CN103502892A - 用于胶印成像的方法 - Google Patents

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I·舒斯特
M·纳卡希
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Abstract

一种用于将图像写到胶印介质（100）的表面的方法，包括：将胶印介质安装在成像鼓（204）上；以高能量辐射在表面的第一部分上成像以烧蚀第一部分，其中所述第一部分表示非图像数据；以及以低能量辐射成像表面的第二部分以在第二部分上固定图像数据。

Description

用于胶印成像的方法
技术领域
本发明涉及一种用于计算机直接制版（CTP）印刷***的成像***，更具体而言涉及一种包括与胶版印刷板结合的专用成像头的免处理***。
背景技术
多数制造胶版印刷板的已知方法需要使用化学制品以溶解板的非图像区域。也可以使用例如预洗、预热、涂胶以及后烘干的其他方法。所有这些方法成本高并且可能不太环保。
普通板分为两种类别，负极板和正极板，在负极板中在图像区域中完成曝光使得图像中的涂层更牢固，在正极板中在由能量弱化的非图像区域上完成对于激光的曝光。
通常在负极板中，由于化学交联获得了更牢固且更稳定的图像，而通过显影剂溶解并冲洗较不牢固的非图像区域。在正极板中，图像通常不太稳定，但是在曝光之后，非图像变浅并且能够通过显影剂选择性地溶解和移除。在铝基板背景曝光之后，正极板和负极板被涂胶。
发明内容
简言之，根据本发明的一个方面，一种用于将图像写到胶印介质的表面的方法包括：将胶印介质安装在成像鼓上；以高能量辐射在表面的第一部分上成像以烧蚀第一部分，其中所述第一部分表示非图像数据；以及以低能量辐射成像表面的第二部分以在第二部分上固定图像数据。
通过结合附图阅读下面的具体描述，本发明的这些和其他目的、特征和优点对于本领域技术人员将变得明显，其中在附图和具体描述中显示且描述了本发明的说明性实施方案。
附图说明
图1为由亲水层和疏水层构成的板的图形表示；
图2为板成像装置的图形表示；以及
图3为安装在印刷滚筒上的印刷套筒的图形表示。
部件列表
10   板成像***
100  胶印板（介质）
104  疏水层
108  亲水层
112  支撑层
200  成像装置
204  鼓
208  激光成像单元（头）
212  激光强度调节元件（功率调节元件）
216  控制器
220  滑动架
224  螺钉
228  成像数据
304  连续印刷套筒
308  套筒部分
312  滚筒。
具体实施方式
在下面的具体描述中，提出了许多特定细节以供本公开的全面理解。但是，本领域技术人员将理解在不具有这些特定细节的情况下也能够实现本公开的教示。在其他实例中，并没有具体描述已知的方法、过程、组件和电路，以免阻碍对本公开的教示的理解。
虽然本发明的描述与一个实施方案有关，但是应当理解其不旨在将本发明限制为该实施方案。相反，其旨在覆盖如所附权利要求所覆盖的替换、修改和等同形式。
如图2中所示，板成像***10提供了用于制造胶版印刷板或胶版印刷套筒的免处理方案。该***包括两个主要组件。如图1所示，第一组件为胶印板100。胶印板100既不是负极板也不是正极板。胶印板100配置为在全部胶印板100表面上通过激光的方式进行曝光。
胶印板100基于两层结构，底部的亲水层108和顶部的疏水层104。亲水层允许将涂胶步骤消除。两层104和108放置在支撑层112上。同样的，根据本发明能够使用具有底部的亲水层108和顶部的疏水层104的印刷套筒304（图3）。图3显示了安装在滚筒312上的连续套筒304以及安装在滚筒上的一些分开的套筒部分308。
图2显示了成像装置200。成像装置200包括成像滑动架220，在成像滑动架220上安装有激光成像单元208和激光强度调节元件212。激光成像单元208配置到安装在旋转鼓204上的胶印板100。滑动架220适用于通过前进螺钉224的指引基本上平行于鼓204移动。
胶印板100通过激光成像单元208曝光。激光成像单元208烧蚀疏水层104。疏水层104的烧蚀部分表示在胶印板100上的非图像区域。通过由控制器216提供至激光成像单元208的图像数据表示非图像区域。通过在高功率处操作激光成像单元208来获得疏水层104的烧蚀。激光成像单元208的操作功率通过激光强度调节元件212进行控制。施加在非图像区域上的增大的功率烧蚀疏水层104。在图像区域中，激光功率通过调节元件212减小，使得通过交联涂层和通过在板层104和108之间赋予粘性来进行图像的强化。
激光成像单元208用在全部胶印板100上。板的非成像部分通过利用成像单元208较高的激光功率进行成像，而成像部分通过以较低激光功率操作成像单元208进行成像。根据由控制器216提供的图像数据228，通过调节单元212来调节成像单元208的功率。这种概念为负极板和正极板技术均提供了益处。除负极板的稳定性之外，将在正极板中获得干净的背景。
由于在板上实际上进行热处理，因此通过局部温度确定在板上的反应的类型和速率。在需要移除层的点处，激光头可以传递在板上烧蚀疏水层的高功率激光光斑。在应该固定板有源层的点处，激光头提供引起固定反应的较低能量水平。
总之，该***与已知的CTP***的不同之处在于，基于成像数据228部分地通过对于层108的水平的层104的烧蚀（通过利用较高的激光功率）以及部分地通过层104的固定（通过利用较低的激光功率），其曝光了板的每个部分。

