CN103407225A - 金色低辐射镀膜玻璃及其制造方法 - Google Patents
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Abstract
本发明涉及玻璃加工技术领域，具体的说是一种膜层结构简单、易于大规模生产、着色良好、节能效果显著的金色低辐射镀膜玻璃及其制造方法，其特征在于在玻璃基板表面依次沉积以下薄膜：氮化硅缓冲层薄膜，镍铬合金诱导层薄膜，金功能层薄膜，镍铬合金诱导层薄膜，ZnO：Al保护层薄膜，本发明提出的金色低辐射镀膜玻璃在中远红外波段具有较高的反射率，在可见光波段具有较好的遮光性能，同时其反射色在较广的视角范围内体现金色色泽，与现有技术相比，具有辐射率低、遮阳、美观、色泽纯正等显著的优点。
Description
技术领域
本发明涉及玻璃加工技术领域，具体的说是一种膜层结构简单、易于大规模生产、着色良好、节能效果显著的金色低辐射镀膜玻璃及其制造方法。
背景技术
低辐射节能镀膜玻璃是一种已经被广泛使用的节能镀膜玻璃，它通过提高对中远红外辐射的反射率，获得较小的玻璃传导系数，减少冬季室内暖气向室外辐射散热，进而达到降低采暖能耗的目的。
传统低辐射节能镀膜玻璃主要包括基于透明导电氧化物材料SnO2：F的在线镀膜玻璃和基于金属Ag的离线镀膜玻璃，目前市场上基于这两类材料的低辐射镀膜产品的外观以无色透明为主，为了获得色彩美化功能，加工过程中可以采用本体染色的彩色玻璃基板，或者在基板上进行多膜层加工进行膜系匹配，其中前者需要根据产品最终颜色反复变换玻璃基板，加工工序复杂，后者由于镀膜材料本身的限制，产品无法获得纯正的金色外观（大都为土黄色或无法在人眼可视范围内获得金色色泽），尤其是在本玻辐射率≤0.03、薄膜体系以Ag和SnO2：F材料为主体中的玻璃上难以实现。
中国专利ZL2008100656547以及ZL2012104512688分别公开了一种金色低辐射镀膜玻璃及其制作方法，前者采用了复合金属膜层来实现玻璃表面的金色外观，在制作过程中需要对玻璃基板进行多次镀膜操作，而由于产品的外观颜色主要来自于复合金属膜层内的镀铜层，外观颜色并不是纯正的金色，此外其产品的可见光膜面反射率小于55%，在简化制作工艺、提高外观色泽纯正度以及节能效果方面都存在不足；后者采用了Ag薄膜作为功能层，依旧在外观色彩的呈现和可见光膜面的反射率等方面存在不足。
发明内容
本发明针对现有技术中存在的缺点和不足，提出一种膜层结构简单、易于大规模生产、着色及外观色彩呈现良好、节能效果显著的金色低辐射镀膜玻璃及其制造方法。
本发明可以通过以下措施达到：
一种金色低辐射镀膜玻璃，其特征在于在玻璃基板表面依次沉积以下薄膜：
氮化硅缓冲层薄膜，
镍铬合金诱导层薄膜，
金功能层薄膜，
镍铬合金诱导层薄膜，
ZnO：Al保护层薄膜。
本发明中所述氮化硅缓冲层的厚度为18nm-25nm，镍铬合金诱导层的厚度为1nm-5nm，金功能层的厚度为35nm-50nm，ZnO：Al保护层薄膜厚度为8nm-15nm。
本发明中所述玻璃基板可以为浮法玻璃。
一种如上所述金色低辐射镀膜玻璃的制造方法，其特征在于包括以下步骤：
步骤1：基板预处理，采用纯水对玻璃基板依次进行高压预喷淋、盘刷研磨、高压喷淋、风刀切水隔离、纯水喷淋、滚刷、风刀切水隔离、盘刷研磨、滚刷后，对玻璃基板进行风刀烘干，其中纯水≥10MΩ，烘干温度为60℃左右，风刀烘干流量控制在4T/h，风压0.5Mpa，运行速度为5m/min，
