CN105426006A - 具有高阻膜的内嵌式触摸屏及其制备方法 - Google Patents

Abstract

本发明涉及一种具有高阻膜的内嵌式触摸屏及其制备方法。触摸屏包括依次层叠的第一基板、薄膜晶体管基板、液晶层、彩色滤光片、触摸感应层、第二基板、高阻膜偏光板。薄膜晶体管基板朝向液晶层的表面上设有多条相互绝缘的感应线路。通过在第二基板远离触摸感应层的表面设置高阻膜，并将高阻膜与薄膜晶体管基板电连接。高阻膜的材料包括氧化石墨、氧化锡、表面活性剂和交联剂的混合物，具有优良的吸附性能和电学特性，通过高阻膜将薄膜晶体管基板产生的静电即时释放，消除静电作用，降低触摸传感器之间的相互干扰，从而提高内嵌式触摸屏的触控灵敏度。上述触摸屏的制备方法，制备工艺简单，破片风险小，适于大规模的生产。

Description

具有高阻膜的内嵌式触摸屏及其制备方法

技术领域

本发明涉及显示器件领域，特别涉及一种具有高阻膜的内嵌式触摸屏及其制备方法。

背景技术

触摸屏是手机、平板电脑、电子书等电子设备的重要组成部分。目前，触摸屏按照组成结构一般可以分为：外嵌式(On-Cell)和内嵌式(In-Cell)。外嵌式(On-Cell)是指将触摸面板嵌入到显示屏的彩色滤光片基板和偏光片之间的方法，即在液晶面板上配触摸传感器，由于多了一层触控层，厚度较厚，触控时容易产生的颜色不均等问题。内嵌式是指将触摸面板功能嵌入到液晶像素中的方法，即在显示屏内部嵌入触摸传感器功能，可以减薄模组整体的厚度，又可以大大降低触摸屏的制作成本，受到各大面板厂家青睐。

然而，内嵌式触摸屏通常需要在薄膜晶体管阵列基板上的像素内部嵌入触摸传感器，触摸传感器之间容易相互干扰，从而导致触控灵敏度较低。

发明内容

基于此，有必要提供一种灵敏度较高的内嵌式触摸屏及其制备方法。

一种具有高阻膜的内嵌式触摸屏，包括依次层叠的第一基板、薄膜晶体管基板、液晶层、彩色滤光片、触摸感应层、第二基板、高阻膜及偏光板，所述薄膜晶体管基板朝向所述液晶层的表面上设有多条相互绝缘的感应线路，所述高阻膜形成于所述第二基板远离所述触摸感应层的表面，所述高阻膜与所述薄膜晶体管基板电连接，所述高阻膜的材料包括氧化石墨、氧化锡、表面活性剂和交联剂的混合物。

在其中一个实施方式中，所述高阻膜的材料按照重量份数计包括4份～7份的氧化石墨、10份～13份的氧化锡、25份～30份的表面活性剂及10份～26份的交联剂。

在其中一个实施方式中，还包括保护盖板，所述保护盖板层叠于所述偏光板远离所述高阻膜的表面上。

在其中一个实施方式中，所述高阻膜的厚度为30nm～50nm。

上述具有高阻膜的内嵌式触摸屏的制备方法，包括如下步骤：

提供第一基板，在所述第一基板上层叠薄膜晶体管基板；

在所述薄膜晶体管基板的表面形成多条相互绝缘的感应线路；

在所述薄膜晶体管基板形成有所述感应线路的表面上形成液晶层；

提供彩色滤光片，将所述彩色滤光片层叠于所述液晶层上；

提供第二基板，在所述第二基板的表面形成触摸感应层；

将所述彩色滤光片与所述触摸感应层贴合，得到依次层叠的第一基板、薄膜晶体管基板、液晶层、彩色滤光片、触摸感应层及第二基板；

在所述第二基板远离所述触摸感应层的表面形成高阻膜，所述高阻膜的材料包括氧化石墨、氧化锡、表面活性剂和交联剂的混合物；

在所述高阻膜上层叠偏光板；以及

将所述高阻膜与所述薄膜晶体管层电连接，得到具有高阻膜的内嵌式触摸屏。

在其中一个实施方式中，在所述第二基板远离所述触摸感应层的表面形成高阻膜的操作为：通过喷涂的方式将浆料喷涂至所述第二基板远离所述触摸感应层的表面，所述浆料包括氧化石墨、氧化锡、表面活性剂、交联剂及溶剂的混合物，喷涂压力为0.5MPa～1.5MPa，温度为20℃～30℃，湿度为50％～60％。

