CN103282831A - 液浸构件、浸没曝光装置、曝光方法、组件制造方法、程序、及储存媒体 - Google Patents

Abstract

液浸构件，在浸没曝光装置内，布置在通过光学构件、及光学构件与物体之间的第一液体的曝光用光的光路周围的至少一部分。液浸构件，具备：第一液浸构件，布置在光路周围的至少一部分，以用第一液体充满光学构件与物体之间的曝光用光的光路的方式在光学构件的射出面侧形成第一液体的第一浸没空间；引导部，将第一浸没空间的第一液体的至少一部分引导至光路周围的一部分即第一引导空间；以及第二液浸构件，相对光路布置在第一液浸构件的外侧，在第一浸没空间周围的一部分与第一引导空间相邻地形成第二液体的第二浸没空间。

Description

液浸构件、浸没曝光装置、曝光方法、组件制造方法、程序、及储存媒体

背景技术

本发明关于液浸构件、浸没曝光装置、曝光方法、组件制造方法、程序、及储存媒体。

本申请是基于2010年12月27日提出的美国发明专利暂时申请61／427,320号、以及2011年12月22日提出的美国发明专利申请13／334,808号主张优先权，将其内容援用于此。

在微影制程使用的曝光装置中，已知有例如下述专利文献揭示的透过液体以曝光用光使基板曝光的浸没曝光装置。

[专利文献1]

美国发明专利申请公开第2009／0046261号

发明内容

浸没曝光装置中，例如若液体从既定空间流出，有可能产生曝光不良。其结果，有可能产生不良组件。

本发明的方面，其目的在于提供能抑制曝光不良产生的液浸构件、浸没曝光装置、以及曝光方法。又，本发明的方面，其目的在于提供能抑制不良组件产生的组件制造方法、程序、及储存媒体。

根据本发明的第1方面，提供一种液浸构件，在浸没曝光装置内，布置成至少部分地围绕光学构件及通过前述光学构件与物体之间的第一液体的曝光用光的光路，前述液浸构件包括：第一液浸构件，布置成至少部分地围绕前述光路，并且于前述光学构件的射出面侧形成前述第一液体的第一浸没空间，致使用前述第一液体充满前述光学构件与前述物体之间的前述曝光用光的光路；引导部，将前述第一浸没空间之前述第一液体的至少一些引导至部分地围绕前述光路的第一引导空间；以及第二液浸构件，相对前述光路布置于前述第一液浸构件的外侧，并且形成部分地围绕前述第一浸没空间且与前述第一引导空间相邻的第二液体的第二浸没空间。

根据本发明的第2方面，提供一种液浸构件，在浸没曝光装置内，布置成至少部分地围绕光学构件以及通过前述光学构件与物体之间的第一液体的曝光用光的光路，前述液浸构件包括：第一液浸构件，布置成至少部分地围绕前述光路，并且于前述光学构件的射出面侧形成前述第一液体的第一浸没空间，致使用前述第一液体充满前述光学构件与前述物体之间的前述曝光用光的光路；以及第二液浸构件，相对前述光路布置于前述第一液浸构件的外侧，且在前述浸没曝光装置的既定动作中前述物体移动的第一方向与前述第一液浸构件相邻布置，形成部分地围绕前述第一浸没空间的第二液体的第二浸没空间。

根据本发明的第3方面，提供一种液浸构件，在浸没曝光装置内，布置成至少部分地围绕光学构件及通过前述光学构件与物体之间的第一液体的曝光用光的光路，前述液浸构件包括：第一液浸构件，布置成至少部分地围绕前述光路，并且于前述光学构件的射出面侧形成前述第一液体的第一浸没空间，致使用前述第一液体充满前述光学构件与前述物体之间的前述曝光用光的光路；以及第二液浸构件，相对前述光路布置于前述第一液浸构件的外侧，且形成部分地围绕前述第一浸没空间的第二液体的第二浸没空间；前述第二液浸构件包括布置成前述物体与之相对、能供应前述第二液体的第二供应口以及布置成包围前述第二供应口且前述物体与之相对、能回收流体的流体回收部。

