CN104350450B - 静电电容式触摸面板基板和显示装置 - Google Patents
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Abstract
本发明所涉及的静电电容式触摸面板基板(10)具有:透光性基板(1);设在透光性基板(1)的一个面上的多个第1方向透明电极单元(2a);将第1方向透明电极单元(2a)彼此连接的第1方向连接部(3a);和与第1方向透明电极单元(2a)形成于同一面的多个第2方向透明电极单元(2b);将第2方向透明电极单元(2b)彼此连接的第2方向连接部(3b);低反射层(6)。第2方向连接部(3b)通过绝缘层(4)与第1方向连接部(3a)绝缘,并包含反射导电性层(5)。低反射层(6)具有依国际照明委员会CIE所规定的标准光源(C)的Yxy色度图中的Y值为10%以下的低反射性,在从与透光性基板(1)的一个面垂直的方向观看时,与反射导电性层(5)至少局部地重叠。
Description
技术领域
本发明涉及静电电容式触摸面板基板和显示装置。特别是涉及在2个方向排列的透明电极单元之间的连接部难以明显的静电电容式触摸面板基板、和包括该静电电容式触摸面板基板的显示装置。
背景技术
近年来,在智能电话、平板PC(个人计算机)等各种显示装置中,作为与显示面板组合使用的位置输入装置,触摸面板迅速得到了普及。关于触摸面板,以往已知有电磁感应式、电阻膜式等各种方式,出于各种用途来使用,但最近其中特别受到瞩目的是能多点触摸(多点同时输入)的静电电容式的触摸面板。
图11(a)是示意出以往的显示装置200的一个例子的分解俯视图,其具有的构成是:以往的包含静电电容式触摸面板基板20的触摸面板30配置在液晶显示面板、EL面板(电解发光面板)等显示图像的显示面板40、与由玻璃盖等构成的显示装置用前表面保护板50之间。
图11(b)是注意到图11(a)中的以往的静电电容式触摸面板基板20的透明电极单元的局部放大俯视图,图11(c)是注意到图11(b)中的透明电极单元间的连接部的局部放大剖视图。图12是沿着图11(c)中的C-C线的连接部的局部放大剖视图。
一般在静电电容式触摸面板基板20中,如图11(b)和图11(c)所示,具有:在附图中沿上下方向即Y方向排列的第1方向透明电极单元2a、在附图中沿左右方向即X方向排列的第2方向透明电极单元2b。此处,将Y方向也称为第1方向,将X方向也称为第2方向。
上述以往的静电电容式触摸面板基板20是将第1方向透明电极单元2a和第2方向透明电极单元2b形成于透光性基板1的同一面侧的形态的例子(参照专利文献1)。该形态具有的优点是:能够提高第1方向透明电极单元2a与第2方向透明电极单元2b的相对位置精度。
即,上述附图所例举的以往的静电电容式触摸面板基板20在透光性基板1的第1面S1的面上具有:在第1方向(附图中的Y方向)排列的第1方向透明电极单元2a;由与第1方向透明电极单元2a相同的材料形成于同一面,将第1方向透明电极单元间2a彼此连接的第1方向连接部3a;由与第1方向透明电极单元2a相同的材料形成于同一面,位于第1方向透明电极单元2a之间,并且位于第1方向连接部3a之间,在与第1方向(Y方向)交叉的第2方向(附图中的X方向)排列的第2方向透明电极单元2b;将第2方向透明电极单元2b彼此连接,通过绝缘层4与第1方向连接部3a绝缘的第2方向连接部3b。
此时,第2方向连接部3b在能够得到透明性方面与第1方向连接部3a同样,具有由与第2方向透明电极单元2b相同的材料形成的形态,但作为利用与各透明电极单元相比面积小,且实现低成本的形态,已知由与布线7相同的材料同时形成的形态,布线7由设在排列有第1方向透明电极单元2a和第2方向透明电极单元2b的位置检测区域的外周部的金属材料构成(参照专利文献1)。
即,如图12的剖视图所示,第2方向连接部3b由金属材料构成的反射导电性层5构成,该反射导电性层5由银合金等金属层构成且呈现银色的金属反射性。
即使第2方向连接部3b由与第2方向透明电极单元2b相同的材料形成,由于设置绝缘层4的关系,也不能同时形成第1方向透明电极单元2a和第2方向透明电极单元2b,需要追加1个工序。但是,如果将第2方向连接部3b用与位置检测区域的外周部的布线7相同的材料同时形成,那么能够相应地减少工序数。
现有技术文献
专利文献
专利文献1: 日本特开2011-86122号公报。
发明内容
发明欲解决的问题
然而,如图12的剖视图所示,第2方向连接部3b若由反射导电性层5形成,则与透明电极不同,由于光L射到就反射,因此有时会明显。反射导电性层5明显的现象具有如下倾向:触摸面板的尺寸越小,由于透过其观看显示面板的观看者、或者触摸面板从操作者的眼睛的距离变近,因此变得越显著。
本发明的目的在于提供一种静电电容式触摸面板基板,使得在互相交叉的2个方向排列的透明电极单元之间的连接部难以明显。另外,提供一种包括该静电电容式触摸面板基板的显示装置。
用于解决问题的方案
本发明所涉及的静电电容式触摸面板基板具有:
透光性基板,具有第1面和与所述第1面相反侧的第2面;
多个第1方向透明电极单元,在所述透光性基板的所述第1面和第2面的任意一个面上,沿第1方向排列;
第1方向连接部,由与所述第1方向透明电极单元相同的材料形成于同一面,将所述第1方向透明电极单元彼此连接;
多个第2方向透明电极单元,由与所述第1方向透明电极单元相同的材料形成于同一面,位于所述第1方向透明电极单元之间,并且位于所述第1方向连接部之间,在与所述第1方向交叉的第2方向排列;
第2方向连接部,将所述第2方向透明电极单元彼此连接,通过绝缘层与所述第1方向连接部绝缘,并包含反射导电性层;以及
低反射层,具有依国际照明委员会CIE所规定的标准光源C的Yxy色度图中的Y值为10%以下的低反射性,在从与所述透光性基板的所述一个面垂直的方向观看时,与所述反射导电性层的至少一部分重叠。
在本发明所涉及的静电电容式触摸面板基板中,也可以是所述低反射层与所述反射导电性层的重叠部分的面积是所述反射导电性层的面积的30%以上。
在本发明所涉及的静电电容式触摸面板基板中,也可以是从与所述透光性基板的所述一个面垂直的方向观看时的所述低反射层的外轮廓形状、在内侧包含所述反射导电性层的外轮廓形状。