在其中一个实施方式中，所述浆料按照重量份数计包括4份～7份的氧化石墨、10份～13份的氧化锡、25份～30份的表面活性剂、10份～26份的交联剂及35份～45份的溶剂。

在其中一个实施方式中，所述浆料的粘度为30cP～40cP。

在其中一个实施方式中，所述将所述彩色滤光片与所述触摸感应层贴合的操作为：在真空条件下，将所述彩色滤光片与所述触摸感应层贴合。

在其中一个实施方式中，在所述第二基板远离所述触摸感应层的表面形成高阻膜之后，包括烘烤处理、清洗处理及风干处理，所述烘烤处理的条件为110℃～120℃下烘烤10min～20min，所述风干处理的条件为55℃～65℃下风干10min～50min。

上述具有高阻膜的内嵌式触摸屏，包括依次层叠的第一基板、薄膜晶体管基板、液晶层、彩色滤光片、触摸感应层、第二基板、高阻膜偏光板。薄膜晶体管基板朝向液晶层的表面上设有多条相互绝缘的感应线路，薄膜晶体管基板与触摸感应层配合使得触摸面板功能嵌入到液晶像素中，降低触摸屏的厚度。通过在第二基板远离触摸感应层的表面设置高阻膜，并将高阻膜与薄膜晶体管基板电连接。高阻膜的材料包括氧化石墨、氧化锡、表面活性剂和交联剂的混合物，具有优良的吸附性能和电学特性，通过高阻膜将薄膜晶体管基板产生的静电即时释放，消除静电作用，降低触摸传感器之间的相互干扰，从而提高内嵌式触摸屏的触控灵敏度。

附图说明

图1为一实施方式的具有高阻膜的内嵌式触摸屏的结构示意图；

图2为一实施方式的具有高阻膜的内嵌式触摸屏的制备方法的流程图。

具体实施方式

下面主要结合具体附图及具体实施例对具有高阻膜的内嵌式触摸屏及其制备方法作进一步详细的说明。

请参阅图1，一实施方式的具有高阻膜的内嵌式触摸屏100，包括依次层叠的第一基板10、薄膜晶体管基板(ThinFilmTransistor，TFT基板)20、液晶层30、彩色滤光片40、触摸感应层50、第二基板60、高阻膜70、偏光板80及保护盖板90。

薄膜晶体管基板20朝向液晶层30的表面上设有多条相互绝缘的感应线路，高阻膜70形成于第二基板60远离触摸感应层50的表面，高阻膜70与薄膜晶体管基板20电连接。具体的，高阻膜70与薄膜晶体管基板20可通过引线电连接。

薄膜晶体管基板20的朝向液晶层30的表面上设有多条相互绝缘的感应线路，多条相互绝缘的感应线路可以嵌入到液晶层30中。薄膜晶体管基板20与触摸感应层50配合，使得触摸面板功能嵌入到液晶像素中，在显示屏内部嵌入触摸传感器功能，构成In-Cell类型的触摸屏，降低触摸屏的厚度，使得屏幕更加轻薄。通过在第二基板60远离触摸感应层50的表面设置高阻膜70，并将高阻膜70与薄膜晶体管基板20电连接。高阻膜70可以将薄膜晶体管基板20产生的静电即时释放，起到消除静电作用，降低触摸传感器之间的相互干扰，从而提高具有高阻膜的内嵌式触摸屏100的触控灵敏度。

本实施方式中，具有高阻膜的内嵌式触摸屏100的厚度为0.6mm～0.8mm。通过触摸面板功能嵌入到液晶像素中，大大降低触摸屏的厚度。

具体的，第一基板10和第二基板60可以为玻璃等透光性材料。

具体的，高阻膜70的材料包括氧化石墨、氧化锡、表面活性剂和交联剂的混合物。

氧化石墨(Graphiteoxide，GO)是一种新型碳素材料，具有优良的吸附性能。氧化锡(SnO₂)为一种活性氧化物，具有半导体特性。氧化石墨、氧化锡、表面活性剂及交联剂混合后可得到性能优异的复合材料。氧化锡可改变氧化石墨的表面性质，氧化石墨高孔隙率、大表面积的特点又可提升氧化锡的分散性。各种组分协同作用导致高阻膜70具有优良的吸附性能和电学特性。

氧化石墨、氧化锡、表面活性剂和交联剂的混合物组成的高阻膜70可以将薄膜晶体管基板20产生的静电即时释放，起到消除静电作用，提高触控灵敏度。同时由于其优良的吸附性能，不需要使用粘合剂等即可形成于第二基板60的表面，几乎不会增加具有高阻膜的内嵌式触摸屏100的厚度。