根据本发明的第4方面，提供一种液浸构件，在浸没曝光装置内，布置成部分地围绕光学构件及通过前述光学构件与物体之间的第一液体的曝光用光的光路，前述液浸构件包括：第一液浸构件，布置成至少部分地围绕前述光路，且形成于前述光学构件的射出面侧的前述第一液体的第一浸没空间，致使用前述第一液体充满前述光学构件与前述物体之间的前述曝光用光的光路；第二液浸构件，相对前述光路布置于前述第一液浸构件的外侧，且形成部分地围绕前述第一浸没空间的第二液体的第二浸没空间；以及回收构件，相对前述光路布置于前述第一液浸构件的外侧，且具有流体回收部，该流体回收部能回收流体。

根据本发明的第5方面，提供一种液浸构件，在浸没曝光装置内，布置成至少部分地围绕光学构件及通过前述光学构件与物体之间的第一液体的曝光用光的光路，前述液浸构件包括：第一液浸构件，布置成至少部分地围绕前述光路，且形成于前述光学构件的射出面侧的前述第一液体的第一浸没空间，致使用前述第一液体充满前述光学构件与前述物体之间的前述曝光用光的光路；第二液浸构件，相对前述光路布置于前述第一液浸构件的外侧，形成部分地围绕前述第一浸没空间的第二液体的第二浸没空间；以及供气构件，具有从前述第一液浸构件与前述物体间的空间的外侧朝向前述空间供应气体的供气口。

根据本发明的第6方面，提供一种液浸构件，在浸没曝光装置内，布置成至少部分地围绕光学构件及通过前述光学构件与物体之间的第一液体的曝光用光的光路，前述液浸构件包括：第一液浸构件，布置成至少部分地围绕前述光路，具有前述物体能相对的第一下表面，形成于前述光学构件的射出面侧的前述第一液体的第一浸没空间，致使用前述第一液体充满前述光学构件与前述物体之间的前述曝光用光的光路；以及第二液浸构件，相对前述光路布置于前述第一液浸构件的外侧，具有前述物体能相对的第二下表面，以及形成部分地围绕前述第一浸没空间的第二液体的第二浸没空间，其中前述第二下表面与前述物体的前表面的距离较前述第一下表面与前述物体的前表面间的距离小。

根据本发明的第7方面，提供一种液浸构件，在浸没曝光装置内，布置成至少部分地围绕光学构件及通过前述光学构件与物体之间的第一液体的曝光用光的光路，前述液浸构件包括：第一液浸构件，布置成至少部分地围绕前述光路，形成于前述光学构件的射出面侧的前述第一液体的第一浸没空间，致使用前述第一液体充满前述光学构件与前述物体之间的前述曝光用光的光路；第二液浸构件，相对前述光路布置于前述第一液浸构件的外侧，形成部分地围绕前述第一浸没空间的第二液体的第二浸没空间；以及气体供应口，相对前述光路布置于前述第二液浸构件的外侧，用以供应气体。

根据本发明的第8方面，提供一种浸没曝光装置，透过第一液体以曝光用光使基板曝光，其包括：第一至7项中任一个方面的液浸构件。

根据本发明的第9方面，提供一种组件制造方法，其包含：使用第8方面的浸没曝光装置使基板曝光的动作；以及使曝光后的基板显影的动作。

根据本发明的第10方面，提供一种曝光方法，透过充满能射出曝光用光的基板与光学构件间之前述曝光用光的光路的第一液体，以前述曝光用光使前述基板曝光，前述方法包含：以布置成至少部分地围绕前述光路的第一液浸构件于前述光学构件的射出面侧形成前述第一液体的第一浸没空间，致使用前述第一液体充满前述光学构件与前述基板之间的前述曝光用光的光路；透过前述第一浸没空间之前述第一液体使前述基板曝光；将前述第一浸没空间之前述第一液体的至少一些引导至部分地围绕前述光路的第一引导空间；以及以相对前述光路布置于前述第一液浸构件的外侧的第二液浸构件形成第二液体的第二浸没空间，致使前述第二浸没空间部分地围绕前述第一浸没空间且与前述第一引导空间相邻。

