CN104793370B - 彩色滤光基板的制备方法 - Google Patents

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Abstract

本发明公开了一种彩色滤光基板的制备方法，其中，该方法具体包括步骤：S1、提供一玻璃基板，采用清洗剂清洗该玻璃基板；S2、采用常压等离子表面处理装置对清洗后的玻璃基板进行干燥；S3、应用光罩工艺在干燥后的玻璃基板上形成黑色矩阵；S4、应用光罩工艺在具有黑色矩阵的玻璃基板上形成彩色光阻。该方法通过采用常压等离子表面处理装置对清洗后的玻璃基板进行干燥，达到去除玻璃基板表面的超细微的水滴并且不会残留水痕，使得最终制备得到的彩色滤光基板中，黑色矩阵与玻璃基板之间具有更高的密着性。

Description

彩色滤光基板的制备方法
技术领域
本发明涉及液晶显示器技术领域,尤其涉及一种彩色滤光基板的制备方法。
背景技术
液晶显示器(Liquid Crystal Display，LCD)，为平面超薄的显示设备，它由一定数量的彩色或黑白像素组成，放置于光源或者反射面前方。液晶显示器功耗很低，并且具有高画质、体积小、重量轻的特点，因此倍受大家青睐，成为显示器的主流。目前液晶显示器是以薄膜晶体管(Thin Film Transistor，TFT)液晶显示器为主，液晶面板是液晶显示器的主要组件。
液晶面板通常由薄膜晶体管阵列基板、彩色滤光基板和液晶层组成。彩色滤光基板的作用是将通过液晶层的白光过滤为不同颜色的光束，各不同颜色的光束重新汇聚形成图像画面。彩色滤光基板通常包括玻璃基板以及通过光罩工艺(MASK)在玻璃基板上形成的黑色矩阵和彩色光阻。近年来，液晶面板的分辨率要求越来越高，其相应的每英寸所拥有的像素数目(Pixels Per Inch，PPI)值越高，特别是对于较小尺寸的液晶面板，这就要求玻璃基板上的黑色矩阵具有更细的线宽。当黑色矩阵的线宽更细时，例如从传统的10μm以上减小到4～5μm，由此黑色矩阵与玻璃基板之间的密着性要求也更高。
在制备彩色滤光基板的过程中，玻璃基板的清洗工艺对黑色矩阵与玻璃基板之间的密着性存在着重要的影响。现有的清洗工艺中，通常先采用清洗剂(例如去离子水)清洗玻璃基板，然后采用红外线装置吹干或自然干燥的方式使玻璃基板干燥。这种干燥方式难以达到去除細微分子程度的水分残留，超细微的水滴(几十“μ”的程度)仍有可能再附着于玻璃基板表面，造成后续工序中的涂布装置涂上的膜层与玻璃基板的接触不完全，涂布后的接触角大，最终细线宽图层会发生脱落。
发明内容
鉴于现有技术存在的不足，本发明提供了一种彩色滤光基板的制备方法，该方法通过对玻璃基板的清洗和干燥工艺的改进，达到去除玻璃基板表面的超细微的水滴并且不会残留水痕，使得最终制备得到的彩色滤光基板中，黑色矩阵与玻璃基板之间具有更高的密着性。
为了实现上述目的，本发明采用了如下的技术方案：
一种彩色滤光基板的制备方法，包括清洗并干燥玻璃基板的步骤，其中，采用常压等离子表面处理该方法具体包括步骤：
S1、提供一玻璃基板，采用清洗剂清洗该玻璃基板；
S2、采用常压等离子表面处理装置对清洗后的玻璃基板进行干燥；
S3、应用光罩工艺在干燥后的玻璃基板上形成黑色矩阵；
S4、应用光罩工艺在具有黑色矩阵的玻璃基板上形成彩色光阻。
具体地，所述黑色矩阵具有多个开口部，所述彩色光阻形成于所述开口部中。
具体地，所述黑色矩阵的线宽为4～5μm。
具体地，所述步骤S3具体包括：
在干燥后的玻璃基板上形成一层黑色矩阵薄膜；
在所述黑色矩阵薄膜上涂覆光刻胶，并通过对光刻胶的曝光、显影保留黑色矩阵图形区域的光刻胶；
刻蚀掉暴露出的黑色矩阵薄膜并剥离剩余的光刻胶，形成所述黑色矩阵。
具体地，所述步骤S4具体包括：
在具有黑色矩阵的玻璃基板上形成一层彩色光阻薄膜；
在所述彩色光阻薄膜上涂覆光刻胶，并通过对光刻胶的曝光、显影保留彩色光阻图形区域的光刻胶；
刻蚀掉暴露出的彩色光阻薄膜并剥离剩余的光刻胶，形成所述彩色光阻。
具体地，所述彩色光阻包括红色光阻、绿色光阻和蓝色光阻；重复步骤S4分别制备获得所述红色光阻、绿色光阻和蓝色光阻。