优选的，高阻膜70材料按照重量份数计包括4份～7份的氧化石墨、10份～13份的氧化锡、25份～30份的表面活性剂及10份～26份的交联剂。

本实施方式中，氧化石墨、氧化锡、表面活性剂和交联剂的混合物按照重量份数计包括5.5份的氧化石墨、11.5份的氧化锡、27.5份的表面活性剂和18份的交联剂。

具体的，表面活性剂可以为硬脂酸、十二烷基苯磺酸钠、季铵化物、卵磷脂、脂肪酸甘油酯，脂肪酸山梨坦(司盘)、聚山梨酯(吐温)等。

本实施方式中，表面活性剂为美国陶氏公司生产DOWFAX2A1型表面活性剂。

具体的，交联剂可以为聚乙烯、聚氯乙烯、聚丙烯酸酯、聚烷基丙烯酸酯、苯乙烯、丙烯腈、丙烯酸、甲基丙烯酸、乙二醛、氮丙啶等

本实施方式中，交联剂为氮丙啶交联剂。具体为上海尤恩化工有限公司生产SaC-100型氮丙啶交联剂。

传统的触摸屏一般需要使用一块基板作为承载体，以降低触摸的干扰，但因为增加了一块承载体，产品的厚度增加。叠加后厚度会增加约0.4mm左右，大大增加电子设备(例如手机)的厚度，并且透光性较差，在阳光下反射率较高，直接影响体验效果。同时贴合过程中容易出现问题，降低良率低。这将直接导致成本提高、加工周期长，不适应激励的市场竞争环境。

若采用半导体材料也能提高触摸屏的灵敏度，然而半导体材料价格昂贵，制备工艺复杂，不适于大规模的生产。

本发明的氧化石墨、氧化锡、氮丙啶及阴离子表面活性剂组成的混合物附着力强、导电性能好、透光性好，并且稳定强不易被氧化，制备工艺简单，适于大规模的生产。

优选的，高阻膜70的厚度为30nm～50nm。

优选的，高阻膜70的表面电阻为5×10⁸Ω/cm²～5×10⁹Ω/cm²。

本实施方式中，高阻膜70的透光率≥92％，此处透光率指的是具有高阻膜的内嵌式触摸屏100形成高阻膜70后与形成高阻膜70前的透光率的比值。

一般的，高阻膜70的表面电阻阻值越少，防静电效果越好。但表面电阻阻值越小，容易对内嵌式(in-cell)触屏起到干扰作用，使触摸效果受影响。阻值越大，防静电效果不明显，并且ITO导电性非常强，需要达到较高的阻值时，膜层厚度太薄，起不到防静电的作用。

本发明经过实验表明，高阻膜70的表面电阻为5×10⁸Ω/cm²～5×10⁹Ω/cm²时，既能防静电又不影响触摸效果，并且厚度适宜，具有良好的透光率与导电性，防静电效果好。

如图2所示的上述具有高阻膜的内嵌式触摸屏的制备方法，包括如下步骤：

S10、提供第一基板，在第一基板上层叠薄膜晶体管基板。

第一基板可以为玻璃，玻璃具有良好的透光性。

将薄膜晶体管基板层叠在第一基板的表面。

S20、在薄膜晶体管基板的表面形成多条相互绝缘的感应线路。

感应线路的材料为ITO，当然，感应线路的材料不限于为ITO，也可以为其他导电材料如AZO等。

具体的，可通过丝印法或真空磁控溅射的方式在薄膜晶体管基板表面镀膜，并采用化学蚀刻法进行图形制备，得到多条相互绝缘的感应线路。

S30、在薄膜晶体管基板形成有感应线路的表面上形成液晶层。

液晶层的材料可以是是脂肪族、芳香族、硬脂酸等有机物。可以采用滴下式液晶注入法，先将液晶直接滴在薄膜晶体管基板上，然后再将薄膜晶体管基板与彩色滤光片进行对组。或者，可采用灌注液晶方法在薄膜晶体管基板与彩色滤光片之间形成液晶层，即将薄膜晶体管基板与彩色滤光片对组之后，采用毛细原理将液晶吸入形成液晶层。