根据本发明的第11方面，提供一种曝光方法，透过充满于能射出曝光用光的基板与光学构件间之前述曝光用光的光路的第一液体，以前述曝光用光使前述基板曝光，前述方法包含：以布置成至少部分地围绕前述光路的第一液浸构件于前述光学构件的射出面侧形成前述第一液体的第一浸没空间，致使用前述第一液体充满前述光学构件与前述基板之间的前述曝光用光的光路；透过前述第一浸没空间之前述第一液体使前述基板曝光；以及以相对前述光路布置于前述第一液浸构件的外侧、且在前述基板的既定动作中前述物体移动的第一方向与前述第一液浸构件相邻布置的第二液浸构件，形成部分地围绕前述第一浸没空间的第二液体的第二浸没空间。

根据本发明的第12方面，提供一种曝光方法，透过充满于能射出曝光用光的基板与光学构件间之前述曝光用光的光路的第一液体，以前述曝光用光使前述基板曝光，前述方法包含：以布置成至少部分地围绕前述光路的第一液浸构件于前述光学构件的射出面侧形成前述第一液体的第一浸没空间，致使用前述第一液体充满前述光学构件与前述基板之间的前述曝光用光的光路；透过前述第一浸没空间之前述第一液体使前述基板曝光；以及以第二液浸构件于形成部分地围绕前述第一浸没空间的第二液体的第二浸没空间，该第二液浸构件相对前述光路布置于前述第一液浸构件的外侧，该第二液浸构件具有第二供应口和流体回收部，前述基板能相对前述第二供应口，前述第二液体能够透过前述第二供应口供应，前述流体回收部布置成包围前述第二供应口，前述基板能相对前述流体回收部。

根据本发明的第13方面，提供一种曝光方法，透过充满于能射出曝光用光的基板与光学构件间之前述曝光用光的光路的第一液体，以前述曝光用光使前述基板曝光，前述方法包含：以布置成至少部分地围绕前述光路的第一液浸构件于前述光学构件的射出面侧形成前述第一液体的第一浸没空间，致使用前述第一液体充满前述光学构件与前述基板之间的前述曝光用光的光路；透过前述第一浸没空间之前述第一液体使前述基板曝光；以相对前述光路布置于前述第一液浸构件的外侧的第二液浸构件，形成部分地围绕前述第一浸没空间的第二液体的第二浸没空间；以及以相对前述光路布置于前述第一液浸构件的外侧的回收构件的流体回收部回收流体。

根据本发明的第14方面，提供一种曝光方法，透过充满于能射出曝光用光的基板与光学构件间之前述曝光用光的光路的第一液体，以前述曝光用光使前述基板曝光，前述方法包含：以布置成至少部分地围绕前述光路的第一液浸构件于前述光学构件的射出面侧形成前述第一液体的第一浸没空间，致使用前述第一液体充满前述光学构件与前述基板之间的前述曝光用光的光路；透过前述第一浸没空间之前述第一液体使前述基板曝光；以相对前述光路布置于前述第一液浸构件的外侧的第二液浸构件，形成第二液体的第二浸没空间，致使前述第二浸没空间部份围绕前述第一浸没空间；以及从前述第一液浸构件与前述物体间的空间的外侧朝向前述空间经由供气构件的供气口供应气体。

根据本发明的第15方面，提供一种曝光方法，透过充满于能射出曝光用光的基板与光学构件间之前述曝光用光的光路的第一液体，以前述曝光用光使前述基板曝光，前述方法包含：以布置成至少部分地围绕前述光路的第一液浸构件，于前述光学构件的射出面侧形成前述第一液体的第一浸没空间，致使用前述第一液体充满前述光学构件与前述基板之间的前述曝光用光的光路，第一液浸构件具有第一下表面，能以其间的第一距离与前述基板的前表面相对；透过前述第一浸没空间之前述第一液体使前述基板曝光；以及以相对前述光路布置于前述第一液浸构件的外侧的第二液浸构件形成第二液体的第二浸没空间，致使前述第二浸没空间部分地围绕前述第一浸没空间，前述第二浸没空间具有第二下表面，能以其间的第二距离与前述基板的前表面相对，前述第二距离较前述第一距离小。

