CN103412428A - 一种对位*** - Google Patents

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Abstract

本发明公开了一种对位***，用于解决现有的对位处理存在的处理时间长且处理效率低的问题。本发明实施例的对位***包括：光源发射装置位于待对位对象的一侧，用于朝向该待对位对象发射光线；光源接收装置位于该待对位对象的另一侧且位于该待对位对象上设置的对位标记对应的标准位置上，光源接收装置中朝向该待对位对象的端面上设置有多个用于感应光源发射装置发射出的光线的光感应器；处理器用于接收每个光感应器传输的感应信号，并根据每个光感应器是否感应到光源发射装置发射出的光线，判断该待对位对象对位是否准确，从而缩短了处理时间，提高了处理效率。

Description

一种对位***
技术领域
本发明涉及显示装置的制造领域，特别涉及一种对位***。
背景技术
薄膜晶体管液晶显示器（Thin Film Transistor Liquid Crystal Display，TFT-LCD）具有体积小、功耗低、无辐射等优点，在当前的平板显示器市场中占据了主导地位，广泛应用于台式电脑、笔记本电脑、个人数字助理（PersonalDigital Assistant，PDA）、手机、电视、监视器等领域。
TFT-LCD制造过程大致可以分为以下三个阶段：
一、Array工艺（阵列工艺）；
在一张玻璃（Glass）基板上经过多次掩膜工艺，形成独立的TFT像素阵列电路，每个像素阵列区对应一个液晶显示屏（Panel），以形成阵列基板（TFT基板）。
二、Cell工艺（对盒工艺）；
在TFT基板上涂布液晶，并覆盖彩色滤光片，从而拼合成LCD面板，对该LCD面板进行切割处理，从而形成独立的液晶显示屏。
三、Module工艺（模组工艺）；
为每个液晶显示屏安装背光源，光学膜片以及周边电路等，从而形成完整的TFT-LCD显示模组。
在将玻璃基板投入Array工艺时，以底栅型TFT-LCD为例，第一道制作工序一般是制作栅极和栅线，其中，在第一道制作工序中还同时在玻璃基板的边角上制作Alignment Mark（对位标记），该Alignment Mark一般制作成十字形状，且采用金属薄膜制作，因此，该Alignment Mark不透光。阵列基板上的Alignment Mark在上述三个制作阶段中的作用至关重要，由于每道制作工序中，一般都需要将玻璃基板夹持到该工序对应的设备上（如溅射（sputter）设备、PECVD（Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition，等离子体增强化学气相沉积）设备、曝光设备、涂胶显影（Track）机（即光刻工序中除曝光设备之外的其他设备）等等），以实现对该玻璃基板进行相应操作，如成膜操作、曝光操作、刻蚀操作等等，但由于各设备的夹持构件在夹持玻璃基板时，有可能会使玻璃基板偏离其标准位置（即夹持构件无误差的理想状态下该玻璃基板应在的位置），因此，在对玻璃基板进行相应的操作之前，都要对玻璃基板进行对位，以确认玻璃基板对位是否良好。
目前采用的对玻璃基板上的Alignment Mark进行对位的方式为：预先保存玻璃基板在标准位置时，该玻璃基板上的Alignment Mark的标准照片；在制作过程中，若需要进行对位，则将拍摄到的该玻璃基板上的Alignment Mark的当前照片与预先保存的标准照片进行对比，如果相同，则说明该玻璃基板对位准确，并对该玻璃基板进行相应操作；如果不相同，则说明该玻璃基板的对位不准确。
综上所述，现有液晶显示装置的制作过程中所采用的对位处理方式，处理时间长，且处理效率低。
发明内容
本发明实施例提供了一种对位***，用于解决现有的对位处理方式存在的处理时间长，且处理效率低的问题。
本发明实施例提供了一种对位***，该对位***包括光源发射装置、光源接收装置及处理器；其中：
光源发射装置位于待对位对象的一侧，且朝向所述待对位对象发射光线；
光源接收装置位于所述待对位对象的另一侧且位于所述待对位对象上设置的对位标记对应的标准位置上，所述光源接收装置中朝向所述待对位对象的端面上设置有多个用于感应所述光线的光感应器；
处理器接收每个所述光感应器传输的感应信号，并根据所述光感应器是否感应到所述光线，判断所述待对位对象对位是否准确。
在实施中，处理器判断所述待对位对象对位是否准确包括：
若所述光源接收装置包含的至少一个光感应器未感应到所述光源发射装置发射出的光线，则所述处理器确定所述待对位对象对位不准确；
若所述光源接收装置包含的所有光感应器均感应到所述光源发射装置发射出的光线，则所述处理器确定所述待对位对象对位准确。
进一步，在确定所述待对位对象对位不准确时，所述处理器还根据所述光源接收装置中未感应到所述光线的光感应器的位置和数量，分别确定出所述待对位对象需要调节的对位方向和对位距离，其中，所述对位距离包括水平距离和垂直距离。
进一步，所述方法还包括：
针对所述待对位对象上设置的至少两个所述对位标记，所述处理器根据两个所述对位标记对应的所述光源接收装置中未感应到所述光线的光感应器的位置，判断所述待对位对象是否产生转动；或者，
针对所述待对位对象上设置的至少两个所述对位标记，所述处理器分别确定出每个所述对位标记对应的最大水平距离和最大垂直距离，并根据两个所述对位标记对应的最大水平距离和最大垂直距离，判断所述待对位对象是否产生转动。
进一步，在确定所述待对位对象产生了转动之后，所述方法还包括：
所述处理器根据两个所述对位标记的最大水平距离的差值以及两个所述对位标记的最大垂直距离的差值，确定出所述对位角度；且，所述处理器根据两个所述对位标记对应的所述光源接收装置中未感应到所述光线的光感应器的位置，确定出所述对位角度的补偿方向；
在根据所述对位角度及所述补偿方向对所述待对位对象进行补偿后，针对任一所述对位标记，所述处理器根据所述光源接收装置中未感应到所述光线的光感应器的位置和数量，分别确定出所述待对位对象需要调节的对位方向和对位距离。
作为一种优选的实现方式，若所述对位标记不透明，且所述对位标记的周边透明，则：
所述光源接收装置中朝向所述对位标记的端面包括位于中心位置的第一区域以及与所述第一区域邻接的第二区域，所述第一区域的形状及尺寸与所述对位标记的形状及尺寸相同；
其中，所述第二区域由分别设置于所述第一区域所在的矩形区域的四周的子区域构成，所有所述光感应器均匀分布于所述第二区域内，且任意两个所述光感应器等距离设置。
该优选的实现方式下，优选的，所述第一区域的中心位置设置有中心光接收器件，
若所述光源接收装置包含的所有光感应器均感应到所述光线，且该光源接收装置包含的中心光接收器件未感应到所述光线，所述处理器确定所述待对位对象对位准确；若所述光源接收装置包含的所有光感应器均感应到所述光线，且该光源接收装置包含的中心光接收器件感应到所述光线，所述处理器确定所述待对位对象对位不准确。
该优选的实现方式下，处理器根据所述光源接收装置中未感应到所述光线的光感应器的位置，确定出所述待对位对象的对位方向为背离所述光源接收装置中未感应到所述光源发射装置发射出的光线的光感应器所在位置的方向。
作为另一种优选的实现方式，若所述对位标记透明，且所述对位标记的周边不透明，则：
所述光源接收装置中朝向所述对位标记的端面包括位于中心位置的第一区域，所述第一区域的形状及尺寸与所述对位标记的形状及尺寸相同；
其中，所有所述光感应器均匀分布于所述第一区域内，且任意两个所述光感应器等距离设置。
该优选的实现方式下，所述处理器根据所述对位标记的外接矩形在所述光源接收装置中的投影的外侧区域中未感应到光线的光感应器的位置和数量，分别确定出所述待对位对象需要调节的对位方向和对位距离，其中，所述对位距离包括水平距离和垂直距离。
具体的，处理器确定出所述待对位对象的对位方向为朝向所述光源接收装置中未感应到所述光源发射装置发射出的光线的光感应器所在位置的方向。
作为一种优选的应用场景，所述对位***应用于显示装置制作过程中，且所述待对位对象为衬底基板，所述衬底基板的至少一个边角区域内设置有所述对位标记。
