CN104527165B - 半反半透玻璃及其制备方法 - Google Patents

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Abstract

本发明公开了一种高硬度、耐酸碱腐蚀、耐碱液超声、耐刮花，后工序加工性强的半反半透玻璃，该半反半透玻璃的反射率为18％～75％范围内的任一反射率。该半反半透玻璃包括依次层叠的玻璃基板、第一低折射率层、第一高折射率层、第二低折射率层、第二高折射率层、第三低折射率层、第三高折射率层及第四高硬度折射率层；第一低折射率层的材料为SiO2；第一高折射率层的材料为Nb2O5；第二低折射率层的材料为SiO2；第二高折射率层的材料为Nb2O5；第三低折射率层的材料为SiO2。这种半反半透玻璃硬度可达7H，耐酸碱腐蚀、耐碱液超声、耐刮花，后工序加工性强。本发明还公开了上述半反半透玻璃的制备方法。

Description

半反半透玻璃及其制备方法
技术领域
本发明涉及一种高硬度、耐酸碱腐蚀、耐碱液超声、耐刮花，后工序加工性强的半反半透玻璃及其制备方法。
背景技术
现有的平板电脑、触屏手机等智能触控电子产品，往往需要在表面贴半反半透光学膜，以实现半反半透的光学性能，在智能触控产品待机时可以起到镜面反射效果，可以作为镜子用于整理妆容、或梳理头发。也有在背盖玻璃上贴半反半透光学膜，从而前盖正常显示、触控，而后盖具备一定的镜面反射消影。
还有部分汽车，采用半反半透光学膜作为车载后视镜，从而即可以清楚观察到后面的交通情况，也可以避免后面车辆远视灯打开时，照射过来的光线经后视镜反射后并非全部强光反射，而是部分反射、部分透过，从而避免强光反射进入司机眼睛内而干扰司机的正常驾驶。
传统的半反半透光学膜是镀在PET柔性基材上再贴到手机、平板电脑的盖板玻璃上。一方面，贴膜时间长会气泡、剥离，影响半透半反的效果，另一方面，传统的半反半透膜的硬度不够高，在使用过程中容易划伤，从而影响产品的美观。
还有部分传统的半反半透光学膜虽然镀在玻璃上，但由于全部采用TiO2或Nb2O5做为高折射率材料、SiO2做为低折射率材料，由于TiO2在和OCA贴合后，再在UV光照射下会出现黑斑，虽然此黑斑随时间延长而逐渐变淡，但经UV照射后又在出现，影响产品的视觉效果。而Nb2O5则溶解于碱液，在后续加工工序中若用碱液清洗、碱液超声，会出现部分Nb2O5层溶解现象，破坏了光学膜层，从而破坏了半反半透光学膜的光学效果；同时Nb2O5和SiO2的维氏硬度仅为560Hv和640Hv，若全部为此两种材料，则生成的半反半透光学膜在后续加工过程中、终端客户使用过程中容易划伤，影响产品的美观和客户接受度。
发明内容
基于此，有必要提供一种硬度较高、耐酸碱腐蚀、耐碱液超声、耐刮花，后工序加工性强的的半反半透玻璃及其制备方法。
一种半反半透玻璃，所述半反半透玻璃的反射率为18％～75％，所述半反半透玻璃包括依次层叠的玻璃基板、第一低折射率层、第一高折射率层、第二低折射率层、第二高折射率层、第三低折射率层、第三高折射率层及第四高硬度折射率层；
所述第一低折射率层的材料为SiO2；
所述第一高折射率层的材料为Nb2O5；
所述第二低折射率层的材料为SiO2；
所述第二高折射率层的材料为Nb2O5；
所述第三低折射率层的材料为SiO2；
所述第三高折射率层的材料为Nb2O5；
所述第四高硬度折射率层的材料为Si3N4；
所述第一低折射率层的厚度为
所述第一高折射率层的厚度为
所述第二低折射率层的厚度为
