CN103985433A - 碳纳米管导电薄膜及其制备方法 - Google Patents
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Abstract
一种碳纳米管导电薄膜，包括依次层叠的基板、胶黏剂层和碳纳米管薄膜。此外，还提供一种碳纳米管导电薄膜的制备方法，包括如下步骤：在辅助板上涂布碳纳米管分散液，干燥后形成碳纳米管薄膜；在基板上涂布透明胶黏剂，通过热压印方法将所述辅助板上的所述碳纳米管薄膜压印到所述基板涂布有透明胶黏剂的表面；以及将透明胶黏剂固化形成胶黏剂层后去除所述辅助板，得到所述碳纳米管导电薄膜。上述碳纳米管导电薄膜，碳纳米管薄膜通过胶黏剂层附着在基板表面，有效地增加了碳纳米管薄膜对基板的附着力，因此，碳纳米管薄膜不容易脱落。
Description
技术领域
本发明涉及导电薄膜领域，特别是涉及一种碳纳米管导电薄膜及其制备方法。
背景技术
透明导电薄膜(Transparent Conductive Films，TCF)作为电极在太阳能光伏、发光二极管、平面显示器及触摸屏等电子领域中有着广泛的应用。目前，透明导电薄膜中广泛应用的有氧化铟锡(Indium Tin Oxides，ITO)薄膜。
但是，ITO薄膜因存在资源缺乏、价格昂贵、柔性差、弯曲易脆等突出问题，使其发展受到制约，所以，发展新材料来取代ITO成为必然趋势。
1991年日本ＮＥＣ公司的Iijima发现了碳纳米管，碳纳米管的纳米管管径达到纳米级。碳纳米管所表现出独特优异的力学、光学、电学及热力学特性，使其越来越受人们的关注。当碳纳米管在塑料基板或玻璃基板上形成薄导电层时，不仅可以实现在可见区中的高透射和高传导性，还表现出良好的柔韧性。这些特性使碳纳米管有望成为新一代透明导电膜而展现出广阔的应用前景。
传统的碳纳米管导电薄膜的制备方法，一般采用表面活性剂、聚合物和生物大分子等两亲分子通过静电斥力和空间位阻对碳纳米管进行包覆，实现碳纳米管在溶剂中的有效稳定分散，再将稳定的导电溶液通过涂布工艺直接附着在基材上成膜。工艺简单、成本低，适合大面积大批量生产。但是基材一般都是高分子薄膜，表面很难溶胀，使导电薄膜在基材上的附着力非常差，在受到外力摩擦或刮痕时很容易出现脱落现象。
发明内容
基于此，有必要提供一种不易脱落的碳纳米管导电薄膜及其制备方法。
一种碳纳米管导电薄膜，包括依次层叠的基板、胶黏剂层和碳纳米管薄膜。
在其中一个实施例中，所述基板的厚度为50μm～120μm，所述胶黏剂层的厚度为300nm～25μm，所述碳纳米管薄膜的厚度为30nm～180nm。
一种碳纳米管导电薄膜的制备方法，包括如下步骤：
在辅助板上涂布碳纳米管分散液，干燥后形成碳纳米管薄膜；
在基板上涂布透明胶黏剂，通过热压印方法将所述辅助板上的所述碳纳米管薄膜压印到所述基板涂布有透明胶黏剂的表面；以及
将所述透明胶黏剂固化形成胶黏剂层后去除所述辅助板，得到所述碳纳米管导电薄膜。
在其中一个实施例中，所述辅助板的材料为聚对苯二甲酸乙二酯、聚甲基丙烯酸甲酯或聚碳酸酯，所述辅助板的厚度为50μm～120μm；
所述基板的材料为聚对苯二甲酸乙二酯、聚甲基丙烯酸甲酯或聚碳酸酯，所述基板的厚度为50μm～120μm。
在其中一个实施例中，所述透明胶黏剂为透明的热塑性树脂，所述胶黏剂层的厚度为300nm～25μm。
在其中一个实施例中，所述透明的热塑性树脂为聚醋酸乙烯酯、聚丙烯酸酯、聚乙烯醇、聚乙烯醇缩醛或聚氨酯。
