CN105242436B - 一种阵列基板、显示面板及显示装置 - Google Patents

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Abstract

本发明公开了一种阵列基板、显示面板及显示装置，其中，该阵列基板包括沿第一方向交替重复排列的第一像素单元列和第二像素单元列；所述第一像素单元列包括沿第二方向交替重复排列的第一像素单元组和第二像素单元组；所述第二像素单元列包括沿所述第二方向交替重复排列的第三像素单元组和第四像素单元组；所述第一像素单元组、所述第二像素单元组、所述第三像素单元组和所述第四像素单元组均包括呈矩阵排列的多个子像素，所述第一像素单元组的矩阵的行数和列数分别与所述第二像素单元组的矩阵的行数和列数相同，所述第三像素单元组的矩阵的行数和列数分别与所述第四像素单元组的矩阵的行数和列数相同。本发明能够降低制作难度。

Description

一种阵列基板、显示面板及显示装置
技术领域
本发明涉及显示技术领域，尤其涉及一种阵列基板、显示面板及显示装置。
背景技术
随着电子技术的发展，电子产品已经遍及人们的生活。显示技术是电子技术中至关重要的一项技术，关系到电子产品的显示效果。
在显示技术领域，显示装置分为两类：有机发光显示装置和液晶显示装置。上述两种类型的显示装置均包括阵列基板，其中，阵列基板包括多个子像素。阵列基板中子像素数量的多少关系到显示装置分辨率的高低。为了满足用户对电子产品分辨率越来越高的要求，阵列基板上的子像素的数量越来越多，因此，相邻子像素之间的间距越来越小。
由于相邻子像素之间的间距越来越小，阵列基板在制作过程中对掩膜版的制作工艺要求越来越高，即：掩膜版的制作难度较大。因此，阵列基板以及包括该阵列基板的显示装置的制作难度较大。
发明内容
本发明实施例提供一种阵列基板、显示面板及显示装置，能够解决现有技术中制作难度较大的问题。
为达此目的，本发明采用以下技术方案：
第一方面，本发明实施例提供了一种阵列基板，包括沿第一方向交替重复排列的第一像素单元列和第二像素单元列；
所述第一像素单元列包括沿第二方向交替重复排列的第一像素单元组和第二像素单元组；
所述第二像素单元列包括沿所述第二方向交替重复排列的第三像素单元组和第四像素单元组；
所述第一像素单元组、所述第二像素单元组、所述第三像素单元组和所述第四像素单元组均包括呈矩阵排列的多个子像素，所述第一像素单元组的矩阵的行数和列数分别与所述第二像素单元组的矩阵的行数和列数相同，所述第三像素单元组的矩阵的行数和列数分别与所述第四像素单元组的矩阵的行数和列数相同，所述第一像素单元组中的子像素均为第一子像素，所述第二像素单元组中的子像素均为第二子像素，所述第三像素单元组中的子像素为个数相等的所述第二子像素和第三子像素，所述第四像素单元组中的子像素为个数相等的所述第一子像素和所述第三子像素；
所述第一方向和所述第二方向交叉。
第二方面，本发明实施例还提供了一种显示面板，包括第一方面提供的阵列基板。
第三方面，本发明实施例还提供了一种显示装置，包括第二方面提供的显示面板。
本发明实施例提供的阵列基板，包括沿第一方向交替重复排列的第一像素单元列和第二像素单元列，第一像素单元列包括沿第二方向交替重复排列的第一像素单元组和第二像素单元组，第二像素单元列包括沿第二方向交替重复排列的第三像素单元组和第四像素单元组，其中，第一像素单元组、第二像素单元组、第三像素单元组和第四像素单元组均包括呈矩阵排列的多个子像素，第一像素单元组的矩阵的行数和列数分别与第二像素单元组的矩阵的行数和列数相同，第三像素单元组的矩阵的行数和列数分别与第四像素单元组的矩阵的行数和列数相同，第一像素单元组中的子像素均为第一子像素，第二像素单元组中的子像素均为第二子像素，第三像素单元组中的子像素为个数相等的第二子像素和第三子像素，第四像素单元组中的子像素为个数相等的第一子像素和第三子像素；第一方向和第二方向交叉。