CN105136679A - 一种基于椭偏仪的光学材料表面质量评估方法及其应用 - Google Patents

Abstract

本发明公开了一种基于椭偏仪的光学材料表面质量评估方法及其应用，其中评估方法包括如下步骤：采用椭偏仪对光学材料进行检测，获得光学材料的布鲁斯特角附近的固定波长变化角度的Δ曲线，通过目标光学材料与参照光学材料的Δ曲线对比直接获得相同光学材料在进行表面处理前后的表面信息相对变化趋势或相同光学材料分别进行表面处理后的表面信息相对变化趋势。本发明方法不接触样品准确获得光学材料表面质量信息，实现对光学材料表面质量进行评估，无需建模，直接定性判断。

Description

一种基于椭偏仪的光学材料表面质量评估方法及其应用

技术领域

本发明涉及光学材料表面质量评估技术领域，尤其涉及一种基于椭偏仪的光学材料表面质量评估方法及其应用。

背景技术

随着科学技术的发展，在各种无机玻璃、PMMA(聚甲基丙烯酸甲酯)、PC(聚碳酸酯)、PET(聚对苯二甲酸乙二醇脂)等光学基材表面开发了各种光学薄膜及膜系来实现各种光学功能，如低辐射膜、选择性吸收膜、透明导电膜等。无论是何种膜系结构，光学基材的表面质量都至关重要，其表面状态将直接影响所镀膜层的质量，如薄膜的附着力、粗糙度以及薄膜的物理性能与机械强度。

以平板玻璃基材为例，玻璃基材的表面质量对后续镀膜尤其是光学薄膜影响重大，这是由于玻璃表面存在着活性很高的羟基，使玻璃表面与玻璃内部的性能存在差异。羟基的存在可以确保所镀膜层具有可靠的附着力，但同时不可避免地存在一个缺点，即它会吸附潮气，导致玻璃表面总是覆盖着一层很薄的水膜，对镀膜工艺将产生十分不良的影响，尤其是经过放置的玻璃。玻璃基材表面易发生腐蚀，是由贮藏或运输途中产生的潮气、结露以及镀膜前清洗使用的清洁液造成的。此外，在后续规模化镀膜生产中，玻璃基片需要通过一系列抓取元件(吸盘)以及输送辊筒等装置，使得玻璃基片表面难以避免的出现不明污染物甚至可视痕迹。不同薄膜的损伤阈值不同，对玻璃基片表面污染的容忍程度也不同，对于低辐射玻璃而言，在瑕疵处生长的银膜会在后续钢化及热弯过程中形成团聚，导致透光性能与低辐射性能严重恶化，镀膜产品报废，降低成品率。因此玻璃基材的表面处理非常重要，通常来说，采用足够高的入射能量(如利用原子或离子轰击)可以有效的去除水膜、表面腐蚀层以及表面污染物，但不同处理方式(如不同的入射粒子种类、解离气体种类、工艺参数)对基材表面质量的影响不尽相同，对后续镀膜影响也不得而知，因此需要有效的基材表面质量检测手段。

对于光学薄膜而言，薄膜的散射损耗是影响薄膜光学性能的关键因素之一，表面粗糙度是引起散射的主要原因，如在高能激光器装置中，极小的光散射引起的光损耗使光学薄膜的抗激光损伤阈值大大降低；在高精度激光陀螺***中，激光的背向散射会使散射光在激光陀螺谐振腔内产生背向散射谐振从而影响激光陀螺的正常工作。已有报道表明，薄膜沉积过程中的离子束辅助轰击有利于改善膜层表面质量，提高光学性能。因此，评价光学薄膜的表面质量对于改进薄膜沉积工艺，优化表面处理手段具有重要的现实意义。

对于薄膜及基材表面质量的评价与表征，以往采用诸如光学显微镜、表面粗糙度仪、原子力显微镜AFM、扫描电子显微镜SEM等。其中表面粗糙度仪与AFM可以获得定量的表面粗糙度信息，且AFM可以获得表面形貌，但均无法获得光学材料的致密程度与光学厚度。对于SEM的表征，不导电的基材及薄膜需要经过喷金处理，而材料的致密度信息需要制备截面样品，无论是喷金还是制备断面均将对样品进行破坏。

