CN103765250B - 防眩膜 - Google Patents

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Abstract

本发明涉及一种防眩膜。所述防眩膜中的各层具有提高的表面粘合力和耐磨损性，并且所述防眩膜可以通过简化的方法制造。

Description

防眩膜
技术领域
本发明涉及一种抗反射涂膜（anti-reflectivecoatingfilm）。
背景技术
一般而言，抗反射涂膜（防眩膜（anti-glarefilm））置于显示器如PDP、CRT和LCD的屏幕上以使外部光的反射最小化。
常规抗反射涂膜通常通过在透光基底上设置抗反射层而形成。在该方面，最广泛使用的抗反射层具有由增光基底顺序层压得到的三层结构，即，硬涂层和高折射率层以及低折射率层。近来，由抗反射层省略硬涂层或高折射率层的两层结构已经商业化，以简化制备方法。为提供防眩和耐划伤特性，还已经使用了具有防眩硬涂层的抗反射涂膜。
同时，抗反射涂膜通常通过干法或湿法制造。在方法中，干法为使用沉积或溅射而层压多个薄层。该方法在层界面处具有优异的粘合性，但是需要高的制造成本，这是商业使用的限制。
相比而言，湿法为在将含有粘合剂、溶剂等的组合物施加至基底后，使其干燥并且固化。该方法与干法相比更廉价，并且因此在商业应用中广泛使用。然而，在湿法中，应该分别制备形成硬涂层和高折射率层以及低折射率层所需的组合物，并且使用组合物而顺序形成各个层。因此，制备方法变复杂，并且在薄膜界面处具有弱的粘合性。
为此，已经积极地进行了许多研究以开发能够通过单一的湿涂覆方法而形成两层以上的的抗反射涂料组合物。然而，仍存在许多问题：在制备方法过程中在施加组合物时不恰当地出现了相分离，并且因此各个层功能劣化。
此外，硬涂层或高折射率层通常在基底上作为纯的粘合剂或作为含有粘合剂和无机纳米颗粒的独立层而形成，并且中空的颗粒分散的低折射率层在其上形成。然而，仍存在问题：具有该结构的抗反射涂膜由于其在层界面处具有弱的粘合性而具有低的耐久性。
发明内容
技术问题
本发明提供一种示出更大改进的界面粘合性和耐划伤性的抗反射涂膜，其可以通过简化的方法制造。
技术方案
根据本发明的一个实施方案，提供了一种抗反射涂膜，包括：
第一层，其包括第一（甲基）丙烯酸酯基粘合剂和在第一（甲基）丙烯酸酯基粘合剂中的无机纳米颗粒，并且其已经渗入至基底中；和
第二层，其包括第二（甲基）丙烯酸酯基粘合剂和在第二（甲基）丙烯酸酯基粘合剂中的中空颗粒，并且其覆盖第一层，
其中中空颗粒的横截面积与第二层的任何横截面积之比为70至95%。
在抗反射涂膜中，第一（甲基）丙烯酸酯基粘合剂可以包括分子量小于600的（甲基）丙烯酸酯基化合物的交联聚合物，并且第二（甲基）丙烯酸酯基化合物可以包括分子量小于600的（甲基）丙烯酸酯基化合物和分子量为600至100,000的（甲基）丙烯酸酯基化合物的交联共聚物。
此外，除具有交联聚合物的区域外，第一层还可以包括具有分子量小于600的（甲基）丙烯酸酯基化合物和分子量为600至100,000的（甲基）丙烯酸酯基化合物的交联共聚物的区域。在该方面，具有交联共聚物的区域可以位于第一层的约5至50%深度处，基于第一层和第二层的界面计。此外，可以包括交联共聚物以呈现对第二层的增加的分布梯度。
在一个实施方案的抗反射涂膜中，第二层还可以包括无机纳米颗粒。
此外，分子量小于600的（甲基）丙烯酸酯基化合物可以为一种或多种选自以下的化合物：三（甲基）丙烯酸季戊四醇酯、四（甲基）丙烯酸季戊四醇酯、六（甲基）丙烯酸二季戊四醇酯、三（甲基）丙烯酸三亚甲基丙酯、二（甲基）丙烯酸乙二醇酯、9，9-双[4-(2-丙烯酰氧基乙氧基)苯基]芴、双(4-甲基丙烯酰氧基苯硫基)硫化物，和双(4-乙烯基苯硫基)硫化物。
此外，除分子量小于600的（甲基）丙烯酸酯基化合物和分子量为600至100,000的（甲基）丙烯酸酯基化合物外，第二（甲基）丙烯酸酯基粘合剂可以包括另外与氟基（甲基）丙烯酸酯化合物共聚合的交联共聚物。
此外，分子量为600至100,000的（甲基）丙烯酸酯基化合物可以包括具有两个以上的通过连接物连接的分子量小于600的（甲基）丙烯酸酯基化合物的分子的化合物，并且所述连接物可以包括氨基甲酸酯键（urethanebond）、硫醚键、醚键或酯键。此外，分子量为600至100,000的（甲基）丙烯酸酯基化合物可以具有一种或多种选自以下的取代基：环氧基、羟基、羧基、硫醇基、具有6个以上碳原子的芳族或脂族烃基，和异氰酸酯基。
在一个实施方案的抗反射涂膜中，无机纳米颗粒的数均直径可以为5至50nm，并且例如，其可以为二氧化硅纳米颗粒。
此外，中空颗粒的数均直径可以为5至80nm，并且例如，其可以为中空二氧化硅颗粒。
有益效果
根据本发明，抗反射涂膜中的两层可以通过单一的涂覆方法而形成，由此通过一种更简化的方法而形成抗反射涂膜。此外，由此形成的抗反射涂膜能够保持更大改进的界面粘合性和耐划伤性并且示出优异的抗反射效果，并且因此其可优选用作显示器等中的抗反射涂膜。
附图说明
图1是示出本发明一个实施方案的抗反射涂膜的结构的示意性的剖视图；
图2是示出本发明一个实施方案的抗反射涂膜的制造方法的示意性的流程图；并且
图3至6为分别示出实施例1、2和4和对比实施例1的抗反射涂膜的剖视图的显微镜图像。
进行本发明的最佳实施方式
在下文中，本发明实施方案的抗反射涂膜及其制造方法参考附图而进行描述。
首先，在本说明书中除非另作说明，本文中使用的一些术语定义如下。
首先，术语“无机纳米颗粒”是指由各种无机材料制成的颗粒，并且包括数均直径为纳米级（例如数均直径为100nm以下）的颗粒。这些无机纳米颗粒可以为在其中基本不具有空隙的无定形颗粒。例如，“二氧化硅纳米颗粒”为由硅化合物或有机硅化合物制成的颗粒，并且是指数均直径为100nm以下并且在其中基本不具有空隙的硅化合物颗粒或有机硅化合物颗粒。
