CN105514115A - 可拉伸膜及其制造方法和包括可拉伸膜的显示装置 - Google Patents

可拉伸膜及其制造方法和包括可拉伸膜的显示装置 Download PDF

Info

Publication number
CN105514115A
CN105514115A CN201510646271.9A CN201510646271A CN105514115A CN 105514115 A CN105514115 A CN 105514115A CN 201510646271 A CN201510646271 A CN 201510646271A CN 105514115 A CN105514115 A CN 105514115A
Authority
CN
China
Prior art keywords
pattern
stretched film
buffering
district
opening
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
CN201510646271.9A
Other languages
English (en)
Other versions
CN105514115B (zh
Inventor
朱惠珍
崔源一
洪钟昊
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Samsung Display Co Ltd
Original Assignee
Samsung Display Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Samsung Display Co Ltd filed Critical Samsung Display Co Ltd
Publication of CN105514115A publication Critical patent/CN105514115A/zh
Application granted granted Critical
Publication of CN105514115B publication Critical patent/CN105514115B/zh
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Classifications

    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08J—WORKING-UP; GENERAL PROCESSES OF COMPOUNDING; AFTER-TREATMENT NOT COVERED BY SUBCLASSES C08B, C08C, C08F, C08G or C08H
    • C08J5/00—Manufacture of articles or shaped materials containing macromolecular substances
    • C08J5/18—Manufacture of films or sheets
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L27/00—Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate
    • H01L27/02—Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate including semiconductor components specially adapted for rectifying, oscillating, amplifying or switching and having potential barriers; including integrated passive circuit elements having potential barriers
    • H01L27/12—Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate including semiconductor components specially adapted for rectifying, oscillating, amplifying or switching and having potential barriers; including integrated passive circuit elements having potential barriers the substrate being other than a semiconductor body, e.g. an insulating body
    • H01L27/1214—Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate including semiconductor components specially adapted for rectifying, oscillating, amplifying or switching and having potential barriers; including integrated passive circuit elements having potential barriers the substrate being other than a semiconductor body, e.g. an insulating body comprising a plurality of TFTs formed on a non-semiconducting substrate, e.g. driving circuits for AMLCDs
    • H01L27/1218—Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate including semiconductor components specially adapted for rectifying, oscillating, amplifying or switching and having potential barriers; including integrated passive circuit elements having potential barriers the substrate being other than a semiconductor body, e.g. an insulating body comprising a plurality of TFTs formed on a non-semiconducting substrate, e.g. driving circuits for AMLCDs with a particular composition or structure of the substrate
    • H—ELECTRICITY
    • H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10K—ORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
    • H10K77/00—Constructional details of devices covered by this subclass and not covered by groups H10K10/80, H10K30/80, H10K50/80 or H10K59/80
    • H10K77/10—Substrates, e.g. flexible substrates
    • H10K77/111—Flexible substrates
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B32—LAYERED PRODUCTS
    • B32B—LAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
    • B32B1/00—Layered products having a non-planar shape
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B32—LAYERED PRODUCTS
    • B32B—LAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
    • B32B27/00—Layered products comprising a layer of synthetic resin
    • B32B27/28—Layered products comprising a layer of synthetic resin comprising synthetic resins not wholly covered by any one of the sub-groups B32B27/30 - B32B27/42
    • B32B27/283—Layered products comprising a layer of synthetic resin comprising synthetic resins not wholly covered by any one of the sub-groups B32B27/30 - B32B27/42 comprising polysiloxanes
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B32—LAYERED PRODUCTS
    • B32B—LAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
    • B32B27/00—Layered products comprising a layer of synthetic resin
    • B32B27/40—Layered products comprising a layer of synthetic resin comprising polyurethanes
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B32—LAYERED PRODUCTS
    • B32B—LAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
    • B32B3/00—Layered products comprising a layer with external or internal discontinuities or unevennesses, or a layer of non-planar shape; Layered products comprising a layer having particular features of form
    • B32B3/10—Layered products comprising a layer with external or internal discontinuities or unevennesses, or a layer of non-planar shape; Layered products comprising a layer having particular features of form characterised by a discontinuous layer, i.e. formed of separate pieces of material
    • B32B3/14—Layered products comprising a layer with external or internal discontinuities or unevennesses, or a layer of non-planar shape; Layered products comprising a layer having particular features of form characterised by a discontinuous layer, i.e. formed of separate pieces of material characterised by a face layer formed of separate pieces of material which are juxtaposed side-by-side
    • B32B3/16—Layered products comprising a layer with external or internal discontinuities or unevennesses, or a layer of non-planar shape; Layered products comprising a layer having particular features of form characterised by a discontinuous layer, i.e. formed of separate pieces of material characterised by a face layer formed of separate pieces of material which are juxtaposed side-by-side secured to a flexible backing
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B32—LAYERED PRODUCTS
    • B32B—LAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
    • B32B3/00—Layered products comprising a layer with external or internal discontinuities or unevennesses, or a layer of non-planar shape; Layered products comprising a layer having particular features of form
    • B32B3/26—Layered products comprising a layer with external or internal discontinuities or unevennesses, or a layer of non-planar shape; Layered products comprising a layer having particular features of form characterised by a particular shape of the outline of the cross-section of a continuous layer; characterised by a layer with cavities or internal voids ; characterised by an apertured layer
    • B32B3/266—Layered products comprising a layer with external or internal discontinuities or unevennesses, or a layer of non-planar shape; Layered products comprising a layer having particular features of form characterised by a particular shape of the outline of the cross-section of a continuous layer; characterised by a layer with cavities or internal voids ; characterised by an apertured layer characterised by an apertured layer, the apertures going through the whole thickness of the layer, e.g. expanded metal, perforated layer, slit layer regular cells B32B3/12
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B32—LAYERED PRODUCTS
    • B32B—LAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
    • B32B5/00—Layered products characterised by the non- homogeneity or physical structure, i.e. comprising a fibrous, filamentary, particulate or foam layer; Layered products characterised by having a layer differing constitutionally or physically in different parts
    • B32B5/14—Layered products characterised by the non- homogeneity or physical structure, i.e. comprising a fibrous, filamentary, particulate or foam layer; Layered products characterised by having a layer differing constitutionally or physically in different parts characterised by a layer differing constitutionally or physically in different parts, e.g. denser near its faces
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B32—LAYERED PRODUCTS
    • B32B—LAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
    • B32B5/00—Layered products characterised by the non- homogeneity or physical structure, i.e. comprising a fibrous, filamentary, particulate or foam layer; Layered products characterised by having a layer differing constitutionally or physically in different parts
    • B32B5/14—Layered products characterised by the non- homogeneity or physical structure, i.e. comprising a fibrous, filamentary, particulate or foam layer; Layered products characterised by having a layer differing constitutionally or physically in different parts characterised by a layer differing constitutionally or physically in different parts, e.g. denser near its faces
    • B32B5/142—Variation across the area of the layer
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B32—LAYERED PRODUCTS
    • B32B—LAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
    • B32B5/00—Layered products characterised by the non- homogeneity or physical structure, i.e. comprising a fibrous, filamentary, particulate or foam layer; Layered products characterised by having a layer differing constitutionally or physically in different parts
    • B32B5/14—Layered products characterised by the non- homogeneity or physical structure, i.e. comprising a fibrous, filamentary, particulate or foam layer; Layered products characterised by having a layer differing constitutionally or physically in different parts characterised by a layer differing constitutionally or physically in different parts, e.g. denser near its faces
    • B32B5/145—Variation across the thickness of the layer
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B32—LAYERED PRODUCTS
    • B32B—LAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
    • B32B5/00—Layered products characterised by the non- homogeneity or physical structure, i.e. comprising a fibrous, filamentary, particulate or foam layer; Layered products characterised by having a layer differing constitutionally or physically in different parts
    • B32B5/14—Layered products characterised by the non- homogeneity or physical structure, i.e. comprising a fibrous, filamentary, particulate or foam layer; Layered products characterised by having a layer differing constitutionally or physically in different parts characterised by a layer differing constitutionally or physically in different parts, e.g. denser near its faces
    • B32B5/147—Layered products characterised by the non- homogeneity or physical structure, i.e. comprising a fibrous, filamentary, particulate or foam layer; Layered products characterised by having a layer differing constitutionally or physically in different parts characterised by a layer differing constitutionally or physically in different parts, e.g. denser near its faces by treatment of the layer
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B32—LAYERED PRODUCTS
    • B32B—LAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
    • B32B7/00—Layered products characterised by the relation between layers; Layered products characterised by the relative orientation of features between layers, or by the relative values of a measurable parameter between layers, i.e. products comprising layers having different physical, chemical or physicochemical properties; Layered products characterised by the interconnection of layers
    • B32B7/02—Physical, chemical or physicochemical properties
    • B32B7/022—Mechanical properties
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
    • G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
    • G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour 
    • G02F1/13—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour  based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
    • G02F1/133—Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
    • G02F1/1333—Constructional arrangements; Manufacturing methods
    • G02F1/133308—Support structures for LCD panels, e.g. frames or bezels
    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/20—Exposure; Apparatus therefor
    • G—PHYSICS
    • G09—EDUCATION; CRYPTOGRAPHY; DISPLAY; ADVERTISING; SEALS
    • G09F—DISPLAYING; ADVERTISING; SIGNS; LABELS OR NAME-PLATES; SEALS
    • G09F9/00—Indicating arrangements for variable information in which the information is built-up on a support by selection or combination of individual elements
    • G09F9/30—Indicating arrangements for variable information in which the information is built-up on a support by selection or combination of individual elements in which the desired character or characters are formed by combining individual elements
    • G09F9/301—Indicating arrangements for variable information in which the information is built-up on a support by selection or combination of individual elements in which the desired character or characters are formed by combining individual elements flexible foldable or roll-able electronic displays, e.g. thin LCD, OLED
    • G—PHYSICS
    • G09—EDUCATION; CRYPTOGRAPHY; DISPLAY; ADVERTISING; SEALS
    • G09G—ARRANGEMENTS OR CIRCUITS FOR CONTROL OF INDICATING DEVICES USING STATIC MEANS TO PRESENT VARIABLE INFORMATION
    • G09G3/00—Control arrangements or circuits, of interest only in connection with visual indicators other than cathode-ray tubes
    • G09G3/006—Electronic inspection or testing of displays and display drivers, e.g. of LED or LCD displays
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L27/00—Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate
    • H01L27/02—Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate including semiconductor components specially adapted for rectifying, oscillating, amplifying or switching and having potential barriers; including integrated passive circuit elements having potential barriers
    • H01L27/12—Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate including semiconductor components specially adapted for rectifying, oscillating, amplifying or switching and having potential barriers; including integrated passive circuit elements having potential barriers the substrate being other than a semiconductor body, e.g. an insulating body
    • H01L27/1214—Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate including semiconductor components specially adapted for rectifying, oscillating, amplifying or switching and having potential barriers; including integrated passive circuit elements having potential barriers the substrate being other than a semiconductor body, e.g. an insulating body comprising a plurality of TFTs formed on a non-semiconducting substrate, e.g. driving circuits for AMLCDs
    • H01L27/1259—Multistep manufacturing methods
    • H01L27/1262—Multistep manufacturing methods with a particular formation, treatment or coating of the substrate
    • H—ELECTRICITY
    • H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10K—ORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
    • H10K50/00—Organic light-emitting devices
    • H10K50/10—OLEDs or polymer light-emitting diodes [PLED]
    • H—ELECTRICITY
    • H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10K—ORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
    • H10K59/00—Integrated devices, or assemblies of multiple devices, comprising at least one organic light-emitting element covered by group H10K50/00
    • H10K59/10—OLED displays
    • H10K59/12—Active-matrix OLED [AMOLED] displays
    • H—ELECTRICITY
    • H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10K—ORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
    • H10K59/00—Integrated devices, or assemblies of multiple devices, comprising at least one organic light-emitting element covered by group H10K50/00
    • H10K59/60—OLEDs integrated with inorganic light-sensitive elements, e.g. with inorganic solar cells or inorganic photodiodes
    • H10K59/65—OLEDs integrated with inorganic image sensors
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B32—LAYERED PRODUCTS
    • B32B—LAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
    • B32B2307/00—Properties of the layers or laminate
    • B32B2307/50—Properties of the layers or laminate having particular mechanical properties
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B32—LAYERED PRODUCTS
    • B32B—LAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
    • B32B2307/00—Properties of the layers or laminate
    • B32B2307/50—Properties of the layers or laminate having particular mechanical properties
    • B32B2307/51—Elastic
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B32—LAYERED PRODUCTS
    • B32B—LAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
    • B32B2457/00—Electrical equipment
    • B32B2457/20—Displays, e.g. liquid crystal displays, plasma displays
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B32—LAYERED PRODUCTS
    • B32B—LAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
    • B32B2457/00—Electrical equipment
    • B32B2457/20—Displays, e.g. liquid crystal displays, plasma displays
    • B32B2457/202—LCD, i.e. liquid crystal displays
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B32—LAYERED PRODUCTS
    • B32B—LAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
    • B32B2457/00—Electrical equipment
    • B32B2457/20—Displays, e.g. liquid crystal displays, plasma displays
    • B32B2457/206—Organic displays, e.g. OLED
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08J—WORKING-UP; GENERAL PROCESSES OF COMPOUNDING; AFTER-TREATMENT NOT COVERED BY SUBCLASSES C08B, C08C, C08F, C08G or C08H
    • C08J2375/00—Characterised by the use of polyureas or polyurethanes; Derivatives of such polymers
    • C08J2375/04—Polyurethanes
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08J—WORKING-UP; GENERAL PROCESSES OF COMPOUNDING; AFTER-TREATMENT NOT COVERED BY SUBCLASSES C08B, C08C, C08F, C08G or C08H
    • C08J2383/00—Characterised by the use of macromolecular compounds obtained by reactions forming in the main chain of the macromolecule a linkage containing silicon with or without sulfur, nitrogen, oxygen, or carbon only; Derivatives of such polymers
    • C08J2383/04—Polysiloxanes
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
    • G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
    • G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour 
    • G02F1/13—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour  based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
    • G02F1/133—Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
    • G02F1/1333—Constructional arrangements; Manufacturing methods
    • G02F1/133305—Flexible substrates, e.g. plastics, organic film
    • H—ELECTRICITY
    • H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10K—ORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
    • H10K2102/00—Constructional details relating to the organic devices covered by this subclass
    • H10K2102/301—Details of OLEDs
    • H10K2102/311—Flexible OLED
    • Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
    • Y02E—REDUCTION OF GREENHOUSE GAS [GHG] EMISSIONS, RELATED TO ENERGY GENERATION, TRANSMISSION OR DISTRIBUTION
    • Y02E10/00—Energy generation through renewable energy sources
    • Y02E10/50—Photovoltaic [PV] energy
    • Y02E10/549—Organic PV cells
    • Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
    • Y02P—CLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
    • Y02P70/00—Climate change mitigation technologies in the production process for final industrial or consumer products
    • Y02P70/50—Manufacturing or production processes characterised by the final manufactured product