根据本发明的第16方面，提供一种曝光方法，透过充满于能射出曝光用光的基板与光学构件间之前述曝光用光的光路的第一液体，以前述曝光用光使前述基板曝光，前述方法包含：以布置成至少部分地围绕前述光路的第一液浸构件于前述光学构件的射出面侧形成前述第一液体的第一浸没空间，致使用前述第一液体充满前述光学构件与前述基板之间的前述曝光用光的光路；透过前述第一浸没空间之前述第一液体使前述基板曝光；以相对前述光路布置于前述第一液浸构件的外侧的第二液浸构件，形成第二液体的第二浸没空间，致使前述第二浸没空间部分地围绕前述第一浸没空间；以及从相对前述光路布置于前述第二液浸构件的外侧的气体供气口供应气体。

根据本发明的第17方面，提供一种组件制造方法，其包含：使用第10至第16中任一个方面的曝光方法使基板曝光；以及使曝光后的基板显影。

根据本发明的第18方面，提供一种程序，使计算机控制透过充满于能射出曝光用光的基板与光学构件间之前述曝光用光的光路的第一液体以前述曝光用光使前述基板曝光的浸没曝光装置，包括以下步骤：以布置成至少部分地围绕前述光路的第一液浸构件于前述光学构件的射出面侧形成前述第一液体的第一浸没空间，致使用前述第一液体充满前述光学构件与前述基板之间的前述曝光用光的光路；透过前述第一浸没空间之前述第一液体使前述基板曝光；将前述第一浸没空间之前述第一液体的至少一些引导至部分地围绕前述光路的第一引导空间；以及以相对前述光路布置于前述第一液浸构件的外侧的第二液浸构件，形成第二液体的第二浸没空间，致使前述第二浸没空间部分地围绕前述第一浸没空间且相邻前述第一引导空间。

根据本发明的第19方面，提供一种程序，使计算机控制透过充满于能射出曝光用光的基板与光学构件间之前述曝光用光的光路的第一液体以前述曝光用光使前述基板曝光的浸没曝光装置，包括以下步骤：以布置成至少部分地围绕前述光路的第一液浸构件于前述光学构件的射出面侧形成前述第一液体的第一浸没空间，致使用前述第一液体充满前述光学构件与前述基板之间的前述曝光用光的光路；透过前述第一浸没空间之前述第一液体使前述基板曝光；以及以相对前述光路布置于前述第一液浸构件的外侧、且在前述基板的既定动作中前述物体移动的第一方向与前述第一液浸构件相邻布置的第二液浸构件，形成部分地围绕前述第一浸没空间的第二液体的第二浸没空间。

根据本发明的第20方面，提供一种程序，使计算机控制透过充满于能射出曝光用光的基板与光学构件间之前述曝光用光的光路的第一液体以前述曝光用光使前述基板曝光的浸没曝光装置，包括以下步骤：以布置成至少部分地围绕前述光路的第一液浸构件于前述光学构件的射出面侧形成前述第一液体的第一浸没空间，致使用前述第一液体充满前述光学构件与前述基板之间的前述曝光用光的光路；透过前述第一浸没空间之前述第一液体使前述基板曝光；以及以相对前述光路布置于前述第一液浸构件的外侧的第二液浸构件，形成部分地围绕前述第一浸没空间的第二液体的第二浸没空间，该第二液浸构件具有第二供应口和流体回收部，前述基板能相对前述第二供应口，前述第二液体能透过前述第二供应口供应，前述流体回收部布置成包围前述第二供应口，前述基板能相对前述流体回收部。

