CN103626522A - 一种彩釉瓷画的制备工艺 - Google Patents
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Abstract
本发明属于瓷画制作领域，具体的说是一种彩釉瓷画的制备工艺。在陶瓷基板上喷涂一层透明釉并烘干后，直接在透明釉上用粉碎至纳米级的颜料喷绘图案，之后在图案上方再喷涂一层透明釉，最后再放入窑中烧制使得颜料渗透到透明釉中，之后冷却即得成品，该工艺过程使得颜料在烧制过程中能够很好渗透到透明釉中，最大程度上保证烧制过程中颜料的原色，所制得的彩釉瓷画保真度极高，画面十分逼真，能够达到和原画几乎等同的效果，而且能够长时间保存，便于产业化生产，具有极高的艺术、商业价值。
Description
技术领域
本发明属于瓷画制作领域，具体的说是一种彩釉瓷画的制备工艺。
背景技术
瓷画，又称瓷版画，作为一种文化载体，发端于瓷都景德镇，由景德镇烧瓷艺术演绎而来，形成于南昌，主要流传分布在南昌市、景德镇、九江等及邻近省市，是瓷器文化与绘画艺术的完美结合，传承了赣文化的历史，传统的瓷画的制备工艺均是在平素瓷板上绘画（包括人工绘制与印刷）或贴花，调整画面后进行烧制得成品，但这种传统的工艺所制得的瓷画保真度低，画面线条轮廓粗糙，画质感差，无法完成绘画到瓷画之间的完美转换，这就极大的降低了瓷画的艺术美感。
发明内容
为了解决上述技术问题，本发明提供一种具有高的保真度、艺术美感极强的彩釉瓷画的制备工艺。
本发明为解决上述技术问题所采用的技术方案为：一种彩釉瓷画的制备工艺，在陶瓷基板上喷涂一层透明釉并烘干后，直接在透明釉上用粉碎至纳米级的颜料喷绘图案，之后在图案上方再喷涂一层透明釉，最后再放入窑中烧制使得颜料渗透到透明釉中，之后冷却即得成品。
作为进一步的设置，所述的陶瓷基板上设有一层由锆白釉形成的白釉层，在喷涂透明釉之前，先对白釉层表面进行打毛处理。
作为进一步的设置，所述陶瓷基板上的透明釉的厚度为2-5mm，烘干温度为60℃-80℃。
作为进一步的设置，所述陶瓷基板的背面还设有一层柔性缓冲层，柔性缓冲层的形状和大小与陶瓷基板一致，彩釉瓷画的四周还设有框架，柔性缓冲层和基板的四周边缘均卡设在框架内。
在上述制备工艺中，用纳米级颜料在透明釉层上喷绘成图像时，使用电脑根据彩釉瓷画烧制过程中的窑变特性反向调整处理过的图像为模板。
在上述制备工艺中，烧制温度为1100℃—1200℃，烧制时间为40min-70min，之后通过水冷使其温度降至550℃-650℃，之后经自然冷却后出窑即可。
在上述制备工艺中，在纳米级颜料在透明釉层上喷绘成图像时，若喷绘的图像中有红色部分，则在微喷时将其空出来，待彩釉瓷板画坯体烧制完成后，在预留的空白区域涂绘所需红色。
根据上述制备工艺制得的彩釉瓷画，所述彩釉瓷画设有一基板，在基板上设有透明釉层，由颜料组成的釉画层渗透到透明釉层内，由透明釉形成的保护釉层覆盖在透明釉层上。在基板的背面还设有柔性缓冲层，彩釉瓷画***设有框架。
有益效果：本发明一种彩釉瓷画的制备工艺，采用在基板上喷洒透明釉，使用预先粉碎好的纳米级颜料在透明釉上喷绘成画，与传统的在平素陶瓷基板上绘画的方法相比，本发明在透明釉层上作画，并使得颜料在烧制过程中能够很好渗透到透明釉中，经烧制后制得具有高保真度的瓷画，最大程度上保证烧制过程中颜料的原色，所制得的彩釉瓷画保真度极高，画面十分逼真，能够达到和原画几乎等同的效果，而且进一步的，本发明在透明釉上作画后再喷洒一层透明釉作为保护层，隔绝了釉画与空气的接触，使得所制得的釉画能够长时间保存，便于产业化生产，具有极高的艺术、商业价值。
附图说明
图1本发明的立体结构示意图。
具体实施方式
下面说明本发明的具体实施方式：一种彩釉瓷画的制备工艺，在陶瓷基板上喷涂一层透明釉并烘干后，直接在透明釉上用粉碎至纳米级的颜料喷绘图案，之后在图案上方再喷涂一层透明釉，最后再放入窑中烧制使得颜料渗透到透明釉中，之后冷却即得成品。