步骤2：制备氮化硅缓冲层，将镀膜室抽真空，使其真空度≤10-4pa后，充入氮气和氩气，氮气与氩气的充入体积比为4:5，使镀膜室内压力稳定在0.3Pa，开启溅射电源，使用Si靶材，将Si3N4薄膜沉积到玻璃基板表面，厚度为18nm-25nm，
步骤3：制备第一镍铬合金诱导层，将镀膜室抽真空，使其真空度≤10-4pa后，充入氩气使镀膜室内压力稳定在0.3Pa，开启溅射电源，使用Ni：Cr为4:1的Ni-Cr靶材，将镍铬合金薄膜沉积到玻璃基板表面，厚度为1nm-5nm，
步骤4：制备金功能层，将镀膜室抽真空，使其真空度≤10-4pa后，充入氩气使镀膜室内压力稳定在0.3Pa，开启溅射电源，使用Au靶材，将Au薄膜沉积到玻璃基板表面，厚度为35nm-50nm，
步骤5：制备第二镍铬合金诱导层，将镀膜室抽真空，使其真空度≤10-4pa后，充入氩气使镀膜室内压力稳定在0.3Pa，开启溅射电源，使用Ni-Cr靶材，Ni-Cr靶材中Ni：Cr=4:1，将镍铬合金薄膜沉积到玻璃基板表面，厚度为1nm-5nm，
步骤6：制作ZnO：Al保护层，将镀膜室抽真空，使其真空度≤10-4pa后，充入氩气使镀膜室内压力稳定在0.3Pa，开启溅射电源，使用ZnO：Al靶材，ZnO：Al靶材中ZnO：Al2O3=98:2将ZnO：Al保护层薄膜沉积到玻璃基板表面，厚度为8nm-15nm，获得产品。
本发明提出的金色低辐射镀膜玻璃在中远红外波段具有较高的反射率，在可见光波段具有优良的遮光性能，同时其反射色在人眼可视范围内均可内体现金色色泽，与现有技术相比，具有辐射率低、节能效果好、外观色泽纯正、金色反射光线可视范围广等显著的优点。
附图说明：
附图１是本发明的结构示意图。
附图２是本发明中金色低辐射镀膜玻璃的ＳＥＭ断面图。
附图３是本发明中金色低辐射镀膜玻璃在波长范围为2500nm-25000nm的ＦＴＩＲ反射光谱，。
附图４是本发明中金色低辐射镀膜玻璃在波长范围为250nm-2500nm的可见光波段的反射光谱。
附图标记：玻璃基板1、氮化硅缓冲层薄膜2，镍铬合金诱导层薄膜3，金功能层薄膜4，ZnO：Al保护层薄膜5。
具体实施方式：
下面结合附图和实施例对本发明作进一步的说明。
如附图1所示，本发明提出的一种金色低辐射镀膜玻璃，其特征在于在玻璃基板表面依次沉积以下薄膜：
氮化硅缓冲层薄膜，镍铬合金诱导层薄膜，金功能层薄膜，镍铬合金诱导层薄膜，ZnO：Al保护层薄膜。
本发明中所述氮化硅缓冲层的厚度为18nm-25nm，优选为19.5nm-24.5nm，镍铬合金诱导层的厚度为1nm-5nm，优选为2nm-4nm，金功能层的厚度为35nm-50nm，优选为38nm-47nm，ZnO：Al保护层薄膜厚度为8nm-15nm，优选为9nm-14nm，所述玻璃基板为浮法玻璃。
如上所述金色低辐射镀膜玻璃采用以下步骤制成：
步骤1：基板预处理，采用纯水对玻璃基板依次进行高压预喷淋、盘刷研磨、高压喷淋、风刀切水隔离、纯水喷淋、滚刷、风刀切水隔离、盘刷研磨、滚刷后，对玻璃基板进行风刀烘干，其中纯水≥10MΩ，烘干温度为60℃左右，风刀烘干流量控制在4T/h，风压0.5Mpa，运行速度为5m/min，
步骤2：制备氮化硅缓冲层，将镀膜室抽真空，使其真空度≤10-4pa后，充入氮气和氩气，氮气与氩气的充入体积比为4:5，使镀膜室内压力稳定在0.3Pa，开启溅射电源，使用Si靶材，将Si3N4薄膜沉积到玻璃基板表面，厚度为18nm-25nm，
步骤3：制备第一镍铬合金诱导层，将镀膜室抽真空，使其真空度≤10-4pa后，充入氩气使镀膜室内压力稳定在0.3Pa，开启溅射电源，使用Ni：Cr为4:1的Ni-Cr靶材，将镍铬合金薄膜沉积到玻璃基板表面，厚度为1nm-5nm，