上述阵列基板，通过将第一像素单元组中的子像素设置为第一子像素，第二像素单元组中的子像素设置为第二子像素，第三像素单元组中的子像素设置为个数相等的第二子像素和第三子像素，第四像素单元组中的子像素设置为个数相等的第一子像素和第三子像素，对于有机发光显示装置，使得在阵列基板之上制作有机发光结构所用到的相同的子像素共用的掩膜版上的开孔的尺寸较大，且相邻开孔之间的间距较大，进而降低了掩膜版的制作难度，从而能够降低包括该阵列基板的显示面板，以及包括该显示面板的显示装置的制作难度。
附图说明
通过阅读参照以下附图所作的对非限制性实施例所作的详细描述，本发明的其它特征、目的和优点将会变得更明显：
图1是本发明实施例提供的阵列基板的一种实现方式的结构的俯视示意图。
图2是图1中第一子像素对应的掩膜版的结构的俯视示意图。
图3是本发明实施例提供的阵列基板的另一种实现方式的结构的俯视示意图。
图4是图3中第一子像素对应的掩膜版的结构的俯视示意图。
图5是本发明实施例提供的阵列基板的另一种实现方式的结构的俯视示意图。
图6是本发明实施例提供的阵列基板的另一种实现方式的结构的俯视示意图。
图7是本发明实施例提供的阵列基板的另一种实现方式的结构的俯视示意图。
图8是本发明实施例提供的阵列基板的另一种实现方式的结构的俯视示意图。
图9是本发明实施例提供的阵列基板的另一种实现方式的结构的俯视示意图。
图10是本发明实施例提供的阵列基板的另一种实现方式的结构的俯视示意图。
图11是本发明实施例提供的阵列基板的另一种实现方式的结构的俯视示意图。
具体实施方式
下面结合附图和实施例对本发明作进一步的详细说明。可以理解的是，此处所描述的具体实施例仅仅用于解释本发明，而非对本发明的限定。另外还需要说明的是，为了便于描述，附图中仅示出了与本发明相关的部分而非全部内容。
本发明实施例提供了一种阵列基板。
图1是本发明实施例提供的阵列基板的一种实现方式的结构的俯视示意图。如图1所示，该阵列基板包括：第一像素单元列101和第二像素单元列102，且第一像素单元列101和第二像素单元列102沿第一方向100交替重复排列。
其中，第一像素单元列101包括：第一像素单元组103和第二像素单元组104，且第一像素单元组103和第二像素单元组104沿第二方向200交替重复排列；第二像素单元列102包括：第三像素单元组105和第四像素单元组106，且第三像素单元组105和第四像素单元组106沿第二方向200交替重复排列。
其中，第一像素单元组103、第二像素单元组104、第三像素单元组105和第四像素单元组106均包括多个子像素，且每个像素单元组中的子像素呈矩阵排列。第一像素单元组103的矩阵的行数和列数分别与第二像素单元组104的矩阵的行数和列数相同；第三像素单元组105的矩阵的行数和列数分别与第四像素单元组106的矩阵的行数和列数相同。第一像素单元组103中的子像素均为第一子像素107；第二像素单元组104中的子像素均为第二子像素108；第三像素单元组105中的子像素包括第二子像素108和第三子像素109，且第二子像素108和第三子像素109的个数相等；第四像素单元组106中的子像素包括第一子像素107和第三子像素109，且第一子像素107和第三子像素109的个数相等。
其中，第一方向100和第二方向200交叉。
由于在阵列基板之上制作有机发光结构时，是对第一子像素107、第二子像素108和第三子像素109分别利用蒸镀工艺制作相应的有机发光材料(因为不同的子像素对应的有机发光材料不同)。因此，相同的子像素在蒸镀工艺中共用一张掩膜版，且相邻的相同子像素共用一个开孔。图2是图1中第一子像素对应的掩膜版的结构的俯视示意图。如图2所示，掩膜版包括基板201和位于基板201上的开孔202。其中，开孔202与图1示出的阵列基板上的第一子像素相对应，即：所有的第一子像素共用一张掩膜版，且相邻的第一子像素共用一个开孔202。基于图1和图2，本领域技术人员可以得到图1中第二子像素和第三子像素对应的掩膜版的结构。