本发明实施例中，通过位于待对位对象的一侧的光源发射装置，朝向该待对位对象发射光线；通过位于该待对位对象的另一侧且位于该待对位对象上设置的对位标记对应的标准位置上的光源接收装置中朝向该待对位对象的端面上设置的多个光感应器，感应光源发射装置发射出的光线；以及通过处理器用于接收每个光感应器传输的感应信号，并根据每个光感应器是否感应到光源发射装置发射出的光线，判断该待对位对象对位是否准确。由于本发明实施例通过光源接收装置包含的光感应器是否感应到光源发射装置发射出的光线，就能判断出待对位对象对位是否准确，从而缩短了对位处理的时间，提高了对位处理的效率。
附图说明
图1为本发明实施例提供的一种对位***的结构示意图；
图2A为本发明实施例提供的实施方式一中多个光感应器的分布示意图；
图2B为本发明实施例提供的实施方式一中对位标记与光源接收装置的一种相对位置示意图；
图2C为本发明实施例提供的实施方式一中对位标记与光源接收装置的另一种相对位置示意图；
图2D为本发明实施例提供的实施方式一中两个对位标记在待对位对象上的第一种位置示意图；
图2E为本发明实施例提供的实施方式一中两个对位标记在待对位对象上的第二种位置示意图；
图2F为本发明实施例提供的实施方式一中两个对位标记在待对位对象上的第三种位置示意图；
图2G为本发明实施例提供的实施方式一中光源接收装置的光感应器所在的端面的又一优选结构示意图；
图3A为本发明实施例提供的实施方式二中多个光感应器的分布示意图；
图3B为本发明实施例提供的实施方式二中对位标记与光源接收装置的一种相对位置示意图；
图3C为本发明实施例提供的实施方式二中对位标记与光源接收装置的另一种相对位置示意图；
图4为本发明实施例提供的再一种多个光感应器的分布示意图；
图5为本发明实施例提供的对位***应用于显示装置制作过程中的优选结构示意图。
具体实施方式
本发明实施例通过光源接收装置包含的光感应器是否感应到光源发射装置发射出的光线，就能判断出待对位对象对位是否准确，从而缩短了对位处理的时间，提高了对位处理的效率。
下面结合说明书附图对本发明实施例作进一步详细描述。
参见图1所示，本发明实施例提供了一种对位***，包括：光源发射装置1、光源接收装置2及处理器3；其中，在对待对位对象进行对位处理时：
光源发射装置1位于待对位对象的一侧，且朝向该待对位对象发射光线；
光源接收装置2位于待对位对象的另一侧且位于该待对位对象上设置的对位标记对应的标准位置上，光源接收装置2中朝向该待对位对象的端面上设置有多个用于感应光源发射装置1发射出的光线的光感应器；
处理器3接收每个光感应器传输的感应信号，并根据每个光感应器是否感应到光源发射装置1发射出的光线，判断该待对位对象对位是否准确。
具体的，针对光源接收装置中的任一光感应器，若该光感应器感应到光源发射装置发射出的光线（即该光感应器接收到光源发射装置发射出的光线），则该光感应器向处理器传输用于表示自身感应到了该光源发射装置发射出的光线的感应信号；若该光感应器未感应到光源发射装置发射出的光线（即该光感应器未接收到光源发射装置发射出的光线），则该光感应器向处理器传输用于表示自身未感应到该光源发射装置发射出的光线的感应信号。
本发明实施例中，待对位对象对应的标准位置（也可以称为理想位置）是指，在设备的夹持构件无误差的理想状态下，该待对位对象被夹持时所在的位置；进一步，待对位对象上的对位标记对应的标准位置（也可以称为理想位置）是指，该待对位对象位于标准位置时，该待对位对象上的对位标记所在的位置。但由于设备的夹持构件进行的每一次夹持动作之间一般都会存在细微的误差（一般为微米级的误差），这种差别在制作工艺中也是不能容忍的，需要通过对对位标记进行对位，进一步消除该待对位对象所处位置与标准位置（即理想位置）之间的差异，确保使用本设备对待对位对象进行制作得到的图案与该待对位对象的前一次制作工艺形成的图案能够匹配。
本发明实施例中，在对该待对位对象进行对位处理时，位于该待对位对象的一侧的光源发射装置朝向该待对位对象发射光线，而位于该待对位对象的另一侧且位于该待对位对象上设置的对位标记对应的标准位置上的光源接收装置，感应该光源发射装置发射出的光线；根据该光源接收装置包含的光感应器是否感应到该光源发射装置发射出的光线，来判断该待对位对象对位是否准确。由于本发明实施例通过光源接收装置包含的光感应器是否感应到光源发射装置发射出的光线，就能判断出待对位对象对位是否准确，从而缩短了对位处理的时间，提高了对位处理的效率。
需要说明的是，本发明实施例中，光源发射装置与光源接收装置分别设置于该待对位对象的两侧，光源发射装置可以设置于待对位对象的一侧的任意位置；由于需要根据光源接收装置包含的光感应器是否感应到该光线来判断该待对位对象对位是否准确，因此，光源接收装置需要设置于该待对位对象的另一侧且位于该待对位对象上设置的对位标记对应的标准位置上。
优选的，光源发射装置可以与光源接收装置分别位于该待对位对象的两侧，且该光源发射装置的位置与该光源接收装置的位置相对应，即该光源发射装置与该光源接收装置分别设置于该待对位对象的对位标记的两侧。
进一步，若待对位对象上设置有至少两个对位标记，则本发明实施例光源接收装置还可以根据需要从一个对位标记对应的标准位置上移动到另一个对位标记对应的标准位置上，以便于基于不同的对位标记进行该待对位对象的对位处理。
需要说明的是，本发明实施例中，不对对位标记的形状进行限定，对位标记可以为任意形状，如十字形、三角形、圆形、多边形等等；
本发明实施例中，不对光感应器的种类进行限定，凡是能够感应光源发射装置发出的光线的感应器件均可作为本发明实施例的光感应器。其中，可以根据待对位对象的对位精度（如微米级对位精度、或毫米级对位精度等等），选择光感应器的类型（例如，选择电荷耦合元件（Charge-coupled Device，CCD）作为光感应器）、尺寸、分辨率等参数信息，以及确定多个光感应器在该光源发射装置分布时任意相邻两个光感应器的间距。
在实施中，处理器判断待对位对象对位是否准确，包括以下两种情况：
若光源接收装置包含的至少一个光感应器未感应到光源发射装置发射出的光线，则该处理器确定该待对位对象对位不准确；
若光源接收装置包含的所有光感应器均感应到光源发射装置发射出的光线，则该处理器确定该待对位对象对位准确。
进一步，在处理器确定该待对位对象对位不准确时，该处理器还根据光源接收装置中未感应到光线的光感应器的位置和数量，分别确定出该待对位对象需要调节的对位方向和对位距离，其中，该对位距离包括水平距离和垂直距离。
具体的，处理器可以根据光源接收装置中未感应到光线的光感应器的位置和数量，确定出该待对位对象在水平方向上（向左或向右）需要移动多大距离，和/或，在垂直方向上（向上或向下）需要移动多大距离，以使该待对位对象能够位于其对应的标准位置上。
本发明实施例中，在进行对位处理时，待对位对象有可能出现偏转，即与其对应的标准位置存在一定的转角，该转角的角度值一般较小（一般在1°以内），则：
一、若仅需要检测待对位对象的对位是否准确，则可以通过在该待对位对象上仅设置一个对位标记，即可判断出该对位对象是否对位准确；
二、若需要确定出该待对位对象需要在水平方向和垂直方向上调节的距离，且，该待对位对象与其对应的标准位置之间不存在转角或者对该待对位对象的转角参数的精度要求较低（即可忽略该待对位对象的转角参数），则可以通过在该待对位对象上设置一个对位标记，进行对位处理，具体为：
在判断出该对位对象对位不准确时，根据该根据光源接收装置中未感应到光线的光感应器的位置和数量，分别确定出该待对位对象需要调节的对位方向和对位距离；
三、若既需要考虑该待对位对象是否产生了转动，又需要考虑该待对位对象在水平方向和垂直方向上的偏移，则处理器需要先确定该对位对象是否产生了转动；然后，在确定产生了转动后，该处理器确定对位角度（即该对位对象转动的角度）及补偿方向（朝向与该对位对象转动的方向相反的方向进行补偿）；接着，在根据该对位角度及补偿方向对该对位对象进行补偿后，该处理器再确定其需要在水平方向上调节的距离（即水平方向上向左或向右移动多大距离）和垂直方向上调节的距离（即垂直方向上向上或向下移动多大距离）。
在实施中，处理器确定该对位对象是否产生了转动，包括以下两种方法：
方法1、针对该待对位对象上设置的至少两个对位标记，处理器根据两个对位标记对应的光源接收装置中未感应到光线的光感应器的位置，判断该待对位对象是否产生转动。
具体为：若两个对位标记对应的光源接收装置中未感应到光线的光感应器的位置相同，则处理器确定该待对位对象未产生转动；
若两个对位标记对应的光源接收装置中未感应到光线的光感应器的位置不同，则处理器确定该待对位对象产生了转动。
