CN104112687A - 膜边检测方法和膜边检测装置 - Google Patents

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CN104112687A CN201410287383.5A CN201410287383A CN104112687A CN 104112687 A CN104112687 A CN 104112687A CN 201410287383 A CN201410287383 A CN 201410287383A CN 104112687 A CN104112687 A CN 104112687A
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冯玉春
李梁梁
张小祥
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Abstract

本发明公开了一种膜边检测方法和膜边检测装置。所述膜边检测方法用于对衬底基板上方的图案化膜层的膜边进行检测，所述图案化膜层用于形成图案化图形和至少一个标尺图形，所述图案化膜层的膜边对应于所述标尺图形的边缘；所述膜边检测方法包括：获取所述标尺图形的边缘的图案化膜边标示值；根据所述图案化膜边标示值和预先设定的衬底基板边缘的基准值得出第一间距，所述第一间距为所述标尺图形的边缘与对应的所述衬底基板的边缘之间的距离。本发明提供的膜边检测方法和膜边检测装置的技术方案提高了生产良率以及降低了产品损失。

Description

膜边检测方法和膜边检测装置
技术领域
本发明涉及显示技术领域，特别涉及一种膜边检测方法和膜边检测装置。
背景技术
随着显示技术的发展，各类显示装置的应用也越来越广泛。其中，主流的显示装置可包括：薄膜晶体管液晶显示器(Thin Film TransistorLiquid Crystal Display，简称TFT-LCD)和有源矩阵有机发光二极管面板(Active Matrix/Organic Light Emitting Diode，简称：AMOLED)等。
目前，各类显示装置的制造过程中，均需要在衬底基板上形成各种结构。例如：在衬底基板的上方沉积薄膜，而后对薄膜进行构图工艺形成各种图案；或者仅在衬底基板的上方沉积薄膜以形成薄膜层。其中，构图工艺可包括光刻胶涂覆、曝光、显影、刻蚀以及光刻胶剥离等工艺。
在沉积薄膜以及构图工艺的过程中，衬底基板偏移、曝光过程中掩膜板偏移、刻蚀工艺中刻蚀时间变化均会导致薄膜的膜边和衬底基板的边缘之间的距离发生变化，而现有技术中还没有一种方案能够在生产过程中对膜边进行检测，导致生成过程中无法及时发现膜边和衬底基板的边缘之间的距离发生变化，从而降低了生产良率且增加了产品损失。
发明内容
本发明提供一种膜边检测方法和膜边检测装置，用于提高生产良率以及降低产品损失。
为实现上述目的，本发明提供了一种膜边检测方法，所述膜边检测方法用于对衬底基板上方的图案化膜层的膜边和/或非图案化膜层的膜边进行检测，所述图案化膜层用于形成图案化图形和至少一个标尺图形，所述图案化膜层的膜边对应于所述标尺图形的边缘；
若所述膜边检测方法用于对图案化膜层的膜边进行检测时，所述膜边检测方法包括：获取所述标尺图形的边缘的图案化膜边标示值；根据所述图案化膜边标示值和预先设定的衬底基板边缘的基准值得出第一间距，所述第一间距为所述标尺图形的边缘与对应的所述衬底基板的边缘之间的距离；
若所述膜边检测方法用于对非图案化膜层的膜边进行检测时，所述膜边检测方法包括：通过位于所述非图案化膜层上方或者下方的标尺图形获取所述非图案化膜层的边缘的非图案化膜边标示值；根据所述非图案化膜边标示值和预先设定的衬底基板边缘的基准值得出第二间距，所述第二间距为所述非图案化膜层的膜边与对应的所述衬底基板的边缘之间的距离。