结合图1和图2可知，图1示出的阵列基板，通过将第一像素单元组103中的子像素设置为第一子像素107，第二像素单元组104中的子像素设置为第二子像素108，第三像素单元组105中的子像素设置为个数相等的第二子像素108和第三子像素109，第四像素单元组106中的子像素设置为个数相等的第一子像素107和第三子像素109，使得相同的子像素对应的掩膜版的开孔的尺寸较大，且相邻开孔之间的距离较大，进而降低了掩膜版的制作难度，从而能够降低包括该阵列基板的显示面板的制作难度。此外，由于掩膜版上相邻开孔之间的距离较大，因此，利用该掩膜版在阵列基板上制备子像素对应的有机发光材料时的张网及对位难度较低，进而能够减少混色几率，从而能够提高产品良率。
如图1所示，第一像素单元组103、第二像素单元组104、第三像素单元组105和第四像素单元组106优选为均包括呈2×2矩阵排列的四个子像素。
其中，第三像素单元组105中的四个子像素为位于2×2矩阵第一行的两个第三子像素109和位于2×2矩阵第二行的两个第二子像素108；第四像素单元组106中的四个子像素为位于2×2矩阵第一行的两个第三子像素109和位于2×2矩阵第二行的两个第一子像素107。
第一子像素107、第二子像素108和第三子像素109优选为分别为蓝色子像素、绿色子像素和红色子像素中的任意一种，且各不相同。即：第一子像素107、第二子像素108和第三子像素109分别为红色子像素、蓝色子像素和绿色子像素，或者分别为红色子像素、绿色子像素和蓝色子像素，或者分别为蓝色子像素、红色子像素和绿色子像素，或者分别为蓝色子像素、绿色子像素和红色子像素，或者分别为绿色子像素、蓝色子像素和红色子像素，或者分别为绿色子像素、红色子像素和蓝色子像素。
如图1所示，第一子像素107、第二子像素108和第三子像素109的形状可以均为矩形。
如图1所示，每相邻的第一子像素107、第二子像素108和第三子像素109构成一个像素单元110，且相邻的两个像素单元110共用一个第一子像素107、第二子像素108或第三子像素109。每相邻的第一子像素107、第二子像素108和第三子像素109构成的像素单元110如图1中虚线三角形所示，即：像素单元110的形状为三角形。如图1所示，六个子像素可以组成三个像素单元，七个子像素可以组成四个像素单元。此种结构设计，通过将相邻的两个像素单元110共用一个第一子像素107、第二子像素108或第三子像素109，使得在子像素的个数一定的前提下，子像素构成的像素单元的个数较多，从而能够在不增加子像素个数的前提下，提高阵列基板上每英寸所拥有的像素数目(PPI，Pixels Per Inch)，从而能够提高分辨率，进而能够提高显示效果。
图1示出的阵列基板中，相邻的第一像素单元组103和第三像素单元组105在第一方向100上呈平行方式排列；相邻的第二像素单元组104和第四像素单元组106在第一方向100呈平行方式排列。
如图1所示，第一方向100优选为与第二方向200垂直。即：子像素沿相互垂直的两个方向排列。
图3是本发明实施例提供的阵列基板的另一种实现方式的结构的俯视示意图。如图3所示，与图1示出的阵列基板相比，图3示出的阵列基板中，相邻的第一像素单元组103和第三像素单元组105在第一方向100上呈折线方式排列；相邻的第二像素单元组104和第四像素单元组106在第一方向100上呈折线方式排列。
图4是图3中第二子像素对应的掩膜版的结构的俯视示意图。结合图2和图4可知：相对于图2提供的掩膜版，图4提供的掩膜版中相邻的开孔102之间的间距分布更加均匀。