此外，术语“中空颗粒”是指在其表面和/或其中具有空隙的有机或无机颗粒。例如，术语“中空二氧化硅颗粒”是指由硅化合物或有机硅化合物制成并且在二氧化硅颗粒的表面和/或内部具有空隙的二氧化硅颗粒。
此外，术语“（甲基）丙烯酸酯”定义为包括丙烯酸酯和甲基丙烯酸酯。术语“（甲基）丙烯酸酯”还可以定义为不具有含氟的取代基，并且具有含氟取代基的化合物可以称为氟基（甲基）丙烯酸酯化合物，以使其彼此区分。
此外，术语“涂层”是指通过将以下所提出的抗反射涂料组合物施加（涂覆）至基底膜而形成的组合物层。
此外，术语“相分离”是指由于组分的密度、表面张力或其他物理特性的差异而导致的组合物中特定组分与其他组分的分布的差异。本文中，当涂层中出现相分离时，根据特定组分的分布差异例如中空颗粒的分布差异而形成至少两个可以区分的层。
此外，词组“渗入至基底中”是指用于形成抗反射涂膜的任意层的成分（例如，用于形成用于相应层的粘合剂的（甲基）丙烯酸酯基化合物和无机纳米颗粒等）渗入至基底中以形成相应的层。例如，将渗入至基底中的成分干燥和固化以在其已经渗入的基底区域中形成特定的层。相比而言，词组“在基底上形成层”是指用于形成相应层的成分基本不渗入至基底中，并且其在与基底形成界面时被干燥和固化，由此在基底上形成层，不存在通过渗入至基底中而与基底重合的区域。
此外，词组“层（例如，本发明一个实施方案的第二层）覆盖另一层（例如，该实施方案的第一层）”是指在两个层之间基本没有显著不同的层。例如，在一个实施方案的抗反射涂膜中，“含有中空颗粒的第二层覆盖已经渗入至基底中的第一层”是指在渗入至基底中的第一层和含有中空颗粒的第二层之间基本没有独立的且显著不同的层，例如基本没有未渗入至基底中的且不包括中空颗粒的独立层。例如，在一个实施方案中，仅包括粘合剂（例如由（甲基）丙烯酸酯基化合物形成的交联聚合物）和/或无机纳米颗粒并且没有渗入至基底中的独立层不存在于第一层（即，渗透层）和含有中空颗粒的第二层之间。
同时，本发明人已经研究了抗反射涂膜。因此，本发明人发现当使用某种抗反射涂料组合物诱发自发的相分离而制造抗反射涂膜时，抗反射涂膜示出更大改进的界面粘合性和耐划伤性和优异的抗反射效果，由此完成本发明。抗反射涂膜的这些优异的特性可能归因于膜的特定结构，其中用作硬涂层的第一层已经渗入至基底中并且形成了用作低折射率层的第二层以覆盖第一层。
相比而言，具有在基底和低折射率层之间形成基本不含中空颗粒的独立的硬涂层（例如，含有粘合剂并且基本不含中空颗粒，或仅含有粘合剂和无机纳米颗粒的独立的硬涂层或高折射率层）的结构的抗反射涂膜的不利之处在于：对于形成各个层而言需要另外的涂覆或固化过程，并且因此制备过程变复杂，或者在层界面处具有弱的粘合性。
一个实施方案的抗反射涂膜—其中第二层（低折射率层）覆盖已经渗入至基底中的第一层（硬涂层）—示出优异的界面粘合性，即使通过单一的涂覆和固化过程的简单方法而形成。
一个实施方案的抗反射涂膜可以包括：第一层，其含有第一（甲基）丙烯酸酯基粘合剂和第一（甲基）丙烯酸酯基粘合剂中的无机纳米颗粒，并且其已经渗入至基底中；和第二层，其含有第二（甲基）丙烯酸酯基粘合剂和第二（甲基）丙烯酸酯基粘合剂中的中空颗粒，并且其覆盖第一层。在抗反射涂膜中，中空颗粒的横截面积与第二层的任何横截面积之比可以为约70至95%，或约75至93%，或约80至90%，或约85至92%。
在抗反射涂膜中，渗入至基底中的第一层可以用作抗反射涂膜的硬涂层，并且还可以用作示出约1.5以上的折射率的高折射率层。在硬涂层中含有渗入至基底中的第一（甲基）丙烯酸酯基粘合剂，并且第一（甲基）丙烯酸酯基粘合剂可以包括分子量小于600的（甲基）丙烯酸酯基化合物的交联聚合物。此外，硬涂层可以包括在第一（甲基）丙烯酸酯基粘合剂中的无机纳米颗粒。
此外，在与在基底中作为渗透层的第一层相接触并且覆盖其的第二层中，所有或大部分（例如，约97重量%以上，或约99重量%以上）的中空颗粒是基本分散的，并且因此第二层作为抗反射涂膜的低折射率层作用。该低折射率层示出约1.45以下的低折射率，由此示出合适的抗反射效果。低折射率层包括第二（甲基）丙烯酸酯基粘合剂，其可以包括分子量小于600的（甲基）丙烯酸酯基化合物和分子量为600至100,000的（甲基）丙烯酸酯基化合物的交联共聚物。低折射率层还可以包括在第二（甲基）丙烯酸酯基粘合剂中的中空颗粒。
在抗反射涂膜中，用作硬涂层的第一层的第一（甲基）丙烯酸酯基粘合剂还可以包括分子量小于600的（甲基）丙烯酸酯基化合物和分子量为600至100,000的（甲基）丙烯酸酯基化合物的交联共聚物。用作低折射率层的第二层还可以包括无机纳米颗粒。
图1为示出一个示例性实施方案的抗反射涂膜的示意图。参照图1，在抗反射涂膜中，用作硬涂层的第一层2渗入至基底1中，并且在其中固化，并且用作低折射率层的第二层3通过与作为渗透层的第一层2接触并且将其覆盖而在基底上形成。在此方面，在渗入至基底中的第一层2和在基底上的第二层3之间不存在独立层，这意味着例如仅含有粘合剂和/或无机纳米颗粒并且基本不含中空颗粒并且没有渗入至基底中的独立层不存在于作为渗透层的第一层和主要具有中空颗粒的第二层之间。
由于用作硬涂层的第一层2已经渗入至基底1中，并且形成用作低折射率层的第二层3以与其接触，另一实施方案的抗反射涂膜在基底、硬涂层和低折射率层之间具有优异的界面粘合性，并且因此在使用过程中可以使分层最小化。
此外，中空颗粒横截面积与第二层的任何横截面积之比为约70至95%，或约75至93%，或约80至90%，或约85至92%，并且因此中空颗粒可以密集地分布于用作低折射率层的第二层。因此，一个实施方案的抗反射涂膜具有优异的低折射率特性和抗反射效果。
在下文中，更详细描述包括于抗反射涂膜中的各个层。