在其中一个实施例中，所述碳纳米管分散液的溶质为碳纳米管和表面活性剂，溶剂为可挥发性试剂，其中，碳纳米管的浓度为0.1mg/mL～10mg/mL，表面活性剂的质量含量为1％～10％。
在其中一个实施例中，在辅助板上涂布碳纳米管分散液的操作为，将所述碳纳米管分散液采用喷涂法、旋涂法或滚涂法涂布到所述辅助板上；所述碳纳米管薄膜的厚度为30nm～180nm。
在其中一个实施例中，通过热压印方法将所述辅助板上的所述碳纳米管薄膜压印到所述基板涂布有透明胶黏剂的表面的操作为，在温度为50℃～220℃，压强为1×105Pa～10×106Pa的条件下，将所述辅助板上的所述碳纳米管薄膜压印到所述基板涂布有所述透明胶黏剂的表面。
在其中一个实施例中，将所述透明胶黏剂固化形成胶黏剂层后去除所述辅助板，得到所述碳纳米管导电薄膜的操作后，还包括将所述碳纳米管导电薄膜用硝酸溶液进行清洗，接着用水进行清洗，干燥后得到纯净的碳纳米管导电薄膜的步骤。
上述碳纳米管导电薄膜，碳纳米管薄膜通过胶黏剂层附着在基板表面，有效地增加了碳纳米管薄膜对基板的附着力，因此，碳纳米管薄膜不容易脱落。
上述碳纳米管导电薄膜的制备方法，通过在辅助板上形成碳纳米管薄膜，在基板上涂布透明胶黏剂，再通过热压印法将碳纳米管薄膜压印到透明胶黏剂上，将透明胶黏剂固化后去除辅助板，得到碳纳米管导电薄膜。通过将碳纳米管薄膜粘贴于胶黏剂层上，有效地增加了碳纳米管薄膜对基板的附着力，碳纳米管薄膜不容易脱落。
附图说明
图1为一实施方式的碳纳米管导电薄膜的结构示意图；
图2为一实施方式的碳纳米管导电薄膜的制备方法的流程图。
具体实施方式
为使本发明的上述目的、特征和优点能够更加明显易懂，下面结合附图对本发明的具体实施方式做详细的说明。在下面的描述中阐述了很多具体细节以便于充分理解本发明。但是本发明能够以很多不同于在此描述的其它方式来实施，本领域技术人员可以在不违背本发明内涵的情况下做类似改进，因此本发明不受下面公开的具体实施的限制。
如图1所示，一实施方式的碳纳米管导电薄膜100，包括依次层叠的基板110、胶黏剂层120和碳纳米管薄膜130。
基板110的材料可以为聚对苯二甲酸乙二酯(Polyethylene terephthalate，PET)、聚甲基丙烯酸甲酯(Polymethylmethacrylate，PMMA)或聚碳酸酯(Polycarbonate，PC)。当然，基板110也可以为其他材料，例如石英玻璃。基板的厚度可以为50μm～120μm。
胶黏剂层120的材料可以为透明的热塑性树脂。透明的热塑性树脂可以为聚醋酸乙烯酯、聚丙烯酸酯、聚乙烯醇、聚乙烯醇缩醛或聚氨酯等。胶黏剂层120的厚度可以为300nm～25μm。
碳纳米管薄膜130的厚度可以为30nm～180nm。
上述碳纳米管导电薄膜，碳纳米管薄膜通过胶黏剂层附着在基板表面，有效地增加了碳纳米管薄膜对基板的附着力，因此，碳纳米管薄膜不容易脱落。
上述碳纳米管导电薄膜的导电性好、透明度高，可广泛应用于光电器件领域。上述碳纳米管导电薄膜可用作触摸屏面板的电极。
如图2所示，一实施方式的上述碳纳米管导电薄膜的制备方法，包括如下步骤：
S10、在辅助板上涂布碳纳米管分散液，干燥后形成碳纳米管薄膜。
辅助板的材料可以为聚对苯二甲酸乙二酯、聚甲基丙烯酸甲酯或聚碳酸酯。辅助板的厚度可以为50μm～120μm。
辅助板在使用前，先用酒精清洗，接着用水清洗。干燥后备用。酒精可以为工业酒精。水可以为纯净水或去离子水。干燥可以为60℃～100℃的条件下进行。