结合图3和图4可知，图3提供的阵列基板，通过将相邻的第一像素单元组103和第三像素单元组105在第一方向100上呈折线方式排列；相邻的第二像素单元组104和第四像素单元组106在第一方向100上呈折线方式排列，实现了在阵列基板上制作相同子像素对应的有机发光材料时所用到的掩膜版的相邻开孔之间的间距分布更加均匀，从而降低了掩膜版的制作难度，且能够降低利用该掩膜版制作子像素对应的有机发光材料时的张网及对位难度，能够减少混色几率，从而能够提高产品良率。特别地，增大了第二像素单元组104中的第二子像素108与相邻的第三像素单元组中的第二子像素108之间的距离，进而能够简化在阵列基板之上制作第二子像素对应的有机发光材料所用到的掩膜版的制作工艺。
图5是本发明实施例提供的阵列基板的另一种实现方式的结构的俯视示意图。如图5所示，与图3示出的阵列基板不同的是，图5示出的阵列基板中的第一子像素107、第二子像素108和第三子像素109的形状可以均为菱形。
结合图5和图3可知：相对于图3示出的阵列基板，图5示出的阵列基板通过将第一子像素107、第二子像素108和第三子像素109的形状均设置为菱形，使得相邻的像素单元组中相同的子像素(例如：第二像素单元组104中的第二子像素108和与其相邻的第三像素单元组105中的第二子像素108)之间的间距更大，因此，制作图5示出的阵列基板对应的掩膜版的工艺更简单，难度更低，且利用该掩膜版进行蒸镀制备子像素对应的有机发光材料时的张网及对位难度更低，进而能够更好地减少混色几率，从而能够更好地提高产品良率。
图5示出的阵列基板中相邻的第一像素单元组103和第三像素单元组105在第一方向100上呈折线方式排列；相邻的第二像素单元组104和第四像素单元组106在第一方向100呈折线方式排列。可以理解的是，相邻的第一像素单元组103和第三像素单元组105在第一方向100上还可以呈平行方式排列；相邻的第二像素单元组104和第四像素单元组106在第一方向100还可以呈平行方式排列。
图6是本发明实施例提供的阵列基板的另一种实现方式的结构的俯视示意图。如图6所示，与图3示出的阵列基板不同的是，图6示出的阵列基板的第一像素单元组103和第二像素单元组104均包括呈2×1矩阵排列的两个子像素。其中，第一像素单元组103中的两个子像素均为第一子像素107；第二像素单元组104中的两个子像素均为第二子像素108。
与图3示出的阵列基板相比，图6示出的阵列基板中的第一像素单元列101中的子像素均可以和与其相邻的两个第二像素单元列102中的子像素构成像素单元，使得在子像素的个数一定的前提下，子像素构成的像素单元的个数较多，从而能够在不增加子像素个数的前提下，提高阵列基板上每英寸所拥有的像素数目，从而能够提高分辨率，进而能够提高显示效果。但，同时会造成第一像素单元列101中的子像素被共用的次数增多，从而会缩短阵列基板的寿命。
图6示出的阵列基板中相邻的第一像素单元组103和第三像素单元组105在第一方向100上呈折线方式排列；相邻的第二像素单元组104和第四像素单元组106在第一方向100呈折线方式排列。可以理解的是，相邻的第一像素单元组103和第三像素单元组105在第一方向100上还可以呈平行方式排列；相邻的第二像素单元组104和第四像素单元组106在第一方向100还可以呈平行方式排列。
图7是本发明实施例提供的阵列基板的另一种实现方式的结构的俯视示意图。如图7所示，与图6示出的阵列基板不同的是，图7示出的阵列基板中的第一子像素107、第二子像素108和第三子像素109的形状可以均为菱形。
结合图7和图6可知：相对于图6示出的阵列基板，图7示出的阵列基板通过将第一子像素107、第二子像素108和第三子像素109的形状均设置为菱形，使得相邻的像素单元组中相同的子像素(例如：第二像素单元组104中的第二子像素108与相邻的第三像素单元组105中的第二子像素108)之间的间距更大，因此，制作图7示出的阵列基板对应的掩膜版的工艺更简单，难度更低，且利用该掩膜版进行蒸镀制备子像素对应的有机发光材料时的张网及对位难度更低，进而能够更好地减少混色几率，从而能够更好地提高产品良率。