相比于现有技术，本发明实施例提供的彩色滤光基板的制备方法，该方法通过采用AP plasma装置(常压等离子表面处理装置)对清洗后的玻璃基板进行干燥，达到去除玻璃基板表面的超细微的水滴并且不会残留水痕，使得最终制备得到的彩色滤光基板中，黑色矩阵与玻璃基板之间具有更高的密着性。
附图说明
图1为本发明实施例提供的彩色滤光基板的制备方法的工艺流程图。
图2为本发明实施例中制备黑色矩阵的工艺流程图。
图3为本发明实施例中制备红色光阻的工艺流程图。
具体实施方式
下面将结合附图以及具体实施例，对本发明实施例中的技术方案进行详细地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本发明一部分实例，而不是全部实施例。基于本发明中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动的前提下所获得的所有其他实施例，都属于本发明保护范围。
如图1所示，本实施例提供的一种彩色滤光基板的制备方法，其具体包括步骤：
S1、提供一玻璃基板，采用清洗剂清洗该玻璃基板。具体地，所用的清洗剂可以为去离子水，当玻璃基板上含有一些油性污垢时，清洗剂可以选用含有表面活性剂的清洗剂。
S2、采用常压等离子表面处理装置对清洗后的玻璃基板进行干燥。常压等离子表面处理装置，即AP(Atmospheric pressure)plasma装置。该装置以氮气为主要气体，高频电源将N2解离成自由基，将玻璃基板上的水分子H2O进行原子切断，水分子中氢原子结合一旦被切断，容易从表面脱离，并容易与其他分子结合。若其周围有氧存在，氢原子离开的痕迹会替换为氧原子。由此，玻璃基板上的分水子H2O会分解气体H2和O2，从玻璃基板表面脱离，达到去除玻璃基板表面的超细微的水滴并且不会残留水痕的目的。
S3、应用光罩工艺在干燥后的玻璃基板上形成黑色矩阵。具体地，参阅图2，该步骤具体包括：
S31、在干燥后的玻璃基板上形成一层黑色矩阵薄膜。
S32、在所述黑色矩阵薄膜上涂覆光刻胶，并通过对光刻胶的曝光、显影保留黑色矩阵图形区域的光刻胶。
S33、刻蚀掉暴露出的黑色矩阵薄膜并剥离剩余的光刻胶，形成所述黑色矩阵。具体地，所制备得到的黑色矩阵具有多个开口部，黑色矩阵的线宽为4～5μm。
S4、应用光罩工艺在具有黑色矩阵的玻璃基板上形成彩色光阻。其中，所述彩色光阻包括红色光阻、绿色光阻和蓝色光阻。具体地，以制备红色光阻为例，参阅图3，该步骤具体包括：
S41、在具有黑色矩阵的玻璃基板上形成一层红色光阻薄膜。
S42、在所述彩色光阻薄膜上涂覆光刻胶，并通过对光刻胶的曝光、显影保留红色光阻图形区域的光刻胶。
S43、刻蚀掉暴露出的红色光阻薄膜并剥离剩余的光刻胶，形成所述红色光阻。
按照步骤S41～S43，进一步地分别制备出绿色光阻和蓝色光阻，其中每一彩色光阻(红色光阻、绿色光阻或蓝色光阻)分别形成于前述黑色矩阵的其中一个开口部中。
进一步地，在另外的一些实施例中，还可以在如上制备得到彩色光阻的玻璃基板上依次制备平坦层和公共电极层。
综上所述，相比于现有技术，本发明实施例提供的彩色滤光基板的制备方法，该方法通过采用AP plasma装置(常压等离子表面处理装置)对清洗后的玻璃基板进行干燥，达到去除玻璃基板表面的超细微的水滴并且不会残留水痕，使得最终制备得到的彩色滤光基板中，黑色矩阵与玻璃基板之间具有更高的密着性。尤其是在较小尺寸的液晶面板中，液晶面板的PPI要求较高，黑色矩阵具有的线宽较细时，按照该方法制备的彩色滤光基板，黑色矩阵不易于从玻璃基板上脱落。
需要说明的是，在本文中，诸如第一和第二等之类的关系术语仅仅用来将一个实体或者操作与另一个实体或操作区分开来，而不一定要求或者暗示这些实体或操作之间存在任何这种实际的关系或者顺序。而且，术语“包括”、“包含”或者其任何其他变体意在涵盖非排他性的包含，从而使得包括一系列要素的过程、方法、物品或者设备不仅包括那些要素，而且还包括没有明确列出的其他要素，或者是还包括为这种过程、方法、物品或者设备所固有的要素。在没有更多限制的情况下，由语句“包括一个……”限定的要素，并不排除在包括所述要素的过程、方法、物品或者设备中还存在另外的相同要素。
以上所述仅是本申请的具体实施方式，应当指出，对于本技术领域的普通技术人员来说，在不脱离本申请原理的前提下，还可以做出若干改进和润饰，这些改进和润饰也应视为本申请的保护范围。

