CN104199217A - 一种液晶显示基板及其制造方法 - Google Patents
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Abstract
本发明一种液晶显示基板及其制造方法,液晶显示基板包括阵列基板和彩膜基板,彩膜基板上设有主支撑柱和辅支撑柱,所述阵列基板的显示区域设有不同段差的第一、第二垫层,所述第一垫层对应彩膜基板的主支撑柱,所述第二垫层对应彩膜基板的辅支撑柱,其特征在于:在所述两垫层区域上均设有透明平坦层,所述彩膜基板的辅支撑柱由2个色层堆栈形成。本发明通过阵列基板设有透明平坦层,使得阵列基本没有段差,彩膜基板的主支撑柱与辅支撑柱采用不同材质制成,辅支撑柱由颜色堆栈形成,主支撑柱与辅支撑柱之间形成明显的高度段差,高度段差范围为0.2-1.5um,提高制程margin与兼具耐压功能,进而提高可以提高面板的性能。
Description
技术领域
本发明公开一种液晶显示基板及其制作方法。
背景技术
图1为现有液晶显示基板的结构示意图,液晶显示基板包括相对设置的阵列基板1和彩膜基板2、以及位于阵列基板1上并支撑阵列基板1和彩膜基板2的主支撑柱30和辅支撑柱40,现有阵列基板1侧一般没有设置透明平坦层,透明平坦层(JAS)由透明材料支撑,属于一种绝缘层。
阵列基板1的Array第一垫层A区域没有设计透明平坦层,Array第一垫层A区域依序为GE(栅极线)11、GI(栅极绝缘层)12、SE(半导体)13、SD(源漏电极)14、CH(接触孔)15,由该5各垫层结构组合形成的像素,此区域对应彩膜基板2侧的主支撑柱(Main PA)30,彩膜基板2与Array第一垫层A区域所对应的结构包括:黑色矩阵(BM,Black material)21、共通ITO电极23、主支撑柱30,相邻两黑色矩阵(BM,Black material)21为彩膜基板1的RGB之一的色层22。
当阵列基板1垫层B区域结构为GE(栅极线)11、GI(栅极绝缘层)12、CH(接触孔)15组合形成的像素时,其对应到彩膜基板2的像素为辅支撑柱(Sub PS)40位置,彩膜基板2与垫层B区域所对应的结构包括:黑色矩阵(BM,Blackmaterial)21、共通ITO电极23、辅支撑柱(Sub PS)40。
主支撑柱30和辅支撑柱40在彩膜基板上的结构都一样,都采用透明弹性系数佳的柱状结构材料,此类型像素结构设计主要藉由阵列基板的Array垫层来形成高低段差,达到主支撑柱30区域可以控制调整液晶滴入(ODF)液晶边缘(margin)与盒厚,辅支撑柱40区域可以提高面板的耐压性。
发明内容
本发明揭示一种提高制程margin与兼具耐压功能,进而提高可以提高面板的性能的液晶显示基板及其制造方法。
本发明提高一种液晶显示基板,包括相对设置的阵列基板和彩膜基板,彩膜基板上设有主支撑柱和辅支撑柱,所述阵列基板的显示区域设有不同段差的第一、第二垫层,所述第一垫层对应彩膜基板的主支撑柱,所述第二垫层对应彩膜基板的辅支撑柱,在所述两垫层区域上均设有透明平坦层,所述彩膜基板的辅支撑柱由2个色层堆栈形成。
其中,所述主支撑柱与辅支撑柱之间的高度差为0.2-1.5um。
其中,所述辅支撑柱由R色层与G色层堆栈形成、或R色层与B色层堆栈形成、或G色层与B色层堆栈形成。
其中,所述主支撑柱由透明弹性的材料制成。
其中,第一垫层区域依序为:栅极线、栅极绝缘层、有源层、源漏电极、接触孔、以及透明平坦层,所述第一垫层对应彩膜基板的结构为:黑色矩阵21、共通ITO电极、主支撑柱。