根据本发明的第21方面，提供一种程序，使计算机控制透过充满于能射出曝光用光的基板与光学构件间之前述曝光用光的光路的第一液体以前述曝光用光使前述基板曝光的浸没曝光装置，包括以下步骤：以布置成为至少部分地围绕前述光路的第一液浸构件于前述光学构件的射出面侧形成前述第一液体的第一浸没空间，致使用前述第一液体充满前述光学构件与前述基板之间的前述曝光用光的光路；透过前述第一浸没空间之前述第一液体使前述基板曝光；以相对前述光路布置于前述第一液浸构件的外侧的第二液浸构件，形成部分地围绕前述第一浸没空间的第二液体的第二浸没空间；以及以相对前述光路布置于前述第一液浸构件的外侧的回收构件的流体回收部回收流体。

根据本发明的第22方面，提供一种程序，使计算机控制透过充满于能射出曝光用光的基板与光学构件间之前述曝光用光的光路的第一液体以前述曝光用光使前述基板曝光的浸没曝光装置，包括以下步骤：以布置成至少部分地围绕的第一液浸构件于前述光学构件的射出面侧形成前述第一液体的第一浸没空间，致使用前述第一液体充满前述光学构件与前述基板之间的前述曝光用光的光路；透过前述第一浸没空间之前述第一液体使前述基板曝光的动作；以相对前述光路布置于前述第一液浸构件的外侧的第二液浸构件形成第二液体的第二浸没空间，致使前述第二浸没空间部分地围绕前述第一浸没空间；以及从前述第一液浸构件与前述基板间的空间外侧朝向前述空间从供气构件的供气口供应气体。

根据本发明的第23方面，提供一种程序，使计算机控制透过充满于能射出曝光用光的基板与光学构件间之前述曝光用光的光路的第一液体以前述曝光用光使前述基板曝光的浸没曝光装置，包括以下步骤：以布置成至少部分地围绕前述光路的第一液浸构件，于前述光学构件的射出面侧形成前述第一液体的第一浸没空间，致使用前述第一液体充满前述光学构件与前述基板之间的前述曝光用光的光路，前述第一液浸构件具有第一下表面，能以其间的第一距离与前述基板的前表面相对；透过前述第一浸没空间之前述第一液体使前述基板曝光；以及以相对前述光路布置于前述第一液浸构件的外侧的第二液浸构件，形成第二液体的第二浸没空间，致使前述第二浸没空间部分地围绕前述第一浸没空间，前述第二浸没空间具有第二下表面，能以其间的第二距离与前述基板的前表面相对，前述第二距离较前述第一距离小。

根据本发明的第24方面，提供一种程序，使计算机控制透过充满于能射出曝光用光的基板与光学构件间之前述曝光用光的光路的第一液体以前述曝光用光使前述基板曝光的浸没曝光装置，包括以下步骤：以布置成至少部分地围绕前述光路的第一液浸构件于前述光学构件的射出面侧形成前述第一液体的第一浸没空间，致使用前述第一液体充满前述光学构件与前述基板之间的前述曝光用光的光路；透过前述第一浸没空间之前述第一液体使前述基板曝光；以相对前述光路布置于前述第一液浸构件的外侧的第二液浸构件，形成第二液体的第二浸没空间，致使前述第二浸没空间部分地围绕前述第一浸没空间；以及从相对前述光路布置于前述第二液浸构件的外侧的气体供气口供应气体。

