CN103336631A - 滤光片组件、滤光片组件制作方法及触摸显示屏 - Google Patents

Abstract

一种滤光片组件，包括基片、遮光层、滤光层第一导电层和第二导电层，第一导电层附着于遮光层，第二导电层附着于基片的第二表面，且第一导电图案在第二导电图案的投影与第二导电图案交叉，第一导电丝线的线宽小于或等于栅格线的线宽，第二导电丝线在遮光层的投影全部落在栅格线上，且第二导电丝线的线宽小于或等于栅格线的线宽；同时实现触控操作和滤光功能，用于显示屏中时，可直接使显示屏具有触控功能不仅有利于降低电子产品的厚度，同时还大大节约了材料及组装成本；同时提供一种使用该滤光片组件的触摸显示屏，及制作该滤光片组件的制作方法。

Description

滤光片组件、滤光片组件制作方法及触摸显示屏

技术领域

本发明涉及平面显示技术领域，特别是涉及一种滤光片组件、该滤光片组件的制作方法及使用该滤光片组件的触摸显示屏。

背景技术

触摸屏是可接收触摸等输入信号的感应式装置。触摸屏赋予了信息交互崭新的面貌，是极富吸引力的全新信息交互设备。触摸屏技术的发展引起了国内外信息传媒界的普遍关注，已成为光电行业异军突起的朝阳高新技术产业。

目前，具有触摸显示功能的电子产品均包括显示屏及位于显示屏上的触摸屏。然而，触摸屏作为与显示屏独立的组件，在用于一些实现人机交互的电子产品时，均需要根据显示屏的尺寸进行定购，之后再进行组装，以形成触摸显示屏，触摸显示屏可同时具有可触控操作为显示功能。现有的触摸屏与显示屏的组装主要有两种方式，即框贴及全贴合。框贴是将触摸屏与显示屏的边缘贴合，全贴合是将触摸屏的下表面与显示屏的上表面整面贴合。

显示屏主要包括偏光片、滤光片组件、液晶模块以及薄膜晶体管(TFT，ThinFilm Transistor)，由偏光片、滤光片组件、液晶模块以及薄膜晶体管组合成显示屏时，已经具有较大的厚度，而继续往显示屏上贴合触摸屏时，将进一步增大其厚度，从而有悖于电子产品轻薄化的发展趋势。

发明内容

基于此，有必要针对厚度较大及成本较高的问题，提供一种有利于降低电子产品厚度及生产成本的滤光片组件、该滤光片组件的制作方法及使用该滤光片组件的触摸显示屏。

一种滤光片组件，包括：

基片，包括第一表面和与所述第一表面相对设置的第二表面；

遮光层，设置于于所述第一表面，所述遮光层为由栅格线相互交叉形成的栅格状结构，由所述栅格线所分割的空间形成多个栅格单元；

滤光层，设置于所述第一表面，所述滤光层包括多个间隔设置的滤光单元，所述滤光单元设置于所述栅格单元内；

第一导电层，附着于所述遮光层，包括多个第一导电图案，所述多个第一导电图案间隔设置，所述第一导电图案包括第一导电网格，所述第一导电网格由第一导电丝线交叉形成，第一导电丝线交叉形成网格节点，所述第一导电丝线附着于所述栅格线上；

第二导电层，附着于所述第二表面，包括多个第二导电图案，所述多个第二导电图案间隔设置，所述第二导电图案包括第二导电网格，所述第二导电网格由第二导电丝线交叉形成，第二导电丝线交叉形成网格节点；

其中所述第一导电图案在所述第二导电图案的投影与所述第二导电图案交叉，所述第一导电丝线的线宽小于或等于栅格线的线宽，所述第二导电丝线在所述遮光层的投影全部落在所述栅格线上，且第二导电丝线的线宽小于或等于栅格线的线宽。