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Inorganic Chemistry (AREA)
  • Nonlinear Science (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • Optics & Photonics (AREA)
  • Power Engineering (AREA)
  • Sustainable Development (AREA)
  • Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Mathematical Physics (AREA)
  • Crystallography & Structural Chemistry (AREA)
  • Computer Hardware Design (AREA)
  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • Theoretical Computer Science (AREA)
  • Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Health & Medical Sciences (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Medicinal Chemistry (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Polymers & Plastics (AREA)
  • Electroluminescent Light Sources (AREA)

Abstract

公开了一种可拉伸膜及其制造方法和包括该可拉伸膜的显示装置。所述可拉伸膜包括第一区，第一区包括多个具有凹多边形形状的第一图案。所述可拉伸膜还包括第二区，第二区包括多个具有凸多边形形状的第二图案。所述可拉伸膜还包括位于第一区与第二区之间的缓冲区。

Description

可拉伸膜及其制造方法和包括可拉伸膜的显示装置
技术领域
示例实施例涉及可拉伸膜(stretchablefilm)、制造可拉伸膜的方法以及包括可拉伸膜的显示装置。更具体地讲，示例性实施例涉及具有膨胀性(auxeticity)的可拉伸膜、制造可拉伸膜的方法以及包括可拉伸膜的显示装置。
背景技术
近来，已经对可以具有可拉伸和/或可伸展性质的例如包括有机发光显示(OLED)装置或液晶显示(LCD)装置的柔性显示装置进行了研究。
例如，显示装置的元件或器件可以形成在柔性树脂基板上以获得柔性显示装置。然而，当显示装置附着在具有可变曲率的表面上时，仅通过柔性树脂基板的使用会无法实现足够的柔性和/或耐磨特性。
在该背景部分公开的上述信息仅仅是为了增强对发明构思的背景的理解，因此，它可能包含未形成对于本领域普通技术人员在本国已知的现有技术的信息。
发明内容
示例性实施例提供了一种具有改善的柔性和粘附性的可拉伸膜。
示例性实施例提供了一种制造具有改善的柔性和粘附性的可拉伸膜的方法。
示例性实施例提供了一种包括具有改善的柔性和粘附性的可拉伸膜的显示装置。
附加方面将在以下的详细描述中进行阐述，并且部分地通过公开将是清楚的，或者可通过实施发明构思而获知。
示例性实施例公开了一种可拉伸膜，所述可拉伸膜包括：第一区，包括具有凹多边形形状的多个第一图案；第二区，包括具有凸多边形形状的多个第二图案；缓冲区，位于第一区与第二区之间。
示例性实施例也公开了一种可拉伸膜，所述可拉伸膜包括第一区，第一区包括多个层，这些层具有互不相同的膨胀性和刚性。所述可拉伸膜还包括第二区，第二区包括多个层，第二区中的这些层按与设置在第一区中的层的顺序不同的顺序来设置。
示例性实施例还公开了一种制造可拉伸膜的方法，所述方法包括下述步骤：测量物体的曲率和与该曲率对应的尺寸；根据物体的曲率和尺寸确定可拉伸膜的图案形状和图案区；将图案形状转印到可拉伸膜的图案区。
示例性实施例还公开了一种显示装置，所述显示装置包括：柔性基础基板；像素电路和发光结构，顺序地设置在柔性基础基板上；可拉伸膜，附着在柔性基础基板的底部上，可拉伸膜包括根据物体的曲率划分的第一区和第二区，可拉伸膜在第一区和第二区中的每个区中包括不同图案和不同设置结构中的至少一种。
以上的总体描述和以下的详细描述是示例性和解释性的，并且意图提供对所要求保护主题的进一步解释。
附图说明
附图示出发明构思的示例性实施例，并与描述一起用来解释发明构思的原理，其中，包括附图以提供发明构思的进一步理解，并且附图被并入并构成本说明书的一部分。
图1是示出了根据示例性实施例的可拉伸膜的俯视图。
图2是示出了根据示例性实施例的可拉伸膜的俯视图。
图3是示出了根据示例性实施例的可拉伸膜与物体之间的粘附的示意图。
图4是示出了根据示例性实施例的制造可拉伸膜的方法的流程图。
图5是示出了根据示例性实施例的对初始膜的图像转印工艺的示意图。
图6和图7是示出了根据示例性实施例的对初始膜的图像转印工艺的示意图。
图8是示出了根据示例性实施例的可拉伸膜的剖视图。
图9是示出了根据示例性实施例的可拉伸膜与物体之间的粘附的示意图。
图10是示出了根据示例性实施例的显示装置的剖视图。
图11、图12、图13和图14是示出了根据示例性实施例的制造显示装置的方法的剖视图。
具体实施方式
在以下描述中，出于解释的目的，阐述了多处具体细节以提供对各种示例性实施例的彻底的理解。然而，清楚的是，各种示例性实施例可以在没有这些具体细节或一个或更多个等效布置的情况下实施。在其它情况下，以框图的形式示出了公知的结构和装置以避免使各种示例性实施例不必要地模糊。
在附图中，为了清楚和描述的目的，会夸大层、膜、面板、区域等的尺寸和相对尺寸。另外，同样的标号表示同样的元件。
当元件或层被称作“在”另一元件或层“上”、“连接到”或“结合到”另一元件或层时，该元件或层可以直接在所述另一元件或层之上、直接连接到或直接结合到所述另一元件或层，或者可以存在中间元件或中间层。然而，当元件被称作“直接在”另一元件或层“上”、“直接连接到”或“直接结合到”另一元件或层时，不存在中间元件或中间层。为了本公开的目的，“X、Y和Z中的至少一个(种)”和“从由X、Y和Z组成的组中选择的至少一个(种)”可以解释为只有X、只有Y、只有Z或者X、Y和Z中的两个(种)或更多个(种)的组合(例如，以XYZ、XYY、XZ和ZZ为例)。同样的标号始终表示同样的元件。如这里所使用的，术语“和/或”包括相关所列项中的一个或更多个的任意组合和全部组合。
虽然这里可使用术语第一、第二等来描述各种元件、组件、区域、层和/或部分，但是这些元件、组件、区域、层和/或部分不应受这些术语限制。这些术语是用来将一个元件、组件、区域、层和/或部分与另外的元件、组件、区域、层和/或部分区分开来。因此，在不脱离本公开的教导的情况下，下面讨论的第一元件、组件、区域、层和/或部分可以被命名为第二元件、组件、区域、层和/或部分。
为了描述的目的，这里可以使用诸如“在……之下”、“在……下方”、“下面的”、“在……上方”、“上面的”等的空间相对术语，从而描述如图中所示出的一个元件或特征与其它元件或特征的关系。空间相对术语意图包括除了在图中描绘的方位之外的装置在使用中、操作中和/或制造中的不同方位。例如，如果图中的装置被翻转，则描述为“在”其它元件或特征“下方”或“之下”的元件随后将被定位为“在”其它元件或特征“上方”。因此，示例性术语“在……下方”可以包括“在……上方”和“在……下方”两种方位。此外，装置可以被另外定位(例如，旋转90度或在其它方位)，并同样对在这里使用的空间相对描述符做出相应的解释。
这里使用的术语是为了描述具体实施例的目的而不是意图进行限制。如这里所使用的，除非上下文有另外明确指出，否则单数形式的术语“一个”、“一种”和“这/该”也意图包括复数形式。另外，术语“包含”和/或“包括”用在本说明书中时，说明存在所述特征、整体、步骤、操作、元件和/或组件，但不排除存在或附加一个或更多个其它特征、整体、步骤、操作、元件、组件和/或它们的组。
在此参照作为理想示例性实施例和/或中间结构的示意图的剖视图来描述各种示例性实施例。这样，例如由制造技术和/或公差引起的图示的形状的变化将是预期的。因此，这里所披露的示例性实施例不应该被解释为局限于区域的特定图示的形状，而将包括例如由制造引起的形状上的偏差。例如，示出为矩形的注入区域在其边缘将通常具有圆形或弯曲的特征和/或注入浓度的梯度，而不是从注入区域到非注入区域的二元变化。同样，通过注入形成的埋区会导致在埋区和通过其发生注入的表面之间的区域中的一些注入。因此，在图中示出的区域实际上是示意性的，它们的形状并不意图示出装置的区域的实际形状，并且不意图进行限制。
