CN104199217A - 一种液晶显示基板及其制造方法 - Google Patents

Abstract

本发明一种液晶显示基板及其制造方法，液晶显示基板包括阵列基板和彩膜基板，彩膜基板上设有主支撑柱和辅支撑柱，所述阵列基板的显示区域设有不同段差的第一、第二垫层，所述第一垫层对应彩膜基板的主支撑柱，所述第二垫层对应彩膜基板的辅支撑柱，其特征在于：在所述两垫层区域上均设有透明平坦层，所述彩膜基板的辅支撑柱由2个色层堆栈形成。本发明通过阵列基板设有透明平坦层，使得阵列基本没有段差，彩膜基板的主支撑柱与辅支撑柱采用不同材质制成，辅支撑柱由颜色堆栈形成，主支撑柱与辅支撑柱之间形成明显的高度段差，高度段差范围为0.2-1.5um，提高制程margin与兼具耐压功能，进而提高可以提高面板的性能。

Description

一种液晶显示基板及其制造方法

技术领域

本发明公开一种液晶显示基板及其制作方法。

背景技术

图1为现有液晶显示基板的结构示意图，液晶显示基板包括相对设置的阵列基板1和彩膜基板2、以及位于阵列基板1上并支撑阵列基板1和彩膜基板2的主支撑柱30和辅支撑柱40，现有阵列基板1侧一般没有设置透明平坦层，透明平坦层(JAS)由透明材料支撑，属于一种绝缘层。

阵列基板1的Array第一垫层A区域没有设计透明平坦层，Array第一垫层A区域依序为GE(栅极线)11、GI(栅极绝缘层)12、SE(半导体)13、SD(源漏电极)14、CH(接触孔)15，由该5各垫层结构组合形成的像素，此区域对应彩膜基板2侧的主支撑柱(Main PA)30，彩膜基板2与Array第一垫层A区域所对应的结构包括：黑色矩阵(BM，Black material)21、共通ITO电极23、主支撑柱30，相邻两黑色矩阵(BM，Black material)21为彩膜基板1的RGB之一的色层22。

当阵列基板1垫层B区域结构为GE(栅极线)11、GI(栅极绝缘层)12、CH(接触孔)15组合形成的像素时,其对应到彩膜基板2的像素为辅支撑柱(Sub PS)40位置，彩膜基板2与垫层B区域所对应的结构包括：黑色矩阵(BM，Blackmaterial)21、共通ITO电极23、辅支撑柱(Sub PS)40。

主支撑柱30和辅支撑柱40在彩膜基板上的结构都一样，都采用透明弹性系数佳的柱状结构材料，此类型像素结构设计主要藉由阵列基板的Array垫层来形成高低段差，达到主支撑柱30区域可以控制调整液晶滴入(ODF)液晶边缘(margin)与盒厚,辅支撑柱40区域可以提高面板的耐压性。

发明内容

本发明揭示一种提高制程margin与兼具耐压功能，进而提高可以提高面板的性能的液晶显示基板及其制造方法。

本发明提高一种液晶显示基板，包括相对设置的阵列基板和彩膜基板，彩膜基板上设有主支撑柱和辅支撑柱，所述阵列基板的显示区域设有不同段差的第一、第二垫层，所述第一垫层对应彩膜基板的主支撑柱，所述第二垫层对应彩膜基板的辅支撑柱，在所述两垫层区域上均设有透明平坦层，所述彩膜基板的辅支撑柱由2个色层堆栈形成。

其中，所述主支撑柱与辅支撑柱之间的高度差为0.2-1.5um。

其中，所述辅支撑柱由R色层与G色层堆栈形成、或R色层与B色层堆栈形成、或G色层与B色层堆栈形成。

其中，所述主支撑柱由透明弹性的材料制成。

其中，第一垫层区域依序为：栅极线、栅极绝缘层、有源层、源漏电极、接触孔、以及透明平坦层，所述第一垫层对应彩膜基板的结构为：黑色矩阵21、共通ITO电极、主支撑柱。