在其中一个实施例中，所述滤光层的厚度大于或者等于所述遮光层和所述第一导电层的厚度总和。

在其中一个实施例中，所述遮光层为带有黑色染料的光刻胶在所述第一表面形成的栅格状结构。

在其中一个实施例中，所述第一导电层的相邻两个第一导电图案的间隔宽度为0.5μm～50μm，所述第二导电层中相邻两个第二导电图案的间隔宽度为0.5μm～50μm。

在其中一个实施例中，所述第一导电层的每一第一导电网格和所述第二导电层的每一所述第二导电网格在所述滤光层上的投影容纳有整数个滤光单元。

在其中一个实施例中，所述第一导电层的每一所述第一导电网格在所述滤光层上的投影容纳的滤光单元数与所述第二导电层的每一所述第二导电网格在所述滤光层上的投影容纳的滤光单元数不相同。

一种滤光片组件制作方法，包括以下步骤：

提供一基片，所述基片包括第一表面及与所述第一表面相对设置的第二表面；

在所述第一表面涂/镀带有黑色染料的光刻胶，再在光刻胶表面涂/镀导电材料；

涂布光刻胶于导电材料表面，利用掩膜板对导电材料表面的光刻胶进行曝光-显影，形成由栅格线相互交叉构成的栅格状结构光刻胶，由所述栅格线分割所形成的空间形成多个栅格单元，然后除去栅格线以外的光刻胶；

第一导电层蚀刻，以将栅格线以外的导电材料除去，形成第一导电层，所述第一导电层由第一导电网格形成，第一导电网格由第一导电丝线交叉形成；

遮光层蚀刻，以将栅格线以外的带有黑色染料的光刻胶除去，形成栅格状的遮光层，遮光层与第一导电层的形状相同；

在所述第二表面形成第二导电层，所述第二导电层由第二导电网格形成，第二导电网格由第二导电丝线交叉形成，第二导电层与遮光层的形状相同；

除去第一导电层表面的光刻胶，在第一导电层表面重新再涂布光刻胶并进行曝光-显影，将第一导电层需要断线处部分的光刻胶除去，将需要断线处的导电材料蚀刻掉，得到相互间隔的多个第一导电图案；

在第二导电层表面重新再涂布光刻胶并进行曝光-显影，将第二导电层需要断线处部分的光刻胶除去，将需要断线处的导电材料蚀刻掉，得到相互间隔的多个第二导电图案；

在多个所述栅格单元分别涂/镀彩色光阻，以形成滤光层。

在其中一个实施例中，所述在所述第二表面形成第二导电层，所述第二导电层由第二导电网格形成，第二导电网格由第二导电丝线交叉形成具体包括以下步骤：

在所述第二表面涂/镀导电材料；

涂布光刻胶于所述导电材料表面，利用所述掩膜板或得到的栅格状遮光层对导电材料表面的光刻胶进行曝光-显影，形成与所述遮光层形状相同的光刻胶，除去栅格线以外的光刻胶；

第二导电层蚀刻，以得到与所述栅格线形状相同的第二导电层，第二导电层包括第二导电网格，第二导电网格由第二导电丝线交叉形成。

在其中一个实施例中，所述在所述第二表面形成第二导电层，所述第二导电层由第二导电网格形成，第二导电网格由第二导电丝线交叉形成具体包括以下步骤：

在所述第二表面涂布感光金属浆料；

利用所述掩膜板或得到的栅格状遮光层对感光金属浆料进行曝光-显影，以得到与所述遮光层形状相同的第二导电层。

一种触摸显示屏，包括依次层叠的TFT电极、液晶模块、滤光片组件和偏光片，所述滤光片组件为以上所述的滤光片组件。

上述滤光片组件及使用该滤光片组件的触摸显示屏，滤光片组件可同时实现触控操作和滤光功能，作为显示屏中不可缺少的两个组件的组合，用于显示屏中时，可直接使显示屏具有触控功能，无需再在显示屏上组装一触摸屏，不仅有利于降低电子产品的厚度，同时还大大节约了材料及组装成本。