在本发明所涉及的静电电容式触摸面板基板中,也可以是在排列有所述第1方向透明电极单元和第2方向透明电极单元的位置检测区域的外周部的、所述透光性基板的所述一个面上具有装饰部,所述低反射层由与所述装饰部相同的材料形成。
在本发明所涉及的静电电容式触摸面板基板中,也可以是在排列有所述第1方向透明电极单元和第2方向透明电极单元的位置检测区域的外周部的、所述透光性基板的所述一个面上具有布线,所述反射导电性层由与所述布线相同的材料形成。
在本发明所涉及的静电电容式触摸面板基板中,也可以是所述低反射层在厚度方向,相对于所述反射导电性层形成于所述透光性基板侧。
在本发明所涉及的静电电容式触摸面板基板中,也可以是所述低反射层形成于所述反射导电性层与所述透光性基板之间。
在本发明所涉及的静电电容式触摸面板基板中,也可以是所述透光性基板的与所述一个面相反侧的面作为触摸面板的输入面发挥功能。
在本发明所涉及的静电电容式触摸面板基板中,也可以是所述低反射层在厚度方向,与所述反射导电性层相比形成于从所述透光性基板的距离远的一侧。
另外,本发明所涉及的显示装置包含:显示面板;配置在所述显示面板的观看者侧的所述静电电容式触摸面板基板。
发明的效果
根据本发明的静电电容式触摸面板基板,能够使在互相交叉的2个方向排列的透明电极单元之间的连接部难以明显。
根据本发明的显示装置,其包括的静电电容式触摸面板基板具有上述效果。
附图说明
图1(a)是说明本发明所涉及的静电电容式触摸面板基板的一个实施方式(先形成的连接部)的示意俯视图,图1(b)是沿着图1(a)中的C-C线的连接部的局部放大剖视图。
图2(a)是说明本发明所涉及的静电电容式触摸面板基板的另一实施方式(后形成的连接部)的示意俯视图,图2(b)是沿着图2(a)中的C-C线的连接部的局部放大剖视图。
图3(a)是说明本发明所涉及的静电电容式触摸面板基板的另一实施方式(先形成的连接部、通孔连接)的示意俯视图,图3(b)是沿着图3(a)中的C-C线的连接部的局部放大剖视图。
图4(a)是说明本发明所涉及的静电电容式触摸面板基板的另一实施方式(后形成的连接部、通孔连接)的示意俯视图,图4(b)是沿着图4(a)中的C-C线的连接部的局部放大剖视图。
图5(a)是说明本发明所涉及的静电电容式触摸面板基板的另一实施方式(反射导电性层从低反射层露出一部分)的示意俯视图,图5(b)是沿着图5(a)中的C-C线的连接部的局部放大剖视图。
图6(a)、(b)是分别说明在图5的形态中反射导电性层的露出状况的例子的俯视图。
图7(a)是说明本发明所涉及的静电电容式触摸面板基板的另一实施方式(低反射层与装饰部是相同的材料)的俯视图,图7(b)是示出红外线透过窗的部分的局部放大剖视图,图7(c)是与图1(b)对应的连接部的局部放大剖视图。
图8是示出本发明所涉及的静电电容式触摸面板基板的另一实施方式(带有覆盖层)(与图1(b)的构成对应)的局部放大剖视图。
图9是说明本发明所涉及的显示装置的一个实施方式的剖视图。
图10是说明本发明所涉及的显示装置的另一实施方式的剖视图。
图11(a)是示出包括以往的使用了静电电容式触摸面板基板的触摸面板、显示面板、和显示装置用前表面保护板的,以往的显示装置的一个例子的分解俯视图,图11(b)是示出静电电容式触摸面板基板的透明电极单元的一个例子的局部放大俯视图,图11(c)是示出透明电极单元间的连接部的一个例子的局部放大俯视图。
图12是沿着图11(c)中的C-C线的连接部的局部放大剖视图。
具体实施方式
下面,参照附图对本发明的实施方式进行说明。此外,附图是示意图,为了说明的方便,构成要素的比例关系、横纵比等有时会适当夸张。
[A]用语的定义:
下面,关于在本发明中使用的主要的用语,此处先说明其定义。
“表面侧”是指在静电电容式触摸面板基板10或者其他构成要素中,将静电电容式触摸面板基板10与显示面板40组合使用时,从显示面板40发出显示光一侧,是观看显示面板40的显示的观看者一侧。
另外,“表面侧”是指在静电电容式触摸面板基板10或者其他构成要素中,操作使用了静电电容式触摸面板基板10的触摸面板30的操作者一侧。
“背面侧”是指与所述“表面侧”的相反侧,是指在静电电容式触摸面板基板10或者其他构成要素中,显示面板40的显示光进入一侧。
“第1面”和“第2面”的哪个面成为所述“表面侧”,哪个面成为所述“表面侧”是任意的。
“第1面”和“第2面”的哪个面成为“一个面”,哪个面成为“另一个面”是任意的。
但是,在本说明书中,将设置第1方向透明电极单元2a和第2方向透明电极单元2b一侧的面称为“一个面”。该“一个面”成为所述“表面侧”还是成为“背面侧”取决于与静电电容式触摸面板基板10的层构成相关的使用方式。静电电容式触摸面板基板10的低反射层6相对于反射导电性层5成为表面侧地使用。
在本说明书中,主要说明所述“一个面”作为“背面侧”使用的形态,也说明作为“表面侧”使用的形态。
[B]静电电容式触摸面板基板10:
在每个实施方式中说明本发明所涉及的静电电容式触摸面板基板10。
《第1实施方式:先形成的连接部》
图1(a)是本发明所涉及的静电电容式触摸面板基板10的第1实施方式的示意俯视图,图1(b)是沿着图1(a)中的C-C线的局部放大剖视图。
本实施方式是先形成第2方向连接部3b,后形成第1方向透明电极单元2a和第2方向透明电极单元2b而得到的构造的形态。
图1所示的实施方式的静电电容式触摸面板基板10的构成是:
透光性基板1;
在该透光性基板1的一个面上,沿第1方向排列的多个第1方向透明电极单元2a;
由与第1方向透明电极单元2a相同的材料形成于同一面,将第1方向透明电极单元2a彼此连接的第1方向连接部3a;
由与第1方向透明电极单元2a相同的材料形成于同一面,位于第1方向透明电极单元2a之间并且位于第1方向连接部3a之间,在与第1方向交叉的第2方向排列的多个第2方向透明电极单元2b;
将第2方向透明电极单元2b彼此连接,通过绝缘层4与第1方向连接部2a绝缘,包含反射导电性层5的第2方向连接部3b;