方法2、针对该待对位对象上设置的至少两个对位标记，处理器分别确定出每个对位标记对应的最大水平距离和最大垂直距离，并根据两个对位标记对应的最大水平距离和最大垂直距离，判断该待对位对象是否产生转动。
具体为：若两个对位标记对应的最大水平距离相等，且两个对位标记对应的最大垂直距离相等，则处理器确定该待对位对象未产生转动；
若两个对位标记对应的最大水平距离不等，或两个对位标记对应的最大垂直距离不等，则处理器确定该待对位对象产生了转动。
在实施中，处理器进行对位处理具体包括：
针对该待对位对象上设置的至少两个对位标记，处理器根据该两个对位标记的最大水平距离的差值以及该两个对位标记的最大垂直距离的差值，确定出对位角度；且，该处理器根据两个对位标记对应的光源接收装置中未感应到光线的光感应器的位置，确定出该对位角度的补偿方向（即顺时针补偿或逆时针补偿）；
在根据对位角度以及其补偿方向对该待对位对象进行补偿后，针对任一对位标记，该处理器根据光源接收装置中未感应到光线的光感应器的位置和数量，分别确定出该待对位对象需要调节的对位方向和对位距离。
优选的，处理器按照公式一确定出该待对位对象的对位角度：
tgθ = ΔH ΔV 公式一；
其中，θ为该待对位对象的对位角度，ΔH为两个对位标记的最大水平距离的差值，ΔV为两个对位标记的最大垂直距离的差值。
在实施中，根据确定出的对位角度对该待对位对象进行补偿，具体包括：
根据确定出的对位角度及其补偿方向，调节该待对位对象（即顺时针或逆时针转动该待对位对象），以使该待对位对象当前所在位置与其标准位置之间的不存在角度偏差或使该角度偏差在允许的误差范围内。
作为一种优选应用场景，本发明实施例提供的对位***可以应用于显示装置制作过程中，此时，该待对位对象为衬底基板，该衬底基板的至少一个边角区域内设置有对位标记。当然，本发明实施例提供的对位***也可以应用于其他需要进行对位处理的场景下。
若本发明实施例的对位***可以应用于显示装置制作过程中，作为一种优选实现方式，该衬底基板上设置的对位标记为十字形对位标记。当然，该对位标记也可以为其他形状，如三角形、圆形、矩形、多边形等等。
在实施中，本发明实施例的光源接收装置包含多个光感应器（LightSensor），该多个光感应器在该光源接收装置的朝向该对位标记的端面上的分布与该待对位对象上的对位标记是否透光以及对位标记的形状有关，包括以下两种优选实施方式：
实施方式一、若该待对位对象上的对位标记不透明，且该对位标记的周边透明，该光源接收装置中朝向对位标记的端面包括位于中心位置的第一区域以及与该第一区域邻接的第二区域，其中：
该第一区域的形状及尺寸与待对位对象上设置的对位标记的形状及尺寸相同，该第二区域由分别设置于该第一区域所在的矩形区域的四周的子区域构成，所有光感应器均匀分布于该第二区域内，且任意两个光感应器等距离设置；
举例说明，以对位标记的形状为十字形为例，其他形状的对位标记与其类似，此处不再一一举例说明。该光源接收装置中朝向对位标记的端面中的第一区域M及第二区域N的结构参见图2A所示，图2A中，第一区域M的形状及尺寸与待对位对象上设置的对位标记的形状及尺寸相同，第二区域N由分别设置于该第一区域M所在的矩形区域的四周的子区域构成，所有光感应器均匀分布于该第二区域N内，且任意两个光感应器等距离设置。
该方式下，若光源接收装置包含的至少一个光感应器未感应到光源发射装置发射出的光线，则处理器确定待对位对象对位不准确；若光源接收装置包含的所有光感应器均感应到光源发射装置发射出的光线，则该处理器确定待对位对象对位准确。
该方式下，若处理器确定该待对位对象对位不准确时，该处理器根据不同应用场景，按照对应的处理方式确定出该待对位对象需要调节的方向和位置：
第一种应用场景、在进行对位处理时，处理器仅需要考虑该待对位对象在水平方向和垂直方向发生的偏移。
在该应用场景下，进行对位处理时，该待对位对象上可以仅包含一个对位标记，光源发射装置位于该对位标记的一侧，朝向该对位标记发射光线，光源接收装置位于该对位标记的另一侧且位于该对位标记对应的标准位置上，该处理器根据光源接收装置中未感应到光源发射装置发射出的光线的光感应器的位置和数量，分别确定出该待对位对象需要调节的对位方向和对位距离，其中，该对位距离包括水平距离和垂直距离。
在实施中，该处理器根据光源接收装置中未感应到光线的光感应器的位置和数量，确定出的该待对位对象需要调节的对位方向为背离该光源接收装置中未感应到光源发射装置发射出的光线的光感应器所在的位置的方向。
例如，水平方向上：若左侧区域的光感应器未感应到光源发射装置发射出的光线，则确定的对位方向为向右，即需要向右调节该待对位对象；若右侧区域的光感应器未感应到光源发射装置发射出的光线，则确定的对位方向为向左，即需要向左调节该待对位对象；
垂直方向上：若上侧区域的光感应器未感应到光源发射装置发射出的光线，则确定的对位方向为向下，即需要向下调节该待对位对象；若下侧区域的光感应器未感应到光源发射装置发射出的光线，则确定的对位方向为向上，即需要向上调节该待对位对象。
在实施中，该处理器根据设定的未感应到光线的光感应器的数量与对位距离之间的对应关系，确定出该待对位对象需要调节的对位距离；
具体的，该对应关系可以是该第二区域的任一子区域内未感应到光线的光感应器的总数量与对位距离之间的对应关系；该对应关系也可以是该第二区域的任一子区域内未感应到光线的光感应器所占的行数（或列数）与对位距离之间的对应关系，例如，该第二区域中左侧子区域内未感应到光线的光感应器占三列，则对应的对位距离为两个列距，又如，该第二区域中上侧子区域内未感应到光线的光感应器占两行，则对应的对位距离为一个行距。
在实施中，优选的，该对应关系是该第二区域的任一子区域内未感应到光线的光感应器所占的行数M（或列数N）与对位距离之间的对应关系，其中，确定出的对位距离为M-1个行距（或N-1个列距）。
举例说明，若当前待对位对象上的对位标记与该光源接收装置的相对位置如图2B所示，该光源接收装置的第二区域中的左侧子区域内包含的部分光感应器未感应到光源发射装置发射出的光线以及下侧子区域内包含的部分光感应器未感应到光源发射装置发射出的光线，则确定出的对位方向如图2B中箭头所示，该对位方向为背离该光源接收装置中未感应到光源发射装置发射出的光线的光感应器所在的位置的方向，即需要向右及向上补偿该待对位对象，以使该待对位对象能够处于其对应的标准位置上。
在实施中，处理器可以根据设定的未感应到光线的光感应器的数量与对位距离之间的对应关系，确定出需要调节的对位距离。图2B中，假设该光源接收装置的第二区域中的左侧子区域内未感应到光源发射装置发射出的光线的光感应器为7列，确定出水平方向的对位距离为6个列距，结合对位方向，需要向右补偿6个列距的对位距离；图2B中，假设该光源接收装置的第二区域中的下侧子区域内未感应到光源发射装置发射出的光线的光感应器为5行，确定出垂直方向的对位距离为4个行距，结合对位方向，需要向上补偿4个行距的对位距离。
第二种应用场景、在进行对位处理时，处理器需要考虑该待对位对象的对位角度，即需要考虑该待对位对象是否发生了角度偏转。若该待对位对象发生了角度偏转，则该待对位对象上的任一对位标记也会相应存在角度偏转，如图2C所示。
在该应用场景下，进行对位处理时，根据该对位对象上设置的至少两个对位标记，采用上述方法1或方法2，确定出该待对位对象是否产生了转动，若产生了转动，进一步确定出相应的对位角度以及补偿方向，在根据该对位角度以及其补偿方向对该待对位对象进行补偿后，再根据本实施例的第一种应用场景下的处理方式确定出水平方向上和垂直方向上的对位距离和对位方向。
具体的，在进行对位处理过程中，先将光源接收装置放置于该对位对象上设置的任一对位标记对应的标准位置上，确定出该光源接收装置中未感应到光线的光感应器的位置和数量；然后，根据两个对位标记之间的相对位置关系，将该光源接收装置移至另一个对位标记对应的标准位置上，确定出该光源接收装置中未感应到光线的光感应器的位置和数量。
在实施中，该处理器根据两个对位标记对应的光源接收装置中未感应到光线的光感应器的位置，确定出该对位角度的补偿方向，具体为：