上述滤光片组件制作方法中，第一导电层和第二导电层的导电材料可选择的范围扩大，由传统仅用透明导电材料扩大到大部分适用的导电材料，成本降低，同时第一导电层、第二导电层和遮光层均采用同一掩膜板进行曝光-显影-蚀刻制得，因此无需进行对准，降低了作业难度。

附图说明

图1为一实施方式的触摸显示屏的结构示意图；

图2为一实施方式的滤光片组件的结构示意图；

图3为另一实施方式的滤光片组件的结构示意图；

图4为图3所示的滤光片组件的另一视角的结构示意图；

图5为滤光片组件中任一导电层的多个导电图案的间隔示意图；

图6为滤光片组件另一实施例中任一导电层的多个导电图案的间隔示意图；

图7为一实施方式中第一导电丝线或第二导电丝线投影到滤光层的结构示意图；

图8为另一实施方式中第一导电丝线或第二导电丝线投影到滤光层的结构示意图；

图9为又一实施方式中第一导电丝线或第二导电丝线投影到滤光层的结构示意图；

图10为再一实施方式中第一导电丝线或第二导电丝线投影到滤光层的结构示意图；

图11为一实施方式中滤光片组件制作方法的流程示意图；

图12为一实施方式中在第二表面形成第二导电层的流程示意图；

图13为另一实施方式中在第二表面形成第二导电层的流程示意图。

具体实施方式

为使本发明的上述目的、特征和优点能够更加明显易懂，下面结合附图对本发明的具体实施方式做详细的说明。在下面的描述中阐述了很多具体细节以便于充分理解本发明。但是本发明能够以很多不同于在此描述的其它方式来实施，本领域技术人员可以在不违背本发明内涵的情况下做类似改进，因此本发明不受下面公开的具体实施的限制。

需要说明的是，当元件被称为“固定于”另一个元件，它可以直接在另一个元件上或者也可以存在居中的元件。当一个元件被认为是“连接”另一个元件，它可以是直接连接到另一个元件或者可能同时存在居中元件。

除非另有定义，本文所使用的所有的技术和科学术语与属于本发明的技术领域的技术人员通常理解的含义相同。本文中在本发明的说明书中所使用的术语只是为了描述具体的实施例的目的，不是旨在于限制本发明。本文所使用的术语“及／或”包括一个或多个相关的所列项目的任意的和所有的组合。

请参阅图1，为一实施方式的触摸显示屏100，包括依次层叠的下偏光片10、TFT电极20、液晶模块30、公共电极40、保护膜50、滤光片组件200及上偏光片60。在其他的实施例中，无需设置保护膜50和公共电极40也可。

TFT电极20包括玻璃基层24和设置在玻璃基层24上的显示电极22。液晶模块包括液晶32和夹持于液晶32两侧的配向膜34。

可以理解，当使用背光源作为偏振光源的，如OLED偏振光源，无需下偏光片10，只需要上偏光片60即可。本实施例的下偏光片10、TFT电极20、液晶模块30、公共电极40、保护膜50、上偏光片60的结构及功能可以与现有产品相同，在此不再赘述。

滤光片组件200同时具有可触控操作及可滤光功能，使触摸显示屏100具有触控显示功能。触摸显示屏可以为直下式、或侧入式光源的液晶显示屏。

请参阅图2和图3，表示的是滤光片组件200两种不同的实施方式。上述两种实施方式中的滤光片组件200均包括基片210、遮光层220、滤光层230、第一导电层240和第二导电层250。其中基片210包括第一表面212和第二表面214，第一表面212和第二表面214相对设置。基片210为透明绝缘材质，如玻璃，具体可以为硅铝酸盐玻璃和钙钠玻璃，经过等离子处理后表面具有良好的粘结力。一般的，基片210的厚度范围可以为0.1mm～0.5mm。