S40、提供彩色滤光片，将彩色滤光片层叠于液晶层上。

本实施方式中，先将液晶直接滴在薄膜晶体管基板上，然后再将薄膜晶体管基板与彩色滤光片进行对组，使得彩色滤光片层叠于液晶层上。

S50、提供第二基板，在第二基板的表面形成触摸感应层。

触摸感应层的材料为ITO，当然，触摸感应层的材料不限于为ITO，也可以为其他导电材料如AZO等。

具体的，可通过丝印法或真空磁控溅射的方式在第二基板表面镀膜，并采用化学蚀刻法进行图形制备，得到触摸感应层。

S60、将彩色滤光片与触摸感应层贴合，得到依次层叠的第一基板、薄膜晶体管基板、液晶层、彩色滤光片、触摸感应层及第二基板。

第一基板上依次层叠有薄膜晶体管基板、液晶层以及彩色滤光片，此为a板。第二基板上层叠有触摸感应层，此为b板。将a板与b板贴合，其中，彩色滤光片与触摸感应层相对贴合，得到依次层叠的第一基板、薄膜晶体管基板、液晶层、彩色滤光片、触摸感应层及第二基板。

优选的，在真空条件下，将a板与b板贴合，真空贴合有利于提升触摸感应层与彩色滤光片紧密结合的强度，使得制备得到的触摸屏更薄。

薄膜晶体管基板与触摸感应层配合，使得触摸面板功能嵌入到液晶像素中，在显示屏内部嵌入触摸传感器功能。在IC(integratedcircuit，集成电路)的驱动下，达到触摸的功能。

S70、在第二基板远离触摸感应层的表面形成高阻膜，高阻膜的材料包括氧化石墨、氧化锡、表面活性剂和交联剂的混合物。

具体的，可通过喷涂的方式浆料喷涂至第二基板远离触摸感应层的表面。当然，也可以采用其他方式，如真空磁控溅射、丝网印刷等方式在第二基板表面形成高阻膜。

本实施方式中，采用自动喷涂设备将浆料喷涂至第二基板表面。优选的，喷涂枪离第二基板表面的距离为20cm～40cm，喷涂压力为0.5MPa～1.5MPa，温度为20℃～30℃，湿度为50％～60％。

具体的，浆料包括氧化石墨、氧化锡、表面活性剂、交联剂及溶剂的混合物。

优选的，浆料按照重量份数计包括4份～7份的氧化石墨、10份～13份的氧化锡、25份～30份的表面活性剂、10份～26份的交联剂及35份～45份的溶剂。

其中，氧化石墨(Graphiteoxide，GO)是一种新型碳素材料，具有优良的吸附性能。氧化锡(SnO₂)为一种活性氧化物，具有半导体特性。氧化石墨、氧化锡、表面活性剂、交联剂与溶剂混合后可得到性能优异的复合材料。氧化锡可改变氧化石墨的表面性质，氧化石墨高孔隙率、大表面积的特点又可提升氧化锡的分散性。各种组分协同作用导致浆料具有优良的吸附性能和电学特性。

由于上述浆料优良的吸附性能，不需要使用粘合剂等即可喷涂至第二基板的表面，几乎不会增加具有高阻膜的内嵌式触摸屏的厚度。浆料干燥后得到的高阻膜可以将薄膜晶体管基板产生的静电即时释放，起到消除静电作用，提高触控灵敏度。

具体的，溶剂可以为水或有机溶剂，优选的，浆料的粘度为30cP～40cP。

具体的，表面活性剂可以为硬脂酸、十二烷基苯磺酸钠、季铵化物、卵磷脂、脂肪酸甘油酯，脂肪酸山梨坦(司盘)、聚山梨酯(吐温)等。

交联剂可以为聚乙烯、聚氯乙烯、聚丙烯酸酯、聚烷基丙烯酸酯、苯乙烯、、丙烯腈、丙烯酸、甲基丙烯酸、乙二醛、氮丙啶等

具体在本实施方式中，表面活性剂为美国陶氏公司生产DOWFAX2A1型表面活性剂。交联剂具体为上海尤恩化工有限公司生产SaC-100型氮丙啶交联剂。

优选的，第二基板远离触摸感应层的表面形成高阻膜之前，可将第二基板依次进行清洗处理、干燥处理及静电消散处理，清洗处理的操作包括依次进行纯水清洗、碱液清洗、二流体喷淋清洗(BJ喷淋清洗)、超纯水喷淋清洗(DI喷淋清洗)及高压喷淋清洗。碱液可以为清洗剂，如含有氢氧化钾或氢氧化钠的玻璃清洗剂。二流体喷淋指将高压气态流体如空气与液态流体如水混合后，通过喷嘴使高压气体与清洗液形成液滴高速喷出，清洗物体表面。超纯水喷淋，纯水指的是电阻率≥10兆欧的水。干燥处理包括依次进行冷风干燥和热风干燥。需要说明的是，如果彩色滤光片基板本身是干净的，无脏污及灰尘，则这个步骤可以省略。清洗处理和干燥处理后进行静电消散处理，并检测表面质量，合格后进入喷涂浆料工序。