除非另有定义，否则在此使用的所有术语(包括技术术语和科学术语)具有与本公开作为其一部分的领域的普通技术人员通常所理解的含义相同的含义。除非在此明确定义，否则术语(诸如在通用字典中定义的术语)应解释为具有与相关领域的上下文中的含义相一致的含义，并且将不以理想化或过于正式的意义来进行解释。
图1是示出了根据示例性实施例的可拉伸膜的俯视图。
参照图1，可拉伸膜100可以具有膨胀性，并且可以包括硅树脂类树脂材料。硅树脂类树脂材料可以包括可光图案化硅树脂(photo-patternablesilicone，PPS)。
如这里所使用的，术语“膨胀性”可以指相对于外力在竖直或水平方向上膨胀或收缩的性质。例如，当张力水平地作用于可拉伸膜100的一部分时，这部分会竖直地(或纵向地)膨胀。当收缩力竖直地作用于可拉伸膜100的一部分时，这部分会水平地收缩。
在示例性实施例中，可拉伸膜100可以划分成第一区I和第二区II。在一些实施例中，可拉伸膜100还可以包括位于第一区I与第二区II之间的缓冲区III。第一区I和第二区II可以通过缓冲区III彼此连接。
在示例性实施例中，可拉伸膜100可以包括多个开口和多个边界图案。开口可以通过边界图案彼此分离。因此，可拉伸膜100由于开口和边界图案可以具有网状或网格形状。
开口可以包括第一开口115和第二开口125。多个第一开口115可以形成在第一区I中，多个第二开口125可以形成在第二区II中。在一些实施例中，缓冲开口131、133、135和137可以包括在缓冲区III中。
开口可以通过边界图案彼此分离。第一边界图案110、第二边界图案120和缓冲边界图案130可以分别形成在第一区I、第二区II和缓冲区III中。在示例性实施例中，边界图案可以包括具有膨胀性的树脂材料。
例如，边界图案可以包括聚二甲基硅氧烷(PDMS)或聚氨酯(PU)。在一些实施例中，边界图案可以包括PPS。
在示例性实施例中，可拉伸膜100可以附着到可以包括具有不同曲率的表面的物体。例如，物体可以包括具有正高斯曲率的表面(下文中，“正高斯表面”)和具有负高斯曲率的表面(下文中，“负高斯表面”)。该物体还可以包括在正高斯表面和负高斯表面之间的转折区(inflectionregion)。
在一些实施例中，可拉伸膜100的第一区I、第二区II和缓冲区III可以分别附着到物体的正高斯表面、负高斯表面和转折区。
在示例性实施例中，包括在第一区I中的第一开口115可以具有凹多边形形状。在一些实施例中，第一开口115可以具有如图1所示的大致的丝带形状(ribbonshape)。
在此情况下，可以布置多个具有丝带形状的第一开口115以限定第一开口行A。多个第一开口行A、B、C、D、E和F可以布置在竖直方向上。相邻的第一开口行中的第一开口115(例如，第一开口行A和B中的第一开口)可以以交错布置彼此相邻，从而第一区I中的第一开口115的密度可以得到改善。
在示例性实施例中，包括在第二区II中的第二开口125可以具有凸多边形形状。在一些实施例中，第二开口125可以具有如图1所示的大致的六边形形状。因此，第二区II可以具有大致的蜂窝形状的网状结构。
缓冲区III可以设置在第一区I和第二区II之间，以有助于从第一开口115到第二开口125的结构变化。例如，缓冲区III可以包括缓冲开口，使得丝带形状开口可以逐渐转变成六边形开口。
例如，缓冲开口可以包括具有不同形状的不同类型的开口。如图1所示，缓冲开口可以包括沿着从第一区I到第二区II的水平方向顺序布置的第一缓冲开口131、第二缓冲开口133、第三缓冲开口135和第四缓冲开口137。
然而，缓冲开口的形状或结构可以不限于图1中示出的形状或结构，而是可以进行适当的修改从而可以出现从第一开口115到第二开口125的结构转换。
虽然图1示出了带有一个第一区I和一个第二区II的可拉伸膜100，但是根据物体的曲率，示例性实施例可以包括具有多个第一区I和多个第二区II的可拉伸膜100。在第一区I和第二区II之间的每个区域可以包括缓冲区III。
图2是示出了根据示例性实施例的可拉伸膜的俯视图。
除了形成可拉伸图案代替图1中的开口之外，图2中的可拉伸膜200可以具有与图1中示出的可拉伸膜100的构造基本上相同或相似的构造。
在示例性实施例中，第一边界图案210可以包括在可拉伸膜200的第一区I中，多个第一可拉伸图案215可以通过第一边界图案210彼此分离。第一可拉伸图案215可以具有凹多边形形状(例如，丝带形状)。
第二边界图案220可以包括在可拉伸膜200的第二区II中，多个第二可拉伸图案225可以通过第二边界图案220彼此分离。第二可拉伸图案225可以具有凸多边形形状(例如，六边形形状)。
缓冲边界图案230可以包括在可拉伸膜200的缓冲区III中，多个缓冲可拉伸图案可以通过缓冲边界图案230彼此分离。例如，缓冲可拉伸图案可以包括沿着从第一区I到第二区II的水平方向具有互不相同的形状的第一缓冲可拉伸图案231、第二缓冲可拉伸图案233、第三缓冲可拉伸图案235和第四缓冲可拉伸图案237。
在示例性实施例中，边界图案210、220和230可以包括刚性比可拉伸图案215、225、231、233、235和237的刚性大的材料。例如，边界图案210、220和230可以包括弹性模量(例如，杨氏模量)比可拉伸图案215、225、231、233、235和237的弹性模量大的树脂材料。
在一些实施例中，可拉伸图案215、225、231、233、235和237可以包括PDMS和/或PPS，边界图案210、220和230可以包括PU。
当可拉伸膜200附着到物体时，可拉伸图案215、225、231、233、235和237可以膨胀或拉伸。边界图案210、220和230可以包括具有相对高的刚性或模量的树脂材料，从而可以防止可拉伸图案215、225、231、233、235和237过度变形或失去固有弹性。
图3是示出了根据示例性实施例的在可拉伸膜与物体之间的粘附的示意图。
参照图3，可拉伸膜可以附着在包括多个弯曲表面的物体50上。例如，图1或图2的可拉伸膜可以附着在物体50上。
为了方便描述，可拉伸膜由标号“100”表示，并且在图3中省略了包括在可拉伸膜100中的边界图案、开口和可拉伸图案的详细图示。可拉伸膜100中的虚线是用来表示可拉伸膜100的膨胀或拉伸方向的虚拟线。
物体50可以包括正高斯表面区PA、转折区IA和负高斯表面区NA。
在示例性实施例中，可拉伸膜100的第一区I、第二区II和缓冲区III可以分别附着在物体50的正高斯表面区PA、负高斯表面区NA和转折区IA上。
如参照图1与图2所示，可拉伸膜100的第一区I可以包括具有凹多边形形状(例如，丝带形状)的开口或可拉伸图案。因此，可拉伸膜100的第一区I可以转变为大致的拱顶形状以粘附到物体50。
可拉伸膜100的第二区II可以包括具有凸多边形形状(例如，六边形形状)的开口或可拉伸图案。因此，可拉伸膜100的第二区II可以转变为大致的马鞍形状以粘附到物体50。
可拉伸膜100的缓冲区III可以包括缓冲开口或缓冲可拉伸图案，从而可以避免在第一区I与第二区II之间可拉伸膜100的急剧转变。因此，可以防止在例如物体50的转折区IA处可拉伸膜100的松动。
如参照图1到图3所示，根据示例性实施例的可拉伸膜可以包括可针对物体的曲率和结构进行最优化设计的不同类型的开口或可拉伸图案。因此，当可拉伸膜附着到物体时，可拉伸膜可以根据物体的弯曲表面进行最优的膨胀或拉伸。因此，可拉伸膜可以粘附到物体而不会从物体有任何松动或剥离。
另外，可以最优地修改包括在可拉伸膜中的开口或可拉伸图案的多边形参数，例如内角、外角或边的长度，从而可以进一步增强可拉伸膜的粘附性。
图4是示出了根据示例性实施例的制造可拉伸膜的方法的流程图。图5是示出了根据示例性实施例的对初始膜的图像转印工艺的示意图。
参照图4，在操作S10中，可以测量物体的曲率。
在示例性实施例中，物体可以包括多个具有不同曲率的弯曲表面。例如，物体可以包括如图3所示的正高斯表面和负高斯表面。
也可以在操作S10中测量与测量曲率对应的每个弯曲表面的尺寸。因此，可以储存物体的每个弯曲表面的曲率和尺寸的数据。
在操作S20中，可以根据物体的曲率来确定可在可拉伸膜中形成的图案形状。可拉伸膜的图案可以包括图1中示出的开口或图2中示出的可拉伸图案。
在一些实施例中，如果物体的一个区域具有正高斯曲率，则可以将可拉伸膜的与该区域对应的图案形状确定为凹多边形图案。例如，凹多边形图案可以包括丝带形状图案。