步骤4：制备金功能层，将镀膜室抽真空，使其真空度≤10-4pa后，充入氩气使镀膜室内压力稳定在0.3Pa，开启溅射电源，使用Au靶材，将Au薄膜沉积到玻璃基板表面，厚度为35nm-50nm，
步骤5：制备第二镍铬合金诱导层，将镀膜室抽真空，使其真空度≤10-4pa后，充入氩气使镀膜室内压力稳定在0.3Pa，开启溅射电源，使用Ni-Cr靶材，Ni-Cr靶材中Ni：Cr=4:1，将镍铬合金薄膜沉积到玻璃基板表面，厚度为1nm-5nm，
步骤6：制作ZnO：Al保护层，将镀膜室抽真空，使其真空度≤10-4pa后，充入氩气使镀膜室内压力稳定在0.3Pa，开启溅射电源，使用ZnO：Al靶材，ZnO：Al靶材中ZnO：Al2O3=98:2将ZnO：Al保护层薄膜沉积到玻璃基板表面，厚度为8nm-15nm，获得产品。
如附图2产品的ＳＥＭ断面图所示，采用上述制法生产的金色低辐射镀膜玻璃产品膜系结构稳定，能够克服传统工艺在本玻辐射率≤0.03、薄膜体系以Ag和SnO2：F材料为主体中的玻璃上难以实现的缺点；
本发明中所获得的产品在波长为2500nm-25000nm范围内的ＦＴＩＲ反射光谱如附图３所示，本发明中金色低辐射镀膜玻璃在波长范围为250nm-2500nm的可见光波段的反射光谱如附图4所示，由此可知，本发明提出的金色低辐射镀膜玻璃在中远红外波段具有较高的反射率，在可见光波段具有优良的遮光性能，与现有技术相比，具有辐射率低、节能效果好等显著的优点。
实施例１：
一种金色低辐射镀膜玻璃，其在玻璃基板表面依次沉积以下薄膜：氮化硅缓冲层薄膜，镍铬合金诱导层薄膜，金功能层薄膜，镍铬合金诱导层薄膜，ZnO：Al保护层，其中按沉积先后顺序，各层膜结构的厚度分别为：氮化硅缓冲层的厚度为21nm，镍铬合金诱导层的厚度为3nm，金功能层的厚度为40nm，第二镍铬合金诱导层的厚度为3nm，ZnO：Al保护层厚度为12nm，所述玻璃基板采用浮法玻璃。
一种如上所述金色低辐射镀膜玻璃的制造方法，其特征在于包括以下步骤：
步骤1：基板预处理，采用纯水对玻璃基板依次进行高压预喷淋、盘刷研磨、高压喷淋、风刀切水隔离、纯水喷淋、滚刷、风刀切水隔离、盘刷研磨、滚刷后，对玻璃基板进行风刀烘干，其中纯水≥10MΩ，烘干温度为60℃左右，风刀烘干流量控制在4T/h，风压0.5Mpa，运行速度为5m/min，
步骤2：制备氮化硅缓冲层，将镀膜室抽真空，使其真空度≤10-4pa后，充入氮气和氩气，氮气与氩气的充入体积比为4:5，使镀膜室内压力稳定在0.3Pa，开启溅射电源，使用Si靶材，将Si3N4薄膜沉积到玻璃基板表面，厚度为21nm，
步骤3：制备第一镍铬合金诱导层，将镀膜室抽真空，使其真空度≤10-4pa后，充入氩气使镀膜室内压力稳定在0.3Pa，开启溅射电源，使用Ni：Cr为4:1的Ni-Cr靶材，将镍铬合金薄膜沉积到玻璃基板表面，厚度为3nm，
步骤4：制备金功能层，将镀膜室抽真空，使其真空度≤10-4pa后，充入氩气使镀膜室内压力稳定在0.3Pa，开启溅射电源，使用Au靶材，将Au薄膜沉积到玻璃基板表面，厚度为40nm，
步骤5：制备第二镍铬合金诱导层，将镀膜室抽真空，使其真空度≤10-4pa后，充入氩气使镀膜室内压力稳定在0.3Pa，开启溅射电源，使用Ni-Cr靶材，Ni-Cr靶材中Ni：Cr=4:1，将镍铬合金薄膜沉积到玻璃基板表面，厚度为3nm，