可选地，所述衬底基板的每个边缘对应于一个或者多个所述图形标尺。
可选地，所述图案化膜边标示值为数值，所述根据所述图案化膜边标示值和预先设定的衬底基板边缘的基准值得出第一间距包括：
将所述数值与所述基准值相减得出差值，所述差值的绝对值为所述第一间距。
可选地，所述图案化膜边标示值为二维码，所述根据所述图案化膜边标示值和预先设定的衬底基板边缘的基准值得出第一间距包括：
将所述二维码转换为数值；
将所述数值与所述基准值相减得出差值，所述差值的绝对值为所述第一间距。
可选地，所述非图案化膜边标示值为数值，所述根据所述非图案化膜边标示值和预先设定的衬底基板边缘的基准值得出第二间距包括：
将所述数值与所述基准值相减得出差值，所述差值的绝对值为所述第二间距。
可选地，所述非图案化膜边标示值为二维码，所述根据所述非图案化膜边标示值和预先设定的衬底基板边缘的基准值得出第二间距包括：
将所述二维码转换为数值；
将所述数值与所述基准值相减得出差值，所述差值的绝对值为所述第二间距。
可选地，所述基准值为0。
为实现上述目的，本发明提供了一种膜边检测装置，所述膜边检测装置用于对衬底基板上方的图案化膜层的膜边和/或非图案化膜层的膜边进行检测，所述图案化膜层用于形成图案化图形和至少一个标尺图形，所述图案化膜层的膜边对应于所述标尺图形的边缘；
所述膜边检测装置包括：获取模块和生成模块；
若所述膜边检测装置用于对图案化膜层的膜边进行检测时，所述获取模块用于获取所述标尺图形的边缘的图案化膜边标示值，所述生成模块用于根据所述图案化膜边标示值和预先设定的衬底基板边缘的基准值得出第一间距，所述第一间距为所述标尺图形的边缘与对应的所述衬底基板的边缘之间的距离；
若所述膜边检测装置用于对非图案化膜层的膜边进行检测时，所述获取模块用于通过位于所述非图案化膜层上方或者下方的标尺图形获取所述非图案化膜层的边缘的非图案化膜边标示值，所述生成模块用于根据所述非图案化膜边标示值和预先设定的衬底基板边缘的基准值得出第二间距，所述第二间距为所述非图案化膜层的膜边与对应的所述衬底基板的边缘之间的距离。
可选地，所述图案化膜边标示值为数值时，所述获取模块包括微观测试设备；
所述图案化膜边标示值为二维码时，所述获取模块包括扫描设备。
可选地，所述非图案化膜边标示值为数值时，所述获取模块包括微观测试设备；
所述非图案化膜边标示值为二维码时，所述获取模块包括扫描设备。
本发明具有以下有益效果：
本发明提供的膜边检测方法和膜边检测装置的技术方案中，获取标尺图形的边缘的图案化膜边标示值，根据图案化膜边标示值和预先设定的衬底基板边缘的基准值得出第一间距；和/或，通过位于非图案化膜层上方或者下方的标尺图形获取非图案化膜层的边缘的非图案化膜边标示值，根据非图案化膜边标示值和预先设定的衬底基板边缘的基准值得出第二间距。本发明可实现在生产过程中对膜边的检测，使得生产过程中可时发现膜边和衬底基板的边缘之间的距离发生变化，从而提高了生产良率以及降低了产品损失。
附图说明
图1a为本发明实施例一中形成图案化膜层的示意图；
图1b为本发明实施例一中形成图案化图形和标尺图形的示意图；
图2为本发明实施例一提供的一种膜边检测方法的流程图；
图3a为实施例一中图案化膜边标示值为数值时标尺图形的标准结构示意图；
图3b为图1b中图案化膜边标示值为数值时标尺图形的实际结构示意图；
图3c为实施例一中图案化膜边标示值为二维码时标尺图形的标准结构示意图；
图3d为图1b中图案化膜边标示值为二维码时标尺图形的实际结构示意图；
图4为实施例一中形成非图案化膜层的示意图；
图5为本发明实施例二提供的一种膜边检测方法的流程图；
图6为图4中非图案化膜层的膜边检测示意图；
图7为本发明实施例三提供的一种膜边检测方法的流程图
