CN103808707A - 分光装置和分光用光源 - Google Patents

分光装置和分光用光源 Download PDF

Info

Publication number
CN103808707A
CN103808707A CN201310549829.2A CN201310549829A CN103808707A CN 103808707 A CN103808707 A CN 103808707A CN 201310549829 A CN201310549829 A CN 201310549829A CN 103808707 A CN103808707 A CN 103808707A
Authority
CN
China
Prior art keywords
light
filter
variable bandpass
dividing device
optical filter
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
CN201310549829.2A
Other languages
English (en)
Inventor
伊贺光博
田名网健雄
角龍信之
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Yokogawa Electric Corp
Original Assignee
Yokogawa Electric Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Yokogawa Electric Corp filed Critical Yokogawa Electric Corp
Publication of CN103808707A publication Critical patent/CN103808707A/zh
Pending legal-status Critical Current

Links

Images

Classifications

    • G—PHYSICS
    • G01—MEASURING; TESTING
    • G01J—MEASUREMENT OF INTENSITY, VELOCITY, SPECTRAL CONTENT, POLARISATION, PHASE OR PULSE CHARACTERISTICS OF INFRARED, VISIBLE OR ULTRAVIOLET LIGHT; COLORIMETRY; RADIATION PYROMETRY
    • G01J3/00—Spectrometry; Spectrophotometry; Monochromators; Measuring colours
    • G01J3/12—Generating the spectrum; Monochromators
    • G01J3/26—Generating the spectrum; Monochromators using multiple reflection, e.g. Fabry-Perot interferometer, variable interference filters
    • G—PHYSICS
    • G01—MEASURING; TESTING
    • G01J—MEASUREMENT OF INTENSITY, VELOCITY, SPECTRAL CONTENT, POLARISATION, PHASE OR PULSE CHARACTERISTICS OF INFRARED, VISIBLE OR ULTRAVIOLET LIGHT; COLORIMETRY; RADIATION PYROMETRY
    • G01J3/00—Spectrometry; Spectrophotometry; Monochromators; Measuring colours
    • G01J3/46—Measurement of colour; Colour measuring devices, e.g. colorimeters
    • G—PHYSICS
    • G01—MEASURING; TESTING
    • G01J—MEASUREMENT OF INTENSITY, VELOCITY, SPECTRAL CONTENT, POLARISATION, PHASE OR PULSE CHARACTERISTICS OF INFRARED, VISIBLE OR ULTRAVIOLET LIGHT; COLORIMETRY; RADIATION PYROMETRY
    • G01J3/00—Spectrometry; Spectrophotometry; Monochromators; Measuring colours
    • G01J3/02—Details
    • G01J3/0205—Optical elements not provided otherwise, e.g. optical manifolds, diffusers, windows
    • G01J3/0235—Optical elements not provided otherwise, e.g. optical manifolds, diffusers, windows using means for replacing an element by another, for replacing a filter or a grating
    • G—PHYSICS
    • G01—MEASURING; TESTING
    • G01J—MEASUREMENT OF INTENSITY, VELOCITY, SPECTRAL CONTENT, POLARISATION, PHASE OR PULSE CHARACTERISTICS OF INFRARED, VISIBLE OR ULTRAVIOLET LIGHT; COLORIMETRY; RADIATION PYROMETRY
    • G01J3/00—Spectrometry; Spectrophotometry; Monochromators; Measuring colours
    • G01J3/28—Investigating the spectrum
    • G01J3/30—Measuring the intensity of spectral lines directly on the spectrum itself
    • G01J3/32—Investigating bands of a spectrum in sequence by a single detector
    • G—PHYSICS
    • G01—MEASURING; TESTING
    • G01J—MEASUREMENT OF INTENSITY, VELOCITY, SPECTRAL CONTENT, POLARISATION, PHASE OR PULSE CHARACTERISTICS OF INFRARED, VISIBLE OR ULTRAVIOLET LIGHT; COLORIMETRY; RADIATION PYROMETRY
    • G01J3/00—Spectrometry; Spectrophotometry; Monochromators; Measuring colours
    • G01J3/46—Measurement of colour; Colour measuring devices, e.g. colorimeters
    • G01J3/50—Measurement of colour; Colour measuring devices, e.g. colorimeters using electric radiation detectors
    • G01J3/51—Measurement of colour; Colour measuring devices, e.g. colorimeters using electric radiation detectors using colour filters
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B26/00—Optical devices or arrangements for the control of light using movable or deformable optical elements
    • G02B26/007—Optical devices or arrangements for the control of light using movable or deformable optical elements the movable or deformable optical element controlling the colour, i.e. a spectral characteristic, of the light
    • G02B26/008—Optical devices or arrangements for the control of light using movable or deformable optical elements the movable or deformable optical element controlling the colour, i.e. a spectral characteristic, of the light in the form of devices for effecting sequential colour changes, e.g. colour wheels
    • G—PHYSICS
    • G01—MEASURING; TESTING
    • G01J—MEASUREMENT OF INTENSITY, VELOCITY, SPECTRAL CONTENT, POLARISATION, PHASE OR PULSE CHARACTERISTICS OF INFRARED, VISIBLE OR ULTRAVIOLET LIGHT; COLORIMETRY; RADIATION PYROMETRY
    • G01J3/00—Spectrometry; Spectrophotometry; Monochromators; Measuring colours
    • G01J3/12—Generating the spectrum; Monochromators
    • G01J2003/1213—Filters in general, e.g. dichroic, band
    • G01J2003/1221—Mounting; Adjustment
    • G—PHYSICS
    • G01—MEASURING; TESTING
    • G01J—MEASUREMENT OF INTENSITY, VELOCITY, SPECTRAL CONTENT, POLARISATION, PHASE OR PULSE CHARACTERISTICS OF INFRARED, VISIBLE OR ULTRAVIOLET LIGHT; COLORIMETRY; RADIATION PYROMETRY
    • G01J3/00—Spectrometry; Spectrophotometry; Monochromators; Measuring colours
    • G01J3/12—Generating the spectrum; Monochromators
    • G01J2003/1226—Interference filters
    • G—PHYSICS
    • G01—MEASURING; TESTING
    • G01J—MEASUREMENT OF INTENSITY, VELOCITY, SPECTRAL CONTENT, POLARISATION, PHASE OR PULSE CHARACTERISTICS OF INFRARED, VISIBLE OR ULTRAVIOLET LIGHT; COLORIMETRY; RADIATION PYROMETRY
    • G01J3/00—Spectrometry; Spectrophotometry; Monochromators; Measuring colours
    • G01J3/12—Generating the spectrum; Monochromators
    • G01J2003/1226—Interference filters
    • G01J2003/1243—Pivoting IF or other position variation
    • G—PHYSICS
    • G01—MEASURING; TESTING
    • G01J—MEASUREMENT OF INTENSITY, VELOCITY, SPECTRAL CONTENT, POLARISATION, PHASE OR PULSE CHARACTERISTICS OF INFRARED, VISIBLE OR ULTRAVIOLET LIGHT; COLORIMETRY; RADIATION PYROMETRY
    • G01J3/00—Spectrometry; Spectrophotometry; Monochromators; Measuring colours
    • G01J3/12—Generating the spectrum; Monochromators
    • G01J2003/1226—Interference filters
    • G01J2003/1247—Tuning

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Astronomy & Astrophysics (AREA)
  • Optics & Photonics (AREA)
  • Investigating Or Analysing Materials By Optical Means (AREA)
  • Microscoopes, Condenser (AREA)
  • Optical Filters (AREA)
  • Spectrometry And Color Measurement (AREA)

Abstract

本发明提供分光装置和分光用光源。该分光装置包括：光学***，使输出光透过，该输出光从接收到来自光源的照射光的试样输出；二维阵列光检测器，拍摄透射所述光学***的光；以及控制器，所述光学***包括：第一光学器，设置在所述试样和所述二维阵列光检测器之间；第二光学器，设置在所述二维阵列光检测器和所述第一光学器之间；以及可变带通滤光器，设置在所述第一光学器和所述试样之间、以及所述第二光学器和所述二维阵列光检测器之间的至少一个上，其中，所述控制器配合所述二维阵列光检测器的拍摄时机，改变所述可变带通滤光器器的光透过波长频带。