Claims (6)

1.一种彩色滤光基板的制备方法，其特征在于，该方法具体包括步骤：
S1、提供一玻璃基板，采用清洗剂清洗该玻璃基板；
S2、采用常压等离子表面处理装置对清洗后的玻璃基板进行干燥；其中，所述常压等离子表面处理装置以N2为主要气体，高频电源将N2解离成自由基，将玻璃基板上的H2O分子进行原子切断，分解为气体H2和O2从玻璃基板表面脱离，达到去除玻璃基板表面的超细微的水滴并且不残留水痕；
S3、应用光罩工艺在干燥后的玻璃基板上形成黑色矩阵；
S4、应用光罩工艺在具有黑色矩阵的玻璃基板上形成彩色光阻。
2.根据权利要求1所述的彩色滤光基板的制备方法，其特征在于，所述黑色矩阵具有多个开口部，所述彩色光阻形成于所述开口部中。
3.根据权利要求1或2所述的彩色滤光基板的制备方法，其特征在于，所述黑色矩阵的线宽为4～5μm。
4.根据权利要求1所述的彩色滤光基板的制备方法，其特征在于，所述步骤S3具体包括：
在干燥后的玻璃基板上形成一层黑色矩阵薄膜；
在所述黑色矩阵薄膜上涂覆光刻胶，并通过对光刻胶的曝光、显影保留黑色矩阵图形区域的光刻胶；
刻蚀掉暴露出的黑色矩阵薄膜并剥离剩余的光刻胶，形成所述黑色矩阵。
5.根据权利要求1所述的彩色滤光基板的制备方法，其特征在于，所述步骤S4具体包括：
在具有黑色矩阵的玻璃基板上形成一层彩色光阻薄膜；
在所述彩色光阻薄膜上涂覆光刻胶，并通过对光刻胶的曝光、显影保留彩色光阻图形区域的光刻胶；
刻蚀掉暴露出的彩色光阻薄膜并剥离剩余的光刻胶，形成所述彩色光阻。
6.根据权利要求5所述的彩色滤光基板的制备方法，其特征在于，所述彩色光阻包括红色光阻、绿色光阻和蓝色光阻；重复步骤S4分别制备获得所述红色光阻、绿色光阻和蓝色光阻。
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