使用依国际照明委员会CIE规定的标准光源C的Yxy色度图中的Y值为10%以下的低反射性,在从与透光性基板1的所述一个面即第1面S1垂直的方向观看时,与反射导电性层5的至少一部分重叠。
而且,在本实施方式中,反射导电性层5与低反射层6的所述重叠是:从与透光性基板1的所述一个面即第1面S1垂直的方向观看时,低反射层6的外轮廓形状在内侧包含反射导电性层5的外轮廓形状的重叠程度。换言之,这是反射导电性层5的面积的100%、即在整个范围与低反射层6重叠。
在本实施方式中,成为透光性基板1的一个面的第1面S1在图1(b)的剖视图中是附图上方的面。所以,静电电容式触摸面板基板10在该剖视图中,是设想将附图下侧的第2面S2作为表面侧,朝向也是触摸面板的操作者的显示面板的观看者V来使用的形态。
在该图中,在XY垂直坐标系中,Y方向为第1方向,X方向为第2方向。
此外,在本发明中,互相交叉的第1方向与第2方向不一定必须垂直。
图1(a)的示意俯视图在位置检测区域Ap内,没有全部描绘在第1方向排列的多个第1方向透明电极单元2a、和在第2方向排列的多个第2方向透明电极单元2b。注意到将第2方向透明电极单元2b彼此连接的第2方向连接部3b的部分,仅代表地描绘出1个第2方向连接部3b及其周边。另外,形成于位置检测区域Ap的外周部的布线7作为与第1方向透明电极单元2a连接的布线,也仅示意地描绘出1条,与第2方向透明电极单元2b连接的布线7的图示省略。
此外,在该图中,在位置检测区域Ap的外周部中,与布线7重叠地连接的,由与第1方向透明电极单元2a相同的材料同时图案形成于同一面的第1方向透明电极扩张部7a设在位置检测区域Ap的外周部。
图1(a)是从形成有反射导电性层5、低反射层6等侧的“背面侧”观看静电电容式触摸面板基板10的俯视图。在图1(a)中,在第1方向透明电极单元2a、第2方向透明电极单元2b等透明层的对置侧形成的绝缘层4、反射导电性层5和低反射层6用虚线描绘,因为如果该透明层是不透明的那么本来会成为隐藏的层的位置关系。但是,用虚线来表示只是为了易于理解,并非准确表现层的位置关系。
在图1(a)的俯视图、图1(b)的局部放大剖视图之间,附图中左右方向等各构成要素间的尺寸的大小关系不是恒定的。
与这些附图标记相关的说明对于本发明所涉及的其他实施方式的附图也一样。
在本实施方式中,低反射层6的从与透光性基板1的所述一个面即第1面S1垂直的方向观看时的外轮廓形状只要在内侧包含反射导电性层5的外轮廓形状即可,也可以相同而完全互相重叠。
在图1所示的本实施方式中,低反射层6的外轮廓形状是长方形形状,反射导电性层5的外轮廓形状也是长方形形状。而且,低反射层6的外轮廓形状比反射导电性层5的外轮廓形状大。而且,低反射层6的外轮廓形状在其全周围相对于反射导电性层5的外轮廓形状向外侧露出。此外,在本发明中,低反射层6的外轮廓形状是任意的,不限于长方形。反射导电性层5也一样。
低反射层6的外轮廓形状在位置对齐精度具有若干余量的意义上,优选的是相对于反射导电性层5的外轮廓形状在全周围向外侧露出的形状在0.5μm以上,优选1μm以上,更优选2μm以上,进一步优选4μm以上。只是,优选的是即使露出,也在100μm以下,优选30μm以下,更优选10μm以下。这是因为如果露出过度,则低反射层6的部分会遮挡透过触摸面板观看的显示面板的显示,会给显示品质带来不利影响。
在本实施方式中,是低反射层6在厚度方向相对于反射导电性层5形成于透光性基板1侧,更具体而言形成于反射导电性层5与透光性基板1之间的形态。
只是,在本发明中,所述“相对于反射导电性层5在透光性基板1侧”也包含在透光性基板1的另一个面、即第2面S2上形成低反射层6的形态。总之,本发明的静电电容式触摸面板基板10的构成是:操作使用了静电电容式触摸面板基板10的触摸面板的操作者也是观看适用了静电电容式触摸面板基板10的显示面板40的观看者V,在与反射导电性层5相比的该观看者V的近侧具有低反射层6。
[材料及形成法]
[透光性基板1]
所述透光性基板1能够使用已知的材料,代表是玻璃板,但也可以是聚酯树脂等树脂材料。
[第1方向透明电极单元2a、第2方向透明电极单元2b、和第1方向连接部3a]
所述第1方向透明电极单元2a、第2方向透明电极单元2b和第1方向连接部3a能够采用已知的材料及形成法。例如,能够使用通过光刻法等将ITO(Indium Tin Oxide;铟锡氧化物)、IZO(Indium Zinc Oxide;铟锌氧化物)、AZO(Aluminum Zinc Oxide;铝锌氧化物)等透明导电体薄膜图案形成的材料。
[第2方向连接部3b和反射导电性层5]
第2方向连接部3b至少包含反射导电性层5。
反射导电性层5能够采用所述透明导电体薄膜以外的金属布线材料等已知的材料及形成法。例如,反射导电性层5能够使用银、金、铜、铬、铂、铝、钯、钼等金属(包含这些的合金)等。例如,能够使用作为由银、钯和铜构成的合金(也称作APC)的金属层利用溅射法制膜后,通过光刻法图案形成的层。由这些金属材料形成的反射导电性层5呈现金属特有的反射性,另外,通常是不透明的。因此,由于光容易反射并明显,因此在低反射层6难以明显。
反射导电性层5的反射性是指反射率在可见光范围(380~780nm)平均为50%以上。例如,一般而言,银为90%以上,铝为80%以上,金在短波长范围下降到接近50%,但平均为50%以上。
反射导电性层5不限于金属材料,例如如果示出反射性则也可以是导电性高分子。
在本实施方式中,反射导电性层5也可以形成作为通过由银、钯和铜构成的银合金(也称作APC),利用光刻法而图案形成的金属层。
在本实施方式中,反射导电性层5与布线7由相同的材料形成,而且同时形成于同一面、具体而言为透光性基板1的一个面即第1面S1。
反射导电性层5的外形形状的尺寸例如在图1所示的本实施方式中,是宽度5~20μm、长度20~500μm的长方形。所述宽度是第1方向(附图Y方向)的尺寸,所述长度是第2方向(附图X方向)的尺寸。
第2方向连接部3b除了反射导电性层5以外,还包含上述的ITO等透明导电体薄膜,可以是透明导电体薄膜与反射导电性层5连接而相接的层叠构造。
[绝缘层4]
绝缘层4是电绝缘性的层,能够采用已知的材料及形成法。绝缘层4例如作为树脂层,能够使用紫外线固化型丙烯酸系树脂利用光刻法来图案形成。