Description

分光装置和分光用光源
相关申请的交叉参考
本申请基于2012年11月8日向日本特许厅提交的日本专利申请2012-246429号，因此将所述日本专利申请的全部内容以引用的方式并入本文。
技术领域
本发明涉及分光装置和分光用光源。
背景技术
如果向试样（测量对象）照射来自例如激光那样光源的光，则产生包含激励光、荧光或拉曼散射光等的输出光。提出了一种使上述输出光射入显微镜来进行分光和分析的分光装置。由此，能够实现一种光波长计，该光波长计保持波长测量稳定性并使基准光源部的结构简单化。即，能够以低成本得到可靠性高的光波长计。
在此，拉曼散射是通过向物质照射激光等具有单一波长的光而产生的线形或非线形的光学现象。在拉曼散射过程中，产生与照射的单一波长光的波长相比、具有稍许偏移（长波长侧或短波长侧）的波长的散射光。另外，由拉曼散射得到的光的强度是照射光波长的10-14倍程度的微弱的强度。
因上述波长偏移（拉曼偏移）而得到的拉曼散射光谱是物质所固有的。由此，基于拉曼散射光能够确定试样是何种物质。
因此，以往通过利用分光装置检测从试样发出的拉曼散射光等，来确定试样中包含的物质的化学结构和物理状态。另外，按照以往的分光装置，不论试样是固体、液体或气体都能够进行非破坏下的检测。
此外，SERS（表面增强拉曼散射）是如下现象：通过向试样（测量对象；具有金属纳米结构的试样）照射激光等具有单一波长的光，产生增强的拉曼散射光，所述试样具有存在于纳米尺寸的金属结构周围的物质。具体地说，通过向具有金属纳米结构的试样照射激励光，在金属表面激励作为自由电子粗密波的表面等离子体振子。在激励了表面等离子体振子的区域，光电场增强。
关于SERS，以往的分光装置对在金属纳米结构的周围产生、且由表面等离子体振子增强的拉曼散射光进行测量。在这种领域中使用一种分光装置，该分光装置使用日本专利公开公报特开2002-014043号记载的衍射光栅。但是，如果使用衍射光栅，则装置的部件个数增加。因此，导致装置大型化且价格高。此外，在液晶带通滤光器中具有偏振依存性，光透射效率也低。因此，提出了一种使用可变带通滤光器的分光装置。
作为记载了以往分光装置的文献，例如具有日本专利公开公报特开2007-179002号、日本专利公开公报特开2004-317676号、日本专利公开公报特开2002-014043号、日本专利公开公报特开2011-220700号、以及日本专利公开公报特开2012-127855号。
发明内容
本发明提供一种分光装置，其包括：光学***，使输出光透过，所述输出光从接收到来自光源的照射光的试样输出；二维阵列光检测器，拍摄透过所述光学***的光；以及控制器，所述光学***包括：第一光学器，设置在所述试样和所述二维阵列光检测器之间；第二光学器，设置在所述二维阵列光检测器和所述第一光学器之间；以及可变带通滤光器，设置在所述第一光学器和所述试样之间、以及所述第二光学器和所述二维阵列光检测器之间的至少一个上，所述控制器配合所述二维阵列光检测器的拍摄时机，改变所述可变带通滤光器的光透过波长频带。
附图说明
图1是表示本发明一种实施方式的分光装置的结构图。
图2是可变带通滤光器的入射角的说明图。
图3是表示图1的二维阵列光检测器受光面上的光谱强度的示意图。
图4是可变带通滤光器的透过波长频带的说明图。
图5是说明二维阵列光检测器和可变带通滤光器的动作的时序图。
图6是说明图1的分光装置的动作的流程图。
图7是说明二维阵列光检测器和可变带通滤光器的动作的另一时序图。
图8是表示本发明其他实施方式的分光装置的结构图。
图9是可变带通滤光器5和可变带通滤光器7的透过波长频带的说明图。
图10是说明二维阵列光检测器、可变带通滤光器5和可变带通滤光器7的动作的时序图。
图11是说明图8的分光装置的动作的流程图。
图12是说明二维阵列光检测器、可变带通滤光器5和可变带通滤光器7的动作的另一时序图。
图13是表示本发明其他实施方式的分光装置的结构图。
图14是图13的光轴偏移修正的说明图。
图15是表示本发明其他实施方式的分光装置的结构图。
图16是图15的光轴偏移修正的说明图。
图17A、17B是表示本发明其他实施方式的分光装置的结构图。
图18是基于本发明的分光动作例子的说明图。
图19是表示校正装置的具体例子的框图。
图20是表示本发明其他实施方式的分光装置的结构图。
图21是图20的滤光器的角度变化的说明图。
图22A、22B是表示用于实现图21所示的滤光器的转动动作的转动机构的结构图。
图23是表示本发明其他实施方式的分光装置的结构图。
图24是表示本发明其他实施方式的分光装置的结构图。
图25是作为本发明应用例子的窄频带光源的结构图。
图26是表示本发明其他实施方式的分光装置一个例子的结构图。
图27是图26的可变带通滤光器的光入射角度的说明图。
图28是表示图26的二维阵列光检测器受光面上的光谱强度的示意图。
在下面的详细说明中，出于说明的目的，为了提供对所公开的实施方式的彻底的理解，提出了许多具体的细节。然而，显然可以在没有这些具体细节的前提下实施一个或更多的实施方式。在其它的情况下，为了简化制图，示意性地示出了公知的结构和装置。
具体实施方式
本发明的一种实施方式的分光装置（本分光装置），其包括：光学***，使输出光透过，所述输出光从接收到来自光源的照射光的试样输出；二维阵列光检测器，拍摄透射了所述光学***的光；以及控制器，所述光学***包括：第一光学器，设置在所述试样和所述二维阵列光检测器之间；第二光学器，设置在所述二维阵列光检测器和所述第一光学器之间；以及可变带通滤光器，设置在所述第一光学器和所述试样之间、以及所述第二光学器和所述二维阵列光检测器之间的至少一个上，其中，所述控制器配合所述二维阵列光检测器拍摄的时机，改变所述可变带通滤光器的光透过波长频带。
在本分光装置中，所述控制器可以通过控制所述可变带通滤光器，扫描预先确定的多个所述光透过波长频带。
在本分光装置中，所述控制器可以通过控制所述二维阵列光检测器的拍摄时机，以预先确定的时间间隔拍摄所述输出光，并且通过控制所述可变带通滤光器，将所述透过波长频带改变为具有预先确定的间隔的波长频带。
本分光装置还可以包括偏振器，所述偏振器使透射所述可变带通滤光器的光向预先确定的偏振光方向偏振，所述控制器可以改变所述偏振器的偏振光方向。
本分光装置还可以包括光轴调整器，所述光轴调整器修正来自所述试样的输出光光轴在二维平面上的位置偏移。
本发明中，所述可变带通滤光器还可以包括多个滤光器，所述多个滤光器具有相互不同的透过波长频带。此外，所述分光装置还可以包括支承构件，所述支承构件能够切换所述多个滤光器，并且将所述多个滤光器支承成能够相对于光轴转动。
在本分光装置中，所述支承构件可以是形成为能够转动的圆板状的滤光轮，所述滤光轮支承所述滤光器使其在规定的转动位置与光轴相交。
在本分光装置中，所述支承构件可以是能够沿与光轴相交的直线移动的滑动件。
本分光装置还可以包括使整个所述支承构件相对于光轴转动的转动器。
在本分光装置中，可以使所述光学***能够与显微镜或望远镜的光学***连接或一体化。
在本分光装置中，所述可变带通滤光器可以根据相对于光轴的入射角度使光透过波长频带变化。
在本分光装置中，所述第一光学器和所述第二光学器可以形成远心光学***。
本发明还提供一种实施方式的分光用光源，其包括：本分光装置；以及光源，向所述试样照射光。
按照上述分光装置，可以从观察的平面区域，在更广的波长范围内得到降低了光的光谱强度不均的分光输出。
并且，本分光装置可以通过具有用于向试样照射光的光源，作为实质上的窄频带光源发挥功能。
图26是表示本发明一种实施方式的使用可变带通滤光器的分光装置一个例子的结构说明图。图26中，在试样1和检测器2之间配置有光学装置3、4。上述光学装置3、4构成用于得到平行光的远心光学***。
并且，在光学装置3、4之间配置有可变带通滤光器5，该可变带通滤光器5用于仅使特定区域的光透过。
因此，从光源OS向试样1照射光而产生的、来自试样1的点A、B、C的光分别通过光轴A”、光轴B”和光轴C”，从而透射光学装置3。可变带通滤光器5限制上述光的光透过波长频带。并且，利用光学装置4，上述光分别聚光到检测器2的点A’、B’、C’。
按照这种结构，可变带通滤光器5的光透过波长频带（波长区域）根据朝向可变带通滤光器5的光入射角度而变化。这是因为例如可变带通滤光器是多层膜滤光器时，如果光入射角度变化，则外观上的膜厚变化。
如图27所示，图26的光轴A”、光轴B”和光轴C”的光分别以α、β、γ的角度射入可变带通滤光器5。
如图28所示，其结果，向检测器2的点A’、B’、C’聚光的透过光的光谱和强度在A→A’、B→B’、C→C’的各点之间不同。
即，例如在试样1的点A、B、C中，如图27所示，即使光具有同样强度的（即，没有波长依存性，具有固定的光强度）光谱，朝向可变带通滤光器5的入射角度也不同。因此，光透过光谱在检测器2的点A’、B’、C’上不同。
因此，当想从试样1的平面得到具有某一特定波长的光时，会造成与检测器2的平面区域对应的、光透过光谱的不均。
因此，本发明提供一种发光装置，该发光装置通过使用可变带通滤光器，具有较少的部件个数，小型、低价且具有高的光效率。此外，本发明还提供一种发光装置，在所述平面区域内，在大幅度的波长范围内能够得到降低了光谱强度不均的分光输出。
图1是表示本发明的分光装置的一种实施方式的结构图。图1中，对与图26相同的部分采用相同的附图标记。图1和图26的不同点在于可变带通滤光器5的配置位置。即，图1的可变带通滤光器5设置在试样1和光学装置3之间。
在图1中，光源OS例如是未图示的白炽光源等宽频带光源、或像激光那样的单一波长光源。通过向试样1照射来自光源OS的激励光，产生包含荧光和散射光的输出光。
试样1产生的输出光通过两个光学装置、即光学装置（第一光学器）3和光学装置（第二光学器）4，射入二维阵列光检测器2。光学装置3和光学装置4分别由透镜构成。包含光学装置3和光学装置4的透镜光学***安装在未图示的显微镜上、或构成追加安装的光学***的一部分。透镜光学***将来自试样1的输出光成像在二维阵列光检测器2上。另外，透镜光学***并不限于包含两个光学装置的结构。