图8为本发明实施例四提供的一种膜边检测装置的结构示意图。
具体实施方式
为使本领域的技术人员更好地理解本发明的技术方案，下面结合附图对本发明提供的膜边检测方法和膜边检测装置进行详细描述。
本发明实施例一提供了一种膜边检测方法，该膜边检测方法用于对衬底基板上方的图案化膜层的膜边进行检测，因此在对图案化膜层的膜边进行检测之前，需要预先执行如下步骤：
步骤100a、在衬底基板的上方形成图案化膜层。
图1a为本发明实施例一中形成图案化膜层的示意图，如图1a所示，在衬底基板11的上方沉积图案化膜层12。由于生产工艺的需要，图案化膜层12不会完全覆盖衬底基板11，可预先设定图案化膜层12的膜边与衬底基板11的边缘之间的间距为D1。从图1a中可以看出，图案化膜层12包括四个膜边，每个膜边与其对应的衬底基板11的边缘之间均存在一定的间距，四个膜边与其对应的衬底基板11的边缘之间的间距可以相同也可以不同。
步骤100b、对图案化膜层进行构图工艺，形成图案化图形和至少一个标尺图形，图案化膜层的膜边对应于标尺图形的边缘。
图1b为本发明实施例一中形成图案化图形和标尺图形的示意图，如图1b所示，对图案化膜层12进行构图工艺，形成图案化图形13和至少一个标尺图形14。图案化图形13可设计成各种结构的图形，例如：若图案化膜层12为栅极金属层，则图案化图形13可包括栅线和栅极；或者，若图案化膜层12为源漏极金属层，则图案化图形13可包括数据线和源漏极图形，图1b中不再具体画出图案化图形13的具体结构。本实施例中，标尺图形14的长度可根据实际需要进行设置，例如：该标尺图形14的长度可以大于0mm且小于或等于30mm。标尺图形14与图案化图形13同层设置。图案化膜层12的膜边12a用于形成标尺图形的边缘14a，也就是说，图案化膜层12的膜边12a对应于标尺图形的边缘14a，因此本实施例可通过检测标尺图形的边缘14a以获得图案化膜层12的膜边12a。衬底基板的每个边缘可对应于一个或者多个图形标尺14a，图1b中以形成四个标尺图形14且衬底基板的每个边缘对应于一个标尺图形14为例进行描述。
图2为本发明实施例一提供的一种膜边检测方法的流程图，如图2所示，该膜边检测方法包括：
步骤101、获取标尺图形的边缘的图案化膜边标示值。
本实施例中，标尺图形按照刻度的不同可分为如下两种情况：
第一种情况：图案化膜边标示值为数值。图3a为实施例一中图案化膜边标示值为数值时标尺图形的标准结构示意图，如图3a所示，理想情况下可形成完整的标尺图形14，完整的标尺图形14的边缘位于衬底基板11的边缘之上且与衬底基板11的边缘重合，例如：完整的标尺图形14上的图案化膜边标示值的起始数值为0且终止数值为12，起始数值所在位置为衬底基板11的边缘。若想形成图3a中完整的标尺图形，需要图案化膜层12覆盖整个衬底基板11时，也就是说，此时图案化膜层12的膜边与对应的衬底基板11的边缘之间不再具有间距。但是，受到工艺设计和实际工艺过程的影响，图案化膜层12不会完全覆盖衬底基板11，因此，在实际应用中，通常无法形成完整的标尺图形14。但是需要说明的是：本发明的技术方案也应包括形成完整的标尺图形14的方案，即：图案化膜层12的膜边与对应的衬底基板11的边缘之间的距离为0的方案。图3b为图1b中图案化膜边标示值为数值时标尺图形的实际结构示意图，如图3b所示，步骤100b中形成的标尺图形14的边缘14a的图案化膜边标示值为4。当图案化膜边标示值为数值时，本步骤具体可以为采用人眼观察的方式获取标尺图形的边缘的数值。