在一些实施例中，如果物体的一个区域具有负高斯曲率，则可以将可拉伸膜的与该区域对应的图案形状确定为凸多边形图案。例如，凸多边形图案可以包括六边形图案。
在操作S20中也可以根据关于在操作S10中测量的物体的弯曲表面的尺寸的数据来确定用于可拉伸膜的图案形状的图案区。例如，如图1和图2所示，可以针对可拉伸膜确定凹多边形图案的第一区I与和凸多边形图案的第二区II的尺寸。
在一些实施例中，也可以确定位于第一区I和第二区II之间的缓冲区III的尺寸。
参照图4和图5，在操作S30中，确定的图案形状可以被转印到初始膜70的图案区以得到可拉伸膜。
在一些实施例中，转印工艺可以包括光工艺(photoprocess)。在此情况下，初始膜可以包括PPS膜。
例如，可以准备包括与确定的图案形状对应的缝隙的掩模60。缝隙可以具有与凹多边形图案和凸多边形图案对应的尺寸和形状。因此，掩模60可以包括基本上与可拉伸膜的第一区I和第二区II叠置的凹多边形缝隙62和凸多边形缝隙64。
在一些实施例中，可以在凹多边形缝隙62和凸多边形缝隙64之间形成具有与图1中示出的缓冲开口的形状基本上相同或相似的形状的缓冲缝隙66。
可以将掩模60设置在初始膜70上方，并且可以通过掩模60对初始膜70执行曝光工艺。曝光工艺可以包括紫外照射。
因此，可以去除通过狭缝62、64和66的初始膜70的曝光部分，以得到可拉伸膜(例如，如图1所示)。
初始膜70的由通过缝隙62、64和66的曝光工艺去除的部分可以转换成图1示出的开口。例如，丝带形状开口可以形成在确定为第一区I的图案区处。六边形开口可以形成在确定为第二区II的图案区处。
在一些实施例中，可以在分配为缓冲区III的图案区处形成缓冲开口。
在一些实施例中，操作S30的转印工艺可以通过成型工艺来执行。例如，可以根据通过操作S10和S20确定的图案形状和图案区来准备模具。模具可以包括与图1中示出的边界图案的缝隙基本上相同或相似的缝隙。
可以将诸如PDMS或PU的树脂材料设置到模具上，从而可以用树脂材料填充缝隙。在固化工艺之后，固化树脂材料可以从模具脱落，以制造图1的可拉伸膜。
图6和图7是示出了根据示例性实施例的对初始膜的图像转印工艺的示意图。
参照图6，用于图案转印工艺的掩模60a可以包括边界缝隙68。边界缝隙68可以具有与图2中示出的边界图案210、220和230的形状基本上相同或相似的形状。
可以将掩模60a设置在初始膜70a上，可以通过边界缝隙68对初始膜70a执行曝光工艺(例如，UV照射)。
参照图7，可以去除初始膜70a的通过边界缝隙68曝光的部分(在图6中示出)，以形成边界间隙75。初始膜70a的被边界间隙75围绕的部分可以限定为如图2所示的第一可拉伸图案215、第二可拉伸图案225和缓冲可拉伸图案231、233、235、237。
可以在边界间隙75中填充具有相对高的刚性或模量的树脂材料(例如PU)。然后，可以执行固化工艺以形成边界图案。边界图案可以包括如图2所示的第一边界图案210、第二边界图案220和缓冲边界图案230。
根据如上所述的示例性实施例，可以测量物体的曲率，可以根据测量的曲率来确定图案形状。可以将图案形状转印在可拉伸膜的期望区域上。因此，可以获得可以最优地粘附在物体的表面上的可拉伸膜。
图8是示出了根据示例性实施例的可拉伸膜的剖视图。
参照图8，可拉伸膜300可以包括沿着水平方向划分的第一区I和第二区II。在一些实施例中，可拉伸膜300还可以包括置于第一区I和第二区II之间的缓冲区III。
第一区I和第二区II可以具有多层结构。例如，第一区I和第二区II可以具有包括刚性不同的层的双层结构。
可拉伸膜300的第一区I可以包括高刚性层310和堆叠在高刚性层310上的低刚性层320。高刚性层310可以包括弹性模量比低刚性层320的弹性模量大的树脂材料。例如，高刚性层310和低刚性层320可以分别包括PU和PDMS。
可拉伸膜300的第二区II可以具有第一区I的相反布置。例如，第二区II可以包括低刚性层320和堆叠在低刚性层320上的高刚性层310。
缓冲图案330可以设置在可拉伸膜300的缓冲区III。在示例性实施例中，缓冲图案330可以包括具有介于高刚性层310与低刚性层320之间的模量的树脂材料。缓冲图案330可以用作第一区I与第二区II之间的粘合构件。
在示例性实施例中，包括例如PDMS的低刚性材料层可以形成在包括例如PU的高刚性材料层上，以得到初始膜。初始膜可以被切割以划分成第一部分和第二部分。第二部分可以被翻转，并且可以通过缓冲图案330使第一部分和第二部分附着，使得不同刚性材料层可以在水平方向上彼此面对。因此，可以制造出图8的可拉伸膜300。
在一些示例性实施例中，可拉伸膜300可以通过成型工艺得到。例如，可以将高刚性树脂和低刚性树脂顺序地注入到与第一区I相当的模具中，然后进行固化。可以将低刚性树脂和高刚性树脂顺序地注入到与第二区II相当的模具中，然后进行固化。随后，可以将树脂材料注入到与缓冲区III相当的模具中，以形成缓冲图案330。因此，可以获得图8的可拉伸膜300。
图9是示出了根据示例性实施例的可拉伸膜与物体之间的粘附的示意图。
参照图9，并且也如图3所示，物体50可以包括正高斯表面区PA和负高斯表面区NA。正高斯表面区PA与负高斯表面区NA之间的区域可以定义为转折区IA。
可拉伸膜300的第一区I、第二区II和缓冲区III可以分别附着在物体50的正高斯表面区PA、负高斯表面区NA和转折区IA上。
相对于高刚性层310，低刚性层320可以被更大程度的拉伸。因此，可以在可拉伸膜300中转印或传递物体50的曲率的定向，从而可以使可拉伸膜300粘附到物体50而不会从物体50的弯曲表面松动或剥离。
另外，缓冲图案330可以防止或吸收可能因转折区IA处的曲率的转变而引起的可拉伸膜300的变形。因此，可以防止在转折区IA或缓冲区III处的高刚性层310和低刚性层320之间的分离或脱落。
图10是示出了根据示例性实施例的显示装置的剖视图。例如，图10示出了有机发光显示(OLED)装置。
也参照图10来描述形成该显示装置的元件的方法。
参照图10，显示装置可以包括附着到基础基板400的底表面的可拉伸膜100以及设置在基础基板400上的像素电路和发光结构。
基础基板400可以包括具有柔性性质的聚合物材料。例如，基础基板400可以包括聚酰亚胺类材料。因此，显示装置可以设置为柔性OLED装置。
阻挡层410可以形成在基础基板400上。可以通过阻挡层410来阻止基础基板400与形成于其上的结构之间的杂质扩散。
阻挡层410可以由例如氧化硅或氮化硅形成。在一些实施例中，阻挡层410可以具有包括氧化硅层和氮化硅层的多堆叠结构。阻挡层410可以覆盖基础基板400的大体部分的整个顶表面。
在一些实施例中，还可以使用氧化硅、氮化硅和/或氮氧化硅在阻挡层410上形成缓冲层。
活性层415可以形成在阻挡层410上。例如，半导体材料层可以形成在阻挡层410上，并且可以通过光刻工艺图案化以形成活性层415。
可以使用非晶硅或多晶硅形成半导体材料层。例如，可以在阻挡层410上形成非晶硅层，然后可以对其执行诸如低温多晶硅(LTPS)工艺或激光退火工艺的结晶工艺以形成包括多晶硅的半导体材料层。
可替换地，半导体材料层可以由诸如氧化铟镓锌(LGZO)、氧化锌锡(ZTO)或氧化铟锡锌(ITZO)的半导体氧化物形成。
栅极绝缘层420可以形成在缓冲层410上以覆盖活性层415。例如，可以通过CVD工艺或旋涂工艺等由氧化硅、氮化硅或氮氧化硅形成栅极绝缘层420。
栅电极425可以形成在栅极绝缘层420上。栅电极425可以基本层叠在活性层415上方。例如，可以在栅极绝缘层420上形成第一导电层，然后将第一导电层图案化以形成与活性层415叠置的栅电极425。
可以利用诸如铝(Al)、银(Ag)、钨(W)、铜(Cu)、镍(Ni)、铬(Cr)、钼(Mo)、钛(Ti)、铂(Pt)、钽(Ta)、钕(Nd)、钪(Sc)等的金属、所列金属的合金或所列金属的氮化物形成第一导电层。这些物质可以单独使用或以它们的组合使用。可替换地，第一导电层可以由诸如氧化铟锡(ITO)、氧化铟锌(IZO)或铝掺杂的氧化锌(AZO)的透明导电材料形成。
在一些实施例中，可以利用栅电极425作为注入掩模将杂质注入到活性层415，从而可以在活性层415的两端形成源区和漏区。活性层415的介于源区与漏区之间的部分可以用作与栅电极425基本叠置的沟道区。
绝缘中间层430可以形成在栅极绝缘层420上以覆盖栅电极425。绝缘中间层430可以由氧化硅、氮化硅或氮氧化硅形成。在一些实施例中，绝缘中间层430可以形成为包括氧化硅层和氮化硅层的多层结构。
源电极433和漏电极435可以穿过绝缘中间层430和栅极绝缘层420形成。源电极433和漏电极435可以与活性层415接触。