步骤6：制作ZnO：Al保护层，将镀膜室抽真空，使其真空度≤10-4pa后，充入氩气使镀膜室内压力稳定在0.3Pa，开启溅射电源，使用ZnO：Al靶材，ZnO：Al靶材中ZnO：Al2O3=98:2将ZnO：Al保护层薄膜沉积到玻璃基板表面，厚度为12nm，获得产品。
本实施例获得的产品经检测，各项指标如下：
（1）玻璃可见光的透射比为0.102，用于反映玻璃在可见光范围内(波长380～780nm) 太阳辐射的透射情况；
（2）可见光的玻面反射比为0.495，用于反映玻璃在可见光范围内(波长380～780nm) 太阳辐射的非镀膜面反射情况；
（3）可见光的膜面反射比为0.601，用于反映玻璃在可见光范围内(波长380～780nm) 太阳辐射的镀膜面反射情况；
（4）玻璃辐射率为0.03，用于衡量物体表面以辐射的形式释放能量相对强弱的能力；物体的辐射率等于物体在一定温度下辐射的能量与同一温度下黑体辐射能量之比。黑体的辐射率等于1，其他物体的辐射率介于0和1之间；
（5）导热系数（U值）为1.32，用于表示物体热传导能力，U值的计算基准假设玻璃内外两侧的温度差为15℃，平均温度为10℃，可以用下列方法计算： 1／U=l／he+l／ht+l／hi 式中he和hi分别为室外侧和室内侧的传热系数。ht为玻璃组件的传热系数。此数值越小，节能效果越好。
（6）独有的金色色泽：玻璃面的颜色为a*=14, b*=37
镀膜面的颜色为a*=12, b*=24
（采用CIE LAB色空间定义颜色，a*表示红/绿值，b*表示黄/蓝值。）
（7）产品在人眼可视全范围内均可获得金色外观；
（8）产品的最外层设有ZnO：Al保护层，产品不易被氧化且具有耐磨性，可以放置保存12个月以上。
实施例2：
一种金色低辐射镀膜玻璃，其在玻璃基板表面依次沉积以下薄膜：氮化硅缓冲层薄膜，镍铬合金诱导层薄膜，金功能层薄膜，镍铬合金诱导层薄膜，ZnO：Al保护层，其中按沉积先后顺序，各层膜结构的厚度分别为：氮化硅缓冲层的厚度为22nm，镍铬合金诱导层的厚度为3.5nm，金功能层的厚度为45nm，第二镍铬合金诱导层的厚度为3.5nm，ZnO：Al保护层厚度为13nm，所述玻璃基板采用浮法玻璃。
一种如上所述金色低辐射镀膜玻璃的制造方法，其特征在于包括以下步骤：
步骤1：基板预处理，采用纯水对玻璃基板依次进行高压预喷淋、盘刷研磨、高压喷淋、风刀切水隔离、纯水喷淋、滚刷、风刀切水隔离、盘刷研磨、滚刷后，对玻璃基板进行风刀烘干，其中纯水≥10MΩ，烘干温度为60℃左右，风刀烘干流量控制在4T/h，风压0.5Mpa，运行速度为5m/min，
步骤2：制备氮化硅缓冲层，将镀膜室抽真空，使其真空度≤10-4pa后，充入氮气和氩气，氮气与氩气的充入体积比为4:5，使镀膜室内压力稳定在0.3Pa，开启溅射电源，使用Si靶材，将Si3N4薄膜沉积到玻璃基板表面，厚度为22nm，
步骤3：制备第一镍铬合金诱导层，将镀膜室抽真空，使其真空度≤10-4pa后，充入氩气使镀膜室内压力稳定在0.3Pa，开启溅射电源，使用Ni：Cr为4:1的Ni-Cr靶材，将镍铬合金薄膜沉积到玻璃基板表面，厚度为3.5nm，
步骤4：制备金功能层，将镀膜室抽真空，使其真空度≤10-4pa后，充入氩气使镀膜室内压力稳定在0.3Pa，开启溅射电源，使用Au靶材，将Au薄膜沉积到玻璃基板表面，厚度为45nm，
步骤5：制备第二镍铬合金诱导层，将镀膜室抽真空，使其真空度≤10-4pa后，充入氩气使镀膜室内压力稳定在0.3Pa，开启溅射电源，使用Ni-Cr靶材，Ni-Cr靶材中Ni：Cr=4:1，将镍铬合金薄膜沉积到玻璃基板表面，厚度为3.5nm，