遮光层220设置于第一表面212，遮光层220为由栅格线222相互交叉形成的栅格状结构，且由栅格线222所分割的空间形成多个栅格单元。

滤光层230附着于第一表面212，滤光层230包括多个间隔设置的滤光单元232，多个滤光单元232分别位于多个栅格单元内。可以一个栅格单元对应一个滤光单元232，也可以多个栅格单元对应一个滤光单元232。一般的，滤光层230的厚度范围可以为0.5μm～2μm。

第一导电层240附着于遮光层220背向第一表面212的一侧，包括多个第一导电图案244。多个第一导电图案244之间间隔设置，以使第一导电图案244之间相互绝缘。在其它的实施例中，第一导电层240还可以设置于遮光层220与第一表面212之间。第一导电图案244包括第一导电网格，第一导电网格由第一导电丝线242交叉形成，第一导电丝线242交叉形成网格节点。第一导电丝线242附着在栅格线222上。第一导电丝线242的材质可以为金属单质、金属合金、碳纳米管、石墨烯、有机导电高分子或ITO中的任意一种。具体到本实施例中，可以为金属银。

第二导电层250附着于第二表面214。包括多个第二导电图案254，多个第二导电图案254之间间隔设置，以使第二导电图案254之间相互绝缘。第二导电图案254包括第二导电网格，第二导电网格由第二导电丝线252交叉形成，第二导电丝线252交叉形成网格节点。具体到本实施例中，第二导电丝线252的材质可以为金属单质、金属合金、碳纳米管、石墨烯、有机导电高分子或ITO中的任意一种。第二导电丝线252和第一导电丝线242的材质可以相同，如均为金属银。当然，在其它的实施例中，也可以不相同。

其中第一导电图案244在第二导电图案254的投影与第二导电图案254交叉，且第一导电图案244和第二导电图案254分设于基片的两侧以间隔从而形成感应结构，所述第一导电丝线242的线宽小于或等于栅格线222的线宽，所述第二导电丝线252在所述遮光层220的投影全部落在所述栅格线222上，且第二导电丝线252的线宽小于或等于栅格线222的线宽。

上述滤光片组件200，第一导电图案244在第二导电图案254的投影与第二导电图案254交叉，从而第一导电层240和第二导电层250形成电容感应结构。使滤光片组件200可同时实现触控操作及滤光功能，且无需进行搭桥设计，降低了作业难度。将上述滤光片组件200应用于显示屏时，可直接使显示屏具有触控功能，无需再在显示屏上组装一触摸屏，不仅有利于降低电子产品的厚度，还大大节省了材料及组装成本。同时第一导电层240设置于遮光层220，第二导电层250在遮光层220的投影全部落在栅格线222的上，仅需保证第一导电丝线242和第二导电丝线252的线宽小于或者等于栅格线222的线宽，即可保证第一导电丝线242和第二导电丝线252不超出栅格线222，从而避免影响客户体验感。

请参阅图4，在一实施例中，滤光层230包括多个间隔设置的滤光单元232，多个滤光单元232分别位于多个栅格单元内，从而通过栅格线222将多个滤光单元232单个隔开。滤光单元232由彩色光阻形成，彩色光阻一般为带有彩色染料的光刻胶形成，可以采用曝光-显影制程。彩色光阻一般为红（red，R）光阻、绿（green，G）光阻或蓝（blue，B）光阻，用于使入射光转变成单色光，实现滤光功能。从背光源发出的光线经过滤光单元232滤光，可分别得到对应颜色的光线。控制背光源的光线在不同颜色滤光单元232中的通过量，可混合得到各种颜色混合光，进而实现多色彩的显示。

遮光层220为带有黑色染料的光刻胶形成于第一表面212的栅格状结构。且遮光层220通过曝光-显影，形成栅格状结构，具有不透光性。栅格状中栅格单元为方形，使得滤光层230的彩色光阻排列更紧凑及均匀。遮光层220能有效避免彩色光阻相互之间串色，且可以增加R、G、B光的对比度。