在光源接收装置位于第一个对位标记对应的标准位置时，该处理器确定出该光源接收装置中未感应到光线的光感应器的位置；在该光源接收装置位于第二个对位标记对应的标准位置时，该处理器确定出该光源接收装置中未感应到光线的光感应器的位置；该处理器根据两个对位标记对应的光源接收装置中未感应到光线的光感应器的位置，确定出该待对位对象相对于该待对位对象对应的标准位置转动的方向（即顺时针或逆时针）；进一步，该处理器确定出该对位角度的补偿方向为该待对位对象相对于其对应的标准位置转动的方向的反方向（若转动的方向为顺时针，则该补偿方向为逆时针；若转动的方向为逆时针，则该补偿方向为顺时针）。
需要说明的是，由于两个对位标记设置的位置不同，确定补偿方向的方法也不同，但只要确定了两个对位标记设置的位置，即可按照设定的方法，根据该两个对位标记对应的光源接收装置中未感应到光线的光感应器的位置，确定出对位角度的补偿方向。
例如，假设两个对位标记分别位于该待对位对象的对角位置上，其中，一个对位标记设置于右上角，另一个对位标记设置于左下角，参见图2D所示，则处理器确定对位角度的补偿方向具体为：
若处理器根据位于右上角的对位标记确定出的光源接收装置中左侧子区域（和/或上侧子区域）中包含未感应到光线的光感应器，且该处理器根据位于左下角的对位标记确定出的光源接收装置中右侧子区域（和/或下侧子区域）中包含未感应到光线的光感应器，则该处理器确定出该待对位对象转动的方向为逆时针，进一步，该处理器确定出的补偿方向为顺时针；
若处理器根据位于右上角的对位标记确定出的光源接收装置中右侧子区域（和/或下侧子区域）中包含未感应到光线的光感应器，且该处理器根据位于左下角的对位标记确定出的光源接收装置中左侧子区域（和/或上侧子区域）中包含未感应到光线的光感应器，则该处理器确定出该待对位对象转动的方向为顺时针，进一步，该处理器确定出的补偿方向为逆时针。
又如，假设两个对位标记分别位于该待对位对象的上侧的两个边缘区域上，其中，一个对位标记设置于左上角，另一个对位标记设置于右上角，参见图2E所示，则处理器确定对位角度的补偿方向具体为：
若处理器根据位于左上角的对位标记确定出的光源接收装置中下侧子区域中包含未感应到光线的光感应器，且该处理器根据位于右上角的对位标记确定出的光源接收装置中上侧子区域中包含未感应到光线的光感应器，则该处理器确定出该待对位对象转动的方向为逆时针，进一步，该处理器确定出的补偿方向为顺时针；
若处理器根据位于左上角的对位标记确定出的光源接收装置中上侧子区域中包含未感应到光线的光感应器，且该处理器根据位于右上角的对位标记确定出的光源接收装置中下侧子区域中包含未感应到光线的光感应器，则该处理器确定出该待对位对象转动的方向为顺时针，进一步，该处理器确定出的补偿方向为逆时针。
再如，假设两个对位标记分别位于该待对位对象的右侧的两个边缘区域上，其中，一个对位标记设置于右上角，另一个对位标记设置于右下角，参见图2F所示，则处理器确定对位角度的补偿方向具体为：
若处理器根据位于右上角的对位标记确定出的光源接收装置中左侧子区域中包含未感应到光线的光感应器，且该处理器根据位于右下角的对位标记确定出的光源接收装置中右侧子区域中包含未感应到光线的光感应器，则该处理器确定出该待对位对象转动的方向为逆时针，进一步，该处理器确定出的补偿方向为顺时针；
若处理器根据位于右上角的对位标记确定出的光源接收装置中右侧子区域中包含未感应到光线的光感应器，且该处理器根据位于右下角的对位标记确定出的光源接收装置中左侧子区域中包含未感应到光线的光感应器，则该处理器确定出该待对位对象转动的方向为顺时针，进一步，该处理器确定出的补偿方向为逆时针。
当然，两个对位标记还可以设置于该待对位对象的其他位置，如一个对位标记设置于左上角且另一个设置于右下角，又如，一个对位标记设置于左上角且另一个设置于左下角，等等，该处理器均可以根据两个对位标记对应的光源接收装置中未感应到光线的光感应器的位置，确定出该待对位对象的对位角度的补偿方向，此处不再一一列举。
本实施例中，优选的，参见图2G所示，该第一区域M的中心位置设置有中心光接收器件21。
相应的，处理器在判断该待对位对象对位是否准确时，执行如下步骤：
若光源接收装置包含的所有光感应器均感应到光源发射装置发射出的光线，且该光源接收装置包含的中心光接收器件未感应到光源发射装置发射出的光线，则确定该待对位对象对位准确；
若光源接收装置包含的所有光感应器均感应到光源发射装置发射出的光线，且该光源接收装置包含的中心光接收器件感应到光源发射装置发射出的光线，则确定该待对位对象对位不准确。
本发明实施例中，通过在光源接收装置的朝向待对位对象的端面的中心位置设置一个中心光接收器件，从而避免了待对位对象发生较大的偏移（如当前该待对位对象的对位标记已完全偏离出该光源接收装置）时造成误判。
本实施例中，进一步，在对该待对位对象进行补偿时，包括以下几种补偿方式：
方式一、根据确定出的对位方向和对位距离移动该待对位对象，以进行补偿，经调节后使该待对位对象上的对位标记位于其对应的标准位置上；
方式二、根据确定出的对位方向和对位距离，对本次需要对该待对位对象进行的操作进行补偿。
若该待对位对象存在角度偏转，则上述方式一具体为：先根据确定出的对位角度及其补偿方向，转动该待对位对象；再根据确定出的对位方向和对位距离移动该待对位对象，经调节后使该待对位对象上的对位标记位于其对应的标准位置上；
若该待对位对象存在角度偏转，则上述方式二具体为：先根据确定出的对位角度及其补偿方向，转动该待对位对象；再根据确定出的对位方向和对位距离，对本次需要对该待对位对象进行的操作进行补偿。
举例说明，以该对位***应用于显示装置制作过程中，且该待对位对象为衬底基板为例，假设本次操作为在衬底基板上制作有源层的工序为例，在进行处理之前，先通过本发明实施例的对位***对衬底基板进行对位处理，若处理器确定出该衬底基板对位不准确，则根据光源接收装置中未感应到光线的光感应器的位置和数量，分别确定本次操作需要调节的对位方向和对位距离，并在制作有源层的工序中（掩膜、曝光、显影、刻蚀等工艺）进行补偿，即根据确定出的对位方向和对位距离移动掩膜板（mask），以避免本工序中制作出的有源层与已制作的栅极、栅线等结构之间发生偏移现象，从而保证了有源层与已制作的栅极、栅线等结构之间的相对位置关系。
需要说明的是，本实施方式中，处理器根据光接收装置中每个光感应器是否感应到光发射装置发射出的光线，判断待对位对象对位是否准确时，若出现该光源接收装置包含的所有光感应器均未感应到光线的情况（即非正常状况），则说明该对位***出现故障或该待对位对象的对位标记的制作出现问题，该情况下，该对位***发出报警信号，以提示工作人员排除故障。
实施方式二、若该待对位对象上设置的对位标记透明，且该对位标记的周边不透明，则：光源接收装置中朝向该对位标记的端面包括位于中心位置的第一区域，该第一区域的形状及尺寸与该对位标记的形状及尺寸相同；其中，所有光感应器均匀分布于该第一区域内，且任意两个光感应器等距离设置。
举例说明，仍以对位标记的形状为十字形为例，该光源接收装置中朝向对位标记的端面中的第一区域M及第二区域N的结构参见图3A所示，图3A中，第一区域M的形状及尺寸与对位标记的形状及尺寸相同，所有光感应器均匀分布于该第一区域M内，且任意两个光感应器等距离设置。
该方式下，若光源接收装置包含的至少一个光感应器未感应到光源发射装置发射出的光线，则处理器确定待对位对象对位不准确；若光源接收装置包含的所有光感应器均感应到光源发射装置发射出的光线，则该处理器确定待对位对象对位准确。
该方式下，若处理器确定该待对位对象对位不准确时，该处理器根据不同应用场景，按照对应的处理方式确定出该待对位对象需要调节的方向和位置：
第一种应用场景、在进行对位处理时，处理器仅需要考虑该待对位对象在水平方向和垂直方向发生的偏移。
在该应用场景下，进行对位处理时，该待对位对象上可以仅包含一个对位标记，光源发射装置位于该对位标记的一侧，朝向该对位标记发射光线，光源接收装置位于该对位标记的另一侧且位于该对位标记对应的标准位置上，该处理器根据光源接收装置中未感应到光源发射装置发射出的光线的光感应器的位置和数量，分别确定出该待对位对象需要调节的对位方向和对位距离，其中，该对位距离包括水平距离和垂直距离。
在实施中，处理器根据该对位标记的外接矩形在该光源接收装置中的投影的外侧区域中未感应到光线的光感应器的位置和数量，分别确定出该待对位对象需要调节的对位方向和对位距离，其中，该对位距离包括水平距离和垂直距离。
具体的，该处理器确定出的该待对位对象需要调节的对位方向为朝向该光源接收装置中未感应到光源发射装置发射出的光线的光感应器所在的位置的方向。