所述第二高折射率层的厚度为
所述第三低折射率层的厚度为
所述第三高折射率层的厚度为
所述第四高硬度折射率层的厚度为
在一个实施例中，所述玻璃基板的折射率为1.52。
在一个实施例中，所述玻璃基板的厚度为0.3～3.0mm。
在一个实施例中，所述半反半透玻璃的反射率为50％，所述第一低折射率层的厚度为所述第一高折射率层的厚度为所述第二低折射率层的厚度为所述第二高折射率层的厚度为所述第三低折射率层的厚度为所述第三高折射率层的厚度为所述第四高硬度折射率层的厚度为
在一个实施例中，所述半反半透玻璃的反射率为70％，所述第一低折射率层的厚度为所述第一高折射率层的厚度为所述第二低折射率层的厚度为所述第二高折射率层的厚度为所述第三低折射率层的厚度为所述第三高折射率层的厚度为所述第四高硬度折射率层的厚度为
在一个实施例中，所述半反半透玻璃的反射率为20％，所述第一低折射率层的厚度为所述第一高折射率层的厚度为所述第二低折射率层的厚度为所述第二高折射率层的厚度为所述第三低折射率层的厚度为所述第三高折射率层的厚度为所述第四高硬度折射率层的厚度为
一种半反半透玻璃的制备方法，包括如下步骤：
提供玻璃基板；
在所述玻璃基板的表面依次磁控溅射沉积第一低折射率层、第一高折射率层、第二低折射率层、第二高折射率层、第三低折射率层、第三高折射率层及第四高硬度折射率层，得到反射率为18％～75％的所述半反半透玻璃，其中，所述第一低折射率层的材料为SiO2，所述第一高折射率层的材料为Nb2O5，所述第二低折射率层的材料为SiO2，所述第二高折射率层的材料为Nb2O5，所述第三低折射率层的材料为SiO2，所述第三高折射率层的材料为Nb2O5，所述第四高硬度折射率层的材料为Si3N4，所述第一低折射率层的厚度为所述第一高折射率层的厚度为所述第二低折射率层的厚度为所述第二高折射率层的厚度为所述第三低折射率层的厚度为所述第三高折射率层的厚度为所述第四高硬度折射率层的厚度为
在一个实施例中，还包括步骤：对所述玻璃基板进行清洗并干燥。
在一个实施例中，所述玻璃基板的折射率为1.52。
在一个实施例中，所述玻璃基板的厚度为0.3～3.0mm。
这种半反半透玻璃，包括第一低折射率层、第一高折射率层、第二低折射率层、第二高折射率层、第三低折射率层、第三高折射率层及第四高硬度折射率层，透过率高低结合的合适厚度的膜层结构，使得半反半透玻璃自身具有半反半透的性能，在应用于盖板玻璃时，不需要额外粘贴半反半透光学膜，相对于传统的需要粘贴半反半透光学膜的盖板玻璃，避免了PET膜层的光吸收，在使用时视觉效果较好，同时第四高硬度折射率层的材料为Si3N4，使得半反半透玻璃在硬度、耐酸碱腐蚀、耐碱液超声、耐久性、耐摩擦性等方面更具有优势。
具体的，这种半反半透玻璃应用到手机、平板电脑上时，可以做为OGS的触控面、或GFF或G1F结构的保护盖板的触控面而用于手机、平板电脑。使手机、平板电脑待机时具备镜面效果，用于使用者整理妆容、或梳理头发，而点亮时背光源也无需太亮就可以对手机、平板电脑进行操作；也可以用于手机、平板电脑后盖，可以用作镜子使用。同时，此类产品也可用于汽车后视镜，即可以在白天观察后面交通情况、也可以避免夜间后面车辆远视灯照射过来的强光反射入驾驶者眼内而造成强光干扰，避免交通事故的发生。
附图说明
图1为一实施方式的半反半透玻璃的结构示意图。
具体实施方式