二维阵列光检测器2例如是CMOS（Complementary Metal OxideSemiconductor互补型金属氧化物半导体）或像CCD（Charge CoupledDevice电荷耦合器件）那样的图像传感器。
在试样1和光学装置3之间设置有可变带通滤光器5。上述可变带通滤光器5具有可变的、使入射光透过的波长频带。可变带通滤光器5使从光学装置4射入的平行光束的输出光中预先确定的波长频带的光透过。可变带通滤光器例如可以是可以调整光入射角度的。
二维阵列光检测器2和可变带通滤光器5与控制部（控制器）6电连接。通过来自控制部6的控制信号，改变（控制）二维阵列光检测器2的拍摄时机。配合二维阵列光检测器2的拍摄时机，由来自控制部6的控制信号改变（控制）可变带通滤光器5的光透过波长频带。
在此，试样1设置为与光学装置3的光轴大体成直角。来自试样1的输出光向图1的上方、即与光学装置3的光轴大体平行地前进。如图2所示，从试样1向光学装置3射出的、来自试样1的输出光的光轴A”、B”、C”，分别以大体相同的入射角度α＝β＝γ，射入可变带通滤光器5。
即，来自试样1表面任意区域的输出光都以大体相等的入射角度，射入可变带通滤光器5。因此，由可变带通滤光器5产生的光透过波长频带在二维阵列光检测器2受光面上的各聚光点A’、B’、C’上是相等的。
即，在图1的分光装置中，当想要根据来自试样1表面的输出光得到具有某一特定波长的光时，如图3所示，能够进行与试样1表面的输出光位置或区域对应的光透过波长频带不均降低后的分光。
图3是表示图1的二维阵列光检测器2受光面上的光谱强度的示意图。在图3中，纵轴表示光透过强度，横轴表示波长。当从试样1的点A、B、C射入二维阵列光检测器2的光具有相同的强度、且不具有波长依存性时，二维阵列光检测器2受光面上的各聚光点A’，B’、C’的光透过光谱相互大体相等。
可变带通滤光器5的光透过波长频带可变。可变带通滤光器5使从试样1射出的平行光束中预先确定的波长带宽W的光透过。具体地说，可变带通滤光器5例如包括：滤光器部，根据朝向滤光器面的光入射角度的变化，透过光的波长特性变化；以及转动台，改变滤光器的角度。即，可变带通滤光器5根据相对于光轴的入射角度，改变透过波长频带。
图4是图1的可变带通滤光器5的光透过波长频带的说明图。如图4所示，可变带通滤光器5可以通过改变相对于输出光的光轴的滤光器部的角度，保持规定的波长带宽W，并调整（改变）光透过波长频带。
例如，在可变带通滤光器5中，如图4所示，作为上述光透过波长频带，可以对从波长L10到L19的波长频带W1、从波长L20到L29的波长频带W2、以及从波长L30到L39的波长频带W3这三种进行切换。可变带通滤光器5可以在上述波长频带W1～W3的任意一种频带中，使包含在从光学装置4射入的来自试样1的输出光的散射光C1透过。波长频带W1～W3都具有规定的波长带宽W。
如上所述，控制部6通过控制二维阵列光检测器2和可变带通滤光器5，在规定的时机使二维阵列光检测器2拍摄可变带通滤光器5的规定光透过波长频带的输出光。控制部6以使二维阵列光检测器2和可变带通滤光器5协调动作的方式，对它们进行控制。
控制部6可以通过控制二维阵列光检测器2，以预先确定的时间间隔（例如等时间间隔）拍摄来自试样1的输出光。控制部6也可以通过控制可变带通滤光器5，以预先确定的间隔的波长频带（例如等波长频带间隔）来改变光透过波长频带。
图5是说明由控制部6控制的二维阵列光检测器2和可变带通滤光器5的动作的时序图。图5的上层表示透射VBPF（可变带通滤光器5）的光的波长频带的变化。当光透过波长频带保持在W1、W2或W3时，VBPF静止。通过可变带通滤光器5的加减速动作改变光透过波长频带（例如W1→W2、或W2→W3）。图5的下层表示由CAM（二维阵列光检测器2）对输出光进行拍摄的时机。当二维阵列光检测器2为ON的状态时，进行在预先确定的Texp曝光时间的曝光和拍摄。利用VBPF的加减速动作改变光透过波长频带时，产生直到开始下一次拍摄的等待时间Tw。
在未图示的存储装置中，存储有预先确定的二维阵列光检测器2为ON的拍摄时机或拍摄间隔。控制部6通过配合上述拍摄时机或拍摄间隔来控制可变带通滤光器5，切换波长频带W1、W2、以及W3。具体地说，控制部6配合二维阵列光检测器2的拍摄时机t1、t2或t3，对可变带通滤光器5的波长频带W1、W2、以及W3进行切换。
另外，控制部6例如也可以包括控制分光装置的各构件动作的CPU（Central Processing Unit中央处理单元）。具体地说，控制部6启动存储在未图示的存储装置内的OS等。并且，控制部6通过在上述OS上，读取并执行存储在存储装置内的程序，来控制整个分光装置。并且，控制部6通过以预先确定的时机或拍摄间隔控制可变带通滤光器5，来改变光透过波长频带，并在二维阵列光检测器2中拍摄透过光。
图6是说明图1那样结构的分光装置的动作的流程图。
（1-1）测量开始后，在步骤S1中，控制部6从未图示的存储装置读取预先确定的二维阵列光检测器2的曝光时间Texp，并进行设定。
（1-2）在步骤S2中，控制部6从未图示的存储装置读取预先确定的全部VBPF中的光透过波长频带，并设定初始值（W1）。即，控制部6使VBPF动作，并在确认VBPF的波长频带成为W1之后，使VBPF的动作结束，使VBPF静止。
（1-3）在步骤S3中，控制部6控制二维阵列光检测器2，在预先确定的曝光时间Texp，拍摄透射VBPF的光（CAM：ON）。控制部6将得到的拍摄数据存储在未图示的存储装置内。
（1-4）在步骤S4中，控制部6判断全部分光波长频带的测量（拍摄）是否结束。当测量结束时（YES），控制部6结束测量，并返回等待下一次测量开始的待机状态。当测量未结束时（NO），控制部6前进至步骤S5。
（1-5）在步骤S5中，控制部6将VBPF中的光透过波长频带设定为下一状态（VBPF：W1→W2），并开始VBPF的加减速动作。
（1-6）在步骤S6中，控制部6判断VBPF的光透过波长频带是否到达了在步骤S5中设定的下一波长频带W2。当未到达时（NO），控制部6反复进行步骤S6的判断。上述反复进行的判断是指通过使VBPF进行加减速动作，波长频带在正变化为下一波长频带（W1→W2）的过程中。反复的累计时间相当于直到二维阵列光检测器2开始下一次拍摄的等待时间Tw（CAM：OFF）。当波长频带到达了W2时（YES），控制部6前进至步骤S3，通过控制二维阵列光检测器2拍摄波长频带W2的透过光。
（1-7）反复进行以上方式的步骤S4中的判断、步骤S5的动作、步骤S6的判断、以及步骤S3中的拍摄。由此，控制部6最终将VBPF中的光透过波长频带控制为W3（最终状态），并且通过控制二维阵列光检测器2拍摄波长频带W3的透过光。控制部6结束测量，并返回等待下一次测量开始的待机状态。
在图1的分光装置中，可变带通滤光器5设置在光学装置3和试样1之间。由此，来自试样1任意区域的输出光都以大体相等的角度，射入可变带通滤光器5。由此，可以进行降低了与二维阵列光检测器2受光面上位置或区域对应的光透过波长频带不均的分光。
由此，图1的分光装置能够以较少的不均对试样1的二维观察平面的区域进行分光。其结果，由于测量后不需要修正图像的分光信息，所以图1的分光装置可以进行高速分光。
此外，控制部6进行控制，以使二维阵列光检测器2和可变带通滤光器5协调动作。由此，控制部6能对二维平面的区域进行分光拍摄。
此外，图1的分光装置具有包含两个光学装置3、4的透镜光学***和可变带通滤光器5这样较少的部件。因此，图1的分光装置能够实现小型化且价格低。
此外，作为可变带通滤光器5可以使用具有较小的偏振依存性的光入射角度调整型的滤光器。在这种情况下，即使入射光微弱，也能够得到充分的光量。因此，由于能够缩短曝光时间Texp，所以能够进行高速分光。
另外，在上述实施方式中，为了便于说明，将可变带通滤光器5的光透过波长频带作为W1、W2以及W3三种进行了说明。可变带通滤光器5可以在更多的光透过波长频带中，使来自所述试样1的包含荧光、散射光、反射光和透过光的输出光透过。在这种情况下，控制部6可以通过控制可变带通滤光器5扫描光透过波长频带，由此，对连续的光谱频带进行分光。
此外，在图1的分光装置中，波长分辨率的频带为具有可变带通滤光器5的光透过波长频带。因此，在图1的分光装置中，可以使用波长带宽窄的可变带通滤光器5，并且也可以增加使光透过的波长频带。由此，分光装置具有较高的波长分辨率，并且可以对连续的光谱频带进行分光。
此外，在上述实施方式中，为了便于说明，如图5所示，能够使可变带通滤光器5的光透过波长频带以W1→W2→W3呈阶段性（离散）变化。但是，从W1到W3的波长频带的变化可以连续性的或曲线的。利用图7对上述动作进行说明。
图7是说明由控制部6控制的二维阵列光检测器2和可变带通滤光器5的动作的另一时序图。图7中，控制部6使可变带通滤光器5的滤光器部以规定的角度连续变化。由此，控制部6使光透过波长频带在波长频带W1到W3之间连续性变化。图7中表示连续性且线形变化的光透过波长频带。但是，控制部6也可以使光透过波长频带非线形变化。
如图7所示，当通过使光透过波长频带连续变化来扫描连续的光谱频带时，不需要图5所示的可变带通滤光器5的加减速动作。由此，可以减少等待时间Tw。即，能够反复进行利用二维阵列光检测器2进行的拍摄。因此，整体的分光时间变短，能够进行更高速的分光。
在这种情况下，控制部6也可以调整使光透过的可变带通滤光器5的相邻的波长频带的间隔。进而，控制部6也可以使光透过波长频带在波长频带W1到W3之间连续变化。例如，关于进行在窄波长频带下得到的透过光的光强度分析的范围，控制部6也可以通过控制可变带通滤光器5，使相邻的波长频带的间隔变窄。此外，关于不需要进行由窄频带得到的透过光的光强度分析的范围，控制部6也可以使相邻的波长频带的间隔变宽。
其结果，分光装置（控制部6）可以在所希望的范围内进行连续的波长频带的分光。在上述范围内，分光装置与将要进行分光的光谱的波长区域对应地具有适当的波长分辨率。此外，由于实现了连续的分光动作，所以能够省略（缩短）可变带通滤光器5的加减速动作的等待时间Tw。由此，作为整体能够进行更高速的分光。