根据本发明的第25方面，提供一种计算机可读取储存媒体，其特征在于：储存有第18至第24中任一个方面的程序。

根据本发明的方面，能抑制曝光不良的产生。又，根据本发明的方面，能抑制不良组件的产生。

附图说明

图1是显示第1实施形态的曝光装置例的概略构成图。

图2是显示第1实施形态的液浸构件例的侧剖面图。

图3是显示第1实施形态的液浸构件例的侧剖面图。

图4是从下方观看第1实施形态的液浸构件的图。

图5是放大图2的一部分的图。

图6是放大图3的一部分的图。

图7是用以说明第1实施形态的曝光装置的动作例的示意图。

图8是用以说明第1实施形态的曝光装置的动作例的示意图。

图9是用以说明第1实施形态的引导部例的图。

图10是用以说明第1实施形态的引导部例的图。

图11是用以说明第1实施形态的液浸构件例的图。

图12是用以说明第1实施形态的液浸构件例的图。

图13是用以说明第2实施形态的液浸构件例的图。

图14是用以说明第2实施形态的液浸构件例的图。

图15是用以说明第2实施形态的液浸构件例的图。

图16是用以说明第2实施形态的液浸构件例的图。

图17是用以说明第2实施形态的液浸构件例的图。

图18是用以说明第2实施形态的液浸构件例的图。

图19是用以说明第3实施形态的液浸构件例的图。

图20是用以说明第3实施形态的液浸构件例的图。

图21是用以说明第3实施形态的液浸构件例的图。

图22是用以说明第4实施形态的液浸构件例的图。

图23是用以说明第5实施形态的液浸构件例的图。

图24是用以说明第6实施形态的液浸构件例的图。

图25是用以说明第7实施形态的液浸构件例的图。

图26是用以说明第7实施形态的液浸构件例的图。

图27是用以说明第7实施形态的液浸构件例的图。

图28是用以说明液浸构件例的图。

图29A是用以说明液浸构件例的图。

图29B是用以说明液浸构件例的图。

图30是用以说明曝光装置例的图。

图31是用以说明微型组件的制程例的流程图。

【主要组件代表符号】

2P        基板载台

2C        测量载台

3         液浸构件

4         控制装置

5         储存装置

7         射出面

8         终端光学组件

21        液体回收部

24        多孔构件

31        第一液浸构件

32        第二液浸构件

33        第3液浸构件

34        第一回收构件

35        第二回收构件

40        引导部

41        边缘

41A～41D  部分

42        下表面

42A～42D  部分

43        边界

43A～43D  部分

A1        第一引导空间

A2        第二引导空间

EL        曝光用光

EX        曝光装置

IL        照明***

J2        轴

J3        轴

K         光路

LQ        液体

LS1       第一浸没空间

LS2       第二浸没空间

LS3       第3浸没空间

P         基板

具体实施方式

以下，参照附图说明本发明的实施形态，但本发明不限定于此。以下的说明中，设定XYZ正交坐标系，并参照此XYZ正交坐标说明各部的位置关系。将水平面内的既定方向设为X轴方向、将于水平面内与X轴方向正交的方向设为Y轴方向、将与X轴方向及Y轴方向分别正交的方向(也即铅直方向)设为Z轴方向。又，将绕X轴、Y轴及Z轴的旋转(倾斜)方向分别设为θX、θY及θZ方向。

＜第1实施形态＞

说明第1实施形态。图1是显示第1实施形态的曝光装置EX的一例的概略构成图。本实施形态的曝光装置EX系透过液体LQ以曝光用光IL使基板P曝光的浸没曝光装置。本实施形态中，以用液体LQ充满照射于基板P的曝光用光EL的光路K的方式形成第一浸没空间LS1。浸没空间是以液体LQ充满的部分(空间、区域)。基板P，是透过第一浸没空间LS1的液体LQ以曝光用光EL被曝光。本实施形态中，使用水(纯水)作为液体LQ。

又，本实施形态的曝光装置EX，是例如美国发明专利第6897963号及欧洲发明专利申请公开第1713113号等所揭示的具备基板载台与测量载台的曝光装置。

图1中，曝光装置EX具备：可保持掩模M并移动的掩模载台1、可保持基板P并移动的基板载台2P、不保持基板P而能搭载测量曝光用光EL的测量构件及测量器并移动的测量载台2C、以曝光用光EL照明掩模M的照明***IL、将以曝光用光EL照明的掩模M的图案像投影至基板P的投影光学***PL、形成浸没空间的液浸构件3、控制曝光装置EX整体的动作的控制装置4、以及连接于控制装置4而储存与曝光相关的各种信息的储存装置5。储存装置5，包含例如RAM等内存、硬盘、CD－ROM等储存媒体。于储存装置5安装有控制计算机***的操作***(OS)，储存有用以控制曝光装置EX的程序。