第二种情况：图案化膜边标示值为二维码。图3c为实施例一中图案化膜边标示值为二维码时标尺图形的标准结构示意图，如图3c所示，理想情况下可形成完整的标尺图形14，完整的标尺图形14的边缘位于衬底基板11的边缘之上且与衬底基板11的边缘重合，例如：完整的标尺图形14上的起始二维码所在位置为衬底基板11的边缘，需要说明的是：图3c中的二维码仅以椭圆形代替并未具体画出二维码的内容。若想形成图3a中完整的标尺图形，需要图案化膜层12覆盖整个衬底基板11时，也就是说，此时图案化膜层12与衬底基板11之间不再具有间距。但是，受到工艺设计和实际工艺过程的影响，图案化膜层12不会完全覆盖衬底基板11，因此，在实际应用中，通常无法形成完整的标尺图形14。图3d为图1b中图案化膜边标示值为二维码时标尺图形的实际结构示意图，如图3d所示，步骤100b中形成的标尺图形14的边缘14a的图案化膜边标示值为一二维码。当图案化膜边标示值为二维码时，本步骤具体可以为采用扫描设备扫描出二维码。
步骤102、根据图案化膜边标示值和预先设定的衬底基板边缘的基准值得出第一间距，第一间距为图案化膜层的膜边与对应的衬底基板的边缘之间的距离。
如图1b所示，第一间距d1为标尺图形14的边缘14a与对应的衬底基板11的边缘11a之间的距离。由于标尺图形14的边缘14a对应于图案化膜层12的膜边，因此第一间距d1即是标尺图形14的边缘14a与对应的衬底基板11的边缘11a之间的距离。
若图案化膜边标示值为数值时，步骤102具体包括：将数值与基准值相减得出差值，差值的绝对值为第一间距。如图1b所示，数值为4，基准值为0，差值为4，则第一间距d1为4。优选地，基准值为0，则数值为第一间距，此种情况下可通过读取图案化膜边标示值直接得出第一间距d1。
若图案化膜边标示值为二维码时，步骤102具体包括：步骤1021将二维码转换为数值；步骤1022、将数值与基准值相减得出差值，差值的绝对值为第一间距。例如：二维码转换后的数值为4，基准值为0，差值为4，则第一间距d1为4。
本实施例提供的膜边检测方法的技术方案中，获取标尺图形的边缘的图案化膜边标示值，根据图案化膜边标示值和预先设定的衬底基板边缘的基准值得出第一间距，本实施例可实现在生产过程中对膜边的检测，使得生产过程中可及时发现膜边和衬底基板的边缘之间的距离发生变化，从而提高了生产良率以及降低了产品损失。
本发明实施例二提供了一种膜边检测方法，该膜边检测方法用于对衬底基板上方的非图案化膜层的膜边进行检测。非图案化膜层可位于标尺图形的上方或者下方，本实施例中以非图案化膜层位于标尺图形上方为例进行描述，也就是说，本实施例中非图案化膜层位于图案化图形和标尺图形的上方。因此在对图案化膜层的膜边进行检测之前，需要预先执行如下步骤：
步骤200a、在衬底基板的上方形成图案化膜层。
具体描述参见实施例一中步骤100a的描述。
步骤200b、对图案化膜层进行构图工艺，形成图案化图形和至少一个标尺图形，图案化膜层的膜边对应于标尺图形的边缘。
具体描述参见实施例一中步骤100b的描述。
步骤200c、在图案化图形和标尺图形的上方形成非图案化膜层。
图4为实施例一中形成非图案化膜层的示意图，如图4所示，在图案化图形13和标尺图形14的上方沉积非图案化膜层15。由于非图案化膜层15的透过率较高，若采用非图案化膜层15形成标尺图形，则标尺图形的具体结构很难通过人眼观察到或者通过设备检测到，因此本发明中不采用图案化膜层15形成标尺图形，但本发明可借助位于非图案化膜层下方的标尺图形进行膜边的检测。通常，非图案化膜层15的材料为非金属材料。
图5为本发明实施例二提供的一种膜边检测方法的流程图，如图5所示，该膜边检测方法可以包括：
步骤201、通过位于非图案化膜层下方的标尺图形获取非图案化膜层的边缘的非图案化膜边标示值。
图6为图4中非图案化膜层的膜边检测示意图，如图4和图6所示，通过位于非图案化膜层15下方的标尺图形14获取非图案化膜层15的边缘15a的非图案化膜边标示值。图6中非图案化膜边标示值为数值，例如：形成的非图案化膜层15的边缘15a的非图案化膜边标示值为8。可选地，非图案化膜边标示值还可以为二维码，此种情况不再具体画出。