首先，抗反射涂膜包括基底。如图1所示，基底1为常用的透明薄膜，并且可以无限制地使用任何材料，只要其可以用第一层的第一（甲基）丙烯酸酯基粘合剂和无机纳米颗粒渗透。例如，基底可以由聚酯基树脂、聚碳酸酯基树脂、丙烯酸基树脂、乙酸纤维素树脂等制成。在一个实施方案中，三乙酸纤维素(TAC)树脂可以用作基底以提高透明度和抗反射效果。
此外，抗反射涂膜可以包括用作硬涂层的第一层2，其包括分子量小于600的（甲基）丙烯酸酯基化合物的交联聚合物作为第一（甲基）丙烯酸酯基粘合剂，和在第一（甲基）丙烯酸酯基粘合剂中的无机纳米颗粒。硬涂层可以为渗入至基底中的层。第一层2可以固化并且通过第一（甲基）丙烯酸酯基粘合剂和无机纳米颗粒渗入至基底中而整合到基底中。即使图1示出第一层2渗入至基底1的整个表面中，在另一实施方案中第一层2可以渗入至基底1的一部分中。
形成用作低折射率层的第二层3以与渗入至基底1中的第一层2相接触并且将其覆盖，并且其可以为含有中空颗粒的层。更具体而言，仅含有粘合剂和/或无机纳米颗粒并且未渗入至基底中的独立层不存在于第一层2和第二层3之间。在已知的膜的情况下，在硬涂层和低折射率层之间存在仅含有粘合剂的独立层，导致各个层与基底之间粘合性降低的不利之处。相比而言，形成一个实施方案的抗反射涂膜以使用作低折射率层的第二层3与基底1和用作硬涂层的第一层2接触，由此示出更大改进的表面粘合性、耐划伤性和抗反射效果。
在此，第二层3的第二（甲基）丙烯酸酯基粘合剂可包括分子量小于600的（甲基）丙烯酸酯基化合物和分子量为600至100,000的（甲基）丙烯酸酯基化合物的交联共聚物。在另一实施方案中，第二（甲基）丙烯酸酯基粘合剂可包括分子量小于600的（甲基）丙烯酸酯基化合物，分子量为600至100,000的（甲基）丙烯酸酯基化合物和氟基（甲基）丙烯酸酯化合物的交联共聚物。由于通过另外与氟基（甲基）丙烯酸酯化合物共聚合而制备的交联共聚物包括于第二（甲基）丙烯酸酯基粘合剂中，用作低折射率层的第二层3示出更低的折射率和优异的抗反射效果。此外，可以更大的改进第二层3的耐划伤性。
此外，第二层3可以另外包括在第二（甲基）丙烯酸酯基粘合剂中的无机纳米颗粒，由此更大地改进第二层3的耐划伤性和抗反射效果。
同时，除上述分子量小于600的（甲基）丙烯酸酯基化合物的交联聚合物外，第一层2的第一（甲基）丙烯酸酯基粘合剂可以另外包括分子量小于600的（甲基）丙烯酸酯基化合物和分子量为600至100,000的（甲基）丙烯酸酯基化合物的交联共聚物。
在此方面，第一层2的第一（甲基）丙烯酸酯基粘合剂中的交联共聚物可以包含于第一层2的某些区域中，基于第一层2和第二层3之间的界面计，例如至约第一层2的5至50%深度，或约5至45%深度，或约5至40%深度。可以包含在第一层2的粘合剂中的交联共聚物以呈现对第二层3的增加的分布梯度。
因此，分子量为600至100,000的（甲基）丙烯酸酯基化合物与分布梯度至第一层2的预定深度的分子量小于600的（甲基）丙烯酸酯基化合物交联共聚合，并且交联的共聚物还包括于整个第二层3中。因此，第一层2和第二层3之间的界面粘合性可以更大地改进，并且包括于第二层3中的中空颗粒可以更密集地分布。
在上述抗反射涂膜中，第一层2为具有与用作低折射率层的第二层3相比更高的折射率的层，并且折射率可以为约1.5至1.58，或约1.5至1.57，或约1.51至1.56。此外，第二层3的折射率可为约1.1至1.45，或约1.15至1.43，或约1.2至1.42。
此外，另一个实施方案的抗反射涂膜的反射比为约0.5至4%，或约0.8至3%，或约1至2%以示出优异的抗反射特性，并且因此其可以恰当地用作各种显示器如PDP、CRT或LCD中的抗反射涂膜。
在下文中，描述用于形成一个实施方案的抗反射涂膜的抗反射涂料组合物以及使用其制造抗反射涂膜的方法。
抗反射涂料组合物可以包括分子量小于600的（甲基）丙烯酸酯基化合物；分子量为600至100,000的（甲基）丙烯酸酯基化合物；无机纳米颗粒；和中空颗粒。以下描述组合物的各个组分。
分子量小于600的（甲基）丙烯酸酯基化合物
首先，抗反射涂料组合物可以包括分子量小于600的（甲基）丙烯酸酯基化合物。如果组合物施加至任何基底，则至少一部分具有低分子量的（甲基）丙烯酸酯基化合物可以渗入至基底中。
渗入至基底中的低分子量（甲基）丙烯酸酯基化合物可以单独聚合或与在如下解释的且分子量为600至100,000的高分子量（甲基）丙烯酸酯基化合物共聚合以形成相当于渗入区域的第一层的粘合剂。
残留低分子量（甲基）丙烯酸酯基化合物可以保留在基底上而不渗入至基底中。残留化合物与如下解释的高分子量（甲基）丙烯酸酯基化合物共聚合以形成覆盖在基底的渗入区域中形成的第一层的第二层的粘合剂。
为使低分子量（甲基）丙烯酸酯基化合物充分渗入至基底并且形成用作抗反射涂膜的硬涂层的第一层的粘合剂，低分子量（甲基）丙烯酸酯基化合物的分子量可以为例如小于约600，或小于约500，或小于约400，并且在另一实施方案中，其分子量可以为约50以上，或约100以上。
在示例性的实施方案中，为形成渗入至基底中的第一层（例如，硬涂层和/或高折射率层）以示出更高的折射率，低分子量（甲基）丙烯酸酯基化合物可以具有取代基如硫、氯或金属，或芳族取代基。
低分子量（甲基）丙烯酸酯基化合物可以包括选自以下的化合物：三（甲基）丙烯酸季戊四醇酯、四（甲基）丙烯酸季戊四醇酯、六（甲基）丙烯酸二季戊四醇酯、三（甲基）丙烯酸三亚甲基丙酯、二（甲基）丙烯酸乙二醇酯、9,9-双(4-(2-丙烯酰氧基乙氧基苯基)氟（折射率：1.62）、双(4-甲基丙烯酰氧基苯硫基)硫化物（折射率：1.689），和双(4-乙烯基苯硫基)硫化物（折射率：1.695）或其两种以上的混合物。
分子量为600至100,000的（甲基）丙烯酸酯基化合物