其中,第二垫层区域结构为:栅极线、栅极绝缘层、接触孔、以及透明平坦层,所以第二垫层对应到彩膜基板的结构为:黑色矩阵、共通ITO电极、辅支撑柱。
本发明又提高一种液晶显示基板的制造方法,液晶显示基板,包括相对设置的阵列基板和彩膜基板,彩膜基板上设有主支撑柱和辅支撑柱,包括如下步骤:
第一步:形成栅极线;
第二步:形成栅极绝缘层;
第三步:在彩膜基板主支撑柱所对应的区域下形成有源层;
第四步:彩膜基板主支撑柱所对应的区域下形成源漏电极;
第五步:形成接触孔;
第六步:整面铺设形成透明平坦层;
第七部:形成ITO层。
本发明又提高一种液晶显示基板的制造方法,液晶显示基板,包括相对设置的阵列基板和彩膜基板,彩膜基板上设有主支撑柱和辅支撑柱,包括如下步骤:
第一步:形成黑色矩阵;
第二步:按序排列形成RGB色层,曝光时,预留原位于黑色矩阵下的辅支撑柱所在位置的堆栈的2个色层,堆栈的2个色层形成所述的辅支撑柱;
第三步:整面覆盖形成共通ITO电极;
第四步:形成主支撑柱。
本发明通过阵列基板设有透明平坦层,使得阵列基本没有段差,彩膜基板的主支撑柱与辅支撑柱采用不同材质制成,辅支撑柱由颜色堆栈形成,主支撑柱与辅支撑柱之间形成明显的高度段差,高度段差范围为0.2-1.5um,提高制程margin与兼具耐压功能,进而提高可以提高面板的性能。
附图说明
图1为现有液晶显示基板的结构示意图;
图2为本发明液晶显示基板的结构示意图
具体实施方式
为使本发明的实施例要解决的技术问题、技术方案和优点更加清楚,下面将结合附图及具体实施例进行详细描述。
本发明揭示一种液晶显示基板,如图2所示,液晶显示基板的阵列基板1侧设有透明平坦层,彩膜基板2侧具有主支撑柱30与辅支撑柱40采用不同材质制成,辅支撑柱40由颜色堆栈形成,主支撑柱30与辅支撑柱40之间形成明显的高度段差,高度段差范围为0.2-1.5um,提高制程margin与兼具耐压功能,进而提高可以提高面板的性能。
阵列基板1在形成接触孔15的绝缘层和ITO层16之间设有透明平坦层17,透明平坦层是整面铺设形成,从而使得阵列基板1没有高低段差,阵列基板1的显示区域设有具有高低段差的两个第一、第二垫层区域A和B,其中第一垫层A区域对应彩膜基板的主支撑柱30,第二垫层B区域对应彩膜基板的辅支撑柱40。
Array第一垫层A区域依序为:位于阵列玻璃基板10上的GE(栅极线)11、GI(栅极绝缘层)12、SE(有源层)13、SD(源漏电极)14、CH(接触孔)15、透明平坦层17结构组合所形成的像素;此Array第一垫层A区域对应彩膜基板2侧的主支撑柱(Main PA)30,彩膜基板2与Array第一垫层A区域所对应的结构包括:黑色矩阵(BM,Black material)21、共通ITO电极23、主支撑柱30。
由于阵列基板1没有形成高低段差,彩膜基板1的主支撑柱30起到固定盒厚的作用,故只能在辅支撑柱40所在位于形成高低段差,主支撑柱30采用透明弹性系数佳的柱状结构材料,辅支撑柱40由三个色层22中2个色层堆栈形成所述的辅支撑柱40,2个色层堆栈在黑色矩阵21的下方形成辅支撑柱40。
当阵列基板1第二垫层B区域结构为:位于阵列玻璃基板10上的GE(栅极线)11、GI(栅极绝缘层)12、CH(接触孔)15、透明平坦层17结构组合所形成的像素组合形成的像素时,其对应到彩膜基板2的像素为辅支撑柱(Sub PS)40位置,彩膜基板2与第二垫层B区域所对应的结构包括:黑色矩阵(BM,Black material)21、共通ITO电极23、由2个色层堆栈形成的辅支撑柱(Sub PS)40。