为使本发明的上述目的、特征和优点能够更加明显易懂，下面结合附图对本发明的具体实施方式做详细的说明。在下面的描述中阐述了很多具体细节以便于充分理解本发明。但是本发明能够以很多不同于在此描述的其它方式来实施，本领域技术人员可以在不违背本发明内涵的情况下做类似改进，因此本发明不受下面公开的具体实施的限制。
如图1所示的一实施方式半反半透玻璃100，反射率为18％～75％，包括依次层叠的玻璃基板10、第一低折射率层20、第一高折射率层30、第二低折射率层40、第二高折射率层50、第三低折射率层60、第三高折射率层70及第四高硬度折射率层80。
玻璃基板10可以选择浮法玻璃或者其他本领域常规的玻璃。
优选的，玻璃基板10的厚度为0.3～3.0mm，更优选的，为0.55～1.1mm。
优选的，玻璃基板10的折射率为1.52。
第一低折射率层20的材料为SiO2。SiO2的折射率为1.48。采用SiO2作为第一低折射率层20的材料，使得第一低折射率层20的透过率相对较高。
第一低折射率层20的厚度在一个特别的实施例中，第一低折射率层20的厚度为也就是说，第一低折射率层20可以省略。
第一高折射率层30的材料为Nb2O5。Nb2O5的折射率为2.3。采用Nb2O5作为第一高折射率层30的材料，使得第一高折射率层30的透过率相对较低。
第一高折射率层30的厚度可以为在一个特别的实施例中，第一高折射率层30的厚度为也就是说，第一高折射率层30可以省略。
第二低折射率层40的材料为SiO2。SiO2的折射率为1.48。采用SiO2作为第二低折射率层40的材料，使得第二低折射率层40的透过率相对较高。
第二低折射率层40的厚度为
第二高折射率层50的材料为Nb2O5。Nb2O5的折射率为2.3。采用Nb2O5作为第二高折射率层50的材料，使得第二高折射率层50的透过率相对较低。
第二高折射率层50的厚度可以为
第三低折射率层60的材料为SiO2。SiO2的折射率为1.48。采用SiO2作为第三低折射率层60的材料，使得第三低折射率层60的透过率相对较高。
第三低折射率层60的厚度为
第三高折射率层70的材料为Nb2O5。Nb2O5的折射率为2.3。采用Nb2O5作为第三高折射率层70的材料，使得第三高折射率层70的透过率相对较低。
第三高折射率层70的厚度为在一个特别的实施例中，第三高折射率层70的厚度为也就是说，第三高折射率层70可以省略。
第四高硬度折射率层80的材料为Si3N4。Si3N4的折射率为2.0。采用Si3N4作为第四高硬度折射率层80的材料，使得第四高硬度折射率层80的反射率相对较高。
第四高硬度折射率层80的厚度为
这种半反半透玻璃，包括第一低折射率层20、第一高折射率层30、第二低折射率层40、第二高折射率层50、第三低折射率层60、第三高折射率层70及第四高硬度折射率层80，透过率高低结合的合适厚度的膜层结构，使得半反半透玻璃自身具有半反半透的性能，在应用于盖板玻璃时，不需要额外粘贴半反半透光学膜，相对于传统的需要粘贴半反半透光学膜的盖板玻璃，避免了PET膜层的光吸收，在使用时视觉效果较好；第四高硬度折射率层80的材料为氮化硅，氮化硅的维氏硬度为1720Hv，且既不同酸反应、也不同碱反应，使得在耐久性、耐摩擦性等方面更具有优势。
具体的，这种半反半透玻璃应用到手机、平板电脑上时，可以做为OGS的触控面、或GFF或G1F结构的保护盖板的触控面而用于手机、平板电脑。在手机、平板电脑待机时可以作为镜子用，而点亮时背光源也无需太亮就可以对手机、平板电脑进行操作；也可以用于手机、平板电脑后盖，可以用作镜子使用。同时，此类产品也可用于汽车后视镜，即可以在白天观察后面交通情况、也可以避免夜间后面车辆远视灯照射过来的强光反射入驾驶者眼内而造成强光干扰，避免交通事故的发生。