同时，抗反射涂料组合物可以包括分子量为600至100,000的高分子量（甲基）丙烯酸酯基化合物。当组合物施加至任何基底时，与上述低分子量化合物相比，较少量的高分子量（甲基）丙烯酸酯基化合物可以渗入至基底中，并且其剩余部分由于其高分子量和大的化学结构而可以保留在基底上。
因此，高分子量（甲基）丙烯酸酯基化合物不渗入基底至与上述低分子量（甲基）丙烯酸酯基化合物相同的深度。因此，基底的渗透区域可以分为以下两个区域。第一，在仅低分子量（甲基）丙烯酸酯基化合物渗入的区域中或在其渗入的深度处的区域中，可以存在由低分子量（甲基）丙烯酸酯基化合物的交联聚合物形成的粘合剂。在渗入高分子量（甲基）丙烯酸酯基化合物的另一渗透区域，高分子量（甲基）丙烯酸酯基化合物和低分子量（甲基）丙烯酸酯基化合物的交联共聚物可以作为粘合剂而存在。
没有渗入至基底中的残留高分子量（甲基）丙烯酸酯基化合物可以与以上提及的低分子量（甲基）丙烯酸酯基化合物共聚合以形成覆盖渗透层的第二层（例如，抗反射涂膜的低折射率层）的第二（甲基）丙烯酸酯基粘合剂。因此，用作抗反射涂膜的硬涂层的第一层和覆盖其上的第二层（低折射率层）之间的界面粘合性改进，低折射率层的耐划伤性也改进，并且在低折射率层中的中空颗粒更密集地分散。
高分子量（甲基）丙烯酸酯基化合物为具有与上述低分子量化合物相比更高的分子量和大结构的化合物。例如，其分子量可为约400以上，或约500以上，或约600以上。对于另一实例，其分子量可为约100,000以下，或约80,000以下，或约50,000以下。
对于高分子量和大结构而言，高分子量（甲基）丙烯酸酯基化合物可以包括具有通过连接物而连接两个以上的上述低分子量（甲基）丙烯酸酯基化合物的分子的结构的化合物。在此方面，连接物可以为已知连接（甲基）丙烯酸酯基化合物的任何化学键，并且例如含有氨基甲酸酯键、硫醚键、醚键或酯键的二价或更高价的基团。
对于更大的结构而言，高分子量（甲基）丙烯酸酯基化合物还可以具有一个或多个选自以下的取代基：环氧基、羟基、羧基、硫醇基、具有6个以上碳原子的芳族或脂族烃基，和异氰酸酯基。
高分子量（甲基）丙烯酸酯基化合物可以为满足上述条件的市售可得的产品或直接合成。市售可得的产品的实例可以包括UA-306T、UA-306I、UA-306H、UA-510T、UA-510I和UA-510H(KYOEISHACo.的产品)；BPZA-66和BPZA-100(KYOEISHACo.的产品);EB9260和EB9970(BAEYERCo.的产品)；以及MiramerSP1107和MiramerSP1114(MIWONCo.的产品)。
上述高分子量（甲基）丙烯酸酯基化合物可以以用量为基于100重量份的低分子量（甲基）丙烯酸酯基化合物计约5至30重量份，或约5至25重量份，或约5至20重量份包含于抗反射涂料组合物中。考虑根据加入过量的中空颗粒而改变中空颗粒分布或使层的物理特性优化以及使用含有高分子量和低分子量（甲基）丙烯酸酯基化合物的粘合剂组合物而实现的最小效果，可以确定高分子量（甲基）丙烯酸酯基化合物的含量。
氟基(甲基)丙烯酸酯化合物
同时，上述抗反射涂料组合物可以另外包括被一个或多个氟原子所取代的氟基（甲基）丙烯酸酯化合物作为粘合剂组合物。由于存在含氟取代基，当组合物施加至基底时，氟基（甲基）丙烯酸酯化合物不渗入至基底中。为此，氟基（甲基）丙烯酸酯化合物与上述低分子量和高分子量（甲基）丙烯酸酯化合物一起可以形成用作抗反射涂膜的低反射率层的第二层的第二（甲基）丙烯酸酯基粘合剂。氟基（甲基）丙烯酸酯化合物显示出更低的折射率，由此降低低折射率层的折射率并且由于极性官能团而显示出与后述的中空颗粒的优异的相容性，并且还改进了低折射率层的耐划伤性。
氟基（甲基）丙烯酸酯化合物可以具有将一个或多个含氟取代基连接至任何（甲基）丙烯酸酯化合物的结构，氟基（甲基）丙烯酸酯化合物的实例可以为一种或多种选自以下化学式1至化学式5的化合物的化合物：
[化学式1]
其中R1为氢基团或具有1至6个碳原子的烷基，a为0至7的整数，并且b为1至3的整数；
[化学式2]
其中c为1至10的整数；
[化学式3]
其中d为1至11的整数；
[化学式4]
其中e为1至5的整数；
[化学式5]
其中f为4至10的整数。
同时，氟基（甲基）丙烯酸酯化合物可以以用量为基于100重量份的上述低分子量（甲基）丙烯酸酯化合物计约0.5至20重量份，或约5至18重量份，或约10至16重量份包含于抗反射涂料组合物中。
氟基（甲基）丙烯酸酯化合物可以为满足上述条件的市售可得的产品。市售可得的产品的实例可以包括OPTOOLAR110(DAIKIN制造)，LINC-3A和LINC-102A(KYOEISHA制造)，PFOA(Exfluor制造)，和OP-38Z(DIC制造)。
无机纳米颗粒
同时，无机纳米颗粒可以包括于抗反射涂料组合物中。
当组合物施加至基底时，一部分无机纳米颗粒与上述两种以上的粘合剂组合物一起可以渗入并且分散于基底中。未渗入至基底中的其剩余部分分散于用作低折射率层的第二层中，并且有助于提高耐划伤性和抗反射效果。
在一个实施方案中，无机纳米颗粒可以为由各种无机材料制成的并且具有纳米级的数均直径的颗粒。
这些无机纳米颗粒的数均直径可以为例如约100nm以下，或约5至50nm，或约5至20nm。为控制涂层的透明度、折射率和耐划伤性，无机纳米颗粒的直径应该控制在上述范围内。
此外，为获得在基底上的涂层的改进透明度，由硅化合物或有机硅化合物制成的二氧化硅纳米颗粒可以用作无机纳米颗粒。
无机纳米颗粒可以以用量为基于100重量份的上述低分子量（甲基）丙烯酸酯基化合物计约5至30重量份，或约5至25重量份，或约5至20重量份包含于抗反射涂料组合物中。无机纳米颗粒的含量可以控制在上述范围内，考虑根据基底类型的无机纳米颗粒的渗透含量和通过由加入过量无机纳米颗粒而导致的反射率提高而降低抗反射效果以及无机纳米颗粒的最小效果。