优选的，在第二基板远离触摸感应层的表面形成高阻膜之后，包括将形成高阻膜的第二基板进行烘烤处理、清洗处理及风干处理。烘烤处理的条件为110℃～120℃下烘烤10min～20min，清洗处理优选使用电阻率≥10兆欧的纯水清洗，风干处理的条件为55℃～65℃下风干10min～50min。烘烤处理可加速浆料的干燥，使得形成的高阻膜各组分分布更均匀。

S80、在高阻膜上层叠偏光板。

优选的，偏光板的材料选自乙烯-醋酸乙烯共聚物(EVA)、聚对苯二甲酸乙二醇酯(PET)、聚乙烯醇(PVA)及多羟基胺基聚醚(AP)中的至少一种。

优选的，具体的，可以在形成高阻膜后，将触摸面板分割成小片，小片的尺寸一般在4.5寸～6寸左右，适合手机屏幕的大小。将小片清洗后，在高阻膜上形成偏光板，再将保护盖板层叠于偏光板上。优选的，保护盖板与偏光层通过光学胶贴合，保护盖板可以保护高阻膜。保护盖板90的材料选自钠钙玻璃、高铝白玻璃、及旭虹高铝玻璃中的至少一种。

S90、将高阻膜与薄膜晶体管层电连接，得到具有高阻膜的内嵌式触摸屏。

具体的，可通过引线将高阻膜与薄膜晶体管层电连接。高阻膜与薄膜晶体管基板电连接。高阻膜将薄膜晶体管基板产生的静电即时释放，起到消除静电作用，降低触摸传感器之间的相互干扰，从而提高具有高阻膜的内嵌式触摸屏的触控灵敏度。

需要说明的是，上述具有高阻膜的内嵌式触摸屏的制备方法的步骤不限于采取上述顺序，也可以根据需要进行调整。例如，S50可以在S10之前。

上述具有高阻膜的内嵌式触摸屏，包括依次层叠的第一基板、薄膜晶体管基板、液晶层、彩色滤光片、触摸感应层、第二基板、高阻膜偏光板。薄膜晶体管基板朝向液晶层的表面上设有多条相互绝缘的感应线路，薄膜晶体管基板与触摸感应层配合使得触摸面板功能嵌入到液晶像素中，降低触摸屏的厚度。通过在第二基板远离触摸感应层的表面设置高阻膜，并将高阻膜与薄膜晶体管基板电连接。高阻膜的材料包括氧化石墨、氧化锡、表面活性剂和交联剂的混合物，具有优良的吸附性能和电学特性，通过高阻膜将薄膜晶体管基板产生的静电即时释放，消除静电作用，降低触摸传感器之间的相互干扰，从而提高具有高阻膜的内嵌式触摸屏的触控灵敏度。同时，具有高阻膜的内嵌式触摸屏厚度较薄，透光性好，稳定性强，不易被氧化，存储环境低，保质周期长。

上述具有高阻膜的内嵌式触摸屏的制备方法，制备工艺简单，破片风险小，适于大规模的生产。

以下结合具体实施例进行详细说明。

以下实施例中，如无特别说明，未注明具体条件的实验方法，通常按照常规条件。

仪器：自动喷涂设备、干燥炉、清洗机、高阻仪、膜厚仪、分光计等。

试剂：表面活性剂为美国陶氏公司生产DOWFAX2A1型表面活性剂，交联剂为上海尤恩化工有限公司生产SaC-100型氮丙啶交联剂。

实施例1

一种具有高阻膜的内嵌式触摸屏的制备方法，包括如下步骤：

(1)在玻璃基板表面(第一基板)上层叠薄膜晶体管基板(TFT基板)，并在薄膜晶体管基板表面形成一层感应线路层，感应线路的材料为ITO，经过曝光、显影、蚀刻等步骤后在薄膜晶体管基板的表面形成相互绝缘的感应线路，并在薄膜晶体管基板上形成液晶层，层叠彩色滤光片，制的a板。