请参阅图3，在一实施例中，滤光层230的厚度大于遮光层220与第一导电层240的厚度总和。也即是说滤光单元232的厚度大于遮光层220和第一导电层240的厚度总和。当滤光层230的厚度大于遮光部与第一导电层240的厚度总和时，从滤光层230透出的光，不仅可以从正面看到，从侧面也能看到，从而可以增加滤光层230的出光率。当然，请参阅图2，在其他的实施例中，还可以滤光层230的厚度等于遮光层220与第一导电层240的厚度总和。

相邻导电图案之间间隔设置。如图5和图6所示，为第一导电层240和第二导电层250中任一导电层的多个导电图案的间隔的不同方式的示意图。在一实施例中，第一导电层240中相邻两个第一导电图案244的间隔宽度为一滤光单元232的宽度，第二导电层250中相邻两个第二导电图案254的间隔宽度也为一滤光单元232的宽度。此时可以通过整行或者整列导电丝线缺失来进行隔断。在其它的实施例中，还可以第一导电层240中相邻两个第一导电图案244的间隔宽度为0.5μm～50μm，第二导电层250中相邻两个第二导电图案254的间隔宽度也为0.5μm～50μm。此时可通过将导电丝线边缘部分缺失进行隔断。在其它的实施例中，还可以一层导电层的两个相邻导电图案的间隔宽度为一滤光单元232的宽度，另一层导电层中两个导电图案的间隔宽度为0.5μm～50μm。

请参阅图4，在一实施例中，第一导电丝线242和第二导电丝线252为与遮光层220栅格线222相同的线。

如图7所示，第一导电层240的每一第一导电网格和第二导电层250的每一第二导电网格在所述滤光层230上的投影容纳有一个整数个的滤光单元232。因为每个栅格单元都对应有一个导电网格，故而导电网格的密度较大，第一导电层240和第二导电层250的导电性能较好。

如图8至图10所示，第一导电层240的每一第一导电网格和第二导电层250的每一第二导电网格在滤光层230上的投影容纳有至少两个整数个的滤光单元232。可以根据对导电层的电阻要求及导电材料的涂布量的要求来决定容纳的滤光单元232数量。

此时可分为三种情况，以横向为X轴，垂直横向的方向为Y轴。如图8所示，仅在X轴方向上，第一导电层240的每一第一导电网格和第二导电层250的每一第二导电网格在滤光层230上的投影容纳有至少两个整数个的滤光单元232。如图9所示，仅在Y轴方向上，第一导电层240的每一第一导电网格和第二导电层250的每一第二导电网格在滤光层230上的投影容纳有至少两个整数个的滤光单元232。如图10所示，同时在X轴和Y轴方向上，第一导电层240的每一第一导电网格和第二导电层250的每一第二导电网格在滤光层230上的投影容纳有至少两个整数个的滤光单元232。

在一实施例中，第一导电层240的每一第一导电网格在所述滤光层230上的投影容纳的滤光单元232数与所述第二导电层250的每一所述第二导电网格在所述滤光层230上的投影容纳的滤光单元232数不相同。可以有效降低制作难度。当然，在其他的实施例中，第一导电层240的每一第一导电网格在所述滤光层230上的投影容纳的滤光单元232数与所述第二导电层250的每一所述第二导电网格在所述滤光层230上的投影容纳的滤光单元232数还可以相同。

如图11所示，还提供一种滤光片组件的制作方法，其具体步骤如下：

步骤S110，提供一基片。所述基片包括第一表面212及与所述第一表面212相对设置的第二表面214。基片210为透明绝缘材质，如玻璃，具体可以为硅铝酸盐玻璃和钙钠玻璃，经过等离子处理后基片的表面具有良好的粘结力。一般的，基片210的厚度范围可以为0.1mm～0.5mm。

步骤S120，在所述第一表面212整面涂布或者镀上带有黑色染料的光刻胶，再在光刻胶表面整面涂布导电材料或者镀上导电墨水。导电材料可以为金属单质、金属合金、碳纳米管、石墨烯、有机导电高分子或者ITO中的至少一种，具体到本实施例中为金属银。