例如，可以部分刻蚀绝缘中间层430和栅极绝缘层420以形成接触孔，通过所述接触孔使活性层415暴露。填充接触孔的第二导电层可以形成在绝缘中间层430上，并且被图案化以形成源电极433和漏电极435。源电极433和漏电极435可以分别与活性层415的源区和漏区接触。
可以利用与用于第一导电层的工艺和材料基本上相同或相似的工艺和材料来形成第二导电层。
因此，可以形成包括活性层415、栅极绝缘层420、栅电极425、源电极433和漏电极435的薄膜晶体管(TFT)。例如，可以在显示装置的每个像素上形成至少一个TFT。在一些实施例中，可以在显示装置的每个像素上形成开关TFT和驱动TFT。另外，也可以在显示装置的每个像素上形成电容器。
在一些实施例中，显示装置可以包括数据线和扫描线。扫描线可以由第一导电层图案化而成以连接到栅电极425。数据线可以由第二导电层图案化而成以连接到源电极433。
因此，包括数据线、扫描线和TFT的像素电路可以形成在基础基板400上。
覆盖源电极433和漏电极435的通路绝缘层440可以形成在绝缘中间层430上。
在示例性实施例中，通路绝缘层440可以使用诸如聚酰亚胺、环氧类树脂、亚克力类树脂或聚酯的有机材料形成。通路绝缘层440可以具有足够大的厚度，使得通路绝缘层440的顶表面可以基本上水平或平坦。
上面提到的阻挡层410、半导体材料层、第一导电层、第二导电层、栅极绝缘层420、绝缘中间层430和通路绝缘层440可以通过化学气相沉积(VCD)工艺、等离子体增强化学气相沉积(PECVD)工艺、高密度等离子体化学气相沉积(HDP-CVD)工艺、热沉积工艺、真空蒸镀工艺、旋涂工艺、溅射工艺、原子层沉积(ALD)工艺和印刷工艺中的至少一种形成。
包括第一电极450、发射层470和第二电极480的发光结构可以形成在通路绝缘层440上。
第一电极450可以形成在通路绝缘层440上，并且可以电连接到漏电极435。
例如，可以对通路绝缘层440进行局部刻蚀以形成通孔，可以通过该通孔暴露漏电极435。可以在通路绝缘层440上形成填充通孔的第三导电层并且将第三导电层图案化以形成第一电极450。
在示例性实施例中，可以通过热沉积工艺、真空蒸镀工艺、溅射工艺、ALD工艺、CVD工艺或印刷工艺，利用诸如Al、Ag、W、Cu、Ni、Cr、Mo、Ti、Pt、Ta、Nd或Sc的金属或者所列金属的合金来形成第三导电层。在一些实施例中，第三导电层可以由诸如ITO、IZO、氧化锌或氧化铟的透明导电材料形成。
第一电极450可以用作显示装置的像素电极或阳极。可以为每个像素单独提供第一电极450。
像素限定层(PDL)460可以形成在通路绝缘层440上。PDL460可以覆盖第一电极450的***部分。例如，可以涂覆诸如聚酰亚胺树脂或亚克力树脂的光敏有机材料并对其进行曝光和显影，以形成PDL460。
发射层470可以形成在通过PDL460暴露的第一电极上。第二电极480可以形成在发射层470和PDL460上。
可以对产生空穴和电子的第一电极450和第二电极480施加预定电压。空穴和电子可以彼此结合产生激子。激子可以转变为基态，从而可以发射光。
在示例性实施例中，空穴传输层(HTL)还可以形成在发射层470和第一电极450之间。电子传输层(ETL)还可以形成在发射层470和第二电极480之间。
发射层470可以包括用来产生不同颜色(例如，红色、绿色或蓝色)的光的发光材料。发射层470可以具有用来产生白色光的多层结构。
HTL可以包括空穴传输材料，例如，4,4’-双[N-(1-萘基)-N-苯基氨基]联苯(NPB)、4,4’-双[N-(3-甲基苯基)-N-苯基氨基]联苯(TPD)、N,N’-双-1-萘基-N,N’-二苯基-1,1’-联苯基-4,4’-二胺(NPD)、N-苯基咔唑、聚乙烯基咔唑或它们的组合。
ETL可以包括电子传输材料，例如，三(8-羟基喹啉)铝(Alq3)、2-(4-联苯基)-5-4-叔丁基苯基-1,3,4-噁二唑(PBD)、二(2-甲基-8-羟基喹啉)-4-苯基苯酚-铝(BAlq)、浴铜灵(BCP)、***(TAZ)、苯基喹唑啉或它们的组合。
可以通过旋涂工艺、辊印刷工艺、喷嘴印刷工艺、喷墨印刷工艺、使用供体基板的转印工艺等形成发射层470。在一些实施例中，发射层470可以被图案化以被PDL460的侧壁限制。
第二电极480可以由诸如Li、Ca、LiF/Ca、LiF/Al、Al、Mg、Ag、Cr、W、Mo或Ti的金属或者它们的合金形成。可替换地，第二电极480可以由诸如ITO、IZO、AZO、氧化锌或氧化锡的透明导电材料形成。第二电极480可以通过溅射工艺、ALD工艺、PVD工艺、PLD工艺或印刷工艺形成。
第二电极480可以在多个像素上延伸，并且可以用作显示装置的共电极。
在一些实施例中，包括柔性聚合物材料的包封层可以形成在第二电极480上。
根据示例性实施例的可拉伸膜100可以附着在基础基板400的底部上。如图1所示，可拉伸膜100可以包括根据显示装置所附着到的区域而设计的不同类型的开口。
在一些实施例中，显示装置可以包括图2的可拉伸膜。在此情况下，可拉伸膜200可以包括根据显示装置所附着到的区域而设计的不同类型的可拉伸图案。
在一些实施例中，显示装置可以包括图8的可拉伸膜300。在此情况下，可拉伸膜300可以包括根据显示装置所附着到的区域以不同的顺序堆叠的高刚性层和低刚性层。
在一些实施例中，显示装置还可以包括校准传感器(calibrationsensor)150。校准传感器150可以嵌入在可拉伸膜100中，或者可以设置在与基础基板400和可拉伸膜100的界面相邻的区域处。
校准传感器150可以识别当可拉伸膜100附着到物体并拉伸或膨胀时的图像失真。失真的图像可以通过校准传感器150修正成平面图像.
在一些实施例中，可以为可拉伸膜100的每个区域设置校准传感器150。例如，可以为分别与物体的正高斯表面和负高斯表面对应的第一区I和第二区II中的每个设置校准传感器150。因此，不同方位的图像失真可以通过多个校准传感器150而得以修正。
校准传感器150可以包括Flex传感器、加速度传感器或陀螺仪传感器。
如上所述，显示装置可以包括可根据物体的曲率变化而进行最优设计的可拉伸膜100。可拉伸膜100可以附着在具有柔性性质的基础基板400底部上。因此，可以获得无图像失真并且不会从物体剥离的可穿戴显示装置。
图11到图14是示出了根据示例性实施例的制造显示装置的方法的剖视图。例如，图11到图14示出了制造图10的显示装置的方法。
为了简明，省略了与参照图10示出的工艺和材料基本上相同或相似的工艺和材料的详细描述。
参照图11，可以在载体基板500上形成基础基板400。
可以在载体基板500上支承基础基板400，同时对基础基板400执行装置工艺。可以使用玻璃基板或金属基板作为载体基板500。
在示例性实施例中，可以在载体基板500上涂覆包括聚酰亚胺前驱体的组成物以形成涂层。然后，可以热固化涂层。包括在涂层中的聚酰亚胺前驱体可以在固化工艺过程中聚合以形成包括聚酰亚胺树脂的基础基板400.
参照图12，并且也如参照图10所描述的，可以在基础基板400上形成像素电路和包括发射层470的发光结构。
参照图13，可以使载体基板500从基础基板400分离或脱落，从而可以使基础基板400的底表面暴露。
例如，可以通过例如激光剥离工艺使载体基板500与基础基板400分离。可替换地，载体基板500可以通过真空提升机或通过人力拉以从基础基板400脱落。
参照图14，可以在基础基板400的底表面上附着可拉伸膜100，以得到根据示例性实施例的显示装置。
在示例性实施例中，可以在可拉伸膜100中嵌入校准传感器150。然后，可以将可拉伸膜100附着到基础基板400。在一些实施例中，可以将校准传感器150附着到基础基板400的底表面，然后可以将可拉伸膜100附着到基板以覆盖校准传感器150。
根据如上所述的示例性实施例，可拉伸膜可以包括根据物体的曲率构造而具有不同的形状或材料的图案或堆叠结构。因此，可拉伸膜可以根据物体的曲率改变进行最优的膨胀或拉伸。因此，可拉伸膜可以粘附到物体的弯曲表面而不会松动或变形。可以将可拉伸膜实施到具有可穿戴性质的柔性显示装置或其他柔性显示器。
上述是对示例性实施例的说明性描述，并且不被解释对其的限制。虽然已经描述了一些示例性实施例，但是本领域技术人员将容易理解，在本质上不脱离本发明构思的新颖教导和优点的情况下，能够在示例性实施例中进行许多修改。因此，所有这样的修改意图被包括在如权利要求书所限定的本发明构思的范围内。因此，将理解的是，上述对各种示例性实施例的说明性描述并不意图被解释为局限于所公开的具体示例性实施例，并且对所公开的示例性实施例的修改以及其他示例性实施例意图被包括在权利要求书的范围内。