此外,在本说明书中,“绝缘”和“连接”都作为电意义上的用语使用。
绝缘层4可以透明或者不透明,但优选是透明的。这是因为不会使静电电容式触摸面板基板10的透明性下降。在本实施方式中,绝缘层4形成作为透明的层。
[低反射层6]
低反射层6是参照具有依国际照明委员会CIE所规定的标准光源C的JIS-Z8701的Yxy色度图中的Y值为10%以下的低反射性的层。此外,测定当然是从低反射层6的层面的2个面中观看到与反射导电性层5远的面一侧进行的。低反射层6同时也示出遮光性(不透明性)。这是因为能够减少来自反射导电性层5的反射光。所以,低反射层6示出低反射性和遮光性,也能被称作将反射导电性层5隐蔽的“隐蔽层”。低反射层6能够作为为了使所述反射导电性层5不明显的层发挥功能。
所述遮光性从使反射导电性层5不明显的观点而言,以透过率而言优选的是最大也在10%以下(光学浓度OD为1以上),更优选透过率为1%以下(光学浓度OD为2.0以上),进一步优选透过率为0.01%以下(光学浓度OD为4.0以上)。
低反射层6作为呈现由固化性树脂的固化物构成的树脂粘合剂中包含炭黑等黑色颜料的黑色等暗色的层,能够利用光刻法来进行图案形成。固化性树脂能够使用紫外线固化型丙烯酸系树脂等感光性树脂。在本实施方式中,低反射层6使用包含炭黑的紫外线固化型丙烯酸系树脂由光刻法进行图案形成。
为了使低反射层6为黑色等暗色,也可以成为使用多种炭黑以外的红、黄、蓝、绿等彩色颜料来呈现黑色的层。例如,也可以使用红、黄、蓝这3种颜色的着色颜料来呈现黑色。暗色是指除了黑色以外,深蓝色、深绿色等彩色的,亮度低的,所述Y示出10%以下的颜色。
所以,作为低反射层6所使用的着色颜料,能够使用黑色颜料、白色颜料、红色颜料、黄色颜料、蓝色颜料、绿色颜料、紫色颜料等1种或者2种以上。
低反射层6也可以由氮氧化铬等其自身示出暗色的无机材料形成。
低反射层6优选是电绝缘性。这是因为若低反射层6是导电性的,则根据层构成和图案形状的组合,难以确保需要绝缘性的部分的绝缘性。例如,虽然在图1所示的本实施方式中没有问题,但在后述图2的第2实施方式中,难以确保第2方向透明电极单元2b与第1方向连接部3a的绝缘性。
[布线7]
布线7能够采用已知的材料及形成法。例如,布线7能够使用银、金、铜、铬、铂、铝、钯、钼等金属(包含这些的合金)等。例如,能够使用作为由银、钯和铜构成的合金(也称作APC)的金属层利用溅射法制膜后,通过光刻法图案形成的层。
在本实施方式中,布线7由银、钯和铜构成的银合金(也称作APC)形成作为金属层。即,在本实施方式中,所述反射导电性层5与布线7由相同的材料形成,而且同时形成于同一面、具体而言为透光性基板1的一个面即第1面S1。
[制造方法]
以上这样的静电电容式触摸面板基板10能够制造如下。
首先,在透光性基板1的一个面即第1面S1形成有低反射层6。接下来,作为第2方向连接部3b的反射导电性层5、和布线7由相同的材料同时进行图案形成。接下来,绝缘层4进行图案形成。接下来,第1方向透明电极单元2a、第2方向透明电极单元2b、和第1方向连接部3a由相同的材料同时进行图案形成。通过这样,能够制造静电电容式触摸面板基板10。
[本实施方式的效果]
通过成为以上这样的构成,在本实施方式的静电电容式触摸面板基板10中,由于构造为低反射层6将透明电极单元之间的连接部所使用的反射导电性层5全部隐藏,因此能够有效使连接部难以明显。
而且,在本实施方式中,由于反射导电性层5由与布线7相同的材料形成,因此反射导电性层5与布线7在同一工序中不增加工序数就能够设置,能够不增加成本就实现使反射导电性层5不明显的构造。
《第2实施方式:后形成的连接部》
图2(a)是本发明所涉及的静电电容式触摸面板基板10的第2实施方式的示意俯视图,图2(b)是沿着图2(a)中的C-C线的局部放大剖视图。
本实施方式是先形成第1方向透明电极单元2a和第2方向透明电极单元2b,后形成第2方向连接部3b而得到的构造的形态。
图2所示的实施方式的静电电容式触摸面板基板10相对于上述图1所示的第1实施方式,除了如下点不同以外都相同。因此,相同部分的说明省略。
a)反射导电性层5和布线7的形成;与第1方向透明电极单元2a、第2方向透明电极单元2b和第1方向连接部3a的形成的顺序相反这点。(换言之,通过绝缘层4的表面层与背面层的位置关系相反)
b)由于上述a),绝缘层4的形成;第1方向透明电极单元2a、第2方向透明电极单元2b和第1方向连接部3a的形成的顺序相反这点,以及绝缘层4的形成;反射导电性层5和布线7的形成的顺序相反这点。
[制造方法]
以上这样的静电电容式触摸面板基板10能够制造如下。
首先,在透光性基板1的一个面即第1面S1形成有低反射层。接下来,第1方向透明电极单元2a、第2方向透明电极单元2b、和第1方向连接部3a由相同的材料同时进行图案形成。接下来,绝缘层4进行图案形成。接下来,作为第2方向连接部3b的反射导电性层5、和布线7由相同的材料同时进行图案形成。通过这样,能够制造静电电容式触摸面板基板10。
[反射导电性层5和布线7的材料]
在本实施方式中具有的优点是:由于反射导电性层5和布线7的图案形成相对于第1方向透明电极单元2a、第2方向透明电极单元2b和第1方向连接部3a的同时图案形成之后进行,因此反射导电性层5和布线7的材料不需要考虑第1方向透明电极单元2a等的图案形成时的相对于蚀刻液的耐性。
因此,在本实施方式中,作为反射导电性层5和布线7的材料,也能够采用钼(Mo)、铝(Al)、钼(Mo)的3层构造的布线材料(称为MAM)。
[本实施方式的效果]
通过成为以上这样的构成,在本实施方式的静电电容式触摸面板基板10中,由于构造为低反射层6将透明电极单元之间的连接部所使用的反射导电性层5全部隐藏,因此能够有效使连接部难以明显。
而且,在本实施方式中,由于反射导电性层5由与布线7相同的材料形成,因此反射导电性层5与布线7在同一工序中不增加工序数就能够设置,能够不增加成本就实现使反射导电性层5不明显的构造。
《第3实施方式:先形成的连接部、通孔连接》