步骤S130，涂布光刻胶于导电材料表面。再利用掩膜板对光刻胶进行曝光-显影，形成由栅格线222相互交叉构成的栅格状结构，由所述栅格线222分割所形成的空间形成多个栅格单元。然后除去栅格线222以外的光刻胶，光刻胶也形成栅格状结构。

步骤S140，第一导电层240蚀刻。以将栅格线222以外的导电材料除去，形成第一导电层240。所述第一导电层240包括第一导电网格，第一导电网格由第一导电丝线242交叉形成。第一导电丝线242的线宽在理论上与栅格线222的线宽相等，但是在实际操作中，允许有误差，不会刚好完全相等。故而第一导电丝线242的宽度小于或者等于栅格线222的宽度。此时，第一导电层240的第一导电丝线242完整，还未进行断线处理。

步骤S150，遮光层蚀刻。以将栅格线222以外的带有黑色染料的光刻胶除去，形成栅格状的遮光层220。因为遮光层220蚀刻和第一导电层240蚀刻利用相同形状的光刻胶掩层，所以遮光层220与第一导电层240的形状相同。此时第一导电层240表面的光刻胶保留。

步骤S160，在所述第二表面214形成第二导电层250，所述第二导电层250由第二导电网格形成，第二导电网格由第二导电丝线252交叉形成，第二导电层250与遮光层220的形状相同。请参阅图12，具体到本实施例中，步骤S160可通过以下方式实现：

步骤S1610，在第二表面214涂布导电材料或者镀上导电墨水，并固化。导电材料可以为金属单质、金属合金、碳纳米管、石墨烯、有机导电高分子或者ITO中的至少一种，具体到本实施例中为金属银。

步骤S1612，涂布光刻胶于导电材料表面，利用与步骤S130中同一个掩膜板对光刻胶进行曝光-显影，形成与遮光层220形状相同的光刻胶。然后除去栅格线222以外的光刻胶，光刻胶也形成栅格状结构。还可以将步骤S150中得到的栅格状遮光层220作为掩膜板，来对光刻胶进行曝光-显影，以形成与遮光层220形状相同的光刻胶。

步骤S1614，第二导电层蚀刻。以得到与栅格线222形状相同的第二导电层250，第二导电层250包括第二导电网格，第二导电网格由第二导电丝线252交叉形成。第二导电丝线252的宽度理论上与栅格线222的线宽相等，但实际操作中允许有误差，故而第二导电丝线252的线宽可能小于栅格线222的宽度。此时第二导电层250的第二导电丝线252完整，还未进行断线处理。

步骤S170，先除去第一导电层240表面的光刻胶，然后重新再涂布一层光刻胶，再进行曝光-显影。因为步骤S140中蚀刻使用的是显影液，所以蚀刻后，第一导电层240上的光刻胶图案也会遭到破坏，故而需要重新涂布一层光刻胶。用与断线处相配套的掩膜板对第一导电层240表面的光刻胶再进行曝光-显影，以将第一导电层240需要断线处部分的光刻胶除去。然后将需要断线处的导电材料蚀刻掉，得到相互间隔的多个第一导电图案244。可以通过两种断线方式来设置间隔：其一为通过整行或整列导电丝线缺失，来进行隔断处理。间隔为一其二为通过将导电丝线边缘部分缺失，来进行隔断处理。

步骤S180，先除去第二导电层250表面的光刻胶，然后再重新在第二导电层250表面涂布一层光刻胶，并进行曝光-显影。因为在步骤S1614中，蚀刻使用的是显影液，所以蚀刻后，第二导电层250上的光刻胶图案也会遭到破坏，故而需要重新涂布一层光刻胶。用与断线处相配套的掩膜板对第二导电层250表面的光刻胶再进行曝光-显影，以将第二导电层250需要断线处部分的光刻胶除去，将需要断线处的导电材料蚀刻掉，得到相互间隔的多个第二导电图案254。可以通过两种断线方式来设置间隔：其一为通过整行或整列导电丝线缺失，来进行隔断处理。间隔为一滤光单元的宽度。其二为通过将导电丝线边缘部分缺失，来进行隔断处理。在其它的实施例中，还可以先将第二导电层250的第二导电图案254进行断线处理，再将第一导电层240的第一导电图案244进行断线处理。