当图案化膜边标示值为数值时，本步骤具体可以为采用人眼观察的方式通过位于非图案化膜层15下方的标尺图形14获取非图案化膜层15的边缘15a的数值。由于非图案化膜层15为具备一定透过率的非金属材料层，因此当非图案化膜层15覆盖于标尺图形14之上时，人眼可透过该非图案化膜层15观察到下方的标尺图形14。而由于非图案化膜层15具备一定透过率，而非完全透明的材料，因此该图案化膜层15的膜边的颜色与周围未形成非图案化膜层15的区域的颜色与明显区别，人眼可以直接观察到该图案化膜层15的膜边并读出该膜边对应的标尺图形14上的图案化膜边标示值。在实际应用中，若非图案化膜层15位于标尺图形14的下方，则人眼也可以直接观察到该图案化膜层15的膜边并读出该膜边对应的标尺图形14上的图案化膜边标示值。具体地，人眼可通过微观测试设备观察到图案化膜边标示值，例如该微观测试设备可以为放大镜或者显微镜。
当图案化膜边标示值为二维码时，本步骤具体可以为采用扫描设备通过位于非图案化膜层下方的标尺图形扫描出二维码。扫描设备向非图案化膜层15发射光源，由于非图案化膜层15与未形成非图案化膜层15的区域形成的反射光的强度不同，因此扫描设备会根据接收到的反射光的强度检测到非图案化膜层15的膜边的位置，而后该扫描设备移动至与非图案化膜层15的膜边对应的二维码所在的位置并扫描出该二维码。
步骤202、根据非图案化膜边标示值和预先设定的衬底基板边缘的基准值得出第二间距，第二间距为非图案化膜层的膜边与对应的衬底基板的边缘之间的距离。
如图6所示，第二间距d2为非图案化膜层15的膜边15a与对应的衬底基板11的边缘11a之间的距离。
若非图案化膜边标示值为数值时，步骤104具体包括：将数值与基准值相减得出差值，差值的绝对值为第二间距。如图6所示，数值为8，基准值为0，差值为8，则第二间距d2为8。优选地，基准值为0，则数值为第二间距，此种情况下可通过读取非图案化膜边标示值直接得出第二间距d2。
若图案化膜边标示值为二维码时，步骤104具体包括：步骤1041将二维码转换为数值；步骤1042、将数值与基准值相减得出差值，差值的绝对值为第二间距。例如：二维码转换后的数值为8，基准值为0，差值为8，则第二间距d2为8。
本实施例提供的膜边检测方法的技术方案中，通过位于非图案化膜层上方或者下方的标尺图形获取非图案化膜层的边缘的非图案化膜边标示值，根据非图案化膜边标示值和预先设定的衬底基板边缘的基准值得出第二间距，本实施例可实现在生产过程中对膜边的检测，使得生产过程中可及时发现膜边和衬底基板的边缘之间的距离发生变化，从而提高了生产良率以及降低了产品损失。
本发明实施例三提供了一种膜边检测方法，该膜边检测方法用于对衬底基板上方的图案化膜层和非图案化膜层进行检测。因此在对图案化膜层的膜边进行检测之前，需要预先执行如下步骤：
步骤300a、在衬底基板的上方形成图案化膜层。
具体描述参见实施例一中步骤100a的描述。
步骤300b、对图案化膜层进行构图工艺，形成图案化图形和至少一个标尺图形，图案化膜层的膜边对应于标尺图形的边缘。
具体描述参见实施例一中步骤100b的描述。
图7为本发明实施例三提供的一种膜边检测方法的流程图，如图7所示，该膜边检测方法包括：
步骤301、获取标尺图形的边缘的图案化膜边标示值。
具体描述参见实施例一中步骤101的描述。
步骤302、根据图案化膜边标示值和预先设定的衬底基板边缘的基准值得出第一间距，第一间距为图案化膜层的膜边与对应的衬底基板的边缘之间的距离。
具体描述参见实施例一中步骤102的描述。
至此，完成了对图案化膜层膜边的检测。而后继续进行对非图案化膜层膜边的检测。在对图案化膜层的膜边进行检测之前，需要预先执行如下步骤：步骤300c、在图案化图形和标尺图形的上方形成非图案化膜层。具体描述参见实施例二中步骤200c的描述。