同时，无机纳米颗粒分散于分散介质中，并且可以包含于固含量为约5至40重量%的溶胶形式中。在本文中，用作分散介质的有机溶剂的实例可以包括醇如甲醇、异丙醇(IPA)、乙二醇和丁醇；酮如甲基乙基酮(MEK)和甲基异丁基酮(MIBK)；芳族烃如甲苯和二甲苯；酰胺如二甲基甲酰胺、二甲基乙酰胺和N-甲基吡咯烷酮；酯如乙酸乙酯、乙酸丁酯和γ基丁内酯；醚如四氢呋喃和1,4-二氧杂环己烷；或其混合物。
根据一个实施方案，市售可得的二氧化硅溶胶可以用作无机颗粒，并且实例为由NissanchemicalCo.制造的MEK-ST、MIBK-ST、MIBK-SD、MIBK-SD-L、MEK-AC、DMAC-ST和EG-ST；或由GaematechCo.制造的Purisol。
中空颗粒
同时，中空颗粒还可以包含于抗反射涂料组合物中。这些中空颗粒是指在颗粒的表面和/或内部具有空隙的颗粒，并且为用于实现低折射率和抗反射效果的成分。
当组合物施加至基底时，这些中空颗粒基本上不分散于用作抗反射涂膜的硬涂层的第一层中，并且其主要分散于覆盖第一层的层中，即，在用作低折射率层的第二层中。在本文中，第一层中的中空颗粒“基本上不分散于（包括于）”是指中空颗粒在用作基底中的渗透层的第一层中存在的中空颗粒的含量基于中空颗粒的总重量计小于约5重量%，或小于约3重量%，或小于约1重量%。
同时，溶剂与上述粘合剂组合物等一起包含于一个实施方案的组合物中，并且因此，出现自发的相分离以形成抗反射涂膜。这时，当出现相分离时，中空颗粒由于中空颗粒与其他组分之间的密度差异或表面能的差异而基本上不分布于作为渗透层的第一层中，并且其密集地分布于用作低折射率层的第二层中。因此，可以形成显示出更大改进的膜强度、耐划伤性和抗反射特性的抗反射涂膜。
这些中空颗粒的材料不特别限制，只要其为在颗粒的表面和/或内部具有空隙的颗粒的形式。在一个实施方案中，为提供具有透明度和/或低折射率的低折射率层，可以使用由硅化合物或有机硅化合物生成的中空二氧化硅颗粒。
这时，中空颗粒的直径可以确定在保持膜透明度并且示出抗反射效果的范围内。例如，中空颗粒的数均直径可为约5至80nm，或约10至75nm，或约20至70nm。
中空颗粒可以以用量为基于100重量份的上述低分子量（甲基）丙烯酸酯基化合物计约1至30重量份，或约1至25重量份，或约5至20重量份包含于抗反射涂料组合物中。为通过相分离实现中空颗粒的最小效果和形成其优选分布，中空颗粒的含量可以控制在上述范围内。
此外，中空颗粒可以分散于分散介质（水或有机溶剂）中，并且包含于固含量为约5至40重量%的溶体形式中。在本文中，用作分散介质的有机溶剂的实例可以包括醇如甲醇、异丙醇(IPA)、乙二醇和丁醇；酮如甲基乙基酮(MEK)和甲基异丁基酮(MIBK)；芳族烃如甲苯和二甲苯；酰胺如二甲基甲酰胺、二甲基乙酰胺和N-甲基吡咯烷酮；酯如乙酸乙酯、乙酸丁酯和γ-丁内酯；醚如四氢呋喃和1,4-二氧杂环己烷；或其混合物。
溶剂
溶剂可以另外包含于上述抗反射涂料组合物中。溶剂有控制粘合剂组合物渗入至基底和中空颗粒的相分离和分布方式以及在合适范围内的组合物的粘度的作用。
为实现上述效果，溶剂可以为介电常数(25℃)为约20至30并且偶极矩为约1.7至2.8的溶剂。能够满足这些物理特性的溶剂的实例可以包括甲基乙基酮、乙酸乙酯、乙酰基丙酮等，并且还可以使用能够满足所述物理特性的任何溶剂。根据一个实施方案，还可以将其他溶剂与能够满足所述物理特性的溶剂混合。待混合的溶剂的实例可以包括异丁基酮、甲醇、乙醇、正丁醇、异丁醇、叔丁醇等。然而，就合适的相分离而言，优选满足介电常数和偶极矩范围的溶剂的含量为约60重量%以上，基于组合物中包含的溶剂的总重量计。
在抗反射涂料组合物中，可包含的溶剂的用量为例如约100至500重量份，或约100至450重量份，或约100至400重量份，基于100重量份的上述低分子量（甲基）丙烯酸酯基化合物计。如果组合物在涂覆时显示出差的流动性，则在涂层上可以产生缺陷如条纹。为提供具有所需的最小流动性的组合物，可以包括预定含量以上的溶剂。当加入过量的溶剂时，固含量变得过低，并且因此，在干燥和固化时可以产生缺陷，并且中空颗粒的分布可以偏离优选的范围。
引发剂
同时，引发剂可以另外包含于上述抗反射涂料组合物中。引发剂为被能量射线如紫外线活化以引发粘合剂组合物聚合的化合物。可以使用本领域中通常使用的化合物。
引发剂的实例可以包括1-羟基环己基苯基酮、苄基二甲基缩酮、羟基二甲基苯乙酮、安息香、安息香甲醚、安息香***、安息香异丙醚或安息香丁醚，和各种其他光聚合引发剂。
这时，引发剂的含量可以为例如约5至25重量份，或约5至20重量份，或约5至15重量份，基于100重量份的低分子量（甲基）丙烯酸酯基化合物计。对于粘合剂组合物的充分聚合而言，可以包括预定含量以上的引发剂。当加入过量引发剂时，构成抗反射涂膜的各个层可具有降低的机械特性如耐划伤性或耐磨损性。
下面，将描述使用上述抗反射涂料组合物制造抗反射涂膜的方法。图2为示出一个实施方案的制造方法的示意性的流程图，其中使用上述抗反射涂料组合物而制造抗反射涂膜。
参照图2，用于制造抗反射涂膜的方法包括以下步骤：制备上述抗反射涂料组合物；将其施加至基底的至少一个表面；干燥组合物以使一部分粘合剂组合物和无机纳米颗粒渗入至基底中；并且使渗入的和干燥的组合物固化以形成相当于基底的渗透区域的第一层，和含有中空颗粒并且覆盖第一层的第二层。
通过制造方法，组合物中具有某些物理特性的溶剂首先可以溶解一部分基底，并且随后，部分的粘合剂组合物（例如，部分的具有低分子量和高分子量的（甲基）丙烯酸酯基化合物）和至少一部分无机纳米颗粒可以渗入至基底中。这时，未渗入的粘合剂组合物和无机纳米颗粒的剩余部分，和中空颗粒可以在基底上形成涂层（例如，第二层）。特别地，该涂层可以作为薄层而保留在用上述组分渗透的基底上，并且中空颗粒可以密集地存在于该涂层内。