上述半反半透玻璃的制备方法，包括如下步骤：
S10、提供玻璃基板10。
玻璃基板10可以选择浮法玻璃或者其他本领域常规的玻璃。
优选的，玻璃基板10的厚度为0.3～3.0mm，更优选为0.55～1.1mm。
优选的，玻璃基板10的折射率为1.52。
优选的，先对玻璃基板10进行清洗并干燥。
S20、将清洗后的玻璃基板10表面依次磁控溅射沉积第一低折射率层20、第一高折射率层30、第二低折射率层40、第二高折射率层50、第三低折射率层60、第三高折射率层70及第四高硬度折射率层80，得到半反半透玻璃。
第一低折射率层20的材料为SiO2。SiO2的折射率为1.48。采用SiO2作为第一低折射率层20的材料，使得第一低折射率层20的透过率相对较高。
第一低折射率层20的厚度在一个特别的实施例中，第一低折射率层20的厚度为也就是说，第一低折射率层20可以省略。
具体在本实施方式中，磁控溅射制备第一低折射率层20的参数为：本底真空度为0.1～0.005Pa，镀膜腔的真空度为0.1Pa～0.5Pa，功率为0～30Kw。
第一高折射率层30的材料为Nb2O5。Nb2O5的折射率为2.3。采用Nb2O5作为第一高折射率层30的材料，使得第一高折射率层30的透过率相对较低。
第一高折射率层30的厚度可以为在一个特别的实施例中，第一高折射率层30的厚度为也就是说，第一高折射率层30可以省略。
具体在本实施方式中，磁控溅射制备第一高折射率层30的参数为：本底真空度为0.1～0.005Pa，镀膜腔的真空度为0.1Pa～0.5Pa，功率为0～60Kw。
第二低折射率层40的材料为SiO2。SiO2的折射率为1.48。采用SiO2作为第二低折射率层40的材料，使得第二低折射率层40的透过率相对较高。
第二低折射率层40的厚度为
具体在本实施方式中，磁控溅射制备第二低折射率层40的参数为：本底真空度为0.1～0.005Pa，镀膜腔的真空度为0.1Pa～0.5Pa，功率为15～60Kw。
第二高折射率层50的材料为Nb2O5。Nb2O5的折射率为2.3。采用Nb2O5作为第二高折射率层50的材料，使得第二高折射率层50的透过率相对较低。
第二高折射率层50的厚度可以为
具体在本实施方式中，磁控溅射制备第二高折射率层50的参数为：本底真空度为0.1～0.005Pa，镀膜腔的真空度为0.1Pa～0.5Pa，功率为2～30Kw。
第三低折射率层60的材料为SiO2。SiO2的折射率为1.48。采用SiO2作为第三低折射率层60的材料，使得第三低折射率层60的透过率相对较高。
第三低折射率层60的厚度为
具体在本实施方式中，磁控溅射制备第三低折射率层60的参数为：本底真空度为0.1～0.005Pa，镀膜腔的真空度为0.1Pa～0.5Pa，功率为20～60Kw。
第三高折射率层70的材料为Nb2O5。Nb2O5的折射率为2.3。采用Nb2O5作为第三高折射率层70的材料，使得第三高折射率层70的透过率相对较低。
第三高折射率层70的厚度为在一个特别的实施例中，第三高折射率层70的厚度为也就是说，第三高折射率层70可以省略。
具体在本实施方式中，磁控溅射制备第三高折射率层70的参数为：本底真空度为0.1～0.005Pa，镀膜腔的真空度为0.1Pa～0.5Pa，功率为0～30Kw。
第四高硬度折射率层80的材料为Si3N4。Si3N4的折射率为2.0。采用Si3N4作为第四高硬度折射率层80的材料，使得第四高硬度折射率层80的透过率相对较高。