Claims (10)

1.一种可拉伸膜，所述可拉伸膜包括：
第一区，包括多个具有凹多边形形状的第一图案；
第二区，包括多个具有凸多边形形状的第二图案；以及
缓冲区，位于所述第一区与所述第二区之间。
2.根据权利要求1所述的可拉伸膜，其中，所述第一图案包括丝带形状的开口和丝带形状的可拉伸图案中的至少一种。
3.根据权利要求1所述的可拉伸膜，其中，所述第二图案包括六边形形状的开口和六边形形状的可拉伸图案中的至少一种。
4.根据权利要求1所述的可拉伸膜，所述可拉伸膜还包括：
第一边界图案，位于所述第一区中，所述第一图案通过所述第一边界图案彼此分开或分离；
第二边界图案，位于所述第二区中，所述第二图案通过所述第二边界图案彼此分开或分离。
5.根据权利要求4所述的可拉伸膜，其中，所述第二边界图案具有蜂窝网格形状。
6.根据权利要求4所述的可拉伸膜，其中，所述第一边界图案和所述第二边界图案具有比所述第一图案和所述第二图案的弹性模量大的弹性模量。
7.根据权利要求6所述的可拉伸膜，其中，所述第一图案和所述第二图案包括聚二甲基硅氧烷和可光图案化硅树脂中的至少一种，其中，所述第一边界图案和所述第二边界图案包括聚二甲基硅氧烷、可光图案化硅树脂和聚氨酯中的至少一种。
8.根据权利要求1所述的可拉伸膜，所述可拉伸膜还包括缓冲图案和缓冲开口中的至少一种，其中，所述缓冲图案位于所述缓冲区中并且被构造成连接所述第一图案和所述第二图案，所述缓冲开口位于所述缓冲区中并且被构造成连接所述第一图案和所述第二图案。
9.根据权利要求8所述的可拉伸膜，其中：
所述缓冲开口包括沿着从所述第一区到所述第二区的方向顺序地布置并且具有互不相同的形状的第一缓冲开口、第二缓冲开口、第三缓冲开口和第四缓冲开口。
10.根据权利要求8所述的可拉伸膜，其中：
所述缓冲图案包括沿着从所述第一区到所述第二区的方向顺序地布置并且具有互不相同的形状的第一缓冲图案、第二缓冲图案、第三缓冲图案和第四缓冲图案。
CN201510646271.9A 2014-10-08 2015-10-08 可拉伸膜及其制造方法和包括可拉伸膜的显示装置 Active CN105514115B (zh)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR10-2014-0135628 2014-10-08
KR1020140135628A KR102363908B1 (ko) 2014-10-08 2014-10-08 신장 가능 필름, 이의 제조방법 및 이를 포함하는 표시 장치

Publications (2)

Publication Number Publication Date
CN105514115A true CN105514115A (zh) 2016-04-20
CN105514115B CN105514115B (zh) 2020-11-27

Family

ID=54256550

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
CN201510646271.9A Active CN105514115B (zh) 2014-10-08 2015-10-08 可拉伸膜及其制造方法和包括可拉伸膜的显示装置

Country Status (4)

Country Link
US (3) US10217950B2 (zh)
EP (1) EP3006198B1 (zh)
KR (3) KR102363908B1 (zh)
CN (1) CN105514115B (zh)