(2)在另一玻璃基板表面(第二基板)上形成触摸感应层，触摸感应层的材料为ITO，制的b板。

(3)将a板与b板在真空环境中进行贴合，其中，彩色滤光片与触摸感应层相互贴合，得到依次层叠的第一基板、薄膜晶体管基板、液晶层、彩色滤光片、触摸感应层及第二基板。

(4)采用自动喷涂设备在第二基板远离触摸感应层的表面形成高阻膜。将基板送进喷涂设备工作台面上，并进行自动定位，然后将浆料喷涂在第二基板上，浆料包括氧化石墨、氧化锡、表面活性剂和交联剂的混合物，浆料按照重量份数计包括5.5份的氧化石墨、11.5份的氧化锡、27.5份的表面活性剂、18份的交联剂和37.5份水。浆料的粘度为35cP。喷涂枪离第二基板表面的距离为30cm，喷涂压力为1.0MPa。作业环境为无尘空间(百级)，温度为25℃，湿度为55％。喷涂完成后，将形成高阻膜的第二基板进行烘烤处理、清洗处理及风干处理。烘烤处理为放入干燥炉中烘烤，条件为115℃下烘烤15min，清洗处理优选使用电阻率≥10兆欧的纯水清洗，风干处理的条件为60℃下风干30min，冷却后得到高阻膜。

采用膜厚仪测试高阻膜的厚度为40nm。

采用分光计测试高阻膜的透光率为99.8％。

膜硬度为6H。

当然，触摸屏还包括盖板、偏光板、引线的制备，采用业内常用方法即可，在此不做限定。

采用电阻仪测试高阻膜的电阻为5×10⁸Ω/cm²，表明具有良好的电学性能，防静电效果好。采用恒温恒湿箱在90℃，60％湿度240小时烘烤实验，高阻膜的电阻变化率为5％，表明具有良好的耐湿性。酒精浸泡5分钟，高阻膜的电阻变化率为5％。烤箱加垫60℃烘烤240小时，高阻膜的电阻率变化为5％，表明具有良好的耐热性。

触摸感应层的ITO方阻：90Ω，膜厚

上述具有高阻膜的内嵌式触摸屏稳定性强不易被氧化，并且具有良好的导电性和透光性，防静电效果好。

实施例2

一种具有高阻膜的内嵌式触摸屏的制备方法，包括如下步骤：

(1)在玻璃基板表面(第一基板)上层叠薄膜晶体管基板(TFT基板)，并在薄膜晶体管基板表面形成一层感应线路层，感应线路的材料为ITO，经过曝光、显影、蚀刻等步骤后在薄膜晶体管基板的表面形成感应线路，并在薄膜晶体管基板上形成液晶层，层叠彩色滤光片，制的a板。

(2)在另一玻璃基板表面(第二基板)上形成触摸感应层，触摸感应层的材料为ITO，制的b板。

(3)将a板与b板在真空环境中进行贴合，其中，彩色滤光片与触摸感应层相互贴合，得到依次层叠的第一基板、薄膜晶体管基板、液晶层、彩色滤光片、触摸感应层及第二基板。

(4)采用自动喷涂设备在第二基板远离触摸感应层的表面形成高阻膜。将基板送进喷涂设备工作台面上，并进行自动定位，然后将浆料喷涂在第二基板上，浆料包括氧化石墨、氧化锡、表面活性剂、交联剂和溶剂的混合物，按照重量份数计包括4份的氧化石墨、10份的氧化锡、25份的表面活性剂、10份的交联剂和30份水。浆料粘度为30cP。喷涂枪离第二基板表面的距离为20cm，喷涂压力为0.5MPa，作业环境为无尘空间(百级)，温度为20℃，湿度为50％。喷涂完成后，将形成高阻膜的第二基板进行烘烤处理、清洗处理及风干处理。烘烤处理为放入干燥炉中烘烤，条件为110℃下烘烤10min，清洗处理优选使用电阻率≥10兆欧的纯水清洗，风干处理的条件为55℃下风干10min，冷却后得到高阻膜。

采用膜厚仪测试高阻膜的厚度为30nm。

采用分光计测试高阻膜的透光率为98％。

膜硬度为6H。

当然，触摸屏还包括保护盖板、偏光板、引线的制备，采用业内常用方法即可，在此不做限定。

采用电阻仪测试高阻膜的电阻为5×10⁹Ω/cm²，表明高阻膜具有良好的电学性能。采用恒温恒湿箱在90℃，60％湿度240小时烘烤实验，高阻膜的电阻变化率为10％，表明具有良好的耐湿性。酒精浸泡5分钟，高阻膜的电阻变化率为10％。烤箱加垫60℃烘烤240小时，电阻率变化为5％，表明具有良好的耐热性。

触摸感应层的ITO方阻：60Ω，膜厚

上述具有高阻膜的内嵌式触摸屏稳定性强不易被氧化，并且具有良好的导电性和透光性，防静电效果好。

实施例3

一种具有高阻膜的内嵌式触摸屏，由以下步骤制备得到：

(1)在玻璃基板表面(第一基板)上层叠薄膜晶体管基板(TFT基板)，并在薄膜晶体管基板表面形成一层感应线路层，感应线路的材料为ITO，经过曝光、显影、蚀刻等步骤后在薄膜晶体管基板的表面形成感应线路，并在薄膜晶体管基板上形成液晶层，层叠彩色滤光片，制的a板。