第四高硬度折射率层80的厚度为
具体在本实施方式中，磁控溅射制备第四高硬度折射率层80的参数为：本底真空度为0.1～0.005Pa，镀膜腔的真空度为0.1Pa～0.5Pa，功率为2～50Kw。
上述半反半透玻璃的制备方法，工艺相对较简单，In-Line磁控溅射设备或BatchCoater均可以批量量产。制备的半反半透玻璃，包括第一低折射率层、第一高折射率层、第二低折射率层、第二高折射率层、第三低折射率层、第三高折射率层及第四高硬度折射率层，透过率高低结合的合适厚度的膜层结构，使得半反半透玻璃自身具有半反半透的性能，在应用于盖板玻璃时，不需要额外粘贴半反半透光学膜，相对于传统的需要粘贴半反半透光学膜的盖板玻璃，避免了PET膜层的光吸收，在使用时视觉效果较好，同时第四高硬度折射率层的材料为Si3N4，使得半反半透玻璃在耐刮花、耐酸碱腐蚀、耐久性、耐摩擦性等方面更具有优势。
具体的，这种半反半透玻璃应用到手机、平板电脑上时，可以做为OGS的触控面、或GFF或G1F结构的保护盖板的触控面而用于手机、平板电脑。但手机、平板电脑待机时可以作为镜子用，而点亮时背光源也无需太亮就可以对手机、平板电脑进行操作；也可以用于手机、平板电脑后盖，可以用作镜子使用。同时，此类产品也可用于汽车后视镜，即可以在白天观察后面交通情况、也可以避免夜间后面车辆远视灯照射过来的强光反射入驾驶者眼内而造成强光干扰，避免交通事故的发生。
下面为具体实施例。
实施例1
实施例1的半反半透玻璃的结构为玻璃基板 其中，“/”表示层叠结构，括号内的数值代表厚度，以下实施例相同。
实施例1的玻璃基板的材料为钠钙玻璃，厚度为0.7mm。
实施例1的半反半透玻璃通过使用日本电色的SD-6000，对波长范围为380～780nm的光线进行测试，测试550nm反射率为20％。
使用铅笔硬度计对该半反半透光学膜层进行硬度测试，结果硬度为7H。
取一定数量、反射率为20％的半反半透光学膜玻璃，采用浓度为10wt％、温度为40℃的NaOH溶液，浸泡2H。测试浸泡后的样片的光谱，同浸泡前光谱相比，重合度非常好；测试百格，附着力仍然为5B。
取一定数量、反射率为20％的半反半透光学膜玻璃，采用浓度为5％、温度为40℃的HCl溶液，浸泡2H。测试浸泡后的样片的光谱，同浸泡前光谱相比，重合度非常好；测试百格，附着力仍然为5B。
取一定数量、反射率为20％的半反半透光学膜玻璃，采用浓度为5wt％、温度为50℃的NaOH溶液、频率为40Hz、功率为1500W的超声槽超声，超声20分钟。测试超声后样片的光谱，同浸泡前光谱相比，重合度非常好；测试百格，附着力仍然为5B。
实施例2
实施例2的半反半透玻璃的结构为玻璃基板
实施例2的玻璃基板的材料为钠钙玻璃，厚度为1.1mm。
实施例2的半反半透玻璃通过使用日本电色的SD-6000，对波长范围为380～780nm的光线进行测试，测试实验结果为550nm处反射率为30％。使用铅笔硬度计对该半反半透光学膜层进行硬度测试，结果硬度为7H。
取一定数量、反射率为30％的半反半透光学膜玻璃，采用浓度为10wt％、温度为40℃的NaOH溶液，浸泡2H。测试浸泡后的样片的光谱，同浸泡前光谱相比，重合度非常好；测试百格，附着力仍然为5B。
取一定数量、反射率为30％的半反半透光学膜玻璃，采用浓度为5％、温度为40℃的HCl溶液，浸泡2H。测试浸泡后的样片的光谱，同浸泡前光谱相比，重合度非常好；测试百格，附着力仍然为5B。