则膜边检测方法还包括：
步骤303、通过位于非图案化膜层下方的标尺图形获取非图案化膜层的边缘的非图案化膜边标示值。
具体描述参见实施例二中步骤201的描述。
步骤304、根据非图案化膜边标示值和预先设定的衬底基板边缘的基准值得出第二间距，第二间距为非图案化膜层的膜边与对应的衬底基板的边缘之间的距离。
具体描述参见实施例二中步骤202的描述。
需要说明的是：本发明中的图案化膜层指的是能够形成标尺图形的膜层，优选地，该图案化膜层可以为金属膜层，例如栅极金属层或者源漏极金属层；本发明中的非图案化膜层指的是不能够形成标尺图形的膜层，优选地，该图案化膜层可以为非金属膜层，例如像素电极层或者绝缘层。
本实施例提供的膜边检测方法的技术方案中，获取标尺图形的边缘的图案化膜边标示值，根据图案化膜边标示值和预先设定的衬底基板边缘的基准值得出第一间距；和/或，通过位于非图案化膜层上方或者下方的标尺图形获取非图案化膜层的边缘的非图案化膜边标示值，根据非图案化膜边标示值和预先设定的衬底基板边缘的基准值得出第二间距。本实施例可实现在生产过程中对膜边的检测，使得生产过程中可及时发现膜边和衬底基板的边缘之间的距离发生变化，从而提高了生产良率以及降低了产品损失。
本发明实施例四提供了一种膜边检测装置，该膜边检测装置用于对衬底基板上方的图案化膜层和/或非图案化膜层的膜边的膜边进行检测，图案化膜层用于形成图案化图形和至少一个标尺图形，图案化膜层的膜边对应于标尺图形的边缘。图8为本发明实施例四提供的一种膜边检测装置的结构示意图，如图8所示，该膜边检测装置包括：获取模块1和生成模块2。
若膜边检测装置用于对图案化膜层的膜边进行检测时，获取模块1用于获取标尺图形的边缘的图案化膜边标示值；生成模块2用于根据图案化膜边标示值和预先设定的衬底基板边缘的基准值得出第一间距，第一间距为标尺图形的边缘与对应的衬底基板的边缘之间的距离。
若膜边检测装置用于对非图案化膜层的膜边进行检测。获取模块1还用于通过位于非图案化膜层上方或者下方的标尺图形获取非图案化膜层的边缘的非图案化膜边标示值；生成模块2还用于根据非图案化膜边标示值和预先设定的衬底基板边缘的基准值得出第二间距，第二间距为非图案化膜层的膜边与对应的衬底基板的边缘之间的距离。
优选地，图案化膜边标示值为数值时，获取模块1包括微观测试设备；图案化膜边标示值为二维码时，获取模块1包括扫描设备。优选地，非案化膜边标示值为数值时，获取模块1包括微观测试设备；非图案化膜边标示值为二维码时，获取模块1包括扫描设备。优选地，微观测试设备可包括放大镜或者显微镜。优选地，扫描设备可以为能够发射光源并接收反射光且能够扫描出二维码的设备。可选地，若环境光的强度足够高，扫描设备也可以无需具备发射光源和接收反射光的功能，则扫描设备还可以为能够扫描出二维码的设备。
本实施例提供的膜边检测装置可用于执行上述实施例一、实施例二或者实施例三提供的膜边检测方法，具体描述可参见上述实施例一、实施例二或者实施例三，此处不再赘述。
本实施例提供的膜边检测装置的技术方案中，获取标尺图形的边缘的图案化膜边标示值，根据图案化膜边标示值和预先设定的衬底基板边缘的基准值得出第一间距，本实施例可实现在生产过程中对膜边的检测，使得生产过程中可时发现膜边和衬底基板的边缘之间的距离发生变化，从而提高了生产良率以及降低了产品损失。
可以理解的是，以上实施方式仅仅是为了说明本发明的原理而采用的示例性实施方式，然而本发明并不局限于此。对于本领域内的普通技术人员而言，在不脱离本发明的精神和实质的情况下，可以做出各种变型和改进，这些变型和改进也视为本发明的保护范围。

Claims (10)