Cited By (17)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN108122490A (zh) * 2016-11-30 2018-06-05 乐金显示有限公司 覆盖板和包括覆盖板的可折叠显示装置
TWI626776B (zh) * 2017-08-17 2018-06-11 華碩電腦股份有限公司 可撓式顯示器及其製造方法
CN109037300A (zh) * 2018-08-29 2018-12-18 京东方科技集团股份有限公司 显示面板及具有其的显示装置
CN109073951A (zh) * 2016-05-31 2018-12-21 伊英克公司 可伸展的电光显示器
CN109727538A (zh) * 2017-10-31 2019-05-07 乐金显示有限公司 可卷曲显示器
WO2020019859A1 (zh) * 2018-07-24 2020-01-30 京东方科技集团股份有限公司 显示装置及其制备方法
WO2020114349A1 (zh) * 2018-12-03 2020-06-11 京东方科技集团股份有限公司 显示基板和显示装置
CN111295870A (zh) * 2017-11-01 2020-06-16 Lg电子株式会社 柔性显示单元和包括柔性显示单元的移动终端
CN111316344A (zh) * 2017-11-01 2020-06-19 Lg电子株式会社 柔性框架和具有柔性框架的柔性显示单元
CN112017552A (zh) * 2019-05-29 2020-12-01 群创光电股份有限公司 电子装置
CN113823188A (zh) * 2018-07-26 2021-12-21 乐金显示有限公司 可拉伸显示面板及包括其的可拉伸显示装置
CN114120815A (zh) * 2020-08-27 2022-03-01 深圳柔宇显示技术有限公司 可拉伸显示屏及其制作方法、电子设备
CN114419987A (zh) * 2020-10-28 2022-04-29 群创光电股份有限公司 显示面板
US11349088B2 (en) 2018-10-12 2022-05-31 Boe Technology Group Co., Ltd. Flexible display panel having distributed holes
US11395420B2 (en) 2019-02-02 2022-07-19 Boe Technology Group Co., Ltd. Display panel and display apparatus
TWI777129B (zh) * 2019-02-04 2022-09-11 美商惠普發展公司有限責任合夥企業 電子顯示器裝置
CN115240547A (zh) * 2022-06-15 2022-10-25 昆山国显光电有限公司 显示装置及其制备方法

Families Citing this family (34)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
FR3036307B1 (fr) * 2015-05-22 2017-06-02 Halcyon Procede ameliore de fabrication d'une piece metallique du type sandwich presentant une forme non-developpable
KR102411539B1 (ko) * 2015-10-26 2022-06-22 삼성디스플레이 주식회사 마스크 조립체, 표시 장치의 제조장치 및 표시 장치의 제조방법
JP6789058B2 (ja) * 2016-10-14 2020-11-25 株式会社ジャパンディスプレイ 表示装置、および表示装置の作製方法
WO2018101724A1 (ko) * 2016-11-29 2018-06-07 서울대학교산학협력단 전도성 유연 소자
KR102088864B1 (ko) * 2016-11-29 2020-03-13 서울대학교산학협력단 전도성 유연 소자
KR102609510B1 (ko) * 2016-11-30 2023-12-04 엘지디스플레이 주식회사 폴더블 표시 장치
CN110678796B (zh) * 2017-06-01 2022-05-24 昕诺飞控股有限公司 准直器设备、照明设备、灯和照明器
WO2019013507A1 (ko) 2017-07-10 2019-01-17 고려대학교 세종산학협력단 신축성 기판 및 신축성 기판 제조방법, 신축성 기판 구조체 제조장치 및 신축성 기판 구조체 제조방법
WO2019046335A1 (en) * 2017-08-28 2019-03-07 Georgia Tech Research Corporation STABLE ELECTRONIC EQUIPMENT AND DEVICES
USD846310S1 (en) * 2017-09-15 2019-04-23 Breathablebaby, Llc Crib liner
USD859032S1 (en) * 2017-09-15 2019-09-10 Breathablebaby, Llc Crib liner
USD846307S1 (en) * 2017-09-15 2019-04-23 Breathablebaby, Llc Crib liner
USD845671S1 (en) * 2017-09-15 2019-04-16 Breathablebaby, Llc Crib liner
USD846308S1 (en) * 2017-09-15 2019-04-23 Breathablebaby, Llc Crib liner
USD845672S1 (en) * 2017-09-15 2019-04-16 Breathablebaby, Llc Crib liner
USD845670S1 (en) * 2017-09-15 2019-04-16 Breathablebaby, Llc Crib liner
USD862928S1 (en) * 2017-09-15 2019-10-15 Breathablebaby, Llc Crib liner
USD846309S1 (en) * 2017-09-15 2019-04-23 Breathablebaby, Llc Crib liner
KR102111848B1 (ko) * 2018-05-21 2020-05-15 고려대학교 세종산학협력단 스트레쳐블 디스플레이 및 그 제조방법
KR102519417B1 (ko) 2018-11-28 2023-04-10 삼성디스플레이 주식회사 스트레처블 표시 장치
CN111627325B (zh) * 2019-02-27 2022-05-13 昆山工研院新型平板显示技术中心有限公司 显示面板母板、显示面板及显示面板的制备方法
KR20210086844A (ko) 2019-12-31 2021-07-09 삼성디스플레이 주식회사 표시 장치
CN111179744B (zh) * 2020-02-19 2021-06-01 武汉华星光电半导体显示技术有限公司 显示模组及显示装置
JP2021150584A (ja) * 2020-03-23 2021-09-27 株式会社ジャパンディスプレイ 電子機器
KR102437092B1 (ko) * 2020-10-13 2022-08-26 한국기계연구원 스트레처블 인쇄 회로 기판 및 스트레처블 인쇄 회로 기판 제조 방법
KR102463884B1 (ko) * 2020-10-13 2022-11-04 한국기계연구원 신축성 기판 및 그 제조 방법
KR102279068B1 (ko) * 2020-11-25 2021-07-19 한국과학기술연구원 신축성 기판 및 그 제조 방법
KR102279065B1 (ko) 2020-11-25 2021-07-19 한국과학기술연구원 투명 신축성 기판 및 그 제조 방법
KR102279067B1 (ko) * 2020-11-25 2021-07-19 한국과학기술연구원 신축성 기판 및 그 제조 방법
KR20220077715A (ko) * 2020-12-02 2022-06-09 엘지디스플레이 주식회사 표시 장치
KR20220138490A (ko) 2021-04-02 2022-10-13 삼성디스플레이 주식회사 전자 장치
US20230125282A1 (en) * 2021-10-21 2023-04-27 Cognito Health Inc. Sensor Device
KR20230108491A (ko) * 2022-01-11 2023-07-18 한국과학기술원 전 방향 신축성을 갖는 섬유 강화 복합체 필름 및 그 제조방법
US20240206086A1 (en) * 2022-12-16 2024-06-20 Samsung Display Co., Ltd. Display device

Citations (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US20080203556A1 (en) * 2005-05-18 2008-08-28 Kolo Technologies, Inc. Through-Wafer Interconnection
US20100143848A1 (en) * 2008-12-09 2010-06-10 Kanti Jain Patterning methods for stretchable structures
US20110156314A1 (en) * 2009-12-30 2011-06-30 3M Innovative Properties Company Method of making an auxetic mesh
CN102148336A (zh) * 2009-12-31 2011-08-10 三星移动显示器株式会社 阻挡膜复合材料及包括其的显示装置
US20120147351A1 (en) * 2009-08-21 2012-06-14 Asml Netherlands B.V. Spectral purity filter, lithographic apparatus, and method for manufacturing a spectral purity filter
CN102770094A (zh) * 2009-07-02 2012-11-07 特莱特恩医药公司 用于治疗脉管分叉的小孔支撑物
WO2013003644A1 (en) * 2011-06-30 2013-01-03 Elixir Medical Corporation Biodegradable endoprostheses and methods for their fabrication
US20130344601A1 (en) * 2010-11-22 2013-12-26 The Regents Of The University Of California Micro-structured biomaterials and fabrication methods therefor
CN203546921U (zh) * 2013-09-18 2014-04-16 阿博建材（昆山）有限公司 中间成型网

Family Cites Families (13)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
TW452483B (en) 1999-02-09 2001-09-01 Wacoal Corp Clothes having figure smoothing function
AUPQ583900A0 (en) 2000-02-24 2000-03-16 Sun-Gard Australia Pty Ltd. Vehicle glass coating
KR100536164B1 (ko) 2003-01-11 2005-12-14 이성근 글리터 함유 신축성 필름 및 이의 제조방법
US8217381B2 (en) 2004-06-04 2012-07-10 The Board Of Trustees Of The University Of Illinois Controlled buckling structures in semiconductor interconnects and nanomembranes for stretchable electronics
US8084117B2 (en) 2005-11-29 2011-12-27 Haresh Lalvani Multi-directional and variably expanded sheet material surfaces
JP2007159603A (ja) 2005-12-09 2007-06-28 Meiwa Gravure Co Ltd 積層シート
JP5117577B2 (ja) 2007-11-19 2013-01-16 ザ プロクター アンド ギャンブル カンパニー 使い捨て吸収性物品のための外側カバー
CN102387915A (zh) 2009-02-17 2012-03-21 伊利诺伊大学评议会 柔性微结构超疏水材料
WO2011008459A2 (en) 2009-06-29 2011-01-20 Infinite Corridor Technology, Llc Structured material substrates for flexible, stretchable electronics
JP5533866B2 (ja) 2009-06-30 2014-06-25 日本ゼオン株式会社 伸縮性フィルム用組成物
KR20110057620A (ko) 2009-11-24 2011-06-01 성낙훈 가발용 금속메쉬 및 그 제조방법과 이를 이용한 가발
JP5611812B2 (ja) 2009-12-31 2014-10-22 三星ディスプレイ株式會社Ｓａｍｓｕｎｇ Ｄｉｓｐｌａｙ Ｃｏ．，Ｌｔｄ． バリア・フィルム複合体、これを含む表示装置及び表示装置の製造方法
KR20130007005A (ko) * 2011-06-28 2013-01-18 삼성디스플레이 주식회사 패턴 형성용 마스크 및 유기 발광 표시 장치