步骤S190，在多个所述栅格单元分次涂布或者镀上彩色光阻，形成多个间隔设置的滤光单元232，以形成滤光层230。彩色光阻一般为带有彩色染料的光刻胶形成，可以采用曝光-显影制程。彩色光阻一般为红（red，R）光阻、绿（green，G）光阻或蓝（blue，B）光阻，用于使入射光转变成单色光，实现滤光功能。

上述滤光片组件制作方法中，第一导电层240和第二导电层250的导电材料可选择范围从传统的透明导电材料扩大到大部分的导电材料，如金属单质、金属合金、碳纳米管、石墨烯、有机导电高分子或ITO。且当导电材料选择金属材料时，可降低电阻以及降低触摸显示屏的能耗。在形成第一导电层240、遮光层220和第二导电层250时，使用相同的掩膜板进行曝光-显影-蚀刻，因此无需进行对准，第一导电层240的形状与遮光层220的相同，且第二导电丝线252在遮光层220的投影落入栅格线222内，且第二导电层250的形状与遮光层220相同。

请参阅图13，在其它的实施例中，步骤S160还可以通过以下方式实现：

步骤S1620，在第二表面214涂布感光金属浆料。感光金属浆料为光刻胶与金属浆料的混合物，可以采用曝光显影制程。金属浆料的金属材质可以为金、银、铜、铝、锌、钼、铁、锡中的至少一种。

步骤S1622，利用与步骤S130中同一个掩膜板对感光金属浆料进行曝光-显影，以得到与遮光层220形状相同的第二导电层250。第二导电层250第二导电层250由第二导电网格形成，第二导电网格由第二导电丝线252交叉形成。此时的第二导电丝线252完整，还未进行断线处理。

上述第二导电层250的形成过程，因为采用感光金属浆料，可同时满足导电性和制程需要，简化了作业流程。

以上所述实施例仅表达了本发明的几种实施方式，其描述较为具体和详细，但并不能因此而理解为对本发明专利范围的限制。应当指出的是，对于本领域的普通技术人员来说，在不脱离本发明构思的前提下，还可以做出若干变形和改进，这些都属于本发明的保护范围。因此，本发明专利的保护范围应以所附权利要求为准。

Claims (10)

1.一种滤光片组件，其特征在于，包括：

基片，包括第一表面和与所述第一表面相对设置的第二表面；

遮光层，设置于所述第一表面，所述遮光层为由栅格线相互交叉形成的栅格状结构，由所述栅格线所分割的空间形成多个栅格单元；

滤光层，设置于所述第一表面，所述滤光层包括多个间隔设置的滤光单元，所述滤光单元设置于所述栅格单元内；

第一导电层，附着于所述遮光层，包括多个第一导电图案，所述多个第一导电图案间隔设置，所述第一导电图案包括第一导电网格，所述第一导电网格由第一导电丝线交叉形成，第一导电丝线交叉形成网格节点，所述第一导电丝线附着于所述栅格线上；

第二导电层，附着于所述第二表面，包括多个第二导电图案，所述多个第二导电图案间隔设置，所述第二导电图案包括第二导电网格，所述第二导电网格由第二导电丝线交叉形成，第二导电丝线交叉形成网格节点；

其中所述第一导电图案在所述第二导电图案的投影与所述第二导电图案交叉，所述第一导电丝线的线宽小于或等于栅格线的线宽，所述第二导电丝线在所述遮光层的投影全部落在所述栅格线上，且第二导电丝线的线宽小于或等于栅格线的线宽。