其中，第二垫层区域结构为：栅极线、栅极绝缘层、接触孔、以及透明平坦层，所以第二垫层对应到彩膜基板的结构为：黑色矩阵、共通ITO电极、辅支撑柱。

本发明又提高一种液晶显示基板的制造方法，液晶显示基板，包括相对设置的阵列基板和彩膜基板，彩膜基板上设有主支撑柱和辅支撑柱，包括如下步骤：

第一步：形成栅极线；

第二步：形成栅极绝缘层；

第三步：在彩膜基板主支撑柱所对应的区域下形成有源层；

第四步：彩膜基板主支撑柱所对应的区域下形成源漏电极；

第五步：形成接触孔；

第六步：整面铺设形成透明平坦层；

第七部：形成ITO层。

本发明又提高一种液晶显示基板的制造方法，液晶显示基板，包括相对设置的阵列基板和彩膜基板，彩膜基板上设有主支撑柱和辅支撑柱，包括如下步骤：

第一步：形成黑色矩阵；

第二步：按序排列形成RGB色层，曝光时，预留原位于黑色矩阵下的辅支撑柱所在位置的堆栈的2个色层，堆栈的2个色层形成所述的辅支撑柱；

第三步：整面覆盖形成共通ITO电极；

第四步：形成主支撑柱。

本发明通过阵列基板设有透明平坦层，使得阵列基本没有段差，彩膜基板的主支撑柱与辅支撑柱采用不同材质制成，辅支撑柱由颜色堆栈形成，主支撑柱与辅支撑柱之间形成明显的高度段差，高度段差范围为0.2-1.5um，提高制程margin与兼具耐压功能，进而提高可以提高面板的性能。

附图说明

图1为现有液晶显示基板的结构示意图；

图2为本发明液晶显示基板的结构示意图

具体实施方式

为使本发明的实施例要解决的技术问题、技术方案和优点更加清楚，下面将结合附图及具体实施例进行详细描述。

本发明揭示一种液晶显示基板,如图2所示，液晶显示基板的阵列基板1侧设有透明平坦层，彩膜基板2侧具有主支撑柱30与辅支撑柱40采用不同材质制成，辅支撑柱40由颜色堆栈形成，主支撑柱30与辅支撑柱40之间形成明显的高度段差，高度段差范围为0.2-1.5um，提高制程margin与兼具耐压功能，进而提高可以提高面板的性能。

阵列基板1在形成接触孔15的绝缘层和ITO层16之间设有透明平坦层17，透明平坦层是整面铺设形成，从而使得阵列基板1没有高低段差，阵列基板1的显示区域设有具有高低段差的两个第一、第二垫层区域A和B，其中第一垫层A区域对应彩膜基板的主支撑柱30，第二垫层B区域对应彩膜基板的辅支撑柱40。

Array第一垫层A区域依序为：位于阵列玻璃基板10上的GE(栅极线)11、GI(栅极绝缘层)12、SE(有源层)13、SD(源漏电极)14、CH(接触孔)15、透明平坦层17结构组合所形成的像素；此Array第一垫层A区域对应彩膜基板2侧的主支撑柱(Main PA)30，彩膜基板2与Array第一垫层A区域所对应的结构包括：黑色矩阵(BM，Black material)21、共通ITO电极23、主支撑柱30。

由于阵列基板1没有形成高低段差，彩膜基板1的主支撑柱30起到固定盒厚的作用，故只能在辅支撑柱40所在位于形成高低段差，主支撑柱30采用透明弹性系数佳的柱状结构材料，辅支撑柱40由三个色层22中2个色层堆栈形成所述的辅支撑柱40,2个色层堆栈在黑色矩阵21的下方形成辅支撑柱40。

当阵列基板1第二垫层B区域结构为：位于阵列玻璃基板10上的GE(栅极线)11、GI(栅极绝缘层)12、CH(接触孔)15、透明平坦层17结构组合所形成的像素组合形成的像素时,其对应到彩膜基板2的像素为辅支撑柱(Sub PS)40位置，彩膜基板2与第二垫层B区域所对应的结构包括：黑色矩阵(BM，Black material)21、共通ITO电极23、由2个色层堆栈形成的辅支撑柱(Sub PS)40。