进一步，本实施例中，该处理器根据设定的未感应到光线的光感应器的数量与对位距离之间的对应关系，确定出该待对位对象需要调节的对位距离；
具体的，由于该对位标记的外接矩形在该光源接收装置中的投影的外侧区域包括上、下、左、右四个子区域，因此，该对应关系可以是该外侧区域中任一子区域内未感应到光线的光感应器的总数量与对位距离之间的对应关系；该对应关系也可以是该外侧区域中任一子区域内未感应到光线的光感应器所占的行数（或列数）与对位距离之间的对应关系。
在实施中，优选的，该对应关系是该外侧区域的任一子区域内未感应到光线的光感应器所占的行数M（或列数N）与对位距离之间的对应关系，其中，确定出的对位距离为M-1个行距（或N-1个列距）。
举例说明，若当前待对位对象上的对位标记与该光源接收装置的相对位置如图3B所示，其中，虚线所示的矩形为该对位标记在该光源接收装置中的投影，该投影的外侧区域包括上、下、左、右四个子区域，且，左侧的子区域及下侧的子区域包含的部分光感应器未感应到光源发射装置发射出的光线，则确定出的对位方向如图3B中箭头所示，该对位方向为朝向该光源接收装置中未感应到光源发射装置发射出的光线的光感应器所在的位置的方向，即需要向左及向下补偿该待对位对象。
在实施中，处理器可以根据设定的未感应到光线的光感应器的数量与对位距离之间的对应关系，确定出需要调节的对位距离。图3B中，假设该对位标记的外接矩形在该光源接收装置中的投影的外侧区域的左侧子区域内未感应到光源发射装置发射出的光线的光感应器为4列，确定出水平方向的对位距离为3个列距，结合对位方向，需要向左补偿3个列距的对位距离；图3B中，假设该光源接收装置的第二区域中的下侧子区域内未感应到光源发射装置发射出的光线的光感应器为5行，确定出垂直方向的对位距离为4个行距，结合对位方向，需要向下补偿4个行距的对位距离。
第二种应用场景、在进行对位处理时，处理器需要考虑该待对位对象的对位角度，即需要考虑该待对位对象是否发生了角度偏转。若该待对位对象发生了角度偏转，则该待对位对象上的任一对位标记也会相应存在角度偏转，如图3C所示。
在该应用场景下，进行对位处理时，根据该对位对象上设置的至少两个对位标记，采用上述方法1或方法2，确定出该待对位对象是否产生了转动，若产生了转动，进一步确定出相应的对位角度以及补偿方向，在根据该对位角度以及其补偿方向对该待对位对象进行补偿后，再根据本实施例的第一种应用场景下的处理方式确定出水平方向上和垂直方向上的对位距离和对位方向。
具体的，在进行对位处理过程中，先将光源接收装置放置于该对位对象上设置的任一对位标记对应的标准位置上，确定出该光源接收装置中未感应到光线的光感应器的位置和数量；然后，根据两个对位标记之间的相对位置关系，将该光源接收装置移至另一个对位标记对应的标准位置上，确定出该光源接收装置中未感应到光线的光感应器的位置和数量。
在实施中，该处理器根据两个对位标记对应的光源接收装置中未感应到光线的光感应器的位置，确定出该对位角度的补偿方向，具体为：
在光源接收装置位于第一个对位标记对应的标准位置时，该处理器确定出该光源接收装置中未感应到光线的光感应器的位置；在该光源接收装置位于第二个对位标记对应的标准位置时，该处理器确定出该光源接收装置中未感应到光线的光感应器的位置；该处理器根据两个对位标记对应的光源接收装置中未感应到光线的光感应器的位置，确定出该待对位对象相对于该待对位对象对应的标准位置转动的方向（即顺时针或逆时针）；进一步，该处理器确定出该对位角度的补偿方向为该待对位对象相对于其对应的标准位置转动的方向的反方向（若转动的方向为顺时针，则该补偿方向为逆时针；若转动的方向为逆时针，则该补偿方向为顺时针）。
需要说明的是，由于两个对位标记设置的位置不同，确定补偿方向的方法也不同，但只要确定了两个对位标记设置的位置，即可按照设定的方法，根据该两个对位标记对应的光源接收装置中未感应到光线的光感应器的位置，确定出对位角度的补偿方向。由于本实施方式中确定对位角度的补偿方向的方法与实施方式一中确定对位角度的补偿方向的方法类似，此处不再赘述。
需要说明的是，本实施方式中，处理器根据光接收装置中每个光感应器是否感应到光发射装置发射出的光线，判断待对位对象对位是否准确时，若出现该光源接收装置包含的所有光感应器均未感应到光线的情况（即非正常状况），则说明该对位***出现故障或该待对位对象的对位标记的制作出现问题，该情况下，该对位***发出报警信号，以提示工作人员排除故障。
需要说明的是，以上仅给出了本发明实施例的两种优选实施例，本发明实施例中，光源接收装置包含的多个光感应器在该光源接收装置的朝向该对位标记的端面上的分布，还可以采用其他形式，如图4所示的分布，其中，待对位对象上的对位标记不透明，且该对位标记的周边透明，该光源接收装置中朝向对位标记的端面包括位于中心位置的第一区域M以及与该第一区域邻接的第二区域N，其中：该第一区域M的形状及尺寸与待对位对象上设置的对位标记的形状及尺寸相同，该第二区域N的形状与该第一区域M的形状互补，所有光感应器均匀分布于该第二区域N内，且任意两个光感应器等距离设置。
背景技术中，采用现有的对位方式进行对位处理时，若确定当前玻璃基板对位不准确，则根据经验对该用于拍摄玻璃基板上的对位标记的拍摄装置进行调整，每进行一次调整，都需要获取当前玻璃基板上的对位标记的照片，并与预先保存的标准照片进行比对，直至与该标准照片相同为止，并记录拍摄装置调整的方向及距离，在对玻璃基板进行相应的操作时，根据确定出的方向及距离，进行补偿，因此，对位精度较低，且处理时间较长；而本发明实施例中，在对待对位对象进行对位处理时，根据光源接收装置中未感应到光源发射装置发射出的光线的光感应器的位置和数量，分别确定本次操作对应的对位方向和对位距离，从而提高了对位精度，缩短了处理时间。
下面结合附图对本发明实施例提供的对位***应用于显示装置的制作过程为例，对本发明实施例的对位***的结构进行详细说明。
图5示出了本发明实施例对位***的一种优选实施方式，但并不是对该***的各装置所在位置的限定。
参见图5所示，本发明实施例提供的一种在显示装置制作过程中的对位处理***包括：光源发射装置1、光源接收装置2及处理器3；其中：
光源发射装置1位于衬底基板4的一侧，用于朝向衬底基板1发射光线；
光源接收装置2位于衬底基板4的另一侧且位于衬底基板4上设置的对位标记41对应的标准位置上，光源接收装置2中朝向衬底基板4的端面上设置有多个光感应器，每个光感应器用于感应光源发射装置1发射出的光线；
处理器3用于接收光源接收装置2包含的多个光感应器传输的感应信号，并根据该多个光感应器是否感应到光源发射装置1发射出的光线，判断衬底基板4对位是否准确。
具体的，若光源接收装置2包含的至少一个光感应器未感应到光源发射装置1发射出的光线，则处理器3确定衬底基板4对位不准确；若光源接收装置2包含的所有光感应器均感应到光源发射装置1发射出的光线，则处理器3确定衬底基板4对位准确。
进一步，处理器3还用于：在确定衬底基板4对位不准确时，根据光源接收装置2中未感应到光线的光感应器的位置和数量，分别确定出该衬底基板4需要调节的对位方向和对位距离，其中，对位距离包括水平距离和垂直距离。
在实施中，对该衬底基板4的对位精度要求很高，因此需要考虑该衬底基板4是否产生了转动，处理器3判断该衬底基板4是否产生了转动包括以下两种方法：
方法1、针对衬底基板4上设置的至少两个对位标记，处理器3根据两个对位标记对应的光源接收装置2中未感应到光线的光感应器的位置，判断衬底基板4是否产生转动。
具体的：若两个对位标记对应的光源接收装置2中未感应到光线的光感应器的位置相同，则处理器3确定该衬底基板4未产生转动；
若两个对位标记对应的光源接收装置2中未感应到光线的光感应器的位置不同，则处理器3确定该衬底基板4产生了转动。
方法2、针对衬底基板4上设置的至少两个对位标记，处理器3分别确定出每个对位标记对应的最大水平距离和最大垂直距离，并根据两个对位标记对应的最大水平距离和最大垂直距离，判断衬底基板4是否产生转动。
具体的，若两个对位标记对应的最大水平距离相等，且两个对位标记对应的最大垂直距离相等，则处理器3确定该衬底基板4未产生转动；
若两个对位标记对应的最大水平距离不等，或两个对位标记对应的最大垂直距离不等，则处理器3确定该衬底基板4产生了转动。
进一步，在确定该衬底基板4产生了转动后，处理器3进行对位处理的过程如下：