图3(a)是本发明所涉及的静电电容式触摸面板基板10的第3实施方式的示意俯视图,图3(b)是沿着图3(a)中的C-C线的局部放大剖视图。
本实施方式是先形成第2方向连接部3b,之后在位置检测区域Ap的整个范围形成具有通孔4h的绝缘层4,接下来,形成第1方向透明电极单元2a和第2方向透明电极单元2b,用通孔4h将第2方向透明电极单元2b与第2方向连接部3b连接而得到的构造的形态。
图3所示的实施方式的静电电容式触摸面板基板10相对于上述图1所示的第1实施方式,除了如下点不同以外都相同。因此,相同部分的说明省略。
a)绝缘层4不仅形成于连接部,而且形成于位置检测区域Ap的整个范围,但不形成于第2方向透明电极单元2b与第2方向连接部3b进行连接的通孔4h的部分这点。
b)由于上述a),作为第2方向连接部3b的反射导电性层5在通孔4h的部分与第2方向透明电极单元2b连接这点。
[制造方法]
以上这样的静电电容式触摸面板基板10在将绝缘层4进行图案形成时,将通孔4h作为层的非形成部进行同时形成,形成于位置检测区域Ap的整个范围,除此以外能够与上述第1实施方式同样制造。
[本实施方式的效果]
通过成为以上这样的构成,在本实施方式的静电电容式触摸面板基板10中,由于构造为低反射层6将透明电极单元之间的连接部所使用的反射导电性层5全部隐藏,因此能够有效使连接部难以明显。
而且,在本实施方式中,由于反射导电性层5由与布线7相同的材料形成,因此反射导电性层5与布线7在同一工序中不增加工序数就能够设置,能够不增加成本就实现使反射导电性层5不明显的构造。
《第4实施方式:后形成的连接部、通孔连接》
图4(a)是本发明所涉及的静电电容式触摸面板基板10的第4实施方式的示意俯视图,图4(b)是沿着图4(a)中的C-C线的局部放大剖视图。
本实施方式是先形成第1方向透明电极单元2a和第2方向透明电极单元2b,后将具有通孔4h的绝缘层4形成于位置检测区域Ap的整个范围,接下来形成第2方向连接部3b,用通孔4h与第2方向透明电极单元2b连接而得到的构造的形态。
图4所示的实施方式的静电电容式触摸面板基板10相对于上述图2所示的第2实施方式,除了如下点不同以外都相同。因此,相同部分的说明省略。
a)绝缘层4不仅形成于连接部,而且形成于位置检测区域Ap的整个范围,但不形成于第2方向透明电极单元2b与第2方向连接部3b进行连接的通孔4h的部分这点。
b)由于上述a),作为第2方向连接部3b的反射导电性层5在通孔4h的部分与第2方向透明电极单元2b连接这点。
[制造方法]
以上这样的静电电容式触摸面板基板10在将绝缘层4进行图案形成时,将通孔4h作为层的非形成部进行同时形成,形成于位置检测区域Ap的整个范围,除此以外能够与上述第2实施方式同样制造。
[本实施方式的效果]
作通过成为以上这样的构成,在本实施方式的静电电容式触摸面板基板10中,由于构造为低反射层6将透明电极单元之间的连接部所使用的反射导电性层5全部隐藏,因此能够有效使连接部难以明显。
而且,在本实施方式中,由于反射导电性层5由与布线7相同的材料形成,因此反射导电性层5与布线7在同一工序中不增加工序数就能够设置,能够不增加成本就实现使反射导电性层5不明显的构造。
《第5实施方式:反射导电性层5从低反射层6露出一部分》
图5(a)是本发明所涉及的静电电容式触摸面板基板10的第5实施方式的示意俯视图,图5(b)是沿着图5(a)中的C-C线的局部放大剖视图。
本实施方式是低反射层6与反射导电性层5的一部分重叠,结果反射导电性层5从低反射层6露出一部分而可见的形态。
图5所示的实施方式的静电电容式触摸面板基板10相对于上述图1所示的第1实施方式,除了如下点不同以外都相同。因此,相同部分的说明省略。
a)低反射层6与反射导电性层5的一部分重叠,反射导电性层5从低反射层6露出一部分而可见这点。
[低反射层6和反射导电性层5的重叠程度]
至此说明的各实施方式都是低反射层6在反射导电性层5的整个范围重叠,低反射层6的外轮廓形状被包含在反射导电性层5的外轮廓形状的内侧的形态。因此,反射导电性层5在其整个范围完全被低反射层6隐蔽,反射导电性层5不可见。
在使反射导电性层5不明显这点而言,优选的是反射导电性层5在其整个范围与低反射层6重叠,但即使反射导电性层5多少可见,实际上只要对反射导电性层5所涉及的显示品质的不利影响轻微,另外只要是能容许反射导电性层5所涉及的显示品质下降的用途,那么也可以是反射导电性层5从低反射层6露出一部分的形态。
例如,由于虽说是低反射层6但也会遮挡显示画面,因此考虑到对显示品质的不利影响,优选的是低反射层6尽可能小。即,在考虑到低反射层6自身所导致的对显示品质的不利影响的情况下,能够采用反射导电性层5从低反射层6露出一部分的形态。即,从将反射导电性层5完全隐藏的观点而言,低反射层6的最小形状为与反射导电性层5同一形状且同一尺寸。然而,如果容许生成若干露出部E,那么低反射层6的外轮廓形状比反射导电性层5的外轮廓形状小,这样使得即使产生若干位置偏离,也能减小低反射层6的面积与露出部E的面积的合计面积。因此,能够减小遮挡显示画面的要素。
另外,还考虑有由于位置对齐精度不充分,反射导电性层5与低反射层6的相对位置关系的位置偏离,使得反射导电性层5的一部分从低反射层6露出的情况。
本第5实施方式是在这样的状况下等,反射导电性层5从低反射层6露出一部分的形态。
在图5(a)和图5(b)中示出反射导电性层5相对于低反射层6在附图中向右方位置偏离,结果产生反射导电性层5从低反射层6露出一部分的露出部E的状况。其结果是,露出部E能由观看者V目视到。该图是反射导电性层5在其线的延伸方向(X轴方向)位置偏离的情况,但反射导电性层5与低反射层6的相对位置偏离的关系以反射导电性层5为基准时,有的在其线宽度方向位置偏离,有的在反射导电性层5的线的延伸方向和线宽度方向这两个方向位置偏离。
图6是关于反射导电性层5与低反射层6的相对位置偏离的方向,以2个方向的情况例举的图。图6(a)示出反射导电性层5的线的延伸方向(该图中为X轴方向)的情况,图6(b)示出反射导电性层5的线的线宽度方向(该图中为Y轴方向)的情况。在图6(a)和图6(b)中,两个箭头所示的方向是反射导电性层5与低反射层6的相对位置偏离的方向。图6(a)相当于所述图5的位置偏离关系。