图7示出的阵列基板中相邻的第一像素单元组103和第三像素单元组105在第一方向100上呈折线方式排列；相邻的第二像素单元组104和第四像素单元组106在第一方向100呈折线方式排列。可以理解的是，相邻的第一像素单元组103和第三像素单元组105在第一方向100上还可以呈平行方式排列；相邻的第二像素单元组104和第四像素单元组106在第一方向100还可以呈平行方式排列。
图8是本发明实施例提供的阵列基板的另一种实现方式的结构的俯视示意图。如图8所示，与图3示出的阵列基板不同的是，图8示出的阵列基板的第三像素单元组105和第四像素单元组106均包括呈2×1矩阵排列的两个子像素。其中，第三像素单元组105中的两个子像素分别为位于2×1矩阵第一行的第三子像素109和位于2×1矩阵第二行的第二子像素108；第四像素单元组106中的两个子像素分别为位于2×1矩阵第一行的第三子像素109和位于2×1矩阵第二行的第一子像素107。
与图3示出的阵列基板相比，图8示出的阵列基板中的第二像素单元列102中的子像素均可以和与其相邻的两个第一像素单元列101中的子像素构成像素单元，使得在子像素的个数一定的前提下，子像素构成的像素单元的个数较多，从而能够在不增加子像素个数的前提下，提高阵列基板上每英寸所拥有的像素数目，从而能够提高分辨率，进而能够提高显示效果。但，同时会造成第二像素单元列102中的子像素被共用的次数增多，从而会缩短阵列基板的寿命。
图8示出的阵列基板中相邻的第一像素单元组103和第三像素单元组105在第一方向100上呈折线方式排列；相邻的第二像素单元组104和第四像素单元组106在第一方向100呈折线方式排列。可以理解的是，相邻的第一像素单元组103和第三像素单元组105在第一方向100上还可以呈平行方式排列；相邻的第二像素单元组104和第四像素单元组106在第一方向100还可以呈平行方式排列。
图9是本发明实施例提供的阵列基板的另一种实现方式的结构的俯视示意图。如图9所示，与图8示出的阵列基板不同的是，图9示出的阵列基板中的第一子像素107、第二子像素108和第三子像素109的形状可以均为菱形。
结合图9和图8可知：相对于图8示出的阵列基板，图9示出的阵列基板通过将第一子像素107、第二子像素108和第三子像素109的形状均设置为菱形，使得相邻的像素单元组中相同的子像素(例如：第二像素单元组104中的第二子像素108与相邻的第三像素单元组105中的第二子像素108)之间的间距更大，因此，制作图9示出的阵列基板对应的掩膜版的工艺更简单，难度更低，且利用该掩膜版进行蒸镀制备子像素对应的有机发光材料时的张网及对位难度更低，进而能够更好地减少混色几率，从而能够更好地提高产品良率。
图9示出的阵列基板中相邻的第一像素单元组103和第三像素单元组105在第一方向100上呈折线方式排列；相邻的第二像素单元组104和第四像素单元组106在第一方向100呈折线方式排列。可以理解的是，相邻的第一像素单元组103和第三像素单元组105在第一方向100上还可以呈平行方式排列；相邻的第二像素单元组104和第四像素单元组106在第一方向100还可以呈平行方式排列。
图10是本发明实施例提供的阵列基板的另一种实现方式的结构的俯视示意图。如图10所示，与图3示出的阵列基板不同的是，图10示出的阵列基板的第一像素单元组103、第二像素单元组104、第三像素单元组105和第四像素单元组106均包括呈2×1矩阵排列的两个子像素。其中，第一像素单元组103中的两个子像素均为第一子像素107；第二像素单元组104中的两个子像素分别为第二子像素108；第三像素单元组105中的两个子像素分别为位于2×1矩阵第一行的第三子像素109和位于2×1矩阵第二行的第二子像素108；第四像素单元组106中的两个子像素分别为位于2×1矩阵第一行的第三子像素109和位于2×1矩阵第二行的第一子像素107。