Patent Citations (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US20080203556A1 (en) * 2005-05-18 2008-08-28 Kolo Technologies, Inc. Through-Wafer Interconnection
US20100143848A1 (en) * 2008-12-09 2010-06-10 Kanti Jain Patterning methods for stretchable structures
CN102770094A (zh) * 2009-07-02 2012-11-07 特莱特恩医药公司 用于治疗脉管分叉的小孔支撑物
US20120147351A1 (en) * 2009-08-21 2012-06-14 Asml Netherlands B.V. Spectral purity filter, lithographic apparatus, and method for manufacturing a spectral purity filter
US20110156314A1 (en) * 2009-12-30 2011-06-30 3M Innovative Properties Company Method of making an auxetic mesh
CN102148336A (zh) * 2009-12-31 2011-08-10 三星移动显示器株式会社 阻挡膜复合材料及包括其的显示装置
US20130344601A1 (en) * 2010-11-22 2013-12-26 The Regents Of The University Of California Micro-structured biomaterials and fabrication methods therefor
WO2013003644A1 (en) * 2011-06-30 2013-01-03 Elixir Medical Corporation Biodegradable endoprostheses and methods for their fabrication
CN203546921U (zh) * 2013-09-18 2014-04-16 阿博建材（昆山）有限公司 中间成型网

Cited By (32)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN109073951B (zh) * 2016-05-31 2022-05-13 伊英克公司 可伸展的电光显示器
CN109073951A (zh) * 2016-05-31 2018-12-21 伊英克公司 可伸展的电光显示器
US10602631B2 (en) 2016-11-30 2020-03-24 Lg Display Co., Ltd. Cover plate and foldable display device including the same
CN108122490A (zh) * 2016-11-30 2018-06-05 乐金显示有限公司 覆盖板和包括覆盖板的可折叠显示装置
TWI626776B (zh) * 2017-08-17 2018-06-11 華碩電腦股份有限公司 可撓式顯示器及其製造方法
US11089699B2 (en) 2017-10-31 2021-08-10 Lg Display Co., Ltd. Rollable display
CN109727538A (zh) * 2017-10-31 2019-05-07 乐金显示有限公司 可卷曲显示器
US11343909B2 (en) 2017-11-01 2022-05-24 Lg Electronics Inc. Flexible display unit and mobile terminal including same
CN111316344B (zh) * 2017-11-01 2022-03-29 Lg电子株式会社 柔性框架和具有柔性框架的柔性显示单元
CN111295870A (zh) * 2017-11-01 2020-06-16 Lg电子株式会社 柔性显示单元和包括柔性显示单元的移动终端
CN111316344A (zh) * 2017-11-01 2020-06-19 Lg电子株式会社 柔性框架和具有柔性框架的柔性显示单元
CN111295870B (zh) * 2017-11-01 2021-08-27 Lg电子株式会社 柔性显示单元和包括柔性显示单元的移动终端
WO2020019859A1 (zh) * 2018-07-24 2020-01-30 京东方科技集团股份有限公司 显示装置及其制备方法
US11785832B2 (en) 2018-07-24 2023-10-10 Boe Technology Group Co., Ltd. Display device and method for manufacturing the same
US11251383B2 (en) 2018-07-24 2022-02-15 Boe Technology Group Co., Ltd. Display device and method for manufacturing the same
CN110751902A (zh) * 2018-07-24 2020-02-04 京东方科技集团股份有限公司 显示装置及其制备方法
CN113823188A (zh) * 2018-07-26 2021-12-21 乐金显示有限公司 可拉伸显示面板及包括其的可拉伸显示装置
CN113823188B (zh) * 2018-07-26 2023-06-30 乐金显示有限公司 可拉伸显示面板及包括其的可拉伸显示装置
US10923551B2 (en) 2018-08-29 2021-02-16 Boe Technology Group Co., Ltd. Display panel with stretching units and display device having the same
CN109037300B (zh) * 2018-08-29 2022-01-14 京东方科技集团股份有限公司 显示面板及具有其的显示装置
CN109037300A (zh) * 2018-08-29 2018-12-18 京东方科技集团股份有限公司 显示面板及具有其的显示装置
US11349088B2 (en) 2018-10-12 2022-05-31 Boe Technology Group Co., Ltd. Flexible display panel having distributed holes
WO2020114349A1 (zh) * 2018-12-03 2020-06-11 京东方科技集团股份有限公司 显示基板和显示装置
US11539010B2 (en) 2018-12-03 2022-12-27 Boe Technology Group Co., Ltd. Display substrate and display device in which difference in deformation between central and peripheral portions of display region is eliminated during stretch or compression
US11395420B2 (en) 2019-02-02 2022-07-19 Boe Technology Group Co., Ltd. Display panel and display apparatus
TWI777129B (zh) * 2019-02-04 2022-09-11 美商惠普發展公司有限責任合夥企業 電子顯示器裝置
CN115331580A (zh) * 2019-05-29 2022-11-11 群创光电股份有限公司 电子装置
CN112017552A (zh) * 2019-05-29 2020-12-01 群创光电股份有限公司 电子装置
CN114120815A (zh) * 2020-08-27 2022-03-01 深圳柔宇显示技术有限公司 可拉伸显示屏及其制作方法、电子设备
CN114419987A (zh) * 2020-10-28 2022-04-29 群创光电股份有限公司 显示面板
CN115240547A (zh) * 2022-06-15 2022-10-25 昆山国显光电有限公司 显示装置及其制备方法
CN115240547B (zh) * 2022-06-15 2023-06-23 昆山国显光电有限公司 显示装置及其制备方法

Also Published As

Publication number Publication date
EP3006198A1 (en) 2016-04-13
CN105514115B (zh) 2020-11-27
EP3006198B1 (en) 2016-10-19
US10217950B2 (en) 2019-02-26
KR20220027895A (ko) 2022-03-08
US20200381640A1 (en) 2020-12-03
US10790459B2 (en) 2020-09-29
KR20160042288A (ko) 2016-04-19
KR102363908B1 (ko) 2022-02-17
KR20230082006A (ko) 2023-06-08
KR102537996B1 (ko) 2023-05-31
US20190148655A1 (en) 2019-05-16
US20160104850A1 (en) 2016-04-14
US11515495B2 (en) 2022-11-29

Similar Documents

Publication Publication Date Title
CN105514115A (zh) 可拉伸膜及其制造方法和包括可拉伸膜的显示装置
US9695500B2 (en) Mask frame assembly for thin layer deposition, a method of manufacturing the same, and a method of manufacturing display apparatus by using a mask frame assembly
US9595691B2 (en) Organic light emitting diode device
US9647245B2 (en) Flexible organic electroluminescent device and method of fabricating the same
US20160064685A1 (en) Protection structure and organic light emitting display device including the protection structure
US9196664B2 (en) Display device and method for fabricating the same
US7893899B2 (en) Organic light emitting diode display and fabricating method thereof
US20170133592A1 (en) Mask frame assembly, device for deposition including the same, and method of manufacturing display device
US10403860B2 (en) Mask frame assembly, a method of manufacturing the same, and a method of manufacturing a display apparatus
US10374157B2 (en) Mask for deposition, method of manufacturing mask, and method of manufacturing display device
US8030844B2 (en) Flat panel display and method of manufacturing the same
KR20140063303A (ko) 플렉서블 디스플레이 장치의 제조 방법
US20170141314A1 (en) Mask assembly and apparatus and method of manufacturing display apparatus using the same
US20160291219A1 (en) Mirror substrates, methods of manufacturing the same and display devices including the same
CN102339849B (zh) 有机发光显示设备及其制造方法
US10269872B2 (en) Display apparatus
KR102037487B1 (ko) 유기전계 발광소자의 제조 방법 및 그 방법에 의해 제조된 유기전계 발광소자
US20160322573A1 (en) Method of manufacturing mask and method of manufacturing display device
KR102318266B1 (ko) 유기 발광 표시 장치 및 그 제조 방법
CN116456772A (zh) 显示基板及其制备方法、显示装置

Legal Events

Date Code Title Description
C06 Publication
PB01 Publication
SE01 Entry into force of request for substantive examination
SE01 Entry into force of request for substantive examination
GR01 Patent grant
GR01 Patent grant