图6(a)是低反射层6相对于反射导电性层5在X轴方向在附图右方位置偏离的状况,在反射导电性层5的左侧产生露出部E。图6(b)是低反射层6相对于反射导电性层5在Y轴方向在附图下方位置偏离的状况,在反射导电性层5的上侧产生露出部E。在这些附图中,为了易于理解,反射导电性层5和低反射层6分别在外轮廓形状的内侧没有施加阴影,仅在露出部E的部分施加了阴影。另外,被低反射层6隐藏的部分的反射导电性层5的外轮廓线以虚线示出。
(反射导电性层5被低反射层6隐蔽的面积比例)
这样,在低反射层6与反射导电性层5的一部分重叠,反射导电性层5从低反射层6露出一部分的形态中,低反射层6与反射导电性层5重叠的部分的面积为反射导电性层5的面积的30%以上,优选50%以上,更优选70%以上,进一步优选80%以上的面积比例。这是因为若所述面积比例不到所述值,则会使显示品质下降。
从图6可知,即使反射导电性层5从低反射层6露出的尺寸例如为1μm等、与露出的方向无关地为相同尺寸,在反射导电性层5的线方向(附图中为X轴方向)露出时;以及在线宽度方向(附图中为Y轴方向)露出时,反射导电性层5从低反射层6露出的露出部E的面积、相对于反射导电性层5的面积的面积比例也不同。尤其是,反射导电性层5的露出部E所导致的对显示品质的不利影响增大是在图6(b)所示的线宽度方向位置偏离且露出时。即使在这样的状况下,使被低反射层6隐蔽的所述面积比例为所述值以上,从而能够抑制显示品质的下降。
示出具体例,相对于反射导电性层5的线的线宽度15μm,在该线的全长在线宽度方向有3μm没有被低反射层6隐蔽而露出时,所述面积比例为{(15μm-3μm)/15μm}×100=80%。
[本实施方式的效果]
通过成为以上这样的构成,在本实施方式的静电电容式触摸面板基板10中,由于构造为低反射层6将透明电极单元之间的连接部所使用的反射导电性层5一部分隐藏,因此能够使连接部难以明显。另外,也能够抑制低反射层6自身所导致的对显示品质的不利影响。
而且,在本实施方式中,由于反射导电性层5由与布线7相同的材料形成,因此反射导电性层5与布线7在同一工序中不增加工序数就能够设置,能够不增加成本就实现使反射导电性层5不明显的构造。
并且,通过容许某一程度的反射导电性层5的露出,能够缓解位置对齐精度,能够抑制对显示品质的不利影响且制造变得更容易,进一步实现低成本化。
《变形形态》
本发明的静电电容式触摸面板基板10能够采取上述形态以外的其他形态。下面,说明其一部分。
[反射导电性层5从低反射层6露出一部分的形态]
作为反射导电性层5从低反射层6露出一部分的形态而说明的第5实施方式也是第1实施方式的变形形态。
但是在本发明中,反射导电性层5从低反射层6露出一部分的形态不限于第1实施方式的变形形态。反射导电性层5从低反射层6露出一部分的形态也可以作为对于第2实施方式、第3实施方式、第4实施方式、或者后述变形形态等其他形态的变形形态。
[将露出部E利用作为反射部的形态]
在反射导电性层5从低反射层6露出一部分的形态中,也可以将从低反射层6露出的反射导电性层5的部分即露出部E积极地利用作为反射部。
例如,在射击游戏等的游戏机中,对于包含静电电容式触摸面板基板10的触摸面板配置在显示面板的观看者侧的显示装置,利用来自枪型光控制器的光照射来指示该显示画面内的任意位置,附加能拍摄显示画面的CCD等二维图像传感器等所涉及的反射位置检测单元,从而由该反射位置检测单元和静电电容式触摸面板基板10的露出部E所涉及的反射部构成光学非接触指示位置检测单元,能够作为射击游戏机,其中,反射位置检测单元接收从该枪型光控制器发出的光在露出部E所涉及的反射部反射的反射光,从而检测显示画面内指示的位置。此外,若照射光使用红外光,则能够容易与可见光区分。
从将反射导电性层5利用作为反射部的意义而言,不设置低反射层6反而能够增强反射光强度这点较好,但周围环境的光易于射到且反射导电性层5易于明显。然而,构成为用低反射层6将反射导电性层5的一部分隐藏,从而能够使得作为反射导电性层5的本来的电连接单元的基本的电性能、作为在显示画面内的光学非接触指示位置检测单元的1个构成要素的反射光强度、作为显示画面品质的反射导电性层5明显的难度、反射导电性层5与低反射层6的位置对齐精度相关的制造上的容易度和成本等各种性能的平衡更容易,能够增加设计的自由度。
而且,如果将作为光学非接触指示位置检测单元的一个构成要素的反射部与反射导电性层5分开独立设置,那么工序数会相应地增加,成本会升高,但通过将反射导电性层5的露出部E利用为反射部,构成为反射部由与反射导电性层5相同的材料同时形成,不增加工序数就能够设置。
这样的露出部E应用到作为显示画面内的光学非接触指示位置检测单元的一个构成要素的反射部,除了游戏机用途以外,也能够使用于作为指示显示画面内的任意位置,从而进行以该部分为中心的画面的放大或者缩小等操作的控制器的用途。例如,规则地排列露出部E,从而露出部E能够起到作为显示画面内的网格线的功能。
此外,在上述形态例中,关于作为光学非接触指示位置检测单元的一个构成要素的功能的使用,在分为触摸面板功能和使用时候而使用的使用方法的用途中,是在操作者位于手够不到显示画面的位置时进行的;在并用两个功能的使用方法的用途中,是在操作者位于手够得到显示画面的位置时进行的。
[装饰部8的附加、和显示装置用前表面保护板的兼用]
如图7例举的那样,在本发明中,静电电容式触摸面板基板10在位置检测区域Ap的外周部能够具有装饰部8。
装饰部8是将在包含静电电容式触摸面板基板10的触摸面板、使用了该触摸面板的显示装置中位于位置检测区域Ap的外周部的布线7、控制电路等隐藏,使得对于显示装置的观看者V或触摸面板的操作者不可见,不影响外观,并且表现任意外观设计的部分。
静电电容式触摸面板基板10在位置检测区域Ap的外周部具有装饰部8,从而能够起到图11(a)所例举的以往的显示装置200的、玻璃盖等作为显示装置用前表面保护板50的功能,能够兼用作显示装置用前表面保护板50。