(2)在另一玻璃基板表面(第二基板)上形成触摸感应层，触摸感应层的材料为ITO，制的b板。

(3)将a板与b板在真空环境中进行贴合，其中，彩色滤光片与触摸感应层相互贴合，得到依次层叠的第一基板、薄膜晶体管基板、液晶层、彩色滤光片、触摸感应层及第二基板。

(4)采用自动喷涂设备在第二基板远离触摸感应层的表面形成高阻膜。将基板送进喷涂设备工作台面上，并进行自动定位，然后将浆料喷涂在第二基板上，浆料包括氧化石墨、氧化锡、表面活性剂、交联剂和溶剂的混合物，按照重量份数计包括7份的氧化石墨、13份的氧化锡、30份的表面活性剂、26份的交联剂和40份水。浆料粘度为40cP。喷涂枪离第二基板表面的距离为40cm，喷涂压力为1.5MPa，作业环境为无尘空间(百级)，温度为30℃，湿度为60％。喷涂完成后，将形成高阻膜的第二基板进行烘烤处理、清洗处理及风干处理。烘烤处理为放入干燥炉中烘烤，条件为120℃下烘烤20min，清洗处理优选使用电阻率≥10兆欧的纯水清洗，风干处理的条件为65℃下风干50min，冷却后得到高阻膜。

采用膜厚仪测试高阻膜的厚度为50nm。

采用分光计测试高阻膜的透光率为96％。

膜硬度为6H。

当然，触摸屏还包括保护盖板、偏光板、引线的制备，采用业内常用方法即可，在此不做限定。

采用电阻仪测试高阻膜的电阻为5×10⁹Ω/cm²，表明高阻膜具有良好的电学性能。采用恒温恒湿箱在90℃，60％湿度240小时烘烤实验，高阻膜的电阻变化率为10％，表明具有良好的耐湿性。酒精浸泡5分钟，高阻膜的电阻变化率为10％。烤箱加垫60℃烘烤240小时，电阻率变化为15％，表明具有良好的耐热性。

触摸感应层的ITO方阻：150Ω，膜厚

上述具有高阻膜的内嵌式触摸屏稳定性强不易被氧化，并且具有良好的导电性和透光性，防静电效果好。

实施例4

一种具有高阻膜的内嵌式触摸屏，由以下步骤制备得到：

(1)在玻璃基板表面(第一基板)上层叠薄膜晶体管基板(TFT基板)，并在薄膜晶体管基板表面形成一层感应线路层，感应线路的材料为ITO，经过曝光、显影、蚀刻等步骤后在薄膜晶体管基板的表面形成感应线路，并在薄膜晶体管基板上形成液晶层，层叠彩色滤光片，制的a板。

(2)在另一玻璃基板表面(第二基板)上形成触摸感应层，触摸感应层的材料为ITO，制的b板。

(3)将a板与b板在真空环境中进行贴合，其中，彩色滤光片与触摸感应层相互贴合，得到依次层叠的第一基板、薄膜晶体管基板、液晶层、彩色滤光片、触摸感应层及第二基板。

(4)采用自动喷涂设备在第二基板远离触摸感应层的表面形成高阻膜。将基板送进喷涂设备工作台面上，并进行自动定位，然后将浆料喷涂在第二基板上，浆料包括氧化石墨、氧化锡、表面活性剂、交联剂和溶剂的混合物，按照重量份数计包括5份的氧化石墨、12份的氧化锡、28份的表面活性剂、15份的交联剂和36份水。浆料粘度为38cP。喷涂枪离第二基板表面的距离为40cm，喷涂压力为1.0MPa，作业环境为无尘空间(百级)，温度为25℃，湿度为55％。喷涂完成后，将形成高阻膜的第二基板进行烘烤处理、清洗处理及风干处理。烘烤处理为放入干燥炉中烘烤，条件为115℃下烘烤15min，清洗处理优选使用电阻率≥10兆欧的纯水清洗，风干处理的条件为60℃下风干30min，冷却后得到高阻膜。

采用膜厚仪测试高阻膜的厚度为50nm。

采用分光计测试高阻膜的透光率为97％。

膜硬度为6H。

当然，触摸屏还包括保护盖板、偏光板、引线的制备，采用业内常用方法即可，在此不做限定。

采用电阻仪测试高阻膜的电阻为5×10⁹Ω/cm²，表明高阻膜具有良好的电学性能。采用恒温恒湿箱在90℃，60％湿度240小时烘烤实验，高阻膜的电阻变化率为5％，表明具有良好的耐湿性。酒精浸泡5分钟，高阻膜的电阻变化率为10％。烤箱加垫60℃烘烤240小时，电阻率变化为10％，表明具有良好的耐热性。