另外，即使在将可变带通滤光器5的配置位置从试样1和光学装置3之间改变到光学装置4和二维阵列光检测器2之间时，也能够得到大体相同的效果。例如，可以将包含光学装置3、4的光学***变更为远心光学***等。即，光学装置3、4可以形成远心光学***。由此，可以使来自试样1的输出光大体垂直地射入二维阵列光检测器2。因此，在光学装置4和二维阵列光检测器2之间配置有可变带通滤光器5的分光装置，也能够进行与图1的分光装置大体相同的动作，起到与图1的分光装置大体相同的效果。
本实施方式的分光装置可以具有协调动作的多个可变带通滤光器。在这种结构中，相对于相邻的波长频带的重复部分，可以以较高的光学波长分辨率进行分光。
图8是表示本发明其他实施方式的分光装置的结构图。图8中与图1相同的部分，采用相同的附图标记。在图8的分光装置中，在光学装置4和二维阵列光检测器2之间也设置有可变带通滤光器7。可变带通滤光器7具有与可变带通滤光器5相同的结构。
上述可变带通滤光器7也与控制部6电连接。可变带通滤光器7的光透过波长频带也与二维阵列光检测器2的拍摄时机配合，由控制部6的控制信号改变（控制）。此外，在可变带通滤光器7和二维阵列光检测器2之间设置有偏振片（偏振器）9，该偏振片9包括例如1/2波长板或1/4波长板。上述偏振片9也与控制部6电连接。由控制部6改变（控制）偏振片9的偏振光方向。
可变带通滤光器7通过改变滤光器相对于光轴的角度，保持光能够透过的波长带宽W，并控制（改变）光透过波长频带。在此，可变带通滤光器7具有与可变带通滤光器5不同的光能够透过的波长带宽W’、或与可变带通滤光器5大体相同的光能够透过的波长带宽W。
此外，当可变带通滤光器7具有与可变带通滤光器5大体相同的波长带宽W时，利用控制部6，将可变带通滤光器7控制成具有与可变带通滤光器5不同的光透过波长频带。
图9是可变带通滤光器5和可变带通滤光器7的光透过波长频带的说明图。在图9所示的例子中，可变带通滤光器5和可变带通滤光器7具有大体相同的光能够透过的波长带宽W。如上所述，可变带通滤光器5和可变带通滤光器7通过改变滤光器相对于光轴的角度，保持光能够透过的波长带宽W并控制光透过波长频带。
如上所述，可变带通滤光器5的光透过波长频带能够切换成波长频带W1、W2、W3这三种。另一方面，可变带通滤光器7的光透过波长频带能够切换成从波长L10’到L19’的波长频带W4、从波长L20’到L29’的波长频带W5和从波长L30’到L39’的波长频带W6这三种。如图9所示，波长频带W1和W4、W2和W5、W3和W6分别具有相邻且重复的频带。
图9中，将波长频带W1和W4的重复部分表示为W14，将波长频带W2和W5的重复部分表示为W25，并且将波长频带W3和W6的重复部分表示为W36。另外，以下说明中，将上述可变带通滤光器5的光透过波长频带和可变带通滤光器7的光透过波长频带重复的光透过波长频带记载为“重复透过频带”。
控制部6与存储在未图示的存储装置内的预先确定的二维阵列光检测器2为ON的拍摄时机或拍摄间隔配合，来控制可变带通滤光器5。由此，控制部6将可变带通滤光器5的光透过波长频带变更为W1、W2或W3。此外，控制部6通过控制可变带通滤光器7，将上述光透过波长频带变更为W4、W5或W6。
图10是说明由控制部6控制的二维阵列光检测器2、可变带通滤光器5和可变带通滤光器7的动作的时序图。
图10中，VBPF1（可变带通滤光器5）表示可变带通滤光器5的光透过波长频带的变化（W1→W2→W3）。VBPF2（可变带通滤光器7）表示可变带通滤光器7的光透过波长频带的变化（W4→W5→W6）。EFF表示重复透过频带的变化（W14→W25→W36）。CAM（二维阵列光检测器2）表示由二维阵列光检测器2进行拍摄的时机。二维阵列光检测器2为ON的状态时，进行曝光和拍摄。
在存储装置内存储有预先确定的为ON的二维阵列光检测器2的进行拍摄的时机t1、t2、t3和/或拍摄间隔。控制部6配合上述时机或拍摄间隔，切换可变带通滤光器5的光透过波长频带W1、W2、W3。此外，控制部6切换可变带通滤光器7的光透过波长频带W4、W5、W6。其结果，与二维阵列光检测器2的拍摄时机t1、t2、t3配合，重复透过频带成为W14、W25、W36。在此，重复透过频带W14、W25、W36可以具有大体相同的范围，也可以具有不同的范围。
图11是说明图8那样结构的分光装置的动作的流程图。（2-1）测量开始后，在步骤S1中，控制部6从未图示的存储装置读取预先确定的二维阵列光检测器的曝光时间Texp并进行设定。
（2-2）在步骤S2中，控制部6从未图示的存储装置读取预先确定的全部可变带通滤光器5、7中的光透过波长频带（光透过的分光波长频带），并设定初始值（VBPF1：W1，VBPF2：W4）。即，控制部6使可变带通滤光器5、7动作，使重复透过频带为初始状态（EFF：W14）。在确认了这些之后，控制部6使可变带通滤光器5、7的动作结束，使可变带通滤光器5、7静止。
（2-3）在步骤S3中，控制部6控制二维阵列光检测器2，在预先确定的曝光时间Texp进行拍摄（CAM：ON）。控制部6将得到的拍摄数据存储在未图示的存储装置内。
（2-4）在步骤S4中，控制部6判断在全部的波长频带的测量（拍摄）是否结束。当测量结束时（YES），控制部6进行控制前进至测量结束，返回等待下一次测量开始的待机状态。当测量未结束时（NO），控制部6前进至步骤S5。
（2-5）在步骤S5中，控制部6将可变带通滤光器5、7的光透过波长频带设定为下一状态（VBPF1：W1→W2，VBPF2：W4→5，EFF：W14→W25）。并且，控制部6开始可变带通滤光器5、7的加减速动作。
（2-6）在步骤S6中，控制部6判断重复透过频带是否到达步骤S5中设定的下一个重复透过频带（EFF：W25）。未到达时（NO），控制部6反复进行步骤S6的判断。上述反复的判断是指通过使可变带通滤光器5、7进行加减速动作，重复透过频带正在向下一个重复透过频带（EFF：W25）转移的过程中。反复的累计时间相当于直到二维阵列光检测器2开始下一次拍摄为止的等待时间Tw（CAM：OFF）。当重复透过频带到达W25时（YES），控制部6进行控制前进至步骤S3。控制部6通过控制二维阵列光检测器2进行拍摄。
（2-7）反复进行上述那样的步骤S4中的判断、步骤S5的动作、步骤S6的判断、以及步骤S3的拍摄。由此，最终，控制部6将可变带通滤光器5、7的光透过波长频带控制为最终状态（VBPF1：W3，VBPF2：W6）。由此，控制部6使重复透过频带为最终状态（EFF：W36）。并且，控制部6通过控制二维阵列光检测器2，在对透过光进行拍摄之后，使测量结束。并且，控制部6返回等待下一次测量开始的待机状态。
由此，分光装置（控制部6）使两个可变带通滤光器5、7协调动作。这样，控制部6可以使从所述试样1发出的包含荧光、散射光、反射光和透过光的输出光遍布全部（或一部分）规定的波长频带，在每个重复透过频带透射可变带通滤光器5、7来进行分光。
此外，在图8的分光装置中，控制部6可以通过使可变带通滤光器5、7的重复透过频带的范围变窄，来得到较高的波长分辨率。
按照图8的分光装置，可以使多个可变带通滤光器5、7协调动作。由此，可以高速地对连续的波长频带进行高波长分辨率的分光分析。
此外，图8的分光装置是具有较少部件个数的小型且低价的分光装置。
此外，当可变带通滤光器7使用具有较小的偏振依存性的光入射角度调谐型时，即使是微弱的光，也能够得到充分的光量。因此，可以得到高速的分光装置。
另外，在上述实施方式中，为了便于说明，如图10所示，使可变带通滤光器5、7的光透过波长频带以W1→W2→W3和W4→W5→W6呈台阶状（离散）变化。但是，图12所示，从W1到W3以及从W4到W6的光透过波长频带的变更也可以是连续性的。
具体地说，控制部6以使重复透过频带的带宽保持固定的方式，使可变带通滤光器5的滤光器部以规定的角度逐渐变化。由此，控制部6使光透过的波长频带连续性地在W1到W3之间变化。配合于此，控制部6以将重复透过频带保持为所希望的带宽的方式，使可变带通滤光器7的滤光器部以规定的角度逐渐变化。由此，控制部6使光透过的波长频带连续性地在W4到W6之间变化。
图12是说明由控制部6控制的二维阵列光检测器2和可变带通滤光器5、7的动作的另一时序图。图12中，控制部6使可变带通滤光器5和可变带通滤光器7的滤光器部以规定的角度逐渐连续变化。
即，控制部6使可变带通滤光器5的光透过的波长频带在W1到W3之间连续变化，并且使可变带通滤光器7的光透过的波长频带在W4到W6之间连续变化。由此，重复透过频带在W14到W36之间连续变化。另外，图12中表示连续且线形变化的重复透过频带。但是，控制部6也可以使重复透过频带非线形变化。
如图12所示，当通过使重复透过频带连续变化来扫描输出光的光谱频带时，不需要像图10所示那样的可变带通滤光器5、7的加减速动作。由此，可以减少等待时间Tw。即，能够反复进行使用二维阵列光检测器2进行的拍摄。因此，整体的分光时间变短，能够进行更高速的分光。
此外，控制部6可以使重复透过频带W14、W25、W36变更，并且使可变带通滤光器5、7的透过波长频带连续性地在W1到W3之间、以及W4到W6之间变化。例如，关于进行在窄波长频带下得到透过光的光强度分析的范围，控制部6也可以通过控制可变带通滤光器5、7，使重复透过频带的宽度变得很窄。另一方面，关于作为不需要进行由窄频带得到的透过光的光强度分析的范围，控制部6也可以使重复透过频带的宽度变宽。
其结果，分光装置（控制部6）可以在所希望的连续的波长频带内进行更高波长分辨率的分光。此外，分光装置（控制部6）作为整体能够保持最低限度的波长分辨率，并进行高速的分光分析。
另外，在上述各实施方式中，表示了使用包含两个光学装置3、4的透镜光学***的例子。但是，本发明的分光装置并不限于此，也可以使用其他光学装置。
此外，如图8所示，例如也可以在可变带通滤光器7的后段设置偏振片9，该偏振片9例如包含1/2波长板或1/4波长板。由此，能够将透射可变带通滤光器7的输出光转换成例如像直线偏振光、圆偏振光和椭圆偏振光那样的预先确定的偏振光，上述输出光是来自所述的试样1的包含荧光、散射光、反射光和透过光的光。在这种情况下，也可以基于来自控制部6的控制信号，改变（控制）偏振片9（偏振装置）的偏振光方向。
按照这种分光装置，透射可变带通滤光器7的光向预先确定的偏振光方向偏振。由此，可以对具有偏振依存性的来自试样1的输出光进行分光（得到输出光的光谱）。