碳纳米管分散液的溶质为碳纳米管和表面活性剂，溶剂为可挥发性试剂，其中，碳纳米管的浓度为0.1mg/mL～10mg/mL，表面活性剂的质量含量为1％～10％。可挥发性试剂可以为水、无水乙醇或丙酮等。表面活性剂可以为十二烷基苯磺酸钠(sodium dodecyl benzene sulfonate，SDBS)、曲拉通X-100、吐温65、十六烷基三甲基溴化铵(Hexadecyl trimethyl ammonium Bromide，HTAB)、聚乙烯吡咯烷酮(Polyvinylpyrrolidone，PVP)、聚乙烯醇(polyvinyl alcohol，PVA)中的至少一种。
碳纳米管分散液采用如下步骤配制，将碳纳米管加入到含有质量比为1％～10％的表面活性剂的可挥发性溶液中，搅拌后得到浓度为0.1mg/mL～10mg/mL的碳纳米管分散液。
碳纳米管为市售的单臂碳纳米管、双壁碳纳米管或多壁碳纳米管。
碳纳米管的直径为5nm～20nm。碳纳米管的长度为5μm～15μm。
在辅助板上涂布碳纳米管分散液的操作为，将碳纳米管分散液采用喷涂法、旋涂法或滚涂法涂布到辅助板上。
干燥后形成碳纳米管薄膜的厚度可以为30nm～180nm。
干燥后形成碳纳米管薄膜的操作为，将涂布有碳纳米管分散液的辅助板在80℃～120℃干燥，碳纳米管分散液形成碳纳米管薄膜。
S20、在基板上涂布透明胶黏剂，通过热压印方法将辅助板上的碳纳米管薄膜压印到基板涂布有透明胶黏剂的表面。
基板的材料可以为聚对苯二甲酸乙二酯、聚甲基丙烯酸甲酯或聚碳酸酯。基板的厚度可以为50μm～120μm。
基板在使用前，先用酒精清洗，接着用水清洗。干燥后备用。酒精可以为工业酒精。水可以为纯净水或去离子水。干燥可以为60℃～100℃的条件下进行。
透明胶黏剂可以为透明的热塑性树脂。透明的热塑性树脂可以为聚醋酸乙烯酯、聚丙烯酸酯、聚乙烯醇、聚乙烯醇缩醛或聚氨酯等。胶黏剂层的厚度可以为300nm～25μm。
在基板上涂布透明胶黏剂的操作可以为，将透明胶黏剂采用凹版印刷或滚涂法等方式涂布到基板上。
通过热压印方法将辅助板上的碳纳米管薄膜压印到基板涂布有透明胶黏剂的表面的操作可以为，在温度为50℃～220℃，压强为1×105Pa～10×106Pa的条件下，将辅助板上的碳纳米管薄膜压印到基板涂布有透明胶黏剂的表面。
S30、将透明胶黏剂固化形成胶黏剂层后去除辅助板，得到碳纳米管导电薄膜。
将透明胶黏剂固化形成胶黏剂层的操作中，可以采用热固化，固化的温度可以为45℃～200℃，固化时间可以为1min～7min。
辅助板采用柔性材料，因此可以直接撕去辅助板。
将透明胶黏剂固化形成胶黏剂层后去除辅助板，得到碳纳米管导电薄膜的操作后，还包括将碳纳米管导电薄膜用硝酸溶液进行清洗，接着用水进行清洗，干燥后得到纯净的碳纳米管导电薄膜的步骤。硝酸溶液中，硝酸的质量浓度可以为64％～68％。干燥操作可以在60℃～120℃下进行。将去除了辅助板的碳纳米管导电薄膜采用硝酸和水清洗可以除去碳纳米管薄膜内的表面活性剂，提高碳纳米管薄膜的纯度，从而有效提高碳纳米管导电薄膜的导电性。
上述碳纳米管导电薄膜的制备方法，通过在辅助板上形成碳纳米管薄膜，在基板上涂布透明胶黏剂，再通过热压印法将碳纳米管薄膜压印到透明胶黏剂上，将透明胶黏剂固化后撕去辅助板，得到碳纳米管导电薄膜。通过将碳纳米管薄膜粘贴于胶黏剂层上，有效地增加了碳纳米管薄膜对基板的附着力，碳纳米管薄膜不容易脱落。此外，透明胶黏剂为热塑性树脂，涂布后只需烘干即可固化。热固化方法可控参数少、操作简单灵活，成本低廉。采用热压印法将碳纳米管薄膜压印到透明胶黏剂上，有利于辅助板受热后表面膨胀，张力增大，使表面贴有的碳纳米管薄膜迅速脱落，在受到一定压力后黏贴在透明胶黏剂表面。