2.根据权利要求1所述的滤光片组件，其特征在于，所述滤光层的厚度大于或者等于所述遮光层和所述第一导电层的厚度总和。

3.根据权利要求1所述的滤光片组件，其特征在于，所述遮光层为带有黑色染料的光刻胶在所述第一表面形成的栅格状结构。

4.根据权利要求1所述的滤光片组件，其特征在于，所述第一导电层的相邻两个第一导电图案的间隔宽度为0.5μm～50μm，所述第二导电层中相邻两个第二导电图案的间隔宽度为0.5μm～50μm。

5.根据权利要求1所述的滤光片组件，其特征在于，所述第一导电层的每一第一导电网格和所述第二导电层的每一所述第二导电网格在所述滤光层上的投影容纳有整数个滤光单元。

6.根据权利要求5所述的滤光片组件，其特征在于，所述第一导电层的每一所述第一导电网格在所述滤光层上的投影容纳的滤光单元数与所述第二导电层的每一所述第二导电网格在所述滤光层上的投影容纳的滤光单元数不相同。

7.一种滤光片组件制作方法，其特征在于，包括以下步骤：

提供一基片，所述基片包括第一表面及与所述第一表面相对设置的第二表面；

在所述第一表面涂/镀带有黑色染料的光刻胶，再在光刻胶表面涂/镀导电材料；

涂布光刻胶于导电材料表面，利用掩膜板对导电材料表面的光刻胶进行曝光-显影，形成由栅格线相互交叉构成的栅格状结构光刻胶，由所述栅格线分割所形成的空间形成多个栅格单元，然后除去栅格线以外的光刻胶；

第一导电层蚀刻，以将栅格线以外的导电材料除去，形成第一导电层，所述第一导电层由第一导电网格形成，第一导电网格由第一导电丝线交叉形成；

遮光层蚀刻，以将栅格线以外的带有黑色染料的光刻胶除去，形成栅格状的遮光层，遮光层与第一导电层的形状相同；

在所述第二表面形成第二导电层，所述第二导电层由第二导电网格形成，第二导电网格由第二导电丝线交叉形成，第二导电层与遮光层的形状相同；

除去第一导电层表面的光刻胶，在第一导电层表面重新再涂布光刻胶并进行曝光-显影，将第一导电层需要断线处部分的光刻胶除去，将需要断线处的导电材料蚀刻掉，得到相互间隔的多个第一导电图案；

在第二导电层表面重新再涂布光刻胶并进行曝光-显影，将第二导电层需要断线处部分的光刻胶除去，将需要断线处的导电材料蚀刻掉，得到相互间隔的多个第二导电图案；

在多个所述栅格单元分别涂/镀彩色光阻，以形成滤光层。

8.根据权利要求7所述的滤光片组件制作方法，其特征在于，所述在所述第二表面形成第二导电层，所述第二导电层由第二导电网格形成，第二导电网格由第二导电丝线交叉形成具体包括以下步骤：

在所述第二表面涂/镀导电材料；

涂布光刻胶于所述导电材料表面，利用所述掩膜板或得到的栅格状遮光层对导电材料表面的光刻胶进行曝光-显影，形成与所述遮光层形状相同的光刻胶，除去栅格线以外的光刻胶；

第二导电层蚀刻，以得到与所述栅格线形状相同的第二导电层，第二导电层包括第二导电网格，第二导电网格由第二导电丝线交叉形成。

9.根据权利要求7所述的滤光片组件制作方法，其特征在于，所述在所述第二表面形成第二导电层，所述第二导电层由第二导电网格形成，第二导电网格由第二导电丝线交叉形成具体包括以下步骤：

在所述第二表面涂布感光金属浆料；

利用所述掩膜板或得到的栅格状遮光层对感光金属浆料进行曝光-显影，以得到与所述遮光层形状相同的第二导电层。

10.一种触摸显示屏，其特征在于，包括依次层叠的TFT电极、液晶模块、滤光片组件和偏光片，所述滤光片组件为权利要求1至6中任意一项所述的滤光片组件。

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