并且，可变带通滤光器5、7是光入射角度调整型的滤光器时，根据以何种方式进行角度调整，有时在与光轴大体垂直的XY面上产生光轴的位置偏移（光轴偏移）。在这种情况下，也可以在分光装置中设置光轴调整装置。控制部6控制光轴调整装置，适当地修正在XY方向上产生的光轴的位置偏移（光轴偏移）。
即，在从试样1到二维阵列光检测器2的光路中，也可以设置用于调整光轴的例如像光透过光学板那样的光轴调整装置。由此，修正在与来自试样1的射出光光轴大体垂直的平面的XY方向上产生的光轴的位置偏移（光轴偏移）。在这种情况下，光轴调整装置能够控制来自试样1的输出光的入射角度，使得基于来自控制部的控制信号来修正在XY方向上产生的光轴位置偏移（光轴偏移）。
图13是表示设置有光轴修正装置的实施方式的图。图13中，与图8相同的部分，采用相同的附图标记。图13中，由可变带通滤光器5、7产生的光轴偏移分别通过倾斜相同角度的光轴修正板5’、7’来修正。
由设置在光学装置4和二维阵列光检测器2之间的光轴修正板5’来修正由设置在试样1和光学装置3之间的可变带通滤光器5产生的光轴偏移。光轴修正板5’与可变带通滤光器5倾斜相同的角度。由设置在试样1和光学装置3之间的光轴修正板7’来修正由设置在光学装置4和二维阵列光检测器2之间的可变带通滤光器7产生的光轴偏移。光轴修正板7’与可变带通滤光器7倾斜相同的角度。在此，可变带通滤光器5具有与光轴修正板5’大体相同的厚度和折射率。可变带通滤光器7具有与光轴修正板7’大体相同的厚度和折射率。
利用图14，对使用光轴修正板5’、7’进行的光轴偏移修正的动作进行说明。
图14是用于说明使用图13所示的可变带通滤光器5、包含光学装置3、4的远心光学***和光轴修正板5’的光路的图。如果通过包含光学装置3、4的远心光学***光轴中心（点划线）的、来自图下方的光到达可变带通滤光器5，则根据斯捏尔定律，在滤光器5的表面和背面产生折射并前进。透射滤光器5的光的光路与光轴中心大体平行。但是，产生光轴偏移S。在此，光轴偏移S表示为可变带通滤光器5的折射率、厚度和相对于光轴的倾斜角度θ1的函数。因可变带通滤光器5偏移的光轴利用通过光学装置3，在与光轴中心交叉且相对于光轴中心左右转置的光路内前进。此后，通过透射光学装置4，成为与光轴中心大体平行的光路。
即，在光透射过光学装置4之后，也保持由可变带通滤光器5产生的光轴偏移S。透射过光学装置4的光通过与光轴中心大体平行的光路，到达光轴修正板5’。到达光轴修正板5’的光按照斯捏尔定律，在光轴修正板5’的表面和背面产生折射并前进。光轴修正板5’使透射过光轴修正板5’的光的光轴产生与由可变带通滤光器5产生的光轴偏移S大体相同的光轴偏移，由此来修正光轴偏移。用于实现上述修正的条件是光轴修正板5’的厚度和折射率与可变带通滤光器5的厚度和折射率大体相同、以及光轴修正板5相对于光轴的倾斜角度θ2与θ1大体相同。
以上的说明在将可变带通滤光器5置换为光轴修正板7’，并且将光轴修正板5’置换成可变带通滤光器7时也相同。在这种情况下，通过由光轴修正板7’提供与由可变带通滤光器7产生的光轴偏移相反方向的光轴偏移，来修正光轴偏移。用于实现上述修正的条件是光轴修正板7’的厚度和折射率与可变带通滤光器7的厚度和折射率大体相同、以及光轴修正板7’相对于光轴的倾斜角度θ2与可变带通滤光器7相对于光轴的角度θ1大体相同。
另外，如图13所示，可变带通滤光器5和光轴修正板7’配置在试样1和光学装置3之间。上述可变带通滤光器5和光轴修正板7’的配置顺序可以是沿光的前进方向前后交换（可变带通滤光器5也可以配置在比光轴修正板7’更接近光学装置3的一侧）。在这种情况下，能够以与可变带通滤光器5和光轴修正板7’的配置顺序对应的方式，使配置在光学装置4和二维阵列光检测器2之间的可变带通滤光器7和光轴修正板5’的配置顺序沿光的行进方向前后交换（可变带通滤光器7也可以配置在比与光轴修正板5’更远离光学装置4一侧）。
此外，在利用图13和图14说明的实施方式中，可变带通滤光器5（7）和光轴修正板5’（7’）具有大体相同的厚度和折射率。但是，可变带通滤光器5（7）和光轴修正板5’（7’）也可以具有相互不同的厚度和折射率。在这种情况下，光轴修正板5’（7’）的倾斜角度θ2与可变带通滤光器5（7）的倾斜角度θ1不同。
此外，在上述实施方式中，为了修正由配置在试样1和光学装置3之间的可变带通滤光器5产生的光轴偏移，在光学装置4和二维阵列光检测器2之间配置光轴修正板5’。但是，并不限于此，如图15所示，为了修正由配置在试样1和光学装置3之间的可变带通滤光器5产生的光轴偏移，也可以将光轴修正板5’配置在试样1和光学装置3之间。此外，为了修正由配置在光学装置4和二维阵列光检测器2之间的可变带通滤光器7产生的光轴偏移，也可以将光轴修正板7’配置在光学装置4和二维阵列光检测器2之间。
图16是用于说明使用图15所示的可变带通滤光器5（7）和光轴修正板5’（7’）的光路的图。由配置在接近可变带通滤光器5（7）正后方的光轴修正板5’（7’）来修正由可变带通滤光器5（7）产生的光轴偏移S。在这种结构中，配置可变带通滤光器5（7）和光轴修正板5’（7’），使可变带通滤光器5（7）相对于光轴的倾斜角度θ1和光轴修正板5’（7’）相对于光轴的倾斜角度θ2之间的关系为θ2＝180°-θ1。
另外，在图15所示的实施方式中，沿光的前进路线，在可变带通滤光器5、7的后方依次配置有光轴修正板5’、7’。但是，并不限于此，也可以在可变带通滤光器5、7的前方配置光轴修正板5’、7’。
通过使用以上方式的光轴修正板，可以边对来自显微观察的平面区域的光的光轴偏移进行修正、边进行分光。即，分光测量结束后，不需要进行考虑了光轴偏移的分析。因此，能够在短时间内简单地进行分光分析。
另外，在上述实施方式中，以显微镜为例对光学***进行了说明。但并不限于此，本发明也可以应用于望远镜等其他光学***。
图17A、17B是本发明其他实施方式的分光装置的结构图。与图8的分光装置相比，图17A、17B所示的分光装置中，能够分光的波长频带大范围化。图17A是简要立体图，图17B是图17A的局部剖面图。滤光轮10、20用作可变带通滤光器（以下有时仅称为滤光器）的支承构件。滤光轮（支承构件）10、20例如沿光轴OA配置在图8的分光装置的可变带通滤光器5、7的位置上。
在滤光轮10、20上沿圆周方向每隔大体90°的间隔，分别设置有四个滤光器安装部11～14、21～24。滤光器安装部并不限于四个，可以根据设计需要增减。
在滤光轮10、20的大体中心位置上设置有电动机15、25，用于使滤光轮10、20联动来进行转动驱动。控制部6可以通过利用电动机15、25驱动滤光轮10、20而使其转动，依次切换与光轴OA相交的滤光器安装部11～14和21～24。
另外，在四个滤光器安装部11～14、21～24中，滤光器安装部11、21为未安装滤光器的空缺部分。在剩余的三个滤光器安装部12～14、22～24上分别安装有滤光器A～C、A’～C’。滤光器A～C和A’～C’分别具有大体相同的结构，并且分别具有不同的透过波长频带。上述空缺部分的滤光器安装部11、21例如能够在不需要分光时或在光轴调整过程中有效地发挥功能。
在安装于滤光轮10、20的各滤光器安装部12～14、22～24上的滤光器A～C和A’～C’上，分别设置有倾斜用的电动机MT。通过使上述电动机MT转动，可以使滤光器的角度相对于贯通滤光器A～C、A’～C’大体中心部的光轴OA变化。即，滤光轮10、20能够切换滤光器A～C和A’～C，并且被支承成能够相对于光轴OA转动。
具体地说，通过驱动电动机15、25，使滤光轮10、20转动。由此，滤光轮10、20的滤光器安装部12、22、滤光器安装部13、23、以及滤光器安装部14、24分别以成对组合的方式，转动并被固定。
即，在图17的例子中，控制部6通过驱动电动机15、25而使滤光轮10、20转动，最初，组合滤光器安装部12、22（滤光器A、A’）并配置在光轴OA上。并且，控制部6通过使电动机MT转动，与具有可变带通滤光器5、7的图8的实施方式同样，进行面分光动作。
想要分光的光谱例如是图18所示的特性曲线S1。当将滤光器A、A’配置在光轴OA上时，对光谱曲线S1的A-A’所示的波长区域进行分光。
接着，控制部6通过驱动电动机15、25而使滤光轮10、20转动，组合滤光器安装部13、23（滤光器B、B’）并配置在光轴OA上。并且，控制部6通过使电动机MT转动，进行面分光动作。在这种情况下，对光谱曲线S1的B-B’所示的波长区域进行分光。
此外，控制部6通过驱动电动机15、25而使滤光轮10、20转动，组合滤光器安装部14、24（滤光器C、C’）并配置在光轴OA上。并且，控制部6通过使电动机MT转动，进行平面分光动作。在这种情况下，对光谱曲线S1的C-C’所示的波长区域进行分光。
此时，控制部6也可以重复测量相邻的波长区域的边界部分。即，也可以设定波长区域A-A’、B-B’、C-C’，以便形成斜线部所示的、相邻的波长区域A-A’、B-B’的重复区域（波长区域GAB）和相邻的波长区域B-B’、C-C’的重复区域（波长区域GBC）。由此，此后能够得到连续的光谱曲线S1的信息。
此外，为了使上述多个滤光器的特性顺畅地连接，可以在测量前校正上述波长和光量的关系。
图19是表示用于上述校正作业的校正装置具体例的框图。图19中，宽频带光源30具有这样的光信号输出特性：遍布宽频带的波长区域具有稳定波长和电平。受光器40具有遍布宽频带的波长区域为平坦的光电转换特性。另外，图19中将图17所示的整个光学***表示为分光光学***50。
利用上述宽频带光源30和受光器40来校正滤光器。由此，能够统一修正因滤光器固有的例如厚度和/或折射率的偏差产生的入射角度和波长特性的误差。
图17所示的分光装置可以具有切换滤光器的组合的机构，该滤光器的组合能够像滤光轮10、20那样，对不同的波长区域进行分光。由此，可以便利性良好且高速地进行相对于大范围波长区域的表面分光。
此外，也可以在使用波长区域内，使单独测量的波长频带重复。此外，也可以在测量前，在使用的全波长区域，校正同时使用的全部滤光器。由此，能够对连续的波长区域进行面分光。
上述可变带通滤光器的组合机构容易进行宽波长区域的面分光。