椭圆偏振光谱仪技术是对线偏振光经过样品表面反射后出射的椭圆偏振光的检测，通过建模拟合反射光s分量与p分量的振幅比与相位差可以获得薄膜厚度与光学常数(折射率与消光系数)。所建模型中物理参量的拟合结果能够对应薄膜的物理信息，如导电材料可以获得载流子浓度与迁移率，介质材料可以获得带隙宽度与介电常数，存在各向异性或梯度结构的材质通过有针对性的建模还可以获得结构与性能的各向异性与梯度信息等。对于所建模型与拟合结果的正确性常采用均方差mse(mean-squarederror)最小来进行判断，但有些情况通过较小的mse却无法获得最佳的收敛条件，如所建模型中需要拟合的参数初始值设置不当，在远离正确值的初始值数域中存在局部最小而不是全局最小值，使得拟合结果不是真实的最佳值。又如，所建模型中需要拟合的多个参数彼此之间存在相关性依赖条件，即多个参数间彼此存在联动，这些参数的多种组合均能获得极小的mse值，从而无法推断最佳、最正确的一组拟合结果。总之，人为的建模过程不仅增加了对数据的分析难度与评估时间，更有可能引入错误的估计。

发明内容

有鉴于此，本发明实施例提供一种基于椭偏仪的光学材料表面质量评估方法，主要目的是不接触样品准确获得光学材料表面质量信息，从而实现对光学材料表面质量进行定性评估。

为达到上述目的，本发明主要提供如下技术方案：

一方面，本发明实施例提供了一种基于椭偏仪的光学材料表面质量评估方法，包括如下步骤：

采用椭偏仪对光学材料进行检测，获得光学材料的布鲁斯特角附近的固定波长变化角度的Δ曲线，通过目标光学材料与参照光学材料的Δ曲线对比直接获得相同光学材料在进行表面处理前后的表面信息相对变化趋势或相同光学材料分别进行表面处理后的表面信息相对变化趋势。

作为优选，所述表面处理包括物理处理和化学处理。

作为优选，所述表面处理包括喷砂、抛光以及离子束或其它能量束的轰击处理。

作为优选，所述表面信息包括光学材料的表面层的致密程度信息、表面层的光学厚度信息以及表面粗糙程度信息中的至少一种。

作为优选，由目标光学材料与参照光学材料的Δ曲线突变发生的角度，即布鲁斯特角偏移获知目标光学材料相对于参照光学材料表面致密度变化，其中

目标光学材料与参照光学材料相比布鲁斯特角向低角度偏移表示目标光学材料比参照光学材料产生了表面疏松层；

目标光学材料与参照光学材料相比布鲁斯特角向高角度偏移表示目标光学材料比参照光学材料产生了表面致密层。

作为优选，由目标光学材料与参照光学材料的Δ曲线下降斜率变化获知目标光学材料比参照光学材料的表面粗糙程度变化，其中

斜率增大表示目标光学材料比参照光学材料表面粗糙度减小；

斜率减小表示目标光学材料比参照光学材料表面粗糙度增大。

作为优选，由目标光学材料与参照光学材料的Δ曲线的线形变化大小获知目标光学材料比参照光学材料表面层的光学厚度变化，其中

布鲁斯特角两侧的Δ曲线尖角增大即为目标光学材料比参照光学材料的表面层的光学厚度增大；

布鲁斯特角两侧的Δ曲线尖角减小即为目标光学材料比参照光学材料的表面层的光学厚度减小。

作为优选，当布鲁斯特角两侧的Δ曲线尖角增大时，如果布鲁斯特角未发生偏移或向低角度偏移则表示光学厚度增大是由于表面层物理厚度增大所致；

当布鲁斯特角两侧的Δ曲线尖角增大时，如果布鲁斯特角向高角度偏移则说明折射率增大与表面层物理厚度增大可能同时存在；

当布鲁斯特角两侧的Δ曲线尖角减小时，如果布鲁斯特角未发生偏移或向高角度偏移则表示光学厚度减小是由于表面层物理厚度减小所致；

当布鲁斯特角两侧的Δ曲线尖角减小时，如果布鲁斯特角向低角度偏移则说明折射率减小与表面层物理厚度减小可能同时存在。

另一方面，本发明实施例提供了一种上述基于椭偏仪的光学材料表面质量评估方法在判断表面处理参数变化对表面处理效果影响中的应用。

与现有技术相比，本发明的有益效果在于：

本发明实施例提供的一种基于椭偏仪的光学材料表面质量评估方法不接触样品准确获得光学材料表面质量信息，实现对光学材料表面质量进行评估，无需建模，直接定性判断。避免人为的建模过程增加了对数据的分析难度与评估时间。

