CN103794428A - 刻蚀装置和刻蚀方法 - Google Patents

Abstract

本发明提供了一种刻蚀装置和刻蚀方法，其中，刻蚀装置包括：并行设置的多个喷管(1)和与喷管(1)连接的第一喷嘴，刻蚀装置还包括：喷液装置(3)，位于喷管(1)的上游侧，喷液装置(3)包括：液体注入部；液体存储部(5)，与液体注入部连通；第二喷嘴(6)，位于液体存储部(5)的底部。本发明有效地解决了刻蚀不均匀的问题。

Description

刻蚀装置和刻蚀方法

技术领域

本发明涉及光刻蚀技术领域，具体而言，涉及一种刻蚀装置和刻蚀方法。

背景技术

等离子显示屏是一种自发光、重量轻、视角宽、厚度薄、全数字化、动态显示效果好的新型平板显示器件。

显示器中一些部件比如维持显示电极、汇流电极都需要使用光刻蚀工艺，该工艺都需要使用刻蚀装置。其中维持放电电极之间隙大小对显示单元放电着火电压及电压裕度影响很大。现有技术中的刻蚀装置包括并行设置的喷管和与喷管连接的喷嘴，使用时，基板朝向刻蚀装置移动，移动至刻蚀装置的正下方，采用喷嘴喷淋的方式进行刻蚀以形成电极。

利用上述的刻蚀装置易出现刻蚀不均匀的问题，进而造成制得的汇流(BUS)电极的宽度不均匀。

发明内容

本发明旨在提供一种刻蚀装置和刻蚀方法，以解决现有技术中刻蚀不均匀的问题。

为了实现上述目的，根据本发明的一个方面，提供了一种刻蚀装置，包括：并行设置的多个喷管和与喷管连接的第一喷嘴，刻蚀装置还包括：喷液装置，位于喷管的上游侧，喷液装置包括：液体注入部；液体存储部，与液体注入部连通；第二喷嘴，位于液体存储部的底部。

进一步地，液体注入部包括多个并行设置的软管。

进一步地，液体存储部包括本体部和收缩部，收缩部位于本体部的下方并朝向下方逐渐收缩地延伸，第二喷嘴连接在收缩部的底部。

进一步地，第二喷嘴具有可调的出液间隙。

进一步地，第二喷嘴的出液间隙沿垂直于喷管的方向延伸。

根据本发明的另一方面，提供了一种刻蚀方法，包括以下步骤：利用喷液装置的第二喷嘴使刻蚀液自然流到待刻蚀部件的表面；利用与喷管连接的第一喷嘴向待刻蚀部件的表面喷射刻蚀液从而制得电极。

应用本发明的技术方案，在刻蚀装置中增加了喷液装置，设置在喷管的上游侧，该喷液装置包括：液体注入部、液体存储部和第二喷嘴，其中，液体存储部与液体注入部连通；第二喷嘴位于液体存储部的底部。应用本发明的喷液装置，使得刻蚀液通过液体注入部注入至液体存储部内，刻蚀液通过自身重力作用从第二喷嘴流出，位于第二喷嘴下方的基板移动，使得液体连续不断的流到该基板的表面，由于喷射压力很小，不易造成不均匀分布。这样，可以让刻蚀液均匀的喷涂在基板表面，这样有利于改善基板表面与刻蚀液的亲和力，减少由于喷嘴直接喷射造成的圆弧状不均匀。提高显示电极的均匀性，提高放电单元的稳定性。

附图说明

构成本申请的一部分的说明书附图用来提供对本发明的进一步理解，本发明的示意性实施例及其说明用于解释本发明，并不构成对本发明的不当限定。在附图中：

图1示出了根据本发明的刻蚀装置的实施例的俯视示意图，其中图中也示出了待刻蚀的基板；

图2示出了图1的刻蚀装置的喷液装置的剖视示意图；以及

图3示出了根据本发明的刻蚀方法的实施例的流程示意图。

具体实施方式

需要说明的是，在不冲突的情况下，本申请中的实施例及实施例中的特征可以相互组合。下面将参考附图并结合实施例来详细说明本发明。

发明人经过一系列的试验验证，刻蚀装置的刻蚀效果不仅受感光剂性质和原版状态的制约，更受到刻蚀条件如刻蚀液的浓度、温度、疲劳程度以及刻蚀时间等的影响。具体的情况如下：

浓度的影响：刻蚀液的浓度，一般是指刻蚀主剂的含量。刻蚀液浓度不足，不仅会增加刻蚀时间，而且容易造成刻蚀不彻底。浓度过大，则刻蚀时间加快，整个过程难以控制，易造成刻蚀过度，侵蚀溶解受光的感光层，降低附着力。

温度的影响：在其他刻蚀条件相对稳定的情况下。刻蚀温度越高，刻蚀速度越快，反之则越慢。一般刻蚀温度应控制在35℃左右。温度随喷嘴角度变化而变化，角度越小喷射到基板上的温度越高，扇形角度越大喷射到基板上的温度越低。

压力的影响：压力随喷嘴角度变化而变化，角度越小喷射到基板上的压力越大，扇形角度越大喷射到基板上的压力越小。

发明人经一系列试验发现，喷嘴在喷射时温度分布是有差异的，扇形外部和中部有差异，喷射到玻璃基板上的压力也有偏差，从而造成了刻蚀的圆弧状波纹，进而使得显示电极刻蚀不均匀，影响了放电单元的稳定性。