或者是也可以通过准备具有不同的分光波长区域的多个面分光装置，每次测量时进行更换来进行面分光。
图20是本发明其他实施方式的分光装置的结构图。图20中，与图17相同的部分，采用相同的附图标记。在此，滤光器A、B、C、A’、B’、C’不通过电动机MT而分别直接固定（安装）在滤光轮10、20上。图20中，在滤光轮10、20上除了设置有图17所示的机构之外，还设置有电动机60、70（转动器）。电动机60、70分别使整个滤光轮10、20相对于光轴OA以任意的角度倾斜。即，电动机60（70）使整个滤光轮10（20）相对于光轴OA转动。
由此，电动机60、70能够改变滤光器相对于光轴OA的角度。由此，可以改变滤光器的透过波长频带。
图20所示的分光装置也与图17的分光装置同样，能够通过驱动电动机15、25而使滤光轮10、20转动，来切换滤光器的组合，该滤光器的组合安装在配置于光轴OA上的滤光器安装部12～14、22～24上。由此，上述分光装置也能够对大范围的波长范围进行分光。
另外，在图20的分光装置中，例如，如图21所示，滤光器相对于光轴OA以滤光器的视野中心n为转动中心转动。由此，能够减少视野E的缩小。
图22A、22B是用于实现图21所示的滤光器的转动动作的转动机构的结构图。图22A是侧视图，图22B是俯视图。电动机15、25驱动滤光轮10、20而使其转动。电动机15、25通过支承片16、26，安装在支承基板17、27上。
控制部6利用电动机60、70，使支承上述电动机15、25的支承基板17、27转动。由此，控制部6可以改变安装在滤光轮10、20的滤光器安装部12～14、22～24上的滤光器的角度。
电动机60、70的转动轴与滤光器的视野中心n大体一致。由此，像利用图20和图21说明的那样，可以减小视野E的缩小。
另外，在以电动机60、70的转动轴为中心的、支承基板17、27的与滤光轮10、20相反方向位置上安装有配重（counterweight）80、90。配重80、90消除电动机60、70作用于转动轴的重量的影响。
图23也是本发明其他实施方式的分光装置的结构图。图23中，与图17相同的部分，采用相同的附图标记。在图23的分光装置中，作为滤光器的支承构件，具有滑动件100、110代替图17的滤光轮10、20。
在滑动件100上呈大体直线状以规定的间隔安装有滤光器A～C。在滑动件110上呈大体直线状以与滤光器A～C隔大体相同的间隔安装有滤光器A’～C’。
控制部6使上述滑动件100、110相对于光轴OA呈大体直线状地联动而移动。由此，控制部6可以切换使用滤光器A～C和滤光器A’～C’。即，滑动件100、110能够沿与光轴OA相交的直线移动，并能够切换多个滤光器A’～C’、A～C，并且将多个滤光器A’～C’、A～C支承成能够相对于光轴OA转动。
与上述方式同样，控制部6使设置在滤光器A～C和滤光器A’～C’上的电动机MT转动。由此，控制部6可以使滤光器A～C和滤光器A’～C’相对于贯通它们的大体中心部的光轴OA的角度变化。
为了进行大范围的波长范围的分光，与图17的分光装置同样，控制部6切换所使用的滤光器A-A’，B-B’、C-C’的组合。在这种情况下，在滑动件100（110）上也可以设置空缺部分D（D’）。
图24也是本发明其他实施方式的分光装置的结构图。图24中，与图23相同的部分，采用相同的附图标记。图24的分光装置具有滤光器A～C，该滤光器A～C呈直线状隔开规定的间隔安装在滑动件100上。此外，在上述滤光器A～C上未安装电动机MT。此外，图24的分光装置具有滤光器A’～C’，该滤光器A’～C’呈直线状隔开规定的间隔安装在滑动件110上（图24中未图示。参照图23）。此外，在上述滤光器A’～C’上安装有电动机MT。
图24中，在滑动件100的一端以与滤光器A～C安装面大体垂直的方式，固定有支承片101。在支承片101上设置有电动机102。电动机102（转动器）通过使整个滑动件100相对于光轴OA转动（转动驱动），来改变滤光器A～C相对于光轴OA的角度。
电动机102以滑动件100的长轴方向为转动中心、并以使上述转动中心和光轴中心n大体一致的方式，固定在支承片101上。由此，可以减少视野E的缩小。
按照图24的分光装置，与图23的分光装置相比，可以使电动机的总数减少。其结果，实现降低成本。
本发明重要方面在于，当可变带通滤光器倾斜规定的倾斜角度（倾斜）时，可变带通滤光器的透过波长频带变化，并且通过构成为整个光学***，使透过波长频带的变化量满足规定的式样。因此，透射可变带通滤光器的光的光路并不一定是平行光。
此外，在上述各实施方式中，对进行面分光的分光装置进行了说明。分光装置的输出光是分光后的窄频带光。由此，如图25所示，来自分光装置的输出光也可以用作实质上的窄频带光源。
图25中，宽频带光源120的输出光基于本发明的射入分光光学***130来进行分光。由分光光学***130进行分光后的输出光向试样140照射。透射试样140的光被第一受光器150接收，并转化为电信号。被试样140反射的光或通过试样140被激励而产生的荧光等被第二受光器160接收，并转换为电信号。
即，基于本发明的分光光学***130作为向试样140照射光的实质上的窄频带光源发挥功能。另外，第一、第二受光器150、160可以是点接收、线接收或面接收中的任意一种。
此外，本发明的分光器（分光装置）能够与普通的显微镜或望远镜等光学装置连接。例如在图8的光学***中，如果将试样1设置成普通的光学装置的照相机的像面、或者是物镜的中间像面，则图8的整个光学***可以作为具有分光功能的照相机发挥功能。分光器和光学装置（显微镜）可以由C固定件等通用的连接器连接。同样，也可以使分光器和显微镜一体化为分光显微镜。此外，在图1的分光装置中，当仅需要得到来自试样1表面的输出光的某一特定波长的光时，如图3所示，不依存于试样1表面的位置或区域，可以在光透过波长频带进行均匀分光。
为了使可变带通滤光器5所具有的光透过的波长带宽成为波长分辨率，使用波长带宽窄的可变带通滤光器5并变化为使光透过的多个波长带宽，图1的分光装置能够以高波长分辨率对连续的光谱频带进行分光。
关于图14，可以通过由光轴修正板7’预先提供与由可变带通滤光器7产生的光轴偏移相反方向的光轴偏移，来修正光轴偏移。
在图20的结构中，可以在以电动机60、70转动轴为中心的与支承基板17、27的滤光轮10、20相反方向的位置上安装配重80、90，上述配重80、90用于平衡作用于电动机60、70转动轴的重量。
本发明的分光装置或分光用光源可以是以下第一～第十二分光装置或第一分光用光源。
第一分光装置构成为，在按照从光源向试样照射的照射光，使所述试样发出的包含荧光、散射光、反射光和透过光的输出光经由光学***射入二维阵列光检测装置来进行分光分析的分光装置中，包括：第一光学装置，设置在所述试样和所述二维阵列光检测装置之间；第二光学装置，设置在所述二维阵列光检测器和所述第一光学装置之间；可变带通滤光器装置，设置在所述第一光学装置和所述试样之间、以及所述第二光学装置和所述二维阵列光检测装置之间的至少一个上；以及控制装置，同步控制所述二维阵列光检测装置的拍摄时机和所述可变带通滤光器装置的光透过波长频带的变更。
第二分光装置在第一分光装置的基础上，所述控制装置控制所述可变带通滤光器装置并扫描预先确定的多个所述透过波长频带。
第三分光装置在第一或第二分光装置基础上，所述控制装置控制所述二维阵列光检测装置的拍摄时机，以预先确定的时间间隔拍摄所述输出光，并且控制所述可变带通滤光器装置，以预先确定的间隔的波长频带改变所述透过波长频带。
第四分光装置在第一～第三中任意一个分光装置基础上，具有偏振装置，该偏振装置使透射过所述可变带通滤光器的、所述试样发出的包含荧光、散射光、反射光和透过光的输出光向预先确定的偏振光方向偏振，所述控制装置改变所述偏振装置的所述偏振光方向。
第五分光装置在第一～第四中任意一个分光装置的基础上，具有光轴调整装置，该光轴调整装置修正所述试样发出的包含荧光、散射光、反射光和透过光的输出光在光轴二维平面上的位置偏移。
第六分光装置在第一～第五中任意一个分光装置的基础上，沿光轴至少设置有一个***的支承构件，该支承构件能够切换透过波长频带不同的多个可变带通滤光器、且安装成能够相对于光轴转动。
第七分光装置在第六分光装置的基础上，所述支承构件是形成为能够转动的圆板状的滤光轮，并且至少一个所述各可变带通滤光器在规定的转动位置安装成与光轴相交。
第八分光装置在第六分光装置的基础上，所述支承构件是能够向与光轴相交的直线方向移动的滑动件。
第九分光装置在第六分光装置的基础上，设置有使所述支承构件整体相对于光轴转动的转动装置。
第十分光装置在第一～第五中任意一个分光装置的基础上，所述光学***能够与显微镜或望远镜的光学***连接或一体化。
第十一分光装置在第一～第六中任意一个分光装置的基础上，所述可变带通滤光器根据相对于光轴的入射角度使透过波长频带变化。
第十二分光装置在第一～第十一中任意一个分光装置的基础上，所述第一光学装置和所述第二光学装置形成远心光学***。
第一分光用光源包括：光源，输出照射试样的照射光；二维阵列光检测装置，通过照射上述光源的输出光，所述试样发出的包含荧光和散射光、反射光、透过光的输出光通过光学***射入所述二维阵列光检测装置；第一光学装置，设置在所述试样和所述光源之间；第二光学装置，设置在上述第一光学装置和所述光源之间；可变带通滤光器装置，设置在所述第一光学装置和试样1之间、以及所述第二光学装置和所述光源之间的至少一个上；控制装置，同步控制所述二维阵列光检测装置的拍摄时机和所述可变带通滤光器装置的光透过波长频带的变更。
按照上述第一～第十二分光装置，在进行观察的平面区域内，可以在更宽的波长范围内得到降低了光的光谱强度不均的分光输出。并且，当照射试样时，第一～第十二分光光学***还可以用作实质上的窄频带光源。
出于示例和说明的目的已经给出了所述详细的说明。根据上面的教导，许多变形和改变都是可能的。所述的详细说明并非没有遗漏或者旨在限制在这里说明的主题。尽管已经通过文字以特有的结构特征和/或方法过程对所述主题进行了说明，但应当理解的是，权利要求书中所限定的主题不是必须限于所述的具体特征或者具体过程。更确切地说，将所述的具体特征和具体过程作为实施权利要求书的示例进行了说明。