Claims (4)

1.一种用于将图像写到胶印介质表面的方法，包括：
将所述胶印介质安装在所述成像鼓上：
以高能量辐射在所述表面的第一部分上成像以烧蚀所述第一部分，其中所述第一部分表示非图像数据；以及
以低能量辐射成像所述表面的第二部分以在所述第二部分上固定图像数据。
2.根据权利要求1所述的方法，其中所述胶印介质为板。
3.根据权利要求1所述的方法，其中所述胶印介质为套筒。
4.一种用于将图像写到介质的方法，包括：
将低功率辐射集中在介质上以通过交联强化成像区域。
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Citations (10)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE2149055A1 (de) * 1971-10-01 1973-04-05 Basf Ag Verfahren zur herstellung von druckplatten
US5760880A (en) * 1995-05-01 1998-06-02 E. I. Du Pont De Nemours And Company Laser apparatus
WO2001063364A1 (en) * 2000-02-22 2001-08-30 Macdermid Graphic Arts, Inc. Laser imaged printing plates comprising a multi-layer slip film
DE10028790A1 (de) * 2000-06-15 2001-12-20 Heidelberg Instruments Mikrotechnik Gmbh Verfahren zum lithographischen Belichten von Leiterplattensubstraten
US20080280227A1 (en) * 2007-05-08 2008-11-13 Wolfgang Sievers Exposing printing plates using light emitting diodes
US20100143840A1 (en) * 2008-12-04 2010-06-10 Janos Veres Flexographic element and method of imaging
CN101944475A (zh) * 2009-07-06 2011-01-12 索尼公司 制造半导体器件的方法及图案形成方法
EP2275870A1 (de) * 2009-07-14 2011-01-19 Flint Group Germany GmbH Verfahren zum Herstellen von zylinderförmigen Flexodruckplatten mittels digitaler Bebilderung
CN101971097A (zh) * 2008-03-21 2011-02-09 日立化成工业株式会社 感光性树脂组合物、感光性元件、抗蚀剂图案的形成方法及印刷配线板的制造方法
EP2416217A1 (en) * 2009-03-31 2012-02-08 LINTEC Corporation Member for masking film, process for producing masking film using same, and process for producing photosensitive resin printing plate

Family Cites Families (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US20110020750A1 (en) * 2009-07-24 2011-01-27 Presstek, Inc. Lithographic imaging and printing with wet, positive-working printing members

Patent Citations (10)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE2149055A1 (de) * 1971-10-01 1973-04-05 Basf Ag Verfahren zur herstellung von druckplatten
US5760880A (en) * 1995-05-01 1998-06-02 E. I. Du Pont De Nemours And Company Laser apparatus
WO2001063364A1 (en) * 2000-02-22 2001-08-30 Macdermid Graphic Arts, Inc. Laser imaged printing plates comprising a multi-layer slip film
DE10028790A1 (de) * 2000-06-15 2001-12-20 Heidelberg Instruments Mikrotechnik Gmbh Verfahren zum lithographischen Belichten von Leiterplattensubstraten
US20080280227A1 (en) * 2007-05-08 2008-11-13 Wolfgang Sievers Exposing printing plates using light emitting diodes
CN101971097A (zh) * 2008-03-21 2011-02-09 日立化成工业株式会社 感光性树脂组合物、感光性元件、抗蚀剂图案的形成方法及印刷配线板的制造方法
US20100143840A1 (en) * 2008-12-04 2010-06-10 Janos Veres Flexographic element and method of imaging
EP2416217A1 (en) * 2009-03-31 2012-02-08 LINTEC Corporation Member for masking film, process for producing masking film using same, and process for producing photosensitive resin printing plate
CN101944475A (zh) * 2009-07-06 2011-01-12 索尼公司 制造半导体器件的方法及图案形成方法
EP2275870A1 (de) * 2009-07-14 2011-01-19 Flint Group Germany GmbH Verfahren zum Herstellen von zylinderförmigen Flexodruckplatten mittels digitaler Bebilderung

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