兼用作显示装置用前表面保护板50的构成的静电电容式触摸面板基板10能够称作显示装置用前表面保护板一体型触摸面板基板。在该情况下,透光性基板1的与设置有第1方向透明电极2a和第2方向透明电极2b的面(一个面、第1面S1)相反侧的面(另一个面、第2面S2)作为操作者的手指等外部导体与触摸面板传感器接触(或者接近)并进行位置输入的触摸面板的输入面(触摸面、接触面)发挥功能。
静电电容式触摸面板基板10兼用作显示装置用前表面保护板50并一体化,从而能够得到进一步器件数量减少、薄型化的效果。
[低反射层6、与装饰部8的材料相同化]
在静电电容式触摸面板基板10也具有装饰部8的形态中,在具有在其装饰部8具有与低反射层6同样的低反射性和遮光性的构成要素时,低反射层6能够由与装饰部8相同的材料形成。另外,优选的是低反射层6由与装饰部8相同的材料形成。这是因为由于将低反射层6由与装饰部8相同的材料形成,从而低反射层6与装饰部8在同一工序中不增加工序数就能够设置,因此能够不增加成本就实现使反射导电性层5不明显的构造。当然,在该情况下,低反射层6与装饰部8形成于透光性基板1的同一面上(参照图7(c)),从而能在同一工序中同时形成。此外,图7(c)示出图1的形态的低反射层6与装饰部8同时形成的例子,但其他形态的低反射层6也可以与装饰部8同时形成。
装饰部8为了隐藏布线7等,至少具有为遮光性的遮光层8a,但此外,通常还具有红外线透过窗8b等。从通话时耳朵贴在移动电话时需要防止触摸面板的误动作,还有关闭显示面板的显示以延长电池寿命的观点等而言,红外线透过窗8b设置在作为感知人体肌肤接近的人体感应传感器而设置的红外线传感器的部分。
作为由与低反射层6相同的材料形成的装饰部8的构成要素,例如有遮光层8a;形成于红外线透过窗8b的部分的红外线透过层8bL。
[遮光层8a]
遮光层8a的遮光性根据要求规格、表现颜色而不同,但以透过率而言优选的是最大也在3%以下(光学浓度OD为1.5以上),更优选透过率为1%以下(光学浓度OD为2.0以上),进一步优选透过率为0.01%以下(光学浓度OD为4.0以上)。这是因为若透过率超过上述范围,则应该隐藏的器件等会变得可见。
遮光层8a能够用已知的材料及形成法形成。例如,遮光层8a能够由固化性树脂的固化物所构成的树脂粘合剂中包含着色颜料的层形成。作为固化性树脂,能够使用紫外线固化型丙烯酸系树脂等感光性树脂。
作为遮光层8a所使用的着色颜料,只要使用与遮光层8a所表现的颜色相应的着色颜料即可,没有特别限制。例如,作为着色颜料,能够使用黑色颜料、白色颜料、红色颜料、黄色颜料、蓝色颜料、绿色颜料、紫色颜料等。着色颜料可以以1种单独使用,还可以使用多种同种类的颜色、或者不同颜色的着色颜料。
由与低反射层6相同材料形成的情况下的遮光层8a呈现的颜色不是白色这样的反射性颜色,而是黑色这样的暗色颜色。另外,黑色作为装饰部8所表现的外观设计色,也是优选颜色的一种。
[红外线透过窗8b]
如图7(a)和图7(b)所例举的那样,在装饰部8,在作为对于可见光示出遮光性并且对于红外光示出透过性的红外线透过窗8b的部分会设置红外线透过层8bL。这是因为在遮光层8a是黑色的情况下,由于若作为黑色颜料使用炭黑,则不仅对于可见光而且对于红外光也成为遮光性,因此需要材料与遮光层8a不同的层的红外线透过层8bL。
作为红外线透过窗8b的对于红外光的透过性,根据要求规格、表现颜色、适用到红外线透过窗8b的红外线传感器等红外线利用器件而不同,但示出一个例子,红外区域的透过率为70%以上即可。所述透过率为70%以上的红外区域不一定必须是780nm以上的区域,例如只要是850nm以上的区域,就能够充分发挥功能。此外,透过率为70%以上的红外区域的上限是近红外区,其通常满足1300nm即可。
红外线透过窗8b的对于可见光的遮光性根据要求规格、表现颜色而不同,但红外线透过窗8b的部分通常为点状较小,因此不一定需要与红外线透过窗8b和遮光层8a的遮光性的水平一致。因此,示出红外线透过窗8b的对于可见光的遮光性的一个例子,以透过率而言优选的是最大也在50%以下(光学浓度OD为0.2以上),更优选透过率为25%以下(光学浓度OD为0.6以上),进一步优选透过率为10%以下(光学浓度OD为1.0以上)。
这样一来,红外线透过窗8b例如对于红外光区域,在波长850nm以上1300nm以下具有70%以上的透过率;对于可见光区域具有10%以下的透过率。此外,该透过率不是平均值,是每个各波长的值。
(红外线透过层8bL)
红外线透过层8bL为了使红外线透过窗8b的存在不明显,通常由与遮光层8a类似的颜色形成。而且,红外线透过层8bL对于可见光示出遮光性,并且对于红外光示出透过性。
由与低反射层6相同材料形成的情况下的红外线透过层8bL呈现的颜色不是白色这样的反射性颜色,而是黑色这样的暗色颜色。另外,黑色作为装饰部8所表现的外观设计色,也是优选颜色的一种。
红外线透过层8bL不含有炭黑这样的黑色颜料,而含有多种颜色互不相同的彩色的着色颜料,例如红色、黄色、蓝色,从而能够形成作为表现黑色等暗色的层。
由于将低反射层6由与红外线透过层8bL相同的材料形成,从而低反射层6与装饰部8的红外线透过层8bL在同一工序中不增加工序数就能够设置,因此能够不增加成本就实现使反射导电性层5不明显的构造。
并且在还设置有布线7的情况下,为了用遮光层8a隐藏布线7,遮光层8a和布线7相对于透光性基板1的形成顺序受到表面背面相对于使用了静电电容式触摸面板基板10时的观看者V或操作者的朝向的限制,但在布线7没有重叠的红外线透过层8bL的情况下,红外线透过层8bL和布线7相对于透光性基板1的形成顺序不受到所述遮光层8a的情况这样的限制。例如,(a)能够在同时形成低反射层6和遮光层8a后,在遮光层8a上形成布线7,之后在遮光层8a的红外线透过窗8b的部分形成红外线透过层8bL;或者与其相反,(b)能够在同时形成低反射层6和遮光层8a后,在遮光层8a的红外线透过窗8b的部分形成红外线透过层8bL,之后在遮光层8a上形成布线7。就这一点而言,在将低反射层6由与红外线透过层8bL相同的材料形成的形态中,具有不妨碍制品设计的自由度的优点。
[覆盖层9]
静电电容式触摸面板基板10如图8例举的那样,能够包含透明的覆盖层9。该图是将覆盖层9作为透光性基板1的一个面即第1面S1的面上的最上层形成的形态例。该图相对于图1的形态是追加覆盖层9的形态,但也可以在其他形态中追加覆盖层9。利用覆盖层9,能够提高可靠性。