针对上述问题，发明人调整了第一喷嘴类型，变更摇摆频率都无法完全消除这种不均匀的波纹，经过分析研究，发现刻蚀液与基板表面的浸润型不好容易产生此类不均匀。

如图1所示，根据本发明的刻蚀装置的实施例包括：并行设置的多个喷管1和与喷管1连接的第一喷嘴(图中未示出)，刻蚀装置还包括：喷液装置3，位于喷管1的上游侧，如图2所示，该喷液装置3包括：液体注入部、液体存储部5和第二喷嘴6，其中，液体存储部5与液体注入部连通，第二喷嘴6位于液体存储部5的底部。

如图1所示，基板10向右移动进入本实施例的刻蚀装置的范围内，应用本实施例的喷液装置使得刻蚀液通过液体注入部注入至液体存储部内，刻蚀液通过自身重力作用从第二喷嘴流出，位于第二喷嘴下方的基板移动，使得液体连续不断的流到该基板的表面，由于喷射压力很小，不易造成不均匀分布。这样，可以让刻蚀液均匀的喷涂在基板表面，这样有利于改善基板表面与刻蚀液的亲和力，减少由于喷嘴直接喷射造成的圆弧状不均匀。提高显示电极的均匀性，提高放电单元的稳定性。

为了保证注入速度，以保证需要的液体流量，如图2所示，液体注入部包括多个并行设置的软管4。液体存储部5包括本体部51和收缩部52，收缩部52位于本体部51的下方并朝向下方逐渐收缩地延伸，第二喷嘴6连接在收缩部52的底部。液体储存部5是维持第二喷嘴压力的稳定，只有增大液体储存部5才能保证第二喷嘴的压力保持一致。

优选地，第二喷嘴的出液间隙可调。目的是便于调整第二喷嘴喷液的流量。第二喷嘴的出液间隙沿垂直于喷管1的方向延伸。

通过以下步骤进行等离子显示器的制造：

A、清洗玻璃基板，溅射BUS电极(Cr-Cu-Cr)

B、制作显示电极的pr涂覆、干燥和曝光，具体地，先涂胶、再曝光、显影和紫外固化。

C、利用上述的刻蚀装置进行刻蚀，增加了一种具有浸泡功能的喷液装置；具体地，基板向右移动进入刻蚀装置下方，先利用喷液装置的第二喷嘴将刻蚀液均匀喷洒在基板表面，再进入喷淋区域，利用与喷管1连接的第一喷嘴对基板进行喷淋；基板在设备的辊子上移动，所有的喷嘴(第一和第二喷嘴)都设置在基板的上方。

D、利用光源检查装置分析实验数据，从中优化工艺参数。

E、最后将加工完成的上下基板对和，封接排气，最终充入高含氙气体以得到均匀放电的显示器。

利用上述方法制作出的显示器发光效率高，并且，工艺简单，无需额外的工艺设备。

本发明还提供了一种刻蚀方法，如图3所示，根据本发明的刻蚀方法的实施例包括以下步骤：

S10：利用喷液装置3的第二喷嘴6使刻蚀液自然流到待刻蚀部件的表面。

优选地，利用上述的刻蚀装置，其具有浸泡功能的喷液装置，让刻蚀液均匀的喷涂在基板表面，这样有利于改善基板表面与刻蚀液的亲和力，减少由于喷嘴直接喷射造成的圆弧状不均匀。提高显示电极的均匀性，提高放电单元的稳定性。

S20：利用与喷管1连接的第一喷嘴向待刻蚀部件的表面喷射刻蚀液从而制得电极。

通过光源检查台对制得的电极进行观察，确认其均匀性得到了很好的提升。

以上所述仅为本发明的优选实施例而已，并不用于限制本发明，对于本领域的技术人员来说，本发明可以有各种更改和变化。凡在本发明的精神和原则之内，所作的任何修改、等同替换、改进等，均应包含在本发明的保护范围之内。

Claims (6)

1.一种刻蚀装置，包括：并行设置的多个喷管(1)和与所述喷管(1)连接的第一喷嘴，其特征在于，所述刻蚀装置还包括：

喷液装置(3)，位于喷管(1)的上游侧，所述喷液装置(3)包括：

液体注入部；

液体存储部(5)，与所述液体注入部连通；

第二喷嘴(6)，位于所述液体存储部(5)的底部。

2.根据权利要求1所述的刻蚀装置，其特征在于，所述液体注入部包括多个并行设置的软管(4)。

3.根据权利要求1所述的刻蚀装置，其特征在于，所述液体存储部(5)包括本体部(51)和收缩部(52)，所述收缩部(52)位于所述本体部(51)的下方并朝向下方逐渐收缩地延伸，所述第二喷嘴(6)连接在所述收缩部(52)的底部。

4.根据权利要求1所述的刻蚀装置，其特征在于，所述第二喷嘴(6)具有可调的出液间隙。

5.根据权利要求1至4中任一项所述的刻蚀装置，其特征在于，所述第二喷嘴(6)的出液间隙沿垂直于所述喷管(1)的方向延伸。

6.一种刻蚀方法，其特征在于，使用权利要求1至5中任一项所述的刻蚀装置，包括以下步骤：

利用喷液装置(3)的第二喷嘴(6)使刻蚀液自然流到待刻蚀部件的表面；

利用与喷管(1)连接的第一喷嘴向所述待刻蚀部件的表面喷射刻蚀液从而制得电极。

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