在渗有釉画层的透明釉层外增设一透明釉层，可以进一步增强瓷画的耐保存性，使得颜料与外界空气完全隔绝，更利于瓷画的长久保存。
在所述基板的背面还设有一层柔性缓冲层，柔性缓冲层的形状和大小与基板一致，能够满足运输搬运或是进行展览，所述彩釉瓷画的四周还设有框架，柔性缓冲层和基板的四周边缘均卡设在框架内，成为完整的成品。
上述工艺中，先在基板上设置一层锆白釉并将其表面打毛处理，锆白釉主要作衬色用，还可一定程度上提高瓷画整体强度，之后在锆白釉层上喷透明釉，所述透明釉的厚度为2-5mm，但并不局限于此厚度，烤干温度为60℃-80℃。
在上述工艺中，用纳米级颜料在透明釉层上喷绘成图像时，使用电脑根据彩釉瓷画烧制过程中的窑变特性反向调整处理过的图像为模板，以便于抵消窑变造成的变色问题。
上述工艺过程中，所用的烧制温度为1100℃—1200℃，烧制时间为40min-70min，之后通过水冷使其温度降至550℃-650℃，之后经自然冷却后出窑即可。
根据上述工艺制备的彩釉瓷画，所得彩釉瓷画设有一基板，在基板上设有透明釉层，由颜料组成的釉画层渗透到透明釉层内，由透明釉形成的保护釉层覆盖在透明釉层上，在基板的背面还设有柔性缓冲层，彩釉瓷画***设有框架。
为了更好的保留原处理图像的逼真度，在纳米级颜料在透明釉层上喷绘成图像时，若喷绘的图像中有红色部分，则在微喷时将其空出来，待彩釉瓷板画坯体烧制完成后，在预留的空白区域涂绘所需红色，因窑变的存在，在烧制瓷画时，长久以来一直都无法得到鲜亮的红色，这往往会极大的降低原图画的美感，鉴于此本申请人抛开烧制过程，在烧制过程完成后单独在需要鲜亮红色的区域人工涂摸上所需颜料，依此得到所需颜色，该单独施加颜色的过程可以由绘画大师完成，有点睛之笔寓意，增添了瓷画的整体美感与趣味性。
Claims (10)
1.一种彩釉瓷画的制备工艺，其特征在于：在陶瓷基板上喷涂一层透明釉并烘干后，直接在透明釉上用粉碎至纳米级的颜料喷绘图案，之后在图案上方再喷涂一层透明釉，最后再放入窑中烧制使得颜料渗透到透明釉中，之后冷却即得成品。
2.如权利要求1所述的一种彩釉瓷画的制备工艺，其特征在于：所述的陶瓷基板上设有一层由锆白釉形成的白釉层，在陶瓷基板喷涂透明釉之前，先对白釉层表面进行打毛处理。
3.如权利要求1所述的一种彩釉瓷画的制备工艺，其特征在于：所述陶瓷基板上的透明釉的厚度均为2-5mm，烘干温度为60℃-80℃。
4.如权利要求1所述的一种彩釉瓷画的制备工艺，其特征在于：所述陶瓷基板的背面还设有一层柔性缓冲层，柔性缓冲层的形状和大小与陶瓷基板一致。
5.如权利要求4所述的一种彩釉瓷画的制备工艺，其特征在于：在烧制完成后，在制成的彩釉瓷画的四周设置框架，将柔性缓冲层和陶瓷基板的四周边缘均卡设在框架内。
6.如权利要求1所述的一种彩釉瓷画的制备工艺，其特征在于：以根据颜料在烧制过程中的窑变特性反向调整处理过的图像为模板，用纳米级颜料在透明釉上喷绘图像。
7.如权利要求1所述的一种彩釉瓷画的制备工艺，其特征在于：烧制温度为1100℃—1200℃，烧制时间为40min-70min，绕制完成后通过水冷使其温度降至550℃-650℃，之后经自然冷却后出窑即可。
8.如权利要求1所述的一种彩釉瓷画的制备工艺，其特征在于：在透明釉上喷绘图像时，将图像中的红色部分空出来，待烧制完成后，在预留的空白区域涂绘所需红色。
9.一种根据权利要求1制备的彩釉瓷画，其特征在于：所述彩釉瓷画设有一基板，在基板上设有透明釉层，由颜料组成的釉画层渗透到透明釉层内，由透明釉形成的保护釉层覆盖在透明釉层上。
10.如权利要求9所述的彩釉瓷画，其特征在于：在基板的背面还设有柔性缓冲层，彩釉瓷画***设有框架。
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