1.一种膜边检测方法，其特征在于，所述膜边检测方法用于对衬底基板上方的图案化膜层的膜边和/或非图案化膜层的膜边进行检测，所述图案化膜层用于形成图案化图形和至少一个标尺图形，所述图案化膜层的膜边对应于所述标尺图形的边缘；
若所述膜边检测方法用于对图案化膜层的膜边进行检测时，所述膜边检测方法包括：获取所述标尺图形的边缘的图案化膜边标示值；根据所述图案化膜边标示值和预先设定的衬底基板边缘的基准值得出第一间距，所述第一间距为所述标尺图形的边缘与对应的所述衬底基板的边缘之间的距离；
若所述膜边检测方法用于对非图案化膜层的膜边进行检测时，所述膜边检测方法包括：通过位于所述非图案化膜层上方或者下方的标尺图形获取所述非图案化膜层的边缘的非图案化膜边标示值；根据所述非图案化膜边标示值和预先设定的衬底基板边缘的基准值得出第二间距，所述第二间距为所述非图案化膜层的膜边与对应的所述衬底基板的边缘之间的距离。
2.根据权利要求1所述的膜边检测方法，其特征在于，所述衬底基板的每个边缘对应于一个或者多个所述图形标尺。
3.根据权利要求1所述的膜边检测方法，其特征在于，所述图案化膜边标示值为数值，所述根据所述图案化膜边标示值和预先设定的衬底基板边缘的基准值得出第一间距包括：
将所述数值与所述基准值相减得出差值，所述差值的绝对值为所述第一间距。
4.根据权利要求1所述的膜边检测方法，其特征在于，所述图案化膜边标示值为二维码，所述根据所述图案化膜边标示值和预先设定的衬底基板边缘的基准值得出第一间距包括：
将所述二维码转换为数值；
将所述数值与所述基准值相减得出差值，所述差值的绝对值为所述第一间距。
5.根据权利要求1所述的膜边检测方法，其特征在于，所述非图案化膜边标示值为数值，所述根据所述非图案化膜边标示值和预先设定的衬底基板边缘的基准值得出第二间距包括：
将所述数值与所述基准值相减得出差值，所述差值的绝对值为所述第二间距。
6.根据权利要求1所述的膜边检测方法，其特征在于，所述非图案化膜边标示值为二维码，所述根据所述非图案化膜边标示值和预先设定的衬底基板边缘的基准值得出第二间距包括：
将所述二维码转换为数值；
将所述数值与所述基准值相减得出差值，所述差值的绝对值为所述第二间距。
7.根据权利要求1至6任一所述的膜边检测方法，其特征在于，所述基准值为0。
8.一种膜边检测装置，其特征在于，所述膜边检测装置用于对衬底基板上方的图案化膜层的膜边和/或非图案化膜层的膜边进行检测，所述图案化膜层用于形成图案化图形和至少一个标尺图形，所述图案化膜层的膜边对应于所述标尺图形的边缘；
所述膜边检测装置包括：获取模块和生成模块；
若所述膜边检测装置用于对图案化膜层的膜边进行检测时，所述获取模块用于获取所述标尺图形的边缘的图案化膜边标示值，所述生成模块用于根据所述图案化膜边标示值和预先设定的衬底基板边缘的基准值得出第一间距，所述第一间距为所述标尺图形的边缘与对应的所述衬底基板的边缘之间的距离；
若所述膜边检测装置用于对非图案化膜层的膜边进行检测时，所述获取模块用于通过位于所述非图案化膜层上方或者下方的标尺图形获取所述非图案化膜层的边缘的非图案化膜边标示值，所述生成模块用于根据所述非图案化膜边标示值和预先设定的衬底基板边缘的基准值得出第二间距，所述第二间距为所述非图案化膜层的膜边与对应的所述衬底基板的边缘之间的距离。
9.根据权利要求8所述的膜边检测装置，其特征在于，所述图案化膜边标示值为数值时，所述获取模块包括微观测试设备；
所述图案化膜边标示值为二维码时，所述获取模块包括扫描设备。
10.根据权利要求8所述的膜边检测装置，其特征在于，所述非图案化膜边标示值为数值时，所述获取模块包括微观测试设备；
所述非图案化膜边标示值为二维码时，所述获取模块包括扫描设备。
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