处理器3根据两个对位标记的最大水平距离的差值以及两个对位标记的最大垂直距离的差值，确定出对位角度；且，处理器3根据两个对位标记对应的光源接收装置2中未感应到光线的光感应器的位置，确定出该对位角度的补偿方向；
在根据该对位角度及该补偿方向对衬底基板4进行补偿后，针对任一对位标记，处理器3根据光源接收装置2中未感应到光线的光感应器的位置和数量，分别确定出衬底基板4需要调节的对位方向和对位距离。
作为一种优选的实施方式，若对位标记41不透明，且该对位标记41的周边透明，则：
光源接收装置2中朝向该对位标记41的端面包括位于中心位置的第一区域以及与该第一区域邻接的第二区域，第一区域的形状及尺寸与对位标记41的形状及尺寸相同，其中，该第二区域由分别设置于该第一区域所在的矩形区域的四周的子区域构成，所有光感应器均匀分布于第二区域内，且任意两个光感应器等距离设置。
该方式下，该处理器3根据光源接收装置2中未感应到光线的光感应器的位置和数量，分别确定出该衬底基板4需要调节的对位方向和对位距离。
具体的，该处理器3确定出的对位方向为背离光源接收装置2中未感应到光源发射装置1发射出的光线的光感应器所在的位置的方向。
在该实施方式下，进一步，该第一区域的中心位置设置有中心光接收器件，相应的，处理器3具体用于：
若光源接收装置2包含的所有光感应器均感应到光源发射装置1发射出的光线，且该光源接收装置2包含的中心光接收器件未感应到光源发射装置1发射出的光线，确定衬底基板4对位准确；
若光源接收装置2包含的所有光感应器均感应到光源发射装置1发射出的光线，且该光源接收装置2包含的中心光接收器件感应到光源发射装置1发射出的光线，确定衬底基板4对位不准确。
具体参见上述实施方式一的描述，此处不再赘述。
作为另一种优选的实施方式，若对位标记41透明，且对位标记41的周边不透明，则：
光源接收装置2中朝向对位标记41的端面包括位于中心位置的第一区域，该第一区域的形状及尺寸与所述对位标记41的形状及尺寸相同，其中，所有光感应器均匀分布于第一区域内，且任意两个光感应器等距离设置。
该方式下，该处理器3根据对位标记41的外接矩形在该光源接收装置2的投影的外侧区域中未感应到光线的光感应器的位置和数量，分别确定出该衬底基板4需要调节的对位方向和对位距离。
具体的，该处理器3确定出的对位方向为朝向光源接收装置2中未感应到光源发射装置1发射出的光线的光感应器所在的位置的方向。
具体参见上述实施方式二的描述，此处不再赘述。
优选的，对位标记为十字形对位标记。
优选的，衬底基板4的位于对角位置的两个边角区域内分别设置一个对位标记。
本实施例中，进一步，在对该衬底基板4进行补偿时，包括以下几种补偿方式：
方式一、根据确定出的对位方向和对位距离移动该衬底基板4，以进行补偿，经调节后使该衬底基板4上的对位标记位于其对应的标准位置上；
方式二、根据确定出的对位方向和对位距离，对本次需要对该衬底基板4进行的操作进行补偿，如对掩模（mask）板进行补偿。
若该衬底基板4存在角度偏转，则上述方式一具体为：先根据确定出的对位角度及该对位角度对应的对位方向，转动该衬底基板4；再根据确定出的对位方向和对位距离移动该待对位对象，经调节后使该衬底基板4上的对位标记位于其对应的标准位置上；
若该衬底基板4存在角度偏转，则上述方式二具体为：先根据确定出的对位角度及该对位角度对应的对位方向，转动该衬底基板4；再根据确定出的对位方向和对位距离，对本次需要对该衬底基板4进行的操作进行补偿。
尽管已描述了本发明的优选实施例，但本领域内的技术人员一旦得知了基本创造性概念，则可对这些实施例作出另外的变更和修改。所以，所附权利要求意欲解释为包括优选实施例以及落入本发明范围的所有变更和修改。
显然，本领域的技术人员可以对本发明进行各种改动和变型而不脱离本发明的精神和范围。这样，倘若本发明的这些修改和变型属于本发明权利要求及其等同技术的范围之内，则本发明也意图包含这些改动和变型在内。

Claims (12)

1.一种对位***，其特征在于，该对位***包括光源发射装置、光源接收装置及处理器；其中：
光源发射装置位于待对位对象的一侧，且朝向所述待对位对象发射光线；
光源接收装置位于所述待对位对象的另一侧且位于所述待对位对象上设置的对位标记对应的标准位置上，所述光源接收装置中朝向所述待对位对象的端面上设置有多个用于感应所述光线的光感应器；
处理器接收每个所述光感应器传输的感应信号，并根据所述光感应器是否感应到所述光线，判断所述待对位对象对位是否准确。
2.如权利要求1所述的对位***，其特征在于，
若所述光源接收装置包含的至少一个光感应器未感应到所述光源发射装置发射出的光线，则所述处理器确定所述待对位对象对位不准确；
若所述光源接收装置包含的所有光感应器均感应到所述光源发射装置发射出的光线，则所述处理器确定所述待对位对象对位准确。
3.如权利要求1所述的对位***，其特征在于，在确定所述待对位对象对位不准确时，所述处理器还根据所述光源接收装置中未感应到所述光线的光感应器的位置和数量，分别确定出所述待对位对象需要调节的对位方向和对位距离，其中，所述对位距离包括水平距离和垂直距离。
4.如权利要求3所述的对位***，其特征在于，所述方法还包括：
针对所述待对位对象上设置的至少两个所述对位标记，所述处理器根据两个所述对位标记对应的所述光源接收装置中未感应到所述光线的光感应器的位置，判断所述待对位对象是否产生转动；或者，
针对所述待对位对象上设置的至少两个所述对位标记，所述处理器分别确定出每个所述对位标记对应的最大水平距离和最大垂直距离，并根据两个所述对位标记对应的最大水平距离和最大垂直距离，判断所述待对位对象是否产生转动。
5.如权利要求4所述的对位***，其特征在于，在确定所述待对位对象产生了转动之后，所述方法还包括：
所述处理器根据两个所述对位标记的最大水平距离的差值以及两个所述对位标记的最大垂直距离的差值，确定出所述对位角度；且，所述处理器根据两个所述对位标记对应的所述光源接收装置中未感应到所述光线的光感应器的位置，确定出所述对位角度的补偿方向；
在根据所述对位角度及所述补偿方向对所述待对位对象进行补偿后，针对任一所述对位标记，所述处理器根据所述光源接收装置中未感应到所述光线的光感应器的位置和数量，分别确定出所述待对位对象需要调节的对位方向和对位距离。
6.如权利要求1所述的对位***，其特征在于，若所述对位标记不透明，且所述对位标记的周边透明，则：
所述光源接收装置中朝向所述对位标记的端面包括位于中心位置的第一区域以及与所述第一区域邻接的第二区域，所述第一区域的形状及尺寸与所述对位标记的形状及尺寸相同；
其中，所述第二区域由分别设置于所述第一区域所在的矩形区域的四周的子区域构成，所有所述光感应器均匀分布于所述第二区域内，且任意两个所述光感应器等距离设置。
7.如权利要求6所述的对位***，其特征在于，所述第一区域的中心位置设置有中心光接收器件，
若所述光源接收装置包含的所有光感应器均感应到所述光线，且该光源接收装置包含的中心光接收器件未感应到所述光线，所述处理器确定所述待对位对象对位准确；
若所述光源接收装置包含的所有光感应器均感应到所述光线，且该光源接收装置包含的中心光接收器件感应到所述光线，所述处理器确定所述待对位对象对位不准确。
8.如权利要求6所述的对位***，其特征在于，
所述处理器根据所述光源接收装置中未感应到所述光线的光感应器的位置，确定出所述待对位对象的对位方向为背离所述光源接收装置中未感应到所述光源发射装置发射出的光线的光感应器所在位置的方向。
9.如权利要求1所述的对位***，其特征在于，若所述对位标记透明，且所述对位标记的周边不透明，则：
所述光源接收装置中朝向所述对位标记的端面包括位于中心位置的第一区域，所述第一区域的形状及尺寸与所述对位标记的形状及尺寸相同；
其中，所有所述光感应器均匀分布于所述第一区域内，且任意两个所述光感应器等距离设置。
10.如权利要求9所述的对位***，其特征在于，
所述处理器根据所述对位标记的外接矩形在所述光源接收装置中的投影的外侧区域中未感应到光线的光感应器的位置和数量，分别确定出所述待对位对象需要调节的对位方向和对位距离，其中，所述对位距离包括水平距离和垂直距离。
11.如权利要求10所述的对位***，其特征在于，所述处理器确定出所述待对位对象的对位方向为朝向所述光源接收装置中未感应到所述光源发射装置发射出的光线的光感应器所在位置的方向。