取一定数量、反射率为30％的半反半透光学膜玻璃，采用浓度为5wt％、温度为50℃的NaOH溶液、频率为40Hz、功率为1500W的超声槽超声，超声20分钟。测试超声后样片的光谱，同浸泡前光谱相比，重合度非常好；测试百格，附着力仍然为5B。
实施例3
实施例3的半反半透玻璃的结构为玻璃基板
实施例3的玻璃基板的材料为铝硅玻璃，厚度为0.55mm。
实施例3的半反半透玻璃通过使用测试仪器为日本电色的SD-6000，对波长范围为380～780nm的光线进行测试，测试550nm出反射率为40％。
使用铅笔硬度计对该半反半透光学膜层进行硬度测试，结果硬度为7H。
取一定数量、反射率为40％的半反半透光学膜玻璃，采用浓度为10wt％、温度为40℃的NaOH溶液，浸泡2H。测试浸泡后的样片的光谱，同浸泡前光谱相比，重合度非常好；测试百格，附着力仍然为5B。
取一定数量、反射率为40％的半反半透光学膜玻璃，采用浓度为5％、温度为40℃的HCl溶液，浸泡2H。测试浸泡后的样片的光谱，同浸泡前光谱相比，重合度非常好；测试百格，附着力仍然为5B。
取一定数量、反射率为40％的半反半透光学膜玻璃，采用浓度为5wt％、温度为50℃的NaOH溶液、频率为40Hz、功率为1500W的超声槽超声，超声20分钟。测试超声后样片的光谱，同浸泡前光谱相比，重合度非常好；测试百格，附着力仍然为5B。
实施例4
实施例4的半反半透玻璃的结构为玻璃基板
实施例4的玻璃基板的材料为钠钙玻璃，厚度为0.7mm。
实施例4的半反半透玻璃通过使用测试仪器为日本电色的SD-6000，对波长范围为380～780nm的光线进行测试，测试550nm出反射率为50％。
使用铅笔硬度计对该半反半透光学膜层进行硬度测试，结果硬度为7H。
取一定数量、反射率为50％的半反半透光学膜玻璃，采用浓度为10wt％、温度为40℃的NaOH溶液，浸泡2H。测试浸泡后的样片的光谱，同浸泡前光谱相比，重合度非常好；测试百格，附着力仍然为5B。
取一定数量、反射率为50％的半反半透光学膜玻璃，采用浓度为5％、温度为40℃的HCl溶液，浸泡2H。测试浸泡后的样片的光谱，同浸泡前光谱相比，重合度非常好；测试百格，附着力仍然为5B。
取一定数量、反射率为50％的半反半透光学膜玻璃，采用浓度为5wt％、温度为50℃的NaOH溶液、频率为40Hz、功率为1500W的超声槽超声，超声20分钟。测试超声后样片的光谱，同浸泡前光谱相比，重合度非常好；测试百格，附着力仍然为5B。
实施例5
实施例5的半反半透玻璃的结构为玻璃基板
实施例5的玻璃基板的材料为钠钙玻璃，厚度为1.8mm。
实施例5的半反半透玻璃通过使用测试仪器为日本电色的SD-6000，对波长范围为380～780nm的光线进行测试，测试550nm出反射率为60％。
使用铅笔硬度计对该半反半透光学膜层进行硬度测试，结果硬度为7H。
取一定数量、反射率为60％的半反半透光学膜玻璃，采用浓度为10wt％、温度为40℃的NaOH溶液，浸泡2H。测试浸泡后的样片的光谱，同浸泡前光谱相比，重合度非常好；测试百格，附着力仍然为5B。
取一定数量、反射率为60％的半反半透光学膜玻璃，采用浓度为5％、温度为40℃的HCl溶液，浸泡2H。测试浸泡后的样片的光谱，同浸泡前光谱相比，重合度非常好；测试百格，附着力仍然为5B。
取一定数量、反射率为60％的半反半透光学膜玻璃，采用浓度为5wt％、温度为50℃的NaOH溶液、频率为40Hz、功率为1500W的超声槽超声，超声20分钟。测试超声后样片的光谱，同浸泡前光谱相比，重合度非常好；测试百格，附着力仍然为5B。