附图说明

图1是玻璃基材的Δ曲线，由布鲁斯特角的偏移说明表面致密性变化，1号曲线为未经表面处理的玻璃基材；2号曲线为经历Ar离子束轰击处理的玻璃基材。

图2是玻璃基材的Δ曲线，由布鲁斯特角附近Δ曲线的斜率变化说明表面粗糙度变化，1号曲线为未经表面处理的玻璃基材；2号曲线为经历Ar离子束轰击处理的玻璃基材；3号曲线为O离子束轰击处理的玻璃基材。

图3a至图3c是玻璃基材的原子力显微图像，图3a是未经表面处理的玻璃基材；图3b是经历Ar离子束轰击处理的玻璃基材；图3c是经历O离子束轰击处理的玻璃基材。

图4是N离子束在不同电压下轰击处理后玻璃基材的Δ曲线，由曲线线形变化说明表面层光学厚度的变化。

图5是N离子束轰击处理后玻璃的表面层厚度随电源电压的变化

图6是理想玻璃与非理想玻璃的Δ曲线差别，1号曲线为理想玻璃；2号曲线是具有表面粗糙度的玻璃。

具体实施方式

下面结合具体实施例对本发明作进一步详细描述，但不作为对本发明的限定。在下述说明中，不同的“一实施例”或“实施例”指的不一定是同一实施例。此外，一或多个实施例中的特定特征、结构、或特点可由任何合适形式组合。

实施例一

采用美国J.A.Woollam公司生产的V型自动变角光谱型椭圆偏振光谱仪(VASE)测试经过Ar离子束轰击处理后玻璃基材表面的致密度变化，测试波长为550nm，入射角度为54°～59°，步长为0.1°，测试采用高精度模式，含退偏测试。

测试样品为Ar离子束轰击处理的玻璃基材，该玻璃为80*80*6mm³(L*W*H)的浮法玻璃，离子束轰击处理采用美国GPi公司生产的PPALS型阳极层线性离子源，长43.2cm，有效出射离子束长度30.5cm，最大离化电压为4kV、可实现最大离子束能2500eV。基片沿水平方向往复传输，与离子源夹角为45°，离子源中心与基片传输平面之间距离为200mm。处理工艺为：背底真空度为5.5*10^-7torr，Ar气流量30sccm，控压为1mtorr，离子源电压为2kV，电流1.59A，基片传输速度0.4m/min，刻蚀深度109.87nm。

附图1为椭偏参数Δ随入射角的变化，其中1号曲线为未经离子束处理的玻璃基材，2号曲线为经过上述Ar离子束工艺处理的玻璃基材，可以看出，与未经离子束处理的玻璃基材相比，2号曲线明显向右偏移。其中水平虚线(90°处)与两条曲线的交点为光学材料的布鲁斯特角，显然，2号曲线的布鲁斯特角大于1号曲线，采用本发明的技术方法认为2号曲线的致密度大于1号曲线，即产生密度大于原玻璃基材的表面层(纵向非均匀层)，根据本发明方法判断经过Ar离子束轰击处理的玻璃基材表面相对于未处理的玻璃基材的致密度明显增大。

另外，Ar离子束轰击处理后玻璃基材的Δ曲线线形与未经处理的玻璃基材相比发生了变化，布鲁斯特角两端各出现一个尖角，这是由于Ar离子束轰击处理后玻璃基材产生了纵向非均匀的表面层，存在一定的光学厚度所导致的。

实施例二

采用美国J.A.Woollam公司生产的V型自动变角光谱型椭圆偏振光谱仪(VASE)测试经过Ar与O离子束轰击处理后玻璃基材表面的粗糙度变化，测试波长为550nm，入射角度为54°～59°，步长为0.1°，测试采用高精度模式，含退偏测试。

测试样品有三个，分别为未经过离子束处理的玻璃基材，经过Ar离子束轰击处理的玻璃基材与O离子束轰击处理的玻璃基材。其中玻璃基材为80*80*6mm³(L*W*H)的浮法玻璃，离子束轰击处理采用美国GPi公司生产的PPALS型阳极层线性离子源，长43.2cm，有效出射离子束长度30.5cm，最大离化电压为4kV、可实现最大离子束能2500eV。基片沿水平方向往复传输，与离子源夹角为45°，离子源中心与基片传输平面之间距离为200mm。

Ar离子束轰击处理的工艺为：背底真空度为5.5*10^-7torr，Ar气体流量为30sccm，控压为1mtorr，离子源电压为2kV，电流1.59A，基片传输速度0.4m/min，刻蚀深度109.87nm。