12.如权利要求1～11任一项所述的对位***，其特征在于，所述对位***应用于显示装置制作过程中，且所述待对位对象为衬底基板，所述衬底基板的至少一个边角区域内设置有所述对位标记。
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Cited By (16)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN104536259A (zh) * 2014-12-26 2015-04-22 南京中电熊猫液晶显示科技有限公司 一种光配向掩膜板对位的检测方法
CN104808360A (zh) * 2015-04-30 2015-07-29 深圳市华星光电技术有限公司 一种液晶显示面板的检测安装装置
CN104810312A (zh) * 2015-05-21 2015-07-29 深圳市华星光电技术有限公司 栅极层上的对位标记的制作方法
CN105093636A (zh) * 2015-09-21 2015-11-25 京东方科技集团股份有限公司 触控显示基板及其制备方法和触控显示面板
CN105425478A (zh) * 2016-01-04 2016-03-23 京东方科技集团股份有限公司 一种对盒装置
CN106125354A (zh) * 2016-06-20 2016-11-16 厦门恺成精密机械有限公司 一种板类产品加工光学对位方法
CN106711074A (zh) * 2017-01-04 2017-05-24 京东方科技集团股份有限公司 一种基板加工设备及待加工基板的对位控制方法
CN106931290A (zh) * 2015-12-30 2017-07-07 上海微电子装备有限公司 一种减振***及其调节方法
CN108215434A (zh) * 2017-12-29 2018-06-29 武汉华星光电半导体显示技术有限公司 贴合设备及其对位方法
CN109060208A (zh) * 2018-08-21 2018-12-21 京东方科技集团股份有限公司 力学检测设备及采用该力学检测设备的检测方法
CN109649194A (zh) * 2019-01-14 2019-04-19 深圳大学 一种车辆无线充电对位偏差检测装置和方法
CN109752872A (zh) * 2019-03-26 2019-05-14 深圳市华星光电技术有限公司 残材夹取装置
WO2020000662A1 (zh) * 2018-06-27 2020-01-02 昆山国显光电有限公司 标记识别装置、标记识别方法及假压对位设备
CN112904682A (zh) * 2021-01-22 2021-06-04 西华大学 一种测量倾角和旋转角的光刻对准标记及对准方法
CN114771089A (zh) * 2022-06-23 2022-07-22 江苏慈美新材料科技有限公司 一种多尺寸定位校正印刷图案的印刷机
CN117111422A (zh) * 2023-10-23 2023-11-24 粤芯半导体技术股份有限公司 光罩正位识别方法、***和识别终端

Families Citing this family (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN104567664A (zh) * 2013-10-29 2015-04-29 鸿富锦精密工业（深圳）有限公司 影像量测***、影像量测***的使用方法和终端装置
CN105988303B (zh) * 2015-02-26 2018-03-30 上海微电子装备（集团）股份有限公司 一种掩模版传输装置及传输方法
CN105445986B (zh) * 2016-01-05 2021-03-23 京东方科技集团股份有限公司 一种显示面板及其制备方法、显示装置
DE102017105697A1 (de) * 2017-03-16 2018-09-20 Ev Group E. Thallner Gmbh Verfahren und Vorrichtung zur Ausrichtung zweier optischer Teilsysteme
US10460469B2 (en) * 2017-07-07 2019-10-29 GameFace Labs Inc. Systems and methods for position and pose determination and tracking
US10817764B2 (en) * 2018-09-21 2020-10-27 Beijing Jingdong Shangke Information Technology Co., Ltd. Robot system for processing an object and method of packaging and processing the same
TW202029933A (zh) * 2019-02-14 2020-08-16 睿健生技股份有限公司 用於放射治療的定位方法、裝置及系統
CN109866133B (zh) * 2019-04-11 2023-11-14 苏州雷格特智能设备股份有限公司 一种闸机红外线传感器对齐装置及对应的传感器定位方法

Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4643579A (en) * 1983-11-21 1987-02-17 Canon Kabushiki Kaisha Aligning method
US20020043344A1 (en) * 2000-09-14 2002-04-18 Hitachi Electronics Engineering Co., Ltd. Method and apparatus for bonding substrate plates together through gap-forming sealer material
JP2002265040A (ja) * 2001-03-06 2002-09-18 Sharp Corp 基板搬送用治具及びそれを用いた液晶表示素子の製造方法
US20080273159A1 (en) * 2007-05-03 2008-11-06 Samsung Electronics Co., Ltd. Display apparatus and method of manufacturing the same
CN102318078A (zh) * 2008-12-10 2012-01-11 应用材料股份有限公司 用于网板印刷图案对准的增强型检视***

Family Cites Families (13)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP0148477B1 (en) * 1983-12-26 1991-09-04 Hitachi, Ltd. Exposure apparatus and method of aligning exposure mask with workpiece
JPH0685387B2 (ja) * 1986-02-14 1994-10-26 株式会社東芝 位置合わせ方法
KR900004269B1 (ko) * 1986-06-11 1990-06-18 가부시기가이샤 도시바 제 1물체와 제 2 물체와의 위치 맞추는 방법 및 장치
JP3491346B2 (ja) * 1994-08-22 2004-01-26 株式会社ニコン 位置合わせ方法及びそれを用いた露光方法、並びに位置合わせ装置及びそれを用いた露光装置
KR100246574B1 (ko) * 1994-12-26 2000-03-15 유무성 레티클 정렬장치 및 방법
US5907405A (en) * 1995-09-01 1999-05-25 Nikon Corporation Alignment method and exposure system
JP3445100B2 (ja) * 1997-06-02 2003-09-08 キヤノン株式会社 位置検出方法及び位置検出装置