此后，当进行固化过程时，形成第一层和第二层的第一（甲基）丙烯酸酯基粘合剂和第二（甲基）丙烯酸酯基粘合剂，并且用作硬涂层的第一层可以作为渗透层而在基底内部形成，并且可以形成含有中空颗粒的第二层以覆盖第一层。因此，可以制造一个实施方案的抗反射涂膜。
如上所述，即使使用单一组合物而施加单一的涂覆和固化过程，由于部分组分渗入至基底和相分离，一个实施方案的抗反射涂膜可以通过简单的方法而制造。特别地，在该抗反射涂膜中，用作硬涂层的第一层渗入至基底以与第二层接触，由此显示出优异的界面粘合性和机械特性。此外，在该抗反射涂膜中，独立层不存在于第一层和第二层之间，并且中空颗粒密集地存在于第二层中，由此显示出更低的折射率和优异的抗反射特性。由于上述抗反射涂料组合物包括至少两类具有不同分子量的（甲基）丙烯酸酯基化合物和具有预定的物理特性的溶剂，可以优化对基底的渗透和相分离。
在制造上述抗反射涂膜的方法中，将组合物施加至基底的至少一个表面上的方法可以使用涂覆设备（如线棒（wirebar））和本领域通常使用的方法而进行。
此外，干燥过程可以在温度为约5至150℃下进行约0.1至60分钟，约20至120℃下进行约0.1至20分钟，或约30至110℃下进行约1至10分钟，以便于组合物的相分离和组合物渗入至基底中。
此外，在固化过程中，聚合通过将能量（如光辐射）施加至干燥的组合物而引发，由此固化经渗透的和干燥的组合物。在固化过程中，UV辐射可以在约0.1至2J/cm2进行约1至600秒，或约0.1至1.5J/cm2进行约2至200秒，或约0.2至1J/cm2进行约3至100秒，以引发充分的固化反应。
通过该方法，可以获得上述一个实施方案的抗反射涂膜，其中中空颗粒的横截面积与用作低折射率层的第二层的任何横截面积的比例为约70至95%，或约75至93%，或约80至90%，或约85至92%，并且因此中空颗粒可以密集地分布于低折射率层中。
除上述步骤外，显而易见的是用于制造抗反射涂膜的方法另外包括在各个步骤前或后在本领域中通常进行的步骤。
在下文中，为更好的理解本发明而描述本发明的优选实施例。然而，以下实施例仅用于说明的目的，并且不旨在限制本发明。
实施例1
(制备抗反射涂料组合物)
基于100重量份的含有100重量份的六丙烯酸季戊四醇酯（分子量：298.3）和11.33重量份的具有氨基甲酸酯官能团的丙烯酸酯（由KYOEISHA制造，产品名称：UA-306T，分子量：1000）的（甲基）丙烯酸酯基化合物计；
约15.87重量份的二氧化硅纳米颗粒分散的二氧化硅溶胶（分散介质：甲基异丁基酮和甲醇，固含量：40重量%，二氧化硅纳米颗粒的数均直径：10nm，由Gaematech制造，产品名称：Purisol）；
约11.33重量份的中空二氧化硅分散的胶体溶液（分散介质：甲基异丁基酮，固含量：20重量%，中空二氧化硅的数均直径：50nm，由Catalysts&ChemicalsIndustriesCo.制造，产品名称：MIBK-溶胶）；
约10.85重量份的引发剂（具体地，约1.11重量份Darocur-1173、约6.48重量份Irgacure-184、约2.15重量份Irgacure-819和约1.11重量份Irgacure-907）；和
约251.85重量份的溶剂（具体地，约179.63重量份甲基乙基酮(MEK)、约24.07重量份乙醇、约24.07重量份正丁醇和约24.07重量份乙酰基丙酮）混合以制备抗反射涂料组合物。
(制造抗反射涂膜)
使用线棒（第9号）将抗反射涂料组合物施加至三乙酸纤维素膜（厚度为80μm）。将膜在90℃烘箱中干燥1分钟，然后向其照射200mJ/cm2的UV能量持续5秒钟以固化组合物。
最终，制造包括由渗入至基底而形成的硬涂层和覆盖硬涂层的低折射率层的抗反射涂膜。
抗反射涂膜的横截面图像示于图3(a)中，并且其部分的显微镜图像示于图3(b)中。如图3所示，实施例1的抗反射涂膜已被发现具有包括通过渗入至基底1而固化的粘合剂和分散在粘合剂中的无机纳米颗粒的硬涂层2（约3.9μm）；包括在硬涂层2上固化的粘合剂和分散在粘合剂中的中空颗粒4的低折射率层3（约0.15μm）。
此外，在硬涂层2和低折射率层3之间没有独立层，中空颗粒4的横截面积与低折射率层3的任何横截面积的比例为约90%，表明中空颗粒4在低折射率层3中非常密集地分布。
实施例2
(制备抗反射涂料组合物)
基于100重量份的含有100重量份的六丙烯酸季戊四醇酯（分子量：298.3），11.33重量份的氟基丙烯酸酯（产品名称：OPTOOLAR110，由DAIKIN制造，固含量：15重量%，甲基异丁基酮溶剂），和11.33重量份的具有氨基甲酸酯官能团的丙烯酸酯（由KYOEISHA制造，产品名称：UA-306T，分子量：1000）的（甲基）丙烯酸酯基化合物计；
约15.87重量份的二氧化硅纳米颗粒分散的二氧化硅溶胶（分散介质：甲基异丁基酮和甲醇，固含量：40重量%，二氧化硅纳米颗粒的数均直径：10nm，由Gaematech制造，产品名称：Purisol）；
约11.33重量份的中空二氧化硅分散的胶体溶液（分散介质：甲基异丁基酮，固含量：20重量%，中空二氧化硅的数均直径：50nm，由Catalysts&ChemicalsIndustriesCo.制造，产品名称：MIBK-溶胶）；
约10.85重量份的引发剂（具体地，约1.11重量份Darocur-1173、约6.48重量份Irgacure-184、约2.15重量份Irgacure-819和约1.11重量份Irgacure-907）；和
约251.85重量份的溶剂（具体地，约179.63重量份甲基乙基酮(MEK)、约24.07重量份乙醇、约24.07重量份正丁醇和约24.07重量份乙酰基丙酮）混合以制备抗反射涂料组合物。
(制造抗反射涂膜)
在与实施例1相同的条件下并且以相同的方式制造抗反射涂膜，不同之处在于使用上述抗反射涂料组合物。