O离子束轰击处理的工艺为：背底真空度为5.5*10-7torr，O气体流量为30sccm，控压为1mtorr，离子源电压为1.5kV，电流0.85A，基片传输速度0.4m/min，刻蚀深度32.37nm。

附图2为椭偏参数Δ随入射角的变化，其中1号曲线为未经离子束处理的玻璃基材，2号曲线为经过上述Ar离子束工艺处理的玻璃基材，3号曲线为经过上述O离子束工艺处理的玻璃基材。其中水平虚线与三条曲线的交点为光学材料的布鲁斯特角。由图2可以看出，三条曲线在布鲁斯特角发生突变的斜率不同，其中Ar离子束轰击处理的玻璃基材下降斜率最大，未经离子束处理的玻璃基材次之，O离子束轰击处理的玻璃基材下降斜率最小。采用本发明实施例的方法判断O离子束轰击处理的玻璃基材表面粗糙度最大，其次为未经处理的玻璃基材，Ar离子束轰击处理的玻璃基材表面粗糙度最小。

附图3为采用原子力显微镜AFM对这三个样品的表面粗糙度结果进行验证，其中图3a是未经处理的玻璃基材；图3b是经历Ar离子束轰击处理的玻璃基材；图3c是经历O离子束轰击处理的玻璃基材。可以看出，经过离子束轰击处理后玻璃基材的表面形貌与粗糙度发生了明显变化。其中图3a未经处理的玻璃基材表面均方根粗糙度Rq为1.1nm，算术平均粗糙度Ra为0.614nm；图3b经历Ar离子束轰击处理的玻璃基材表面均方根粗糙度Rq为0.779nm，算术平均粗糙度Ra为0.619nm；图3c经历O离子束轰击处理的玻璃基材表面均方根粗糙度Rq为2.32nm，算术平均粗糙度Ra为1.77nm。验证了表面粗糙度由大到小分别为O离子束轰击处理的玻璃基材、未经处理的玻璃基材、Ar离子束轰击处理的玻璃基材，即采用Δ曲线在布鲁斯特角附近的斜率变化判断表面粗糙度所得结果正确。

实施例三

采用美国J.A.Woollam公司生产的V型自动变角光谱型椭圆偏振光谱仪(VASE)测试经过N离子束轰击处理后玻璃基材表面的光学厚度变化，测试波长为550nm，入射角度为54°～59°，步长为0.1°，测试采用高精度模式，含退偏测试。

测试样品为N离子束轰击处理的玻璃基材，该玻璃为80*80*6mm3(L*W*H)的浮法玻璃，离子束轰击处理采用美国GPi公司生产的PPALS型阳极层线性离子源，长43.2cm，有效出射离子束长度30.5cm，最大离化电压为4kV、可实现最大离子束能2500eV。基片沿水平方向往复传输，与离子源夹角为45°，离子源中心与基片传输平面之间距离为200mm。处理工艺为：背底真空度为5.5*10^-7torr，N₂气体流量为30sccm，控压为1mtorr，离子源电压分别为0.78～2.5kV，电流0.27～1.37A，基片传输速度0.4m/min，刻蚀深度变化范围为10.22～85.12nm，具体参数详见表1。

图4为N离子束轰击处理后玻璃基材的Δ曲线随离子源电压的变化，图中圆形虚线所标注的为布鲁斯特角两端Δ曲线的尖角变化，可以看出，随离子源电压增大，Δ曲线的尖角增大，说明表面层光学厚度增大。进一步观察发现，N离子束处理随电压增大布鲁斯特角并没有偏移说明材料折射率并未发生变化，那么光学厚度的增大是由物理厚度的增大造成，即玻璃基材的表面层(纵向非均匀层)厚度随N离子束处理电压的增大而增大。

经过建模拟合，可以获得定量的表面层厚度随离子源电压的变化，如附图5所示。玻璃基体的折射率为1.5152，经过N离子束轰击处理，表面层变得致密，折射率增大为1.5340，但是随着电源电压的增大，折射率并未增大，表面层光学厚度的增大体现在物理厚度的增大。随着N离子束轰击处理的电压由0.78kV增大至2.5kV，表面层厚度由16.776nm增大至27.164nm，对应着Δ曲线尖角线形的变化。说明采用Δ曲线在布鲁斯特角附近的线形变化即Δ曲线的尖角大小，结合布鲁斯特角是否偏移，判断表面层的光学厚度变化结果正确。