上述碳纳米管导电薄膜的制备方法制备的碳纳米管薄膜厚度均匀，并且可以通过调节碳纳米管分散液的浓度或涂膜次数来控制碳纳米管薄膜的厚度。通过将碳纳米管薄膜粘贴于胶黏剂层上，有效地增加了碳纳米管薄膜对基板的附着力，碳纳米管薄膜不容易脱落，不容易造成因碳纳米管薄膜脱落造成不导电现象。将碳纳米管导电薄膜用硝酸和水清洗后得到的碳纳米管薄膜纯度高，导电性强。通过上述碳纳米管导电薄膜的制备方法制备得到的碳纳米管导电薄膜导电性好、透明度高，可广泛应用于光电器件领域。
上述碳纳米管导电薄膜的制备方法，工艺流程简单、操作方便，对环境因素要求低，能够满足工业大面积、大批量生产需求。
下面为具体实施例部分。
实施例1
将碳纳米管分散液旋涂在辅助板上，接着在100℃烘干形成厚度为100nm的碳纳米管薄膜。辅助板的材料为PET，厚度为100μm。辅助板在涂布碳纳米管分散液前先用工业酒精和水先后进行清洗，并且在80℃烘干。碳纳米管分散液的溶质为多壁碳纳米管和聚乙烯吡咯烷酮，溶剂为乙醇，其中，多壁碳纳米管的浓度为0.1mg/mL，多壁碳纳米管的直径为5nm～20nm，多壁碳纳米管的长度为5μm～12μm，聚乙烯吡咯烷酮的质量含量为1％。
将透明的聚氨酯通过凹版印刷涂布在基板上。接着，在温度为60℃，压强为3×105Pa的条件下，将辅助板上的碳纳米管薄膜压印到基板涂布有聚氨酯的表面。基板的材料为PET，厚度为80μm。基板在涂布透明的聚氨酯前先用工业酒精和水先后进行清洗，并且在80℃烘干。
将依次层叠的基板、透明聚氨酯、碳纳米管薄膜和辅助板的复合材料在180℃烘箱中保持5min，透明聚氨酯固化形成厚度为15μm的胶黏剂层，接着撕去辅助板，得到碳纳米管导电薄膜。接着将碳纳米管导电薄膜用64％的硝酸和水先后清洗，在80℃烘箱中烘干后得到纯净的碳纳米管透明导电薄膜。制备得到的纯净的碳纳米管透明导电薄膜的透光率为89％和表面电阻为180Ω/sq。
实施例2
将碳纳米管分散液旋涂在辅助板上，接着在100℃烘干形成厚度为120nm的碳纳米管薄膜。辅助板的材料为PET，厚度为80μm。辅助板在旋涂碳纳米管分散液前先用工业酒精和水先后进行清洗，并且在80℃烘干。碳纳米管分散液的溶质为多壁碳纳米管和吐温65，溶剂为丙酮。其中，多壁碳纳米管的浓度为0.1mg/mL，多壁碳纳米管的直径为5nm～20nm，多壁碳纳米管的长度为5μm～12μm，吐温65的质量含量为3％。
将透明的聚丙烯酸酯通过凹版印刷涂布在基板上。接着，在温度为80℃，压强为5×105Pa的条件下，将辅助板上的碳纳米管薄膜压印到基板涂布有聚丙烯酸酯的表面。基板的材料为PET，厚度为100μm。基板在涂布透明的聚丙烯酸酯前先用工业酒精和水先后进行清洗，并且在80℃烘干。
将依次层叠的基板、聚丙烯酸酯、碳纳米管薄膜和辅助板的复合材料在140℃烘箱中保持7min，聚丙烯酸酯固化形成厚度为20μm的胶黏剂层，接着撕去辅助板，得到碳纳米管导电薄膜。接着将碳纳米管导电薄膜用68％的硝酸和水先后清洗，在100℃烘箱中烘干后得到纯净的碳纳米管透明导电薄膜。制备得到的纯净的碳纳米管透明导电薄膜的透光率为89.5％和表面电阻为150Ω/sq。
实施例3