触摸感应层的ITO方阻：150Ω，膜厚

上述具有高阻膜的内嵌式触摸屏稳定性强不易被氧化，并且具有良好的导电性和透光性，防静电效果好。

以上所述实施例仅表达了本发明的几种实施方式，其描述较为具体和详细，但并不能因此而理解为对发明专利范围的限制。应当指出的是，对于本领域的普通技术人员来说，在不脱离本发明构思的前提下，还可以做出若干变形和改进，这些都属于本发明的保护范围。因此，本发明专利的保护范围应以所附权利要求为准。

Claims (10)

1.一种具有高阻膜的内嵌式触摸屏，其特征在于，包括依次层叠的第一基板、薄膜晶体管基板、液晶层、彩色滤光片、触摸感应层、第二基板、高阻膜及偏光板，所述薄膜晶体管基板朝向所述液晶层的表面上设有多条相互绝缘的感应线路，所述高阻膜形成于所述第二基板远离所述触摸感应层的表面，所述高阻膜与所述薄膜晶体管基板电连接，所述高阻膜的材料包括氧化石墨、氧化锡、表面活性剂和交联剂的混合物。

2.根据权利要求1所述的具有高阻膜的内嵌式触摸屏，其特征在于，所述高阻膜的材料按照重量份数计包括4份～7份的氧化石墨、10份～13份的氧化锡、25份～30份的表面活性剂及10份～26份的交联剂。

3.根据权利要求1所述的具有高阻膜的内嵌式触摸屏，其特征在于，还包括保护盖板，所述保护盖板层叠于所述偏光板远离所述高阻膜的表面上。

4.根据权利要求1所述的具有高阻膜的内嵌式触摸屏，其特征在于，所述高阻膜的厚度为30nm～50nm。

5.一种如权利要求1～4中任一项所述的具有高阻膜的内嵌式触摸屏的制备方法，其特征在于，包括如下步骤：

提供第一基板，在所述第一基板上层叠薄膜晶体管基板；

在所述薄膜晶体管基板的表面形成多条相互绝缘的感应线路；

在所述薄膜晶体管基板形成有所述感应线路的表面上形成液晶层；

提供彩色滤光片，将所述彩色滤光片层叠于所述液晶层上；

提供第二基板，在所述第二基板的表面形成触摸感应层；

将所述彩色滤光片与所述触摸感应层贴合，得到依次层叠的第一基板、薄膜晶体管基板、液晶层、彩色滤光片、触摸感应层及第二基板；

在所述第二基板远离所述触摸感应层的表面形成高阻膜，所述高阻膜的材料包括氧化石墨、氧化锡、表面活性剂和交联剂的混合物；

在所述高阻膜上层叠偏光板；以及

将所述高阻膜与所述薄膜晶体管层电连接，得到具有高阻膜的内嵌式触摸屏。

6.根据权利要求5所述的具有高阻膜的内嵌式触摸屏的制备方法，其特征在于，在所述第二基板远离所述触摸感应层的表面形成高阻膜的操作为：通过喷涂的方式将浆料喷涂至所述第二基板远离所述触摸感应层的表面，所述浆料包括氧化石墨、氧化锡、表面活性剂、交联剂及溶剂的混合物，喷涂压力为0.5MPa～1.5MPa，温度为20℃～30℃，湿度为50％～60％。

7.根据权利要求6所述的具有高阻膜的内嵌式触摸屏的制备方法，其特征在于，所述浆料按照重量份数计包括4份～7份的氧化石墨、10份～13份的氧化锡、25份～30份的表面活性剂、10份～26份的交联剂及35份～45份的溶剂。

8.根据权利要求6所述的具有高阻膜的内嵌式触摸屏的制备方法，其特征在于，所述浆料的粘度为30cP～40cP。

9.根据权利要求5所述的具有高阻膜的内嵌式触摸屏的制备方法，其特征在于，所述将所述彩色滤光片与所述触摸感应层贴合的操作为：在真空条件下，将所述彩色滤光片与所述触摸感应层贴合。

10.根据权利要求5所述的具有高阻膜的内嵌式触摸屏的制备方法，其特征在于，在所述第二基板远离所述触摸感应层的表面形成高阻膜之后，包括烘烤处理、清洗处理及风干处理，所述烘烤处理的条件为110℃～120℃下烘烤10min～20min，所述风干处理的条件为55℃～65℃下风干10min～50min。