覆盖层9能够采用已知的材料及形成法。例如,覆盖层9是透明的树脂,在耐热性方面优选的是固化性树脂,能够使用热固化型环氧树脂、紫外线固化型丙烯酸系树脂等。在进行图案形成的情况下,能够用光刻法来形成。
[C]显示装置:
本发明所涉及的显示装置是至少包含:显示面板、配置在该显示面板的观看者侧的上述的静电电容式触摸面板基板10的显示装置。下面,以代表性的2个形态为例进行说明。
《第一实施方式》
图9所例举的本发明所涉及的显示装置100是至少顺序地包括显示面板40;在该显示面板40的观看者V侧包含上述的静电电容式触摸面板基板10的触摸面板30;玻璃盖等显示装置用前表面保护板50的构成例。
显示面板40代表性地是液晶显示面板、电场发光(EL)面板,但此外可以是电子纸面板、布劳恩管所涉及的显示器装置,也可以是已知的各种显示面板。
触摸面板30包含静电电容式触摸面板基板10,还包含为了实现触摸面板功能的控制电路、连接器等已知的所需的器件。
在该构成中,由于是具有与触摸面板30分开形成的显示装置用前表面保护板50的形态,因此静电电容式触摸面板基板10的构成是低反射层6相对于其反射导电性层5配置为接近观看者V的朝向即可。即,反射导电性层5和低反射层6的哪个距离透光性基板1在厚度方向位于远的位置是任意的,透光性基板1的一个面即第1面S1除了以背面侧的朝向之外,还能够以表面侧的朝向配置。
显示装置用前表面保护板50能够采用已知的结构,例如将化学强化玻璃等玻璃板、丙烯酸树脂等树脂板作为透明的基体材料使用,能够采用该基体材料的中央部作为显示用区域,在该显示用区域的外周部以黑色等任意的颜色和图样装饰有不透明的装饰部8的结构。
作为显示装置用前表面保护板50,包含静电电容式触摸面板基板10的触摸面板30在位置检测区域Ap的外周部包含装饰部8的情况下,装饰部8可以是省略的构成。
通过成为这样的构成,能够成为触摸面板30包括的静电电容式触摸面板基板10的透明电极单元之间的连接部难以明显的显示装置。
《第二实施方式》
图10所例举的本发明所涉及的显示装置100是至少包括:显示面板40;在该显示面板40的观看者侧包含兼用作玻璃盖等显示装置用前表面保护板50的形态的上述的静电电容式触摸面板基板10的触摸面板30的构成例。
通过成为这样的构成,除了所述图9的构成所得到的效果以外,能够得到器件数量减少、薄型化的效果。
另外,在形成于装饰部8的布线7与反射导电性层5为相同的材料;或者使低反射层6为与装饰部8相同的材料的形态中,由于在同一工序中不增加工序数就能够设置由相同的材料形成的层彼此,因此能够不增加成本就实现使反射导电性层5不明显的构造。
《粘着片材等树脂层的存在》
例如,在图8所例举的实施方式所涉及的显示装置100中,构造为在包含静电电容式触摸面板基板10的触摸面板30与显示面板40之间、以及所述触摸面板30与显示装置用前表面保护板50之间具有空隙且存在空气层,但在本发明的显示装置100中,各构成部件之间也可以用粘着剂层等已知的树脂层填充。利用树脂层来减小在部件表面的光反射,从而能够更易于看清显示。
[D]用途:
本发明所涉及的静电电容式触摸面板基板10和显示装置100的用途没有特别限定。例如是智能电话等移动电话、平板PC等移动信息终端、个人计算机、车载导航器、数码相机、电子记事本、游戏机、自动售票机、ATM终端、POS终端等。
Claims (9)
1.一种静电电容式触摸面板基板,具有:
透光性基板,具有第1面和与所述第1面相反侧的第2面;
多个第1方向透明电极单元,在所述透光性基板的所述第1面和第2面的任意一个面上,沿第1方向排列;
第1方向连接部,由与所述第1方向透明电极单元相同的材料形成于同一面,将所述第1方向透明电极单元彼此连接;
多个第2方向透明电极单元,由与所述第1方向透明电极单元相同的材料形成于同一面,位于所述第1方向透明电极单元之间,并且位于所述第1方向连接部之间,在与所述第1方向交叉的第2方向排列;
第2方向连接部,将所述第2方向透明电极单元彼此连接,通过绝缘层与所述第1方向连接部绝缘,并包含反射导电性层;以及
低反射层,具有依国际照明委员会CIE所规定的标准光源C的Yxy色度图中的Y值为10%以下的低反射性,在从与所述透光性基板的所述一个面垂直的方向观看时,与所述反射导电性层的至少一部分重叠,
在排列有所述第1方向透明电极单元和第2方向透明电极单元的位置检测区域的外周部的、所述透光性基板的所述一个面上具有装饰部,
所述装饰部具有红外线透过层,该红外线透过层形成对于红外光示出透过性的红外线透过窗,
所述低反射层由与所述装饰部的所述红外线透过层相同的材料形成。
2.如权利要求1所述的静电电容式触摸面板基板,所述低反射层与所述反射导电性层的重叠部分的面积是所述反射导电性层的面积的30%以上。
3.如权利要求1或2所述的静电电容式触摸面板基板,从与所述透光性基板的所述一个面垂直的方向观看时的所述低反射层的外轮廓形状、在内侧包含所述反射导电性层的外轮廓形状。
4.如权利要求1或2所述的静电电容式触摸面板基板,在排列有所述第1方向透明电极单元和第2方向透明电极单元的位置检测区域的外周部的、所述透光性基板的所述一个面上具有布线,
所述反射导电性层由与所述布线相同的材料形成。
5.如权利要求1或2所述的静电电容式触摸面板基板,所述低反射层在厚度方向,相对于所述反射导电性层形成于所述透光性基板侧。
6.如权利要求5所述的静电电容式触摸面板基板,所述低反射层形成于所述反射导电性层与所述透光性基板之间。
7.如权利要求1或2所述的静电电容式触摸面板基板,所述透光性基板的与所述一个面相反侧的面作为触摸面板的输入面发挥功能。
8.如权利要求1或2所述的静电电容式触摸面板基板,所述低反射层在厚度方向,与所述反射导电性层相比形成于从所述透光性基板的距离远的一侧。
9.一种显示装置,包含:
显示面板;
配置在所述显示面板的观看者侧的权利要求1至8的任一项所述的静电电容式触摸面板基板。
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