步骤6：制作ZnO：Al保护层，将镀膜室抽真空，使其真空度≤10-4pa后，充入氩气使镀膜室内压力稳定在0.3Pa，开启溅射电源，使用ZnO：Al靶材，ZnO：Al靶材中ZnO：Al2O3=98:2将ZnO：Al保护层薄膜沉积到玻璃基板表面，厚度为13nm，获得产品。
本实施例获得的产品经检测，各项指标如下：
（1）玻璃可见光的透射比为0.102，用于反映玻璃在可见光范围内(波长380～780nm) 太阳辐射的透射情况；
（2）可见光的玻面反射比为0.495；
（3）可见光的膜面反射比为0.601；
（4）玻璃辐射率为0.03；
（5）导热系数（U值）为1.32；
（6）独有的金色色泽：玻璃面的颜色为a*=14, b*=37
镀膜面的颜色为a*=12, b*=24
（采用CIE LAB色空间定义颜色，a*表示红/绿值，b*表示黄/蓝值。）
（7）产品在人眼可视全范围内均可获得金色外观；
（8）产品的最外层设有ZnO：Al保护层，产品具有耐磨、阻水、防腐能力，且与现有技术相比，不易被氧化，可以放置保存12个月以上。
实施例3：
一种金色低辐射镀膜玻璃，其在玻璃基板表面依次沉积以下薄膜：氮化硅缓冲层薄膜，镍铬合金诱导层薄膜，金功能层薄膜，镍铬合金诱导层薄膜，ZnO：Al保护层，其中按沉积先后顺序，各层膜结构的厚度分别为：氮化硅缓冲层的厚度为23nm，镍铬合金诱导层的厚度为4nm，金功能层的厚度为42nm，第二镍铬合金诱导层的厚度为4nm，ZnO：Al保护层厚度为14nm，所述玻璃基板采用浮法玻璃。
一种如上所述金色低辐射镀膜玻璃的制造方法，其特征在于包括以下步骤：
步骤1：基板预处理，采用纯水对玻璃基板依次进行高压预喷淋、盘刷研磨、高压喷淋、风刀切水隔离、纯水喷淋、滚刷、风刀切水隔离、盘刷研磨、滚刷后，对玻璃基板进行风刀烘干，其中纯水≥10MΩ，烘干温度为60℃左右，风刀烘干流量控制在4T/h，风压0.5Mpa，运行速度为5m/min，
步骤2：制备氮化硅缓冲层，将镀膜室抽真空，使其真空度≤10-4pa后，充入氮气和氩气，氮气与氩气的充入体积比为4:5，使镀膜室内压力稳定在0.3Pa，开启溅射电源，使用Si靶材，将Si3N4薄膜沉积到玻璃基板表面，厚度为23nm，
步骤3：制备第一镍铬合金诱导层，将镀膜室抽真空，使其真空度≤10-4pa后，充入氩气使镀膜室内压力稳定在0.3Pa，开启溅射电源，使用Ni：Cr为4:1的Ni-Cr靶材，将镍铬合金薄膜沉积到玻璃基板表面，厚度为4nm，
步骤4：制备金功能层，将镀膜室抽真空，使其真空度≤10-4pa后，充入氩气使镀膜室内压力稳定在0.3Pa，开启溅射电源，使用Au靶材，将Au薄膜沉积到玻璃基板表面，厚度为42nm，
步骤5：制备第二镍铬合金诱导层，将镀膜室抽真空，使其真空度≤10-4pa后，充入氩气使镀膜室内压力稳定在0.3Pa，开启溅射电源，使用Ni-Cr靶材，Ni-Cr靶材中Ni：Cr=4:1，将镍铬合金薄膜沉积到玻璃基板表面，厚度为4nm，
步骤6：制作ZnO：Al保护层，将镀膜室抽真空，使其真空度≤10-4pa后，充入氩气使镀膜室内压力稳定在0.3Pa，开启溅射电源，使用ZnO：Al靶材，ZnO：Al靶材中ZnO：Al2O3=98:2将ZnO：Al保护层薄膜沉积到玻璃基板表面，厚度为14nm，获得产品。
本实施例获得的产品经检测，各项指标如下：
（1）玻璃可见光的透射比为0.102，用于反映玻璃在可见光范围内(波长380～780nm) 太阳辐射的透射情况；
（2）可见光的玻面反射比为0.495；
（3）可见光的膜面反射比为0.601；
