份有限公司 一种阵列基板、显示面板、显示装置及制作方法

Family Cites Families (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR100335462B1 (ko) * 1999-08-11 2002-05-04 구본준, 론 위라하디락사 액정표시패널
KR100965139B1 (ko) * 2003-07-25 2010-06-23 삼성전자주식회사 어레이 기판, 이의 제조 방법, 상기 어레이 기판을포함하는 액정 표시장치 및 이의 제조방법
KR101116817B1 (ko) * 2004-06-30 2012-02-28 엘지디스플레이 주식회사 유기 절연막을 포함하는 액정 패널 및 그 제조 방법
US7226801B2 (en) * 2005-01-14 2007-06-05 Au Optronics Corp. Sealant region pattern for liquid crystal display and method for fabricating the same
US20080001937A1 (en) * 2006-06-09 2008-01-03 Samsung Electronics Co., Ltd. Display substrate having colorable organic layer interposed between pixel electrode and tft layer, plus method of manufacturing the same and display device having the same
KR20090100056A (ko) * 2008-03-19 2009-09-23 삼성전자주식회사 액정 표시 장치 및 그 제조 방법
CN105549250B (zh) * 2016-02-26 2017-11-10 京东方科技集团股份有限公司 一种阵列基板、显示面板及其相应制备方法和显示装置

Patent Citations (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN103869548A (zh) * 2012-12-10 2014-06-18 京东方科技集团股份有限公司 液晶显示器的制造方法及其产品
CN103869549A (zh) * 2012-12-14 2014-06-18 厦门天马微电子有限公司 一种液晶显示器的边框结构及其制造方法
US20150062515A1 (en) * 2013-09-03 2015-03-05 Japan Display Inc. Liquid crystal display device
CN204116768U (zh) * 2014-09-29 2015-01-21 厦门天马微电子有限公司 一种显示面板及其装置
CN105206618A (zh) * 2015-08-26 2015-12-30 京东方科技集团股份有限公司 一种阵列基板、显示面板、显示装置及制作方法
CN105068373A (zh) * 2015-09-11 2015-11-18 武汉华星光电技术有限公司 Tft基板结构的制作方法

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2017143734A1 (en) * 2016-02-26 2017-08-31 Boe Technology Group Co., Ltd. Array substrate, display panel and manufacturing method thereof
CN108059335A (zh) * 2018-01-04 2018-05-22 京东方科技集团股份有限公司 切割方法
CN108059335B (zh) * 2018-01-04 2021-01-26 京东方科技集团股份有限公司 切割方法

Also Published As

Publication number Publication date
EP3420407A4 (en) 2019-11-06
US20180350842A1 (en) 2018-12-06
EP3420407A1 (en) 2019-01-02
US10490578B2 (en) 2019-11-26
WO2017143734A1 (en) 2017-08-31
CN105549250B (zh) 2017-11-10

Similar Documents

Publication Publication Date Title
CN103278978A (zh) 一种液晶显示面板及其制作方法
US8698987B2 (en) Display panel comprising a plurality of marks in at least one corner of substrate
CN104335111A (zh) 液晶显示装置
CN202166809U (zh) 一种薄膜晶体管液晶显示屏及显示装置
CN103424936A (zh) 显示面板及其制备方法、显示装置
CN102200663A (zh) 显示面板及其制造方法
US8736803B2 (en) Mother panel wherein a sealing material includes a first sealing material and a second sealing material wherein the first and second sealing material enables air tight sealing within a periphery of the mother panel
JP2011145535A (ja) 液晶表示装置及びその製造方法
CN102096539B (zh) 触摸面板
CN103560075B (zh) 基板的粘结及分离的方法
US9305982B2 (en) Liquid crystal panel and manufacturing method of the liquid crystal panel
CN105226201A (zh) 一种柔性oled显示器及其制造方法
CN102707502A (zh) 电子设备、液晶显示器及其制造方法
CN106200153A (zh) 一种液晶显示装置
CN104932166A (zh) 一种阵列基板及其制作方法、显示面板、显示装置
CN105549250A (zh) 一种阵列基板、显示面板及其相应制备方法和显示装置
WO2009031263A1 (ja) 液晶表示パネル及びその製造方法
WO2009144860A1 (ja) 表示装置
KR101832270B1 (ko) 액정표시소자 및 그 제조방법
US20150072449A1 (en) Method for manufacturing organic light emitting diode display and method for manufacturing touch panel
CN102707832A (zh) 触摸屏显示器的制作方法、触摸屏显示器以及终端
JP2012220578A (ja) 表示装置の製造方法及びこれに使用する中間製品
CN103064212A (zh) 彩膜基板及其制作方法、液晶显示面板及装置
WO2023197286A1 (zh) 一种卡扣型电浆显示模组及电浆显示屏
JPH1152398A (ja) 液晶表示装置の製造方法

Legal Events

Date Code Title Description
C06 Publication
PB01 Publication
C10 Entry into substantive examination
SE01 Entry into force of request for substantive examination
GR01 Patent grant
GR01 Patent grant