抗反射涂膜的横截面图像示于图4(a)中，并且其部分的显微镜图像示于图4(b)中。实施例2的抗反射涂膜已被发现具有包括通过渗入至基底1而固化的粘合剂和分散在粘合剂中的无机纳米颗粒的硬涂层2（约2.8μm）；包括在硬涂层2上固化的粘合剂和分散在粘合剂中的中空颗粒4的低折射率层3（约0.145μm）。
此外，在硬涂层2和低折射率层3之间没有独立层，并且中空颗粒4的横截面积与低折射率层3的任何横截面积的比例为约90%，表明中空颗粒4在低折射率层3中非常密集地分布。
在实施例2的抗反射涂膜中，特别地，氟基丙烯酸酯包含于低折射率层中，并且因此有效地产生组合物的相分离，并且耐划伤性也得到改进。
实施例3
(制备抗反射涂料组合物)
基于100重量份的含有100重量份的六丙烯酸季戊四醇酯（分子量：298.3）和11.33重量份具有氨基甲酸酯官能团的丙烯酸酯（由KYOEISHA制造，产品名称：510H，分子量：2000）的（甲基）丙烯酸酯基化合物计；
约15.87重量份的二氧化硅纳米颗粒分散的二氧化硅溶胶（分散介质：甲基异丁基酮和甲醇，固含量：40重量%，二氧化硅纳米颗粒的数均直径：10nm，由Gaematech制造，产品名称：Purisol）；
约11.33重量份的中空二氧化硅分散的胶体溶液（分散介质：甲基异丁基酮，固含量：20重量%，中空二氧化硅的数均直径：50nm，由Catalysts&ChemicalsIndustriesCo.制造，产品名称：MIBK-溶胶）；
约10.85重量份的引发剂（具体地，约1.11重量份Darocur-1173、约6.48重量份Irgacure-184、约2.15重量份Irgacure-819和约1.11重量份Irgacure-907）；和
约251.85重量份的溶剂（具体地，约179.63重量份甲基乙基酮(MEK)、约24.07重量份乙醇、约24.07重量份正丁醇和约24.07重量份乙酰基丙酮）混合以制备抗反射涂料组合物。
(制造抗反射涂膜)
使用线棒（第9号）将抗反射涂料组合物施加至三乙酸纤维素膜（厚度为80μm）。将膜在90℃烘箱中干燥1分钟，并且然后向其照射200mJ/cm2的UV能量持续5秒钟以固化组合物。
最终，制造包括由渗入至基底而形成的硬涂层和覆盖硬涂层的低折射率层的抗反射涂膜。
通过SEM而观察抗反射涂膜的横截面图像。因此，实施例3的抗反射涂膜已被发现具有包括通过渗入至基底而固化的粘合剂和分散在粘合剂中的无机纳米颗粒的硬涂层（约3.1μm）；包括在硬涂层上固化的粘合剂和分散在粘合剂中的中空颗粒的低折射率层（约0.16μm）。
此外，在硬涂层和低折射率层之间没有独立层，并且中空颗粒的横截面积与低折射率层的任何横截面积的比例为约90%，表明中空颗粒在低折射率层中非常密集地分布。
实施例4
(制备抗反射涂料组合物)
基于100重量份的含有100重量份的六丙烯酸季戊四醇酯（分子量：298.3）和11.33重量份具有酯基官能团的丙烯酸酯（由SKCytec制造，产品名称：DPHA，分子量：524）的（甲基）丙烯酸酯基化合物计；
约15.87重量份的二氧化硅纳米颗粒分散的二氧化硅溶胶（分散介质：甲基异丁基酮和甲醇，固含量：40重量%，二氧化硅纳米颗粒的数均直径：10nm，由Gaematech制造，产品名称：Purisol）；
约11.33重量份的中空二氧化硅分散的胶体溶液（分散介质：甲基异丁基酮，固含量：20重量%，中空二氧化硅的数均直径：50nm，由Catalysts&ChemicalsIndustriesCo.制造，产品名称：MIBK-溶胶）；
约10.85重量份的引发剂（具体地，约1.11重量份Darocur-1173、约6.48重量份Irgacure-184、约2.15重量份Irgacure-819和约1.11重量份Irgacure-907）；和
约251.85重量份的溶剂（具体地，约179.63重量份甲基乙基酮(MEK)、约24.07重量份乙醇、约24.07重量份正丁醇和约24.07重量份乙酰基丙酮）混合以制备抗反射涂料组合物。
(制造抗反射涂膜)
使用线棒（第9号）将抗反射涂料组合物施加至三乙酸纤维素膜（厚度为80μm）。将膜在90℃烘箱中干燥1分钟，并且然后向其照射200mJ/cm2的UV能量持续5秒钟以固化组合物。
最终，制造包括由渗入至基底而形成的硬涂层和覆盖硬涂层的低折射率层的抗反射涂膜。
抗反射涂膜的横截面图像示于图5(a)中，并且其部分的显微镜图像示于图5(b)中。如图5所示，实施例4的抗反射涂膜已被发现具有包括通过渗入至基底1而固化的粘合剂和分散在粘合剂中的无机纳米颗粒的硬涂层2（约2.78μm）；包括在硬涂层2上固化的粘合剂和分散在粘合剂中的中空颗粒4的低折射率层3（约0.18μm）。
此外，在硬涂层2和低折射率层3之间没有独立层，并且中空颗粒4的横截面积与低折射率层3的任何横截面积的比例为约90%，表明中空颗粒4在低折射率层3中非常密集地分布。
对比实施例1
(制备抗反射涂料组合物)
基于100重量份的六丙烯酸季戊四醇酯(PETA)计；
15.87重量份的二氧化硅纳米颗粒分散的二氧化硅溶胶（分散介质：甲基异丁基酮和甲醇，固含量：40重量%，二氧化硅纳米颗粒的数均直径：10nm，由Gaematech制造，产品名称：Purisol）；
约11.33重量份的中空二氧化硅分散的胶体溶液（分散介质：甲基异丁基酮，固含量：20重量%，中空二氧化硅的数均直径：50nm，由Catalysts&ChemicalsIndustriesCo.制造，产品名称：MIBK-溶胶）；
约10.85重量份的引发剂（具体地，约1.11重量份Darocur-1173、约6.48重量份Irgacure-184、约2.15重量份Irgacure-819和约1.11重量份Irgacure-907）；和
约251.85重量份的溶剂（具体地，约125.91重量份甲基异丁基酮、约41.98重量份乙醇、约41.98重量份正丁醇和约41.98重量份乙酰基丙酮）混合以制备抗反射涂料组合物。