Claims (13)

1.一种分光装置，其特征在于，包括：
光学***，使输出光透过，所述输出光从接收到来自光源的照射光的试样输出；
二维阵列光检测器，拍摄透过所述光学***的光；以及
控制器，
所述光学***包括：
第一光学器，设置在所述试样和所述二维阵列光检测器之间；
第二光学器，设置在所述二维阵列光检测器和所述第一光学器之间；以及
可变带通滤光器，设置在所述第一光学器和所述试样之间、以及所述第二光学器和所述二维阵列光检测器之间的至少一个上，
所述控制器配合所述二维阵列光检测器的拍摄时机，改变所述可变带通滤光器的光透过波长频带。
2.根据权利要求1所述的分光装置，其特征在于，所述控制器通过控制所述可变带通滤光器，扫描预先确定的多个所述透过波长频带。
3.根据权利要求1所述的分光装置，其特征在于，
所述控制器通过控制所述二维阵列光检测器的拍摄时机，以预先确定的时间间隔拍摄所述输出光，
并且通过控制所述可变带通滤光器，将所述透过波长频带改变为具有预先确定的间隔的波长频带。
4.根据权利要求1所述的分光装置，其特征在于，
所述分光装置还包括偏振器，所述偏振器使透过所述可变带通滤光器的光向预先确定的偏振光方向偏振，
所述控制器改变所述偏振器的偏振光方向。
5.根据权利要求1所述的分光装置，其特征在于，还包括光轴调整器，所述光轴调整器修正来自所述试样的输出光光轴在二维平面上的位置偏移。
6.根据权利要求1所述的分光装置，其特征在于，
所述可变带通滤光器包括多个滤光器，所述多个滤光器具有相互不同的透过波长频带，
所述分光装置还包括支承构件，所述支承构件能够切换所述多个滤光器，并且将所述多个滤光器支承成能够相对于光轴转动。
7.根据权利要求6所述的分光装置，其特征在于，
所述支承构件是能够转动的圆板状的滤光轮，
所述滤光轮支承所述滤光器使其在规定的转动位置与光轴相交。
8.根据权利要求6所述的分光装置，其特征在于，所述支承构件是能够沿与光轴相交的直线移动的滑动件。
9.根据权利要求6所述的分光装置，其特征在于，还包括转动器，所述转动器使整个所述支承构件相对于光轴转动。
10.根据权利要求1所述的分光装置，其特征在于，所述光学***能够与显微镜或望远镜的光学***连接或一体化。
11.根据权利要求1所述的分光装置，其特征在于，所述可变带通滤光器根据相对于光轴的入射角度使透过波长频带变化。
12.根据权利要求1所述的分光装置，其特征在于，所述第一光学器和所述第二光学器形成远心光学***。
13.一种分光用光源，其特征在于，包括：
权利要求1～12中任意一项所述的分光装置；以及
光源，向所述试样照射光。
CN201310549829.2A 2012-11-08 2013-11-07 分光装置和分光用光源 Pending CN103808707A (zh)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2012-246429 2012-11-08
JP2012246429A JP2014095594A (ja) 2012-11-08 2012-11-08 分光装置および分光用光源