阵列基板1的制造步骤为：

第一步：在阵列玻璃基板10上形成栅极线11；

第二步：形成栅极绝缘层12；

第三步：在彩膜基板主支撑柱30所对应的区域下形成有源层13；

第四步：彩膜基板主支撑柱30所对应的区域下形成源漏电极14；

第五步：形成接触孔15；

第六步：整面铺设形成透明平坦层17；

第七部：形成ITO层16。

彩膜基板2的制造步骤为：

第一步：在彩膜玻璃基板20上形成黑色矩阵21；

第二步：按序排列形成RGB色层22，曝光时，预留原位于黑色矩阵21下的辅支撑柱所在位置的堆栈的2个色层，如R色层+G色层、或R色层+B色层、或G色层+B色层，堆栈的2个色层形成辅支撑柱40,；

第三步：整面覆盖形成共通ITO电极23；

第四步：形成主支撑柱30。

本发明通过阵列基板设有透明平坦层，使得阵列基本没有段差，彩膜基板的主支撑柱与辅支撑柱采用不同材质制成，辅支撑柱由颜色堆栈形成，主支撑柱与辅支撑柱之间形成明显的高度段差，高度段差范围为0.2-1.5um，提高制程margin与兼具耐压功能，进而提高可以提高面板的性能。

Claims (8)

1.一种液晶显示基板，包括相对设置的阵列基板和彩膜基板，彩膜基板上设有主支撑柱和辅支撑柱，所述阵列基板的显示区域设有不同段差的第一、第二垫层，所述第一垫层对应彩膜基板的主支撑柱，所述第二垫层对应彩膜基板的辅支撑柱，其特征在于：在所述两垫层区域上均设有透明平坦层，所述彩膜基板的辅支撑柱由2个色层堆栈形成。

2.根据权利要求1所述的液晶显示基板，其特征在于：所述主支撑柱与辅支撑柱之间的高度差为0.2-1.5um。

3.根据权利要求1所述的液晶显示基板，其特征在于：所述辅支撑柱由R色层与G色层堆栈形成、或R色层与B色层堆栈形成、或G色层与B色层堆栈形成。

4.根据权利要求1所述的液晶显示基板，其特征在于：所述主支撑柱由透明弹性的柱状结构材料制成。

5.根据权利要求1所述的液晶显示基板，其特征在于：第一垫层区域依序为：栅极线、栅极绝缘层、有源层、源漏电极、接触孔、以及透明平坦层，所述第一垫层对应彩膜基板的结构为：黑色矩阵21、共通ITO电极、主支撑柱。

6.根据权利要求1所述的液晶显示基板，其特征在于：第二垫层区域结构为：栅极线、栅极绝缘层、接触孔、以及透明平坦层，所以第二垫层对应到彩膜基板的结构为：黑色矩阵、共通ITO电极、辅支撑柱。

7.一种液晶显示基板的制造方法，液晶显示基板，包括相对设置的阵列基板和彩膜基板，彩膜基板上设有主支撑柱和辅支撑柱，其特征在于，包括如下步骤：

第一步：形成栅极线；

第二步：形成栅极绝缘层；

第三步：在彩膜基板主支撑柱所对应的区域下形成有源层；

第四步：彩膜基板主支撑柱所对应的区域下形成源漏电极；

第五步：形成接触孔；

第六步：整面铺设形成透明平坦层；

第七部：形成ITO层。

8.一种液晶显示基板的制造方法，液晶显示基板，包括相对设置的阵列基板和彩膜基板，彩膜基板上设有主支撑柱和辅支撑柱，其特征在于，包括如下步骤：

第一步：形成黑色矩阵；

第二步：按序排列形成RGB色层，曝光时，预留原位于黑色矩阵下的辅支撑柱所在位置的堆栈的2个色层，堆栈的2个色层形成所述的辅支撑柱；

第三步：整面覆盖形成共通ITO电极；

第四步：形成主支撑柱。