将碳纳米管分散液喷涂在辅助板上，接着在80℃烘干形成厚度为180nm的碳纳米管薄膜。辅助板的材料为PMMA，厚度为120μm。辅助板在喷涂碳纳米管分散液前先用工业酒精和水先后进行清洗，并且在60℃烘干。碳纳米管分散液的溶质为单壁碳纳米管和曲拉通X-100，溶剂为无水乙醇，其中，单壁碳纳米管的浓度为10mg/mL，单壁碳纳米管的直径为5nm～20nm，单壁碳纳米管的长度为5μm～15μm，曲拉通X-100的质量含量为10％。
将透明的聚醋酸乙烯酯通过滚涂涂布在基板上，接着，在温度为50℃，压强为1×105Pa的条件下，将辅助板上的碳纳米管薄膜压印到基板涂布有聚醋酸乙烯酯的表面。基板的材料为PMMA，厚度为50μm。基板在涂布透明的聚醋酸乙烯酯前先用工业酒精和水先后进行清洗，并且在60℃烘干。
将依次层叠的基板、聚醋酸乙烯酯、碳纳米管薄膜和辅助板的复合材料在45℃烘箱中保持5min，聚醋酸乙烯酯固化形成厚度为300nm的胶黏剂层，接着撕去辅助板，得到碳纳米管导电薄膜。接着将碳纳米管导电薄膜用65％的硝酸和水先后清洗，在60℃烘箱中烘干后得到纯净的碳纳米管透明导电薄膜。制备得到的纯净的碳纳米管透明导电薄膜的透光率为88％和表面电阻为300Ω/sq。
实施例4
将碳纳米管分散液喷涂在辅助板上，接着在120℃烘干形成厚度为30nm的碳纳米管薄膜。辅助板的材料为PC，厚度为50μm。辅助板在喷涂碳纳米管分散液前先用工业酒精和水先后进行清洗，并且在100℃烘干。碳纳米管分散液的溶质为双壁碳纳米管和十二烷基苯磺酸钠，溶剂为水，其中，双壁碳纳米管的浓度为1mg/mL，双壁碳纳米管的直径为5nm～20nm，双壁碳纳米管的长度为5μm～15μm，十二烷基苯磺酸钠的质量分数是1％。
将透明的聚乙烯酸通过滚涂在基板上，接着，在温度为220℃，压强为1×106Pa的条件下，将辅助板上的碳纳米管薄膜压印到基板涂布有聚乙烯酸的表面。基板的材料为PC，厚度为120μm。基板在涂布透明的聚乙烯酸前先用工业酒精和水先后进行清洗，并且在100℃烘干。
将依次层叠的基板、聚乙烯酸、碳纳米管薄膜和辅助板的复合材料在200℃烘箱中保持1min，聚乙烯酸固化形成厚度为25μm的胶黏剂层，接着撕去辅助板，得到碳纳米管导电薄膜。接着将碳纳米管导电薄膜用65％的硝酸和水先后清洗，在120℃烘箱中烘干后得到纯净的碳纳米管透明导电薄膜。制备得到的纯净的碳纳米管透明导电薄膜的透光率为85％和表面电阻为300Ω/sq。
对比例1
对比例1制备碳纳米管透明导电薄膜的方法和实施例1制备碳纳米管透明导电薄膜的方法基本相同，其不同之处在于，撕去辅助板后，得到的碳纳米管导电薄膜不用硝酸和水清洗。得到的碳纳米管透明导电薄膜的透光率为88％和表面电阻为850Ω/sq。
对比例2
对比例2制备碳纳米管透明导电薄膜的方法和实施例2制备碳纳米管透明导电薄膜的方法基本相同，其不同之处在于，撕去辅助板后，得到的碳纳米管导电薄膜不用硝酸和水清洗。得到的碳纳米管透明导电薄膜的透光率为88.6％和表面电阻为750Ω/sq。
对比例3
将碳纳米管分散液旋涂在基板上，接着在100℃烘干形成厚度为100nm的碳纳米管薄膜。基板的材料为PET，厚度为80μm。基板在涂布碳纳米管分散液前先用工业酒精和水先后进行清洗，并且在80℃烘干。碳纳米管分散液的溶质为多壁碳纳米管和聚乙烯吡咯烷酮，溶剂为乙醇，其中，多壁碳纳米管的浓度为0.1mg/mL，多壁碳纳米管的直径为5nm～20nm，多壁碳纳米管的长度为5μm～12μm，聚乙烯吡咯烷酮的质量含量为1％。