Publications (1)

Publication Number Publication Date
CN103808707A true CN103808707A (zh) 2014-05-21

Family

ID=49518835

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
CN201310549829.2A Pending CN103808707A (zh) 2012-11-08 2013-11-07 分光装置和分光用光源

Country Status (4)

Country Link
US (1) US20140125981A1 (zh)
EP (1) EP2730901A3 (zh)
JP (1) JP2014095594A (zh)
CN (1) CN103808707A (zh)

Cited By (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN105388115A (zh) * 2014-08-20 2016-03-09 精工爱普生株式会社 测色方法及装置、分光测定方法及装置、以及电子设备
CN107533216A (zh) * 2015-04-30 2018-01-02 住友电气工业株式会社 显微镜装置
CN110068540A (zh) * 2019-05-17 2019-07-30 重庆科技学院 可调式波长光谱生成仪及其气体成份浓度检测***与方法
CN110383041A (zh) * 2017-03-03 2019-10-25 国立大学法人熊本大学 光学测定***、光学单元以及光学测定方法
CN112789495A (zh) * 2018-08-01 2021-05-11 库塞尔专业公司 混合光谱成像仪

Families Citing this family (11)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2016057348A (ja) * 2014-09-05 2016-04-21 住友電気工業株式会社 顕微鏡装置
LU92740B1 (de) 2015-06-11 2016-12-12 Leica Microsystems Abtastmikroskop
JP6597150B2 (ja) 2015-10-09 2019-10-30 富士通株式会社 距離測定装置、距離測定方法、距離測定プログラムおよびテーブルの作成方法
JP2017122673A (ja) 2016-01-08 2017-07-13 富士通株式会社 レーザ距離測定装置、測定方法及び測定プログラム
US10088468B2 (en) * 2016-02-04 2018-10-02 Nova Biomedical Corporation Analyte system and method for determining hemoglobin parameters in whole blood
DE102016213446B4 (de) * 2016-07-22 2020-07-30 Robert Bosch Gmbh Optisches System zur Erfassung eines Abtastfelds
US11215813B2 (en) 2016-09-26 2022-01-04 Kazuhiro Yamamoto Display element
US11269122B2 (en) 2016-12-09 2022-03-08 Leica Microsystems Cms Gmbh Optical device having at least one spectrally selective component
JP7098146B2 (ja) * 2018-07-05 2022-07-11 株式会社Iddk 顕微観察装置、蛍光検出器及び顕微観察方法
JP7410625B2 (ja) 2021-09-28 2024-01-10 キヤノン株式会社 照明装置、計測装置、基板処理装置、および物品の製造方法
GB2614531A (en) * 2021-12-23 2023-07-12 Npl Management Ltd Electromagnetic radiation measurement device

Citations (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH10142525A (ja) * 1996-11-11 1998-05-29 Fujikura Ltd 光出力調整器
US6377346B1 (en) * 1998-09-17 2002-04-23 Wallac Oy Sample imaging device
US20040066511A1 (en) * 2001-05-10 2004-04-08 Yokogawa Electric Corporation Biochip reader
US20080179539A1 (en) * 2007-01-25 2008-07-31 Amgen Inc. Apparatus and Method for Interleaving Detection of Fluorescence and Luminescence
JP2011220700A (ja) * 2010-04-05 2011-11-04 Yokogawa Electric Corp 顕微鏡用分光分析装置
CN102466516A (zh) * 2010-11-12 2012-05-23 精工爱普生株式会社 光学装置
CN102713543A (zh) * 2010-01-21 2012-10-03 浜松光子学株式会社 分光装置

Family Cites Families (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
GB8830039D0 (en) * 1988-12-22 1989-02-15 Renishaw Plc Raman microscope
JP2002014043A (ja) 2000-06-28 2002-01-18 Tokyo Instruments Inc 顕微鏡用マルチカラー分析装置及び顕微鏡を用いたマルチカラー分析方法
JP2004317676A (ja) 2003-04-14 2004-11-11 Nano Photon Kk レーザ顕微鏡、レーザ光走査装置、レーザ光走査方法、画像データ生成方法
JP4887989B2 (ja) 2005-12-02 2012-02-29 ナノフォトン株式会社 光学顕微鏡及びスペクトル測定方法
EP2075615B1 (en) * 2006-10-19 2016-07-20 Olympus Corporation Microscope
JP2009300257A (ja) * 2008-06-13 2009-12-24 Topcon Corp 測定用光学系
US20100046076A1 (en) * 2008-08-22 2010-02-25 Gilbert Feke Tunable spectral filtration device
JP2011226876A (ja) * 2010-04-19 2011-11-10 Nikon Corp 分光測定装置
JP2012127855A (ja) * 2010-12-16 2012-07-05 Yokogawa Electric Corp 分光装置

Patent Citations (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH10142525A (ja) * 1996-11-11 1998-05-29 Fujikura Ltd 光出力調整器
US6377346B1 (en) * 1998-09-17 2002-04-23 Wallac Oy Sample imaging device
US20040066511A1 (en) * 2001-05-10 2004-04-08 Yokogawa Electric Corporation Biochip reader
US20080179539A1 (en) * 2007-01-25 2008-07-31 Amgen Inc. Apparatus and Method for Interleaving Detection of Fluorescence and Luminescence
CN102713543A (zh) * 2010-01-21 2012-10-03 浜松光子学株式会社 分光装置
JP2011220700A (ja) * 2010-04-05 2011-11-04 Yokogawa Electric Corp 顕微鏡用分光分析装置
CN102466516A (zh) * 2010-11-12 2012-05-23 精工爱普生株式会社 光学装置

Cited By (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN105388115A (zh) * 2014-08-20 2016-03-09 精工爱普生株式会社 测色方法及装置、分光测定方法及装置、以及电子设备
CN107533216A (zh) * 2015-04-30 2018-01-02 住友电气工业株式会社 显微镜装置
CN110383041A (zh) * 2017-03-03 2019-10-25 国立大学法人熊本大学 光学测定***、光学单元以及光学测定方法
CN110383041B (zh) * 2017-03-03 2021-12-21 国立大学法人熊本大学 光学测定***、光学单元以及光学测定方法
CN112789495A (zh) * 2018-08-01 2021-05-11 库塞尔专业公司 混合光谱成像仪
CN110068540A (zh) * 2019-05-17 2019-07-30 重庆科技学院 可调式波长光谱生成仪及其气体成份浓度检测***与方法
CN110068540B (zh) * 2019-05-17 2022-04-22 重庆科技学院 基于气体成份浓度检测***的检测方法

Also Published As

Publication number Publication date
US20140125981A1 (en) 2014-05-08
EP2730901A3 (en) 2014-06-11
JP2014095594A (ja) 2014-05-22
EP2730901A2 (en) 2014-05-14

Similar Documents

Publication Publication Date Title
CN103808707A (zh) 分光装置和分光用光源
CN110088667B (zh) 紧密的光束整形及操纵总成
JP6956964B2 (ja) 光偏向デバイスおよびライダー装置
US9477072B2 (en) Systems and methods for illumination phase control in fluorescence microscopy
CN104823096B (zh) 光调制元件
CN101859030B (zh) 一种双光束同轴实时调整的装置与方法
JP4862164B2 (ja) パルスレーザ光のタイミング調整装置、調整方法及び光学顕微鏡
CN103364011B (zh) 超大视场多目标景物模拟***
KR101223849B1 (ko) 측정 장치
CN101526400B (zh) 阿达玛变换干涉光谱成像方法及设备
CN103852878A (zh) 一种具有实时聚焦的显微切片快速数字扫描装置及其方法
KR20110106937A (ko) 광축 조정 장치, 광축 조정 방법 및 투사형 표시 장치
CN211978676U (zh) 一种光谱-偏振成像测量***
CN102628736B (zh) 一种激光线宽测量装置
CN102969651A (zh) 一种快速k空间线性扫频激光光源
CN110132415A (zh) 像元级多通道滤光片和像元级可调谐视频高光谱成像仪
JP4832187B2 (ja) 高速偏光装置、およびこれを用いた高速複屈折測装置、立体画像表示装置
CN103543495A (zh) 一种图像采集和原位投影的光学装置
CN211426796U (zh) 一种离轴扫描距离测量***
CN104748855B (zh) 双通道高通量干涉成像光谱装置及方法
CN108761993A (zh) 一种可重构的空间分幅成像装置
CN102928076B (zh) 不受偏振度影响的激光实时功率监测装置及监测方法
CN115015221A (zh) 快速光谱扫描受激拉曼散射显微成像***及其成像方法
CN106358443A (zh) 偏振成像滤波器及其制造方法
CN108627247A (zh) 傅里叶变换光谱仪和用于运行傅里叶变换光谱仪的方法

Legal Events

Date Code Title Description
C06 Publication
PB01 Publication
C10 Entry into substantive examination
SE01 Entry into force of request for substantive examination
C02 Deemed withdrawal of patent application after publication (patent law 2001)
WD01 Invention patent application deemed withdrawn after publication

Application publication date: 20140521