US6856029B1 (en) * 2001-06-22 2005-02-15 Lsi Logic Corporation Process independent alignment marks
US7809278B2 (en) * 2004-07-26 2010-10-05 Hewlett-Packard Development Company, L.P. Apparatus and method of providing separate control and data channels between arrays of light emitters and detectors for optical communication and alignment
JPWO2012073483A1 (ja) * 2010-11-29 2014-05-19 株式会社ニコン マーク検出方法、露光方法及び露光装置、並びにデバイス製造方法
KR101941323B1 (ko) * 2011-08-10 2019-01-22 브이 테크놀로지 씨오. 엘티디 노광 장치용 얼라인먼트 장치 및 얼라인먼트 마크
NL2011687A (en) * 2012-12-14 2014-06-17 Asml Netherlands Bv Method of operating a lithographic apparatus, device manufacturing method and associated data processing apparatus and computer program product.
CN103366648B (zh) * 2013-07-24 2015-06-17 京东方科技集团股份有限公司 基板、显示屏、拼接屏及拼接屏的对位方法

Patent Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4643579A (en) * 1983-11-21 1987-02-17 Canon Kabushiki Kaisha Aligning method
US20020043344A1 (en) * 2000-09-14 2002-04-18 Hitachi Electronics Engineering Co., Ltd. Method and apparatus for bonding substrate plates together through gap-forming sealer material
JP2002265040A (ja) * 2001-03-06 2002-09-18 Sharp Corp 基板搬送用治具及びそれを用いた液晶表示素子の製造方法
US20080273159A1 (en) * 2007-05-03 2008-11-06 Samsung Electronics Co., Ltd. Display apparatus and method of manufacturing the same
CN102318078A (zh) * 2008-12-10 2012-01-11 应用材料股份有限公司 用于网板印刷图案对准的增强型检视***

Cited By (25)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN104536259A (zh) * 2014-12-26 2015-04-22 南京中电熊猫液晶显示科技有限公司 一种光配向掩膜板对位的检测方法
CN104808360A (zh) * 2015-04-30 2015-07-29 深圳市华星光电技术有限公司 一种液晶显示面板的检测安装装置
WO2016173030A1 (zh) * 2015-04-30 2016-11-03 深圳市华星光电技术有限公司 一种液晶显示面板的检测安装装置
CN104808360B (zh) * 2015-04-30 2018-05-29 深圳市华星光电技术有限公司 一种液晶显示面板的检测安装装置
CN104810312A (zh) * 2015-05-21 2015-07-29 深圳市华星光电技术有限公司 栅极层上的对位标记的制作方法
CN105093636B (zh) * 2015-09-21 2018-11-13 京东方科技集团股份有限公司 触控显示基板及其制备方法和触控显示面板
CN105093636A (zh) * 2015-09-21 2015-11-25 京东方科技集团股份有限公司 触控显示基板及其制备方法和触控显示面板
CN106931290A (zh) * 2015-12-30 2017-07-07 上海微电子装备有限公司 一种减振***及其调节方法
CN105425478A (zh) * 2016-01-04 2016-03-23 京东方科技集团股份有限公司 一种对盒装置
US10509264B2 (en) 2016-01-04 2019-12-17 Boe Technology Group Co., Ltd. Cell alignment device
WO2017118196A1 (zh) * 2016-01-04 2017-07-13 京东方科技集团股份有限公司 对盒装置
CN106125354A (zh) * 2016-06-20 2016-11-16 厦门恺成精密机械有限公司 一种板类产品加工光学对位方法
CN106711074A (zh) * 2017-01-04 2017-05-24 京东方科技集团股份有限公司 一种基板加工设备及待加工基板的对位控制方法
CN108215434A (zh) * 2017-12-29 2018-06-29 武汉华星光电半导体显示技术有限公司 贴合设备及其对位方法
US11439050B2 (en) 2018-06-27 2022-09-06 Kunshan Go-Visionox Opto-Electronics Co., Ltd. Mark recognition devices, mark recognition methods and pseudo pressure alignment devices
WO2020000662A1 (zh) * 2018-06-27 2020-01-02 昆山国显光电有限公司 标记识别装置、标记识别方法及假压对位设备
CN109060208A (zh) * 2018-08-21 2018-12-21 京东方科技集团股份有限公司 力学检测设备及采用该力学检测设备的检测方法
CN109649194A (zh) * 2019-01-14 2019-04-19 深圳大学 一种车辆无线充电对位偏差检测装置和方法
CN109649194B (zh) * 2019-01-14 2023-03-03 深圳大学 一种车辆无线充电对位偏差检测装置和方法
CN109752872A (zh) * 2019-03-26 2019-05-14 深圳市华星光电技术有限公司 残材夹取装置
CN112904682A (zh) * 2021-01-22 2021-06-04 西华大学 一种测量倾角和旋转角的光刻对准标记及对准方法
CN112904682B (zh) * 2021-01-22 2023-08-01 西华大学 一种测量倾角和旋转角的光刻对准标记及对准方法
CN114771089A (zh) * 2022-06-23 2022-07-22 江苏慈美新材料科技有限公司 一种多尺寸定位校正印刷图案的印刷机
CN117111422A (zh) * 2023-10-23 2023-11-24 粤芯半导体技术股份有限公司 光罩正位识别方法、***和识别终端
CN117111422B (zh) * 2023-10-23 2023-12-29 粤芯半导体技术股份有限公司 光罩正位识别方法、***和识别终端

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Publication number Publication date
WO2015010396A1 (zh) 2015-01-29
US9798167B2 (en) 2017-10-24
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