图10示出的阵列基板中的第一像素单元列101中的子像素均可以和与其相邻的两个第二像素单元列102中的子像素构成像素单元；第二像素单元列102中的子像素可以和与其相邻的两个第一像素单元列101中的子像素构成像素单元，使得在子像素的个数一定的前提下，子像素构成的像素单元的个数较多，从而能够在不增加子像素个数的前提下，提高阵列基板上每英寸所拥有的像素数目，从而能够提高分辨率，进而能够提高显示效果。但，同时会造成第一像素单元列101中的子像素和第二像素单元列102中的子像素被共用的次数增多，从而会缩短阵列基板的寿命。
图10示出的阵列基板中相邻的第一像素单元组103和第三像素单元组105在第一方向100上呈折线方式排列；相邻的第二像素单元组104和第四像素单元组106在第一方向100呈折线方式排列。可以理解的是，相邻的第一像素单元组103和第三像素单元组105在第一方向100上还可以呈平行方式排列；相邻的第二像素单元组104和第四像素单元组106在第一方向100还可以呈平行方式排列。
图11是本发明实施例提供的阵列基板的另一种实现方式的结构的俯视示意图。如图11所示，与图10示出的阵列基板不同的是，图11示出的阵列基板中的第一子像素107、第二子像素108和第三子像素109的形状可以均为菱形。
结合图11和图10可知：相对于图10示出的阵列基板，图11示出的阵列基板通过将第一子像素107、第二子像素108和第三子像素109的形状均设置为菱形，使得相邻的像素单元组中相同的子像素(例如：第二像素单元组104中的第二子像素108与相邻的第三像素单元组105中的第二子像素108)之间的间距更大，因此，制作图11示出的阵列基板对应的掩膜版的工艺更简单，难度更低，且利用该掩膜版进行蒸镀制备子像素对应的有机发光材料时的张网及对位难度更低，进而能够更好地减少混色几率，从而能够更好地提高产品良率。
图11示出的阵列基板中相邻的第一像素单元组103和第三像素单元组105在第一方向100上呈折线方式排列；相邻的第二像素单元组104和第四像素单元组106在第一方向100呈折线方式排列。可以理解的是，相邻的第一像素单元组103和第三像素单元组105在第一方向100上还可以呈平行方式排列；相邻的第二像素单元组104和第四像素单元组106在第一方向100还可以呈平行方式排列。
上述实施例描述的是有机发光显示装置中的阵列基板的结构，但是，上述结构的阵列基板不仅限于有机发光显示装置，例如：上述结构的阵列基板还可以用于液晶显示装置中。
本发明实施例还提供了一种显示面板。该显示面板包括阵列基板。其中，阵列基板采用本发明上面提供的阵列基板。
本发明实施例还提供了一种显示装置。该显示装置包括显示面板。其中，显示面板采用上面提供的显示面板。该显示装置可以是手机、电视、电脑等任意具有显示功能的设备。该显示装置可以是有机发光显示装置，也可以是液晶显示装置。
注意，上述仅为本发明的较佳实施例及所运用技术原理。本领域技术人员会理解，本发明不限于这里所述的特定实施例，对本领域技术人员来说能够进行各种明显的变化、重新调整和替代而不会脱离本发明的保护范围。因此，虽然通过以上实施例对本发明进行了较为详细的说明，但是本发明不仅仅限于以上实施例，在不脱离本发明构思的情况下，还可以包括更多其他等效实施例，而本发明的范围由所附的权利要求范围决定。

Claims (11)

1.一种阵列基板，其特征在于，包括沿第一方向交替重复排列的第一像素单元列和第二像素单元列；
所述第一像素单元列包括沿第二方向交替重复排列的第一像素单元组和第二像素单元组；