实施例6
实施例6的半反半透玻璃的结构为玻璃基板
实施例6的玻璃基板的材料为钠钙玻璃，厚度为0.55mm。
实施例6的半反半透玻璃通过使用测试仪器为日本电色的SD-6000，对波长范围为380～780nm的光线进行测试，测试550nm出反射率为70％。
使用铅笔硬度计对该半反半透光学膜层进行硬度测试，结果硬度为7H。
取一定数量、反射率为70％的半反半透光学膜玻璃，采用浓度为10wt％、温度为40℃的NaOH溶液，浸泡2H。测试浸泡后的样片的光谱，同浸泡前光谱相比，重合度非常好；测试百格，附着力仍然为5B。
取一定数量、反射率为70％的半反半透光学膜玻璃，采用浓度为5％、温度为40℃的HCl溶液，浸泡2H。测试浸泡后的样片的光谱，同浸泡前光谱相比，重合度非常好；测试百格，附着力仍然为5B。
取一定数量、反射率为70％的半反半透光学膜玻璃，采用浓度为5wt％、温度为50℃的NaOH溶液、频率为40Hz、功率为1500W的超声槽超声，超声20分钟。测试超声后样片的光谱，同浸泡前光谱相比，重合度非常好；测试百格，附着力仍然为5B。
对比例1
对比例1的半反半透玻璃的结构为玻璃基板 得到反射率为50％的半反半透玻璃。
对比例1的玻璃基板的材料为钠钙玻璃，厚度为0.7mm。
对比例1的半反半透玻璃通过使用测试仪器为日本电色的SD-6000，对波长范围为380～780nm的光线进行测试，测试550nm出反射率为50％。
使用铅笔硬度计对该半反半透光学膜层进行硬度测试，结果硬度为5H。
取该样片，镀膜面通过OCA贴合PET膜，用165nm波长的UV光照射10分钟，贴合位置中间出现片状黑斑，同黑斑半反半透光学膜周围镜面效果的区域形成鲜明对比。
对比例2
对比例2的半反半透玻璃的结构为玻璃基板 得到反射率为30％的半反半透光学膜玻璃。
取一定数量、反射率为30％的半反半透光学膜玻璃，采用浓度为10wt％、温度为40℃的NaOH溶液，浸泡1H。测试浸泡后的样片的光谱，同浸泡前光谱相比，反射率变差；测试百格，部分位置存在点状或片状掉膜现象，整片玻璃存在较重颜色不一致的色差现象。
取一定数量、反射率为30％的半反半透光学膜玻璃，采用浓度为5wt％、温度为50℃的NaOH溶液、频率为40Hz、功率为1500W的超声槽超声，超声10分钟。观察该样片，具备位置存在点状或片状掉膜，整片玻璃存在较重的颜色不一致引起的色差现象。
以上所述实施例仅表达了本发明的几种实施方式，其描述较为具体和详细，但并不能因此而理解为对本发明专利范围的限制。应当指出的是，对于本领域的普通技术人员来说，在不脱离本发明构思的前提下，还可以做出若干变形和改进，这些都属于本发明的保护范围。因此，本发明专利的保护范围应以所附权利要求为准。

Claims (1)

1.一种半反半透玻璃，其特征在于，所述半反半透玻璃包括依次层叠的玻璃基板、第一二氧化硅层、第一五氧化二铌层、第二二氧化硅层、第二五氧化二铌层、第三二氧化硅层、第三五氧化二铌层、氮化硅层；
所述玻璃基板的材料为钠钙玻璃，厚度为0.55mm；
所述第一二氧化硅层的厚度为
所述第一五氧化二铌层的厚度为
所述第二二氧化硅层的厚度为
所述第二五氧化二铌层的厚度为
所述第三二氧化硅层的厚度为
所述第三五氧化二铌层的厚度为
所述氮化硅层的厚度为
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