表1是N离子束轰击处理玻璃基材的电压、电流与刻蚀深度的数值。

表1

以上实施例是通过离子束轰击处理在光学材料表面产生纵向非均匀层，即纵向的非均匀性，从而导致光学材料表面质量变化，通过本发明方法可以快速判断离子束轰击对光学材料表面质量的影响，或不同离子束轰击工艺(解离气体种类、电压变化等参数变化)对光学材料表面质量的影响。同样，其他表面处理如喷砂、抛光或其他能量束如原子、紫外光、激光等对光学材料表面质量的改变也可以采用本发明方法快速判断。可见，本发明实施例的评估方法是通过目标光学材料与参照光学材料对比从而对目标光学材料的表面质量做出定性判断，其中的参照光学材料与目标光学材料可以分别为表面处理前后的光学材料，或者分别为不同表面处理的光学材料，不同表面处理可以仅仅是工艺参数不同，也可以是不同类型的表面处理。在实际应用中，多用于不同工艺的同类型表面处理的表面质量的定性评估。

通过上述实施例可以看出，本发明实施例的基于椭偏仪的光学材料表面质量评估方法在判断表面处理参数变化对表面处理效果影响中的应用。通过本发明实施例的方法对不同表面处理工艺(各处理条件的变化)处理后的光学材料表面质量对比后即可得出不同表面处理工艺对表面处理效果的影响，有利于快速调整表面处理工艺。

根据电磁波传播理论，入射到介质表面的光波电场矢量可以分解为平行于入射面的p分量与垂直于入射面的s分量，设空气和介质的光学常数分别为n₀、n₁，入射角和折射角分别为θ₀、θ₁，根据菲涅尔公式，p分量与s分量的振幅反射系数r_p、r_s分别为：

$r_p=\frac{n_1{\mathrm{cos\θ}}_0-n_0{\mathrm{cos\θ}}_1}{n_1{\mathrm{cos\θ}}_0+n_0{\mathrm{cos\θ}}_1},r_p=\frac{n_0{\mathrm{cos\θ}}_0-n_1{\mathrm{cos\θ}}_1}{n_0{\mathrm{cos\θ}}_0+n_1{\mathrm{cos\θ}}_1},$

定义椭偏仪获得的直接测量数据即为椭偏参数(椭偏角)Ψ与Δ。对于透明介质，如理想玻璃材料，在不考虑玻璃对光吸收的情况下，Δ＝90°时的角度为布鲁斯特角。根据理论计算，当玻璃材料的表面为非理想状态时，即有一定粗糙度时，Δ曲线在布鲁斯特角附近的下降斜率变小，如图6所示。其中1号曲线为理想玻璃，2号曲线为具有表面粗糙度的玻璃，粗糙层厚度为1.884nm。可以看出，与理想玻璃相比，具有粗糙层的玻璃Δ曲线在布鲁斯特角附近的下降斜率变小。

根据布鲁斯特角与光学常数的关系，其中N_b代表块体材料的折射率，N_o代表入射介质的折射率，即空气的折射率为1。因此布鲁斯特角与折射率存在正切函数关系，即布鲁斯特角增大说明折射率的增大，折射率增大说明了致密程度的增大，如是同种材料(同质)经过表面处理较表面处理前(未经表面处理)布鲁斯特角增大，则证明表面处理在光学材料表面形成的表面层的密度大于未处理的材料，即表面处理使光学材料表面致密程度增大；如是同质光学材料经不同表面处理，则表面处理后布鲁斯特角较大的光学材料的致密程度更大；反之亦然。若在布鲁斯特角附近随入射角增大，Δ由180°至0°发生急剧性突变说明材料表面质量较好，粗糙度较低，因此变化锐利，突变发生的角度范围较小，即斜率较大，说明斜率越大表面粗糙度越低；反之亦然，即斜率越小表面粗糙度越高。若在布鲁斯特角附近Δ随入射角度变化的曲线线形由平缓变为尖角，或已有尖角而发生尖角大小变化，或尖角数目变化即振荡次数变化则说明表面的表面层的光学厚度发生变化。光学厚度为材料折射率与物理厚度的乘积，或经过表面处理后布鲁斯特角不变即折射率未变化，说明表面层的光学厚度的改变为物理厚度变化，若布鲁斯特角变化即折射率发生变化，则光学厚度的改变为折射率与物理厚度的协调改变。