所述第二像素单元列包括沿所述第二方向交替重复排列的第三像素单元组和第四像素单元组；
所述第一像素单元组、所述第二像素单元组、所述第三像素单元组和所述第四像素单元组均包括呈矩阵排列的多个子像素，所述第一像素单元组的矩阵的行数和列数分别与所述第二像素单元组的矩阵的行数和列数相同，所述第三像素单元组的矩阵的行数和列数分别与所述第四像素单元组的矩阵的行数和列数相同，所述第一像素单元组中的子像素均为第一子像素，所述第二像素单元组中的子像素均为第二子像素，所述第三像素单元组中的子像素为个数相等的所述第二子像素和第三子像素，所述第四像素单元组中的子像素为个数相等的所述第一子像素和所述第三子像素；
所述第一方向和所述第二方向交叉；
每相邻的所述第一子像素、所述第二子像素和所述第三子像素构成一个像素单元，且相邻的两个像素单元共用所述第一子像素、所述第二子像素或所述第三子像素。
2.根据权利要求1所述的阵列基板，其特征在于，所述第一像素单元组、所述第二像素单元组、所述第三像素单元组和所述第四像素单元组均包括呈2×2矩阵排列的四个子像素，
所述第三像素单元组中的四个子像素为位于2×2矩阵第一行的两个第三子像素和位于2×2矩阵第二行的两个所述第二子像素，
所述第四像素单元组中的四个子像素为位于2×2矩阵第一行的两个所述第三子像素和位于2×2矩阵第二行的两个所述第一子像素。
3.根据权利要求1所述的阵列基板，其特征在于，所述第一像素单元组和所述第二像素单元组均包括呈2×1矩阵排列的两个子像素，
所述第三像素单元组和所述第四像素单元组均包括呈2×2矩阵排列的四个子像素，
所述第三像素单元组中的四个子像素为位于2×2矩阵第一行的两个第三子像素和位于2×2矩阵第二行的两个所述第二子像素，
所述第四像素单元组中的四个子像素为位于2×2矩阵第一行的两个所述第三子像素和位于2×2矩阵第二行的两个所述第一子像素。
4.根据权利要求1所述的阵列基板，其特征在于，所述第一像素单元组和所述第二像素单元组均包括呈2×2矩阵排列的四个子像素，
所述第三像素单元组和所述第四像素单元组均包括呈2×1矩阵排列的两个子像素，
所述第三像素单元组中的两个子像素为位于2×1矩阵第一行的第三子像素和位于2×1矩阵第二行的所述第二子像素，
所述第四像素单元组中的两个子像素为位于2×1矩阵第一行的所述第三子像素和位于2×1矩阵第二行的所述第一子像素。
5.根据权利要求1所述的阵列基板，其特征在于，所述第一像素单元组、所述第二像素单元组、所述第三像素单元组和所述第四像素单元组均包括呈2×1矩阵排列的两个子像素，
所述第三像素单元组中的两个子像素为位于2×1矩阵第一行的第三子像素和位于2×1矩阵第二行的所述第二子像素，
所述第四像素单元组中的两个子像素为位于2×1矩阵第一行的所述第三子像素和位于2×1矩阵第二行的所述第一子像素。
6.根据权利要求1-5任一所述的阵列基板，其特征在于，所述第一子像素、所述第二子像素和所述第三子像素分别为蓝色子像素、绿色子像素和红色子像素中的任意一种，且各不相同。
7.根据权利要求1-5任一所述的阵列基板，其特征在于，所述第一子像素、所述第二子像素和所述第三子像素的形状均为矩形或均为菱形。
8.根据权利要求1所述的阵列基板，其特征在于，相邻的所述第一像素单元组和所述第三像素单元组在所述第一方向上呈折线方式排列，相邻的所述第二像素单元组和所述第四像素单元组在所述第一方向上呈折线方式排列。
9.一种显示面板，其特征在于，包括权利要求1-8任一所述的阵列基板。
10.一种显示装置，其特征在于，包括权利要求9所述的显示面板。
11.根据权利要求10所述的显示装置，其特征在于，所述显示装置为有机发光显示装置或液晶显示装置。
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