(制造抗反射涂膜)
在与实施例1相同的条件下并且以相同的方式制造抗反射涂膜，不同之处在于使用上述抗反射涂层组合物。抗反射涂膜的横截面图像示于图6(a)中，并且其部分的显微镜图像示于图6(b)中。
如图6所示，在对比实施例1的抗反射涂膜中，没有恰当地出现组合物的相分离（见图6(a)的圆圈），并且特别地，中空颗粒4非常稀疏地分布于低折射率层中（见图6(b)的圆圈）。因此，膜的外观变得不透明，并且耐划伤性和抗反射效果也降低（见试验实施例）。在对比实施例1的抗反射涂膜中，中空颗粒的横截面积与中空颗粒分布区域的整个面积中的任何横截面积的比例发现为约30～60%。
试验实施例
评估由实施例和对比实施例制造的抗反射涂膜的以下项目，并且结果示于以下表1中。
1)测量反射比：用黑色处理抗反射涂膜的背面，并且然后通过最小反射比值评估低反射特性。这时，使用ShimadzuSolidSpec.3700分光光度计用于测量。
2)测量透射比和雾度：使用HR-100(MurakamiCo.,Japan)用于评估透射比和雾度。
3)评估耐划伤性：使用钢丝绒在负载为500g/cm2下速度为24m/min下摩擦抗反射涂膜10次，并且然后对表面上长度为1cm以上的划痕数量进行计数。这时，当膜表面未发现划痕时，将其评估为“非常优异”(◎)，并且当长度为1cm以上的划痕数量为1以上且小于5，5以上且小于15，和15以上时，各自分别评估为“优异”(○)，“中等”(△)和“差”(×)。
4)膜的横截面的显微镜成像：使用透射电子显微镜（名称：H-7650，由HITACHI制造）观察通过切片机（microtoming）制备的各个膜的横截面。
5)评估粘合性：各个膜的粘合性使用Nichiban胶带通过划格试验(ASTMD-3359)而评估。
表1
反射比(%) 透射比(%) 雾度(%) 耐划伤性 粘合性
实施例1 1.2 95.8 0.3 ○ 5B
实施例2 1.2 95.8 0.2 ◎ 5B
实施例3 1.67 95.2 0.3 ◎ 5B
实施例4 1.30 95.5 0.3 ◎ 5B
对比实施例1 2.0 94.0 0.7 △ 2B
如表1所示，实施例的抗反射涂膜与对比实施例的膜相比具有更低的反射比和更高的透射比，并且其具有优异的耐划伤性和粘合性。
引用编号
1:基底
2:第一层(硬涂层)
3:第二层(低折射率层)
4:中空颗粒

Claims (18)

1.一种抗反射涂膜，包括：
第一层，其包括第一(甲基)丙烯酸酯基粘合剂和在第一(甲基)丙烯酸酯基粘合剂中的无机纳米颗粒，并且其已经渗入至基底中；和
第二层，其包括第二(甲基)丙烯酸酯基粘合剂和在第二(甲基)丙烯酸酯基粘合剂中的中空颗粒，并且其覆盖第一层，
其中，中空颗粒的横截面积与第二层的任何横截面积之比为70至95％。
2.权利要求1的抗反射涂膜，其中第一(甲基)丙烯酸酯基粘合剂包括分子量小于600的(甲基)丙烯酸酯基化合物的交联聚合物。
3.权利要求1的抗反射涂膜，其中第二(甲基)丙烯酸酯基化合物包括分子量小于600的(甲基)丙烯酸酯基化合物和分子量为600至100,000的(甲基)丙烯酸酯基化合物的交联共聚物。
4.权利要求2的抗反射涂膜，其中除具有交联聚合物的区域外，第一层还包括具有分子量小于600的(甲基)丙烯酸酯基化合物和分子量为600至100,000的(甲基)丙烯酸酯基化合物的交联共聚物的区域。
5.权利要求1的抗反射涂膜，其中第二层还包括无机纳米颗粒。
6.权利要求4的抗反射涂膜，其中具有交联共聚物的区域位于第一层的5至50％深度处，基于第一层和第二层的界面计。
7.权利要求3或4的抗反射涂膜，其中包含交联共聚物以呈现对第二层的增加的分布梯度。
8.权利要求2的抗反射涂膜，其中分子量小于600的(甲基)丙烯酸酯基化合物为一种或多种选自以下的化合物：三(甲基)丙烯酸季戊四醇酯、四(甲基)丙烯酸季戊四醇酯、六(甲基)丙烯酸二季戊四醇酯、三(甲基)丙烯酸三亚甲基丙酯、二(甲基)丙烯酸乙二醇酯、9,9-双[4-(2-丙烯酰氧基乙氧基)苯基]芴、双(4-甲基丙烯酰氧基苯硫基)硫化物，和双(4-乙烯基苯硫基)硫化物。
9.权利要求1的抗反射涂膜，其中第二(甲基)丙烯酸酯基粘合剂包括分子量小于600的(甲基)丙烯酸酯基化合物，分子量为600至100,000的(甲基)丙烯酸酯基化合物和氟基(甲基)丙烯酸酯化合物的交联共聚物。
10.权利要求9的抗反射涂膜，其中氟基(甲基)丙烯酸酯化合物包括一种或多种选自以下化学式1至化学式5的化合物的化合物：
其中R1为氢基团或具有1至6个碳原子的烷基，a为0至7的整数，并且b为1至3的整数；
其中c为1至10的整数；
其中d为1至11的整数；
其中e为1至5的整数；
其中f为4至10的整数。
11.权利要求3的抗反射涂膜，其中分子量为600至100,000的(甲基)丙烯酸酯基化合物包括具有两个以上的通过连接物而连接的分子量小于600的(甲基)丙烯酸酯基化合物的分子的化合物。
12.权利要求3的抗反射涂膜，其中分子量为600至100,000的(甲基)丙烯酸酯基化合物包括具有一个或多个选自以下的取代基的化合物：环氧基、羟基、羧基、硫醇基、具有6个以上碳原子的芳族或脂族烃基，和异氰酸酯基。
13.权利要求11的抗反射涂膜，其中连接物包括硫醚键、醚键或酯键。
14.权利要求11的抗反射涂膜，其中连接物包括氨基甲酸酯键。
15.权利要求1的抗反射涂膜，其中无机纳米颗粒的数均直径为5至50nm。
16.权利要求1的抗反射涂膜，其中无机纳米颗粒为二氧化硅纳米颗粒。
17.权利要求1的抗反射涂膜，其中中空颗粒的数均直径为5至80nm。
18.权利要求1的抗反射涂膜，其中中空颗粒为中空二氧化硅颗粒。
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