阵列基板1的制造步骤为:
第一步:在阵列玻璃基板10上形成栅极线11;
第二步:形成栅极绝缘层12;
第三步:在彩膜基板主支撑柱30所对应的区域下形成有源层13;
第四步:彩膜基板主支撑柱30所对应的区域下形成源漏电极14;
第五步:形成接触孔15;
第六步:整面铺设形成透明平坦层17;
第七部:形成ITO层16。
彩膜基板2的制造步骤为:
第一步:在彩膜玻璃基板20上形成黑色矩阵21;
第二步:按序排列形成RGB色层22,曝光时,预留原位于黑色矩阵21下的辅支撑柱所在位置的堆栈的2个色层,如R色层+G色层、或R色层+B色层、或G色层+B色层,堆栈的2个色层形成辅支撑柱40,;
第三步:整面覆盖形成共通ITO电极23;
第四步:形成主支撑柱30。
本发明通过阵列基板设有透明平坦层,使得阵列基本没有段差,彩膜基板的主支撑柱与辅支撑柱采用不同材质制成,辅支撑柱由颜色堆栈形成,主支撑柱与辅支撑柱之间形成明显的高度段差,高度段差范围为0.2-1.5um,提高制程margin与兼具耐压功能,进而提高可以提高面板的性能。
Claims (8)
1.一种液晶显示基板,包括相对设置的阵列基板和彩膜基板,彩膜基板上设有主支撑柱和辅支撑柱,所述阵列基板的显示区域设有不同段差的第一、第二垫层,所述第一垫层对应彩膜基板的主支撑柱,所述第二垫层对应彩膜基板的辅支撑柱,其特征在于:在所述两垫层区域上均设有透明平坦层,所述彩膜基板的辅支撑柱由2个色层堆栈形成。
2.根据权利要求1所述的液晶显示基板,其特征在于:所述主支撑柱与辅支撑柱之间的高度差为0.2-1.5um。
3.根据权利要求1所述的液晶显示基板,其特征在于:所述辅支撑柱由R色层与G色层堆栈形成、或R色层与B色层堆栈形成、或G色层与B色层堆栈形成。
4.根据权利要求1所述的液晶显示基板,其特征在于:所述主支撑柱由透明弹性的柱状结构材料制成。
5.根据权利要求1所述的液晶显示基板,其特征在于:第一垫层区域依序为:栅极线、栅极绝缘层、有源层、源漏电极、接触孔、以及透明平坦层,所述第一垫层对应彩膜基板的结构为:黑色矩阵21、共通ITO电极、主支撑柱。
6.根据权利要求1所述的液晶显示基板,其特征在于:第二垫层区域结构为:栅极线、栅极绝缘层、接触孔、以及透明平坦层,所以第二垫层对应到彩膜基板的结构为:黑色矩阵、共通ITO电极、辅支撑柱。
7.一种液晶显示基板的制造方法,液晶显示基板,包括相对设置的阵列基板和彩膜基板,彩膜基板上设有主支撑柱和辅支撑柱,其特征在于,包括如下步骤:
第一步:形成栅极线;
第二步:形成栅极绝缘层;
第三步:在彩膜基板主支撑柱所对应的区域下形成有源层;
第四步:彩膜基板主支撑柱所对应的区域下形成源漏电极;
第五步:形成接触孔;
第六步:整面铺设形成透明平坦层;
第七部:形成ITO层。
8.一种液晶显示基板的制造方法,液晶显示基板,包括相对设置的阵列基板和彩膜基板,彩膜基板上设有主支撑柱和辅支撑柱,其特征在于,包括如下步骤:
第一步:形成黑色矩阵;
第二步:按序排列形成RGB色层,曝光时,预留原位于黑色矩阵下的辅支撑柱所在位置的堆栈的2个色层,堆栈的2个色层形成所述的辅支撑柱;
第三步:整面覆盖形成共通ITO电极;
第四步:形成主支撑柱。
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