总之，光学材料对表面质量有所要求，表面质量的评估对于指导表面处理工艺具有非常重要的意义。本发明实施例的方法针对光学材料的表面质量提出了一种非接触，无建模，直接定性的方法，改变了现有技术中椭偏测试结果无法直接使用，必须经过物理建模对数据进行拟合的缺陷。本发明实施例提供的方法经过对样品非接触无损的椭偏光学测试，不需要采取任何物理建模，可直接对测试的Δ曲线进行判断，得出材料表面粗糙度、致密度及表面层光学厚度的变化信息，避免了人为建模过程的不正确所导致的拟合结果错误，为光学材料表面质量评估提供了一种方便、快捷、无损、直接的手段。并且，本发明实施例的评估方法可用于判断表面处理参数变化对表面处理质量的影响，便于快速调整表面处理工艺。

以上所述，仅为本发明的具体实施方式，但本发明的保护范围并不局限于此，任何熟悉本技术领域的技术人员在本发明揭露的技术范围内，可轻易想到的变化或替换，都应涵盖在本发明的保护范围之内。因此，本发明的保护范围应以所述权利要求的保护范围为准。

Claims (9)

1.一种基于椭偏仪的光学材料表面质量评估方法，其特征在于，包括如下步骤：

采用椭偏仪对光学材料进行检测，获得光学材料的布鲁斯特角附近的固定波长变化角度的Δ曲线，通过目标光学材料与参照光学材料的Δ曲线对比直接获得相同光学材料在进行表面处理前后的表面信息相对变化趋势或相同光学材料分别进行表面处理后的表面信息相对变化趋势。

2.根据权利要求1所述的基于椭偏仪的光学材料表面质量评估方法，其特征在于，所述表面处理包括物理处理和化学处理。

3.根据权利要求2所述的基于椭偏仪的光学材料表面质量评估方法，其特征在于，所述表面处理包括喷砂、抛光以及离子束或其它能量束的轰击处理。

4.根据权利要求1所述的基于椭偏仪的光学材料表面质量评估方法，其特征在于，所述表面信息包括光学材料表面层的致密程度信息、表面层的光学厚度信息以及表面粗糙程度信息中的至少一种。

5.根据权利要求4所述的基于椭偏仪的光学材料表面质量评估方法，其特征在于，由目标光学材料与参照光学材料的Δ曲线突变发生的角度，即布鲁斯特角偏移获知目标光学材料相对于参照光学材料表面致密度变化，其中

目标光学材料与参照光学材料相比布鲁斯特角向低角度偏移表示目标光学材料比参照光学材料产生了表面疏松层；

目标光学材料与参照光学材料相比布鲁斯特角向高角度偏移表示目标光学材料比参照光学材料产生了表面致密层。

6.根据权利要求4所述的基于椭偏仪的光学材料表面质量评估方法，其特征在于，由目标光学材料与参照光学材料的Δ曲线下降斜率变化获知目标光学材料比参照光学材料的表面粗糙程度变化，其中

斜率增大表示目标光学材料比参照光学材料表面粗糙度减小；

斜率减小表示目标光学材料比参照光学材料表面粗糙度增大。

7.根据权利要求4所述的基于椭偏仪的光学材料表面质量评估方法，其特征在于，由目标光学材料与参照光学材料的Δ曲线的线形变化大小获知目标光学材料比参照光学材料表面层的光学厚度变化，其由

布鲁斯特角两侧的Δ曲线尖角增大即为目标光学材料比参照光学材料的表面层的光学厚度增大；

布鲁斯特角两侧的Δ曲线尖角减小即为目标光学材料比参照光学材料的表面层的光学厚度减小。

8.根据权利要求7所述的基于椭偏仪的光学材料表面质量评估方法，其特征在于，当布鲁斯特角两侧的Δ曲线尖角增大时，如果布鲁斯特角未发生偏移或向低角度偏移则表示光学厚度增大是由于表面层物理厚度增大所致；

当布鲁斯特角两侧的Δ曲线尖角增大时，如果布鲁斯特角向高角度偏移则说明折射率增大与表面层物理厚度增大可能同时存在；

当布鲁斯特角两侧的Δ曲线尖角减小时，如果布鲁斯特角未发生偏移或向高角度偏移则表示光学厚度减小是由于表面层物理厚度减小所致；

当布鲁斯特角两侧的Δ曲线尖角减小时，如果布鲁斯特角向低角度偏移则说明折射率减小与表面层物理厚度减小可能同时存在。

9.权利要求1-8任一项所述的基于椭偏仪的光学材料表面质量评估方法在判断表面处理参数变化对表面处理效果影响中的应用。