（4）玻璃辐射率为0.03；
（5）导热系数（U值）为1.32；
（6）独有的金色色泽：玻璃面的颜色为a*=14, b*=37
镀膜面的颜色为a*=12, b*=24
（采用CIE LAB色空间定义颜色，a*表示红/绿值，b*表示黄/蓝值。）
（7）产品在人眼可视全范围内均可获得金色外观；
（8）产品的最外层设有ZnO：Al保护层，产品具有耐磨、阻水、防腐能力，且与现有技术相比，不易被氧化，可以放置保存12个月以上。
如上所述，本发明提出的金色低辐射镀膜玻璃在中远红外波段具有较高的反射率，在可见光波段具有较好的遮光性能，同时其反射色在较广的视角范围内体现金色色泽，与现有技术相比，具有辐射率低、遮阳、美观、色泽纯正等显著的优点。
Claims (5)
1.一种金色低辐射镀膜玻璃，其特征在于在玻璃基板表面依次沉积以下薄膜：
氮化硅缓冲层薄膜，
镍铬合金诱导层薄膜，
金功能层薄膜，
镍铬合金诱导层薄膜，
ZnO：Al保护层薄膜。
2.根据权利要求1所述的一种金色低辐射镀膜玻璃，其特征在于所述氮化硅缓冲层的厚度为18nm-25nm，镍铬合金诱导层的厚度为1nm-5nm，金功能层的厚度为35nm-50nm，ZnO：Al保护层厚度为8nm-15nm。
3.根据权利要求1所述的一种金色低辐射镀膜玻璃，其特征在于所述氮化硅缓冲层的厚度为19.5nm-24.5nm，镍铬合金诱导层的厚度为2nm-4nm，金功能层的厚度为38nm-47nm，AZO保护层厚度为9nm-14nm。
4.根据权利要求1所述的一种金色低辐射镀膜玻璃，其特征在于所述玻璃基板为浮法玻璃。
5.一种如权利要求1-4中任意一项所述金色低辐射镀膜玻璃的制造方法，其特征在于包括以下步骤：
步骤1：基板预处理，采用纯水对玻璃基板依次进行高压预喷淋、盘刷研磨、高压喷淋、风刀切水隔离、纯水喷淋、滚刷、风刀切水隔离、盘刷研磨、滚刷后，对玻璃基板进行风刀烘干，其中纯水≥10MΩ，烘干温度为60℃左右，风刀烘干流量控制在4T/h，风压0.5Mpa，运行速度为5m/min，
步骤2：制备氮化硅缓冲层，将镀膜室抽真空，使其真空度≤10-4pa后，充入氮气和氩气，氮气与氩气的充入体积比为4:5，使镀膜室内压力稳定在0.3Pa，开启溅射电源，使用Si靶材，将Si3N4薄膜沉积到玻璃基板表面，厚度为18nm-25nm，
步骤3：制备第一镍铬合金诱导层，将镀膜室抽真空，使其真空度≤10-4pa后，充入氩气使镀膜室内压力稳定在0.3Pa，开启溅射电源，使用Ni：Cr为4:1的Ni-Cr靶材，将镍铬合金薄膜沉积到玻璃基板表面，厚度为1nm-5nm，
步骤4：制备金功能层，将镀膜室抽真空，使其真空度≤10-4pa后，充入氩气使镀膜室内压力稳定在0.3Pa，开启溅射电源，使用Au靶材，将Au薄膜沉积到玻璃基板表面，厚度为35nm-50nm，
步骤5：制备第二镍铬合金诱导层，将镀膜室抽真空，使其真空度≤10-4pa后，充入氩气使镀膜室内压力稳定在0.3Pa，开启溅射电源，使用Ni-Cr靶材，Ni-Cr靶材中Ni：Cr=4:1，将镍铬合金薄膜沉积到玻璃基板表面，厚度为1nm-5nm，
步骤6：制作ZnO：Al保护层，将镀膜室抽真空，使其真空度≤10-4pa后，充入氩气使镀膜室内压力稳定在0.3Pa，开启溅射电源，使用ZnO：Al靶材，ZnO：Al靶材中ZnO：Al2O3=98:2将ZnO：Al保护层薄膜沉积到玻璃基板表面，厚度为8nm-15nm，获得产品。
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