将形成有碳纳米管薄膜的基板用64％的硝酸和水先后清洗，在80℃烘箱中烘干后得到碳纳米管透明导电薄膜。制备得到的碳纳米管透明导电薄膜的透光率为88％，表面电阻为290Ω/sq。相比于实施例1，对比例1和实施例1的不同之处仅在于对比例1没有胶黏剂层，然而，对比例1的表面电阻远远高于实施例1的表面电阻。由此可见，由于碳纳米管薄膜在基板上的，附着力很差，因此，在使用64％的硝酸和水先后清洗时，碳纳米管薄膜容易脱落，导致导电性能变差。
以上所述实施例仅表达了本发明的几种实施方式，其描述较为具体和详细，但并不能因此而理解为对本发明专利范围的限制。应当指出的是，对于本领域的普通技术人员来说，在不脱离本发明构思的前提下，还可以做出若干变形和改进，这些都属于本发明的保护范围。因此，本发明专利的保护范围应以所附权利要求为准。
Claims (10)
1.一种碳纳米管导电薄膜，其特征在于，包括依次层叠的基板、胶黏剂层和碳纳米管薄膜。
2.根据权利要求1所述的碳纳米管导电薄膜，其特征在于，所述基板的厚度为50μm～120μm，所述胶黏剂层的厚度为300nm～25μm，所述碳纳米管薄膜的厚度为30nm～180nm。
3.一种碳纳米管导电薄膜的制备方法，其特征在于，包括如下步骤：
在辅助板上涂布碳纳米管分散液，干燥后形成碳纳米管薄膜；
在基板上涂布透明胶黏剂，通过热压印方法将所述辅助板上的所述碳纳米管薄膜压印到所述基板涂布有透明胶黏剂的表面；以及
将所述透明胶黏剂固化形成胶黏剂层后去除所述辅助板，得到所述碳纳米管导电薄膜。
4.根据权利要求3所述的碳纳米管导电薄膜的制备方法，其特征在于，所述辅助板的材料为聚对苯二甲酸乙二酯、聚甲基丙烯酸甲酯或聚碳酸酯，所述辅助板的厚度为50μm～120μm；
所述基板的材料为聚对苯二甲酸乙二酯、聚甲基丙烯酸甲酯或聚碳酸酯，所述基板的厚度为50μm～120μm。
5.根据权利要求3所述的碳纳米管导电薄膜的制备方法，其特征在于，所述透明胶黏剂为透明的热塑性树脂，所述胶黏剂层的厚度为300nm～25μm。
6.根据权利要求5所述的碳纳米管导电薄膜的制备方法，其特征在于，所述透明的热塑性树脂为聚醋酸乙烯酯、聚丙烯酸酯、聚乙烯醇、聚乙烯醇缩醛或聚氨酯。
7.根据权利要求3所述的碳纳米管导电薄膜的制备方法，其特征在于，所述碳纳米管分散液的溶质为碳纳米管和表面活性剂，溶剂为可挥发性试剂，其中，碳纳米管的浓度为0.1mg/mL～10mg/mL，表面活性剂的质量含量为1％～10％。
8.根据权利要求3所述的碳纳米管导电薄膜的制备方法，其特征在于，在辅助板上涂布碳纳米管分散液的操作为，将所述碳纳米管分散液采用喷涂法、旋涂法或滚涂法涂布到所述辅助板上；所述碳纳米管薄膜的厚度为30nm～180nm。
9.根据权利要求3所述的碳纳米管导电薄膜的制备方法，其特征在于，通过热压印方法将所述辅助板上的所述碳纳米管薄膜压印到所述基板涂布有透明胶黏剂的表面的操作为，在温度为50℃～220℃，压强为1×105Pa～10×106Pa的条件下，将所述辅助板上的所述碳纳米管薄膜压印到所述基板涂布有所述透明胶黏剂的表面。
10.根据权利要求3所述的碳纳米管导电薄膜的制备方法，其特征在于，将所述透明胶黏剂固化形成胶黏剂层后去除所述辅助板，得到所述碳纳米管导电薄膜的操作后，还包括将所述碳纳米管导电薄膜用硝酸溶液进行清洗，接着用水进行清洗，干燥后得到纯净的碳纳米管导电薄膜的步骤。
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