本实施形态中，通过液浸构件3形成第一浸没空间LS1、第二浸没空间LS2、以及第三浸没空间LS3。第一浸没空间LS1是以液体LQ充满曝光用光EL的光路的方式形成。第二浸没空间LS2布置于第一浸没空间LS1周围的一部分。第三浸没空间LS3布置于第一浸没空间LS1周围的一部分。本实施形态中，液浸构件3包含形成第一浸没空间LS1的第一液浸构件31、形成第二浸没空间LS2的第二液浸构件32、以及形成第三浸没空间LS3的第三液浸构件33。

又，曝光装置EX具备形成内部空间CS(至少供布置投影光学***PL、液浸构件3、基板载台2P及测量载台2C)的腔室装置CH。腔室装置CH具有控制内部空间CS的环境(温度、湿度、压力、以及洁净度)的环境控制装置。

掩模M，包含形成有待投影至基板P的组件图案的标线片。掩模M，例如包含透射型掩模，该透射型掩模具有玻璃板等透明板与于该透明板上使用铬等遮光材料而形成的图案。此外，掩模M也可使用反射型掩模。

基板P是用以制造组件的基板。基板P例如包含半导体晶圆等基材与于该基材上形成的感光膜。感光膜是感光材(光阻)的膜。又，基板P除包含感光膜以外也可包含其他膜。例如，基板P也可包含反射防止膜，也可包含保护感光膜的保护膜(顶涂膜)。

照明***IL将曝光用光EL照射于既定照明区域IR。照明区域IR包含从照明***IL射出的曝光用光EL所能照射的位置。照明***IL是以均照度分布的曝光用光EL照明布置于照明区域IR的掩模M的至少一部分。从照明***IL射出的曝光用光EL，是使用例如从水银灯射出的辉线(g线、h线、i线)及KrF准分子雷射光(波长248nm)等远紫外光(DUV光)、ArF准分子雷射光(波长193nm)以及F₂雷射光(波长157nm)等真空紫外光(VUV光)等。本实施形态中，曝光用光EL使用紫外光(真空紫外光)即ArF准分子雷射光。

掩模载台1能在保持有掩模M的状态下在包含照明区域IR的底座构件6的导引面6G上移动。掩模载台1是通过如例如美国发明专利第6452292号说明书所揭示的包含平面马达的驱动***的作动而移动。平面马达具有布置于掩模载台1的可动子与布置于底座构件6的固定子。本实施形态中，掩模载台1可通过驱动***的作动，在导引面6G上移动于X轴、Y轴、Z轴、θX、θY及θZ方向的六个方向。

投影光学***PL是对既定投影区域PR照射曝光用光EL。投影区域PR包含从投影光学***PL射出的曝光用光EL所能照射的位置。投影光学***PL将掩模M的图案的像以既定投影倍率投影至布置于投影区域PR的基板P的至少一部分。本实施形态的投影光学***PL是其投影倍率为例如1／4、1／5或1／8等的缩小***。此外，投影光学***PL也可是等倍***及放大***的任一种。本实施形态中，投影光学***PL的光轴AX与Z轴平行。又，投影光学***PL可是不包含反射光学组件的折射***、不包含折射光学组件的反射***、包含反射光学组件与折射光学组件的折反射***的任一种。又，投影光学***PL可形成倒立像与正立像的任一种。

投影光学***PL具有朝向投影光学***PL的像面射出曝光用光EL的射出面7。射出面7布置于投影光学***PL的多个光学组件中、最靠近投影光学***PL的像面的终端光学组件8。投影区域PR包含从射出面7射出的曝光用光EL所能照射的位置。本实施形态中，投影区域PR包含与射出面7相对的位置。本实施形态中，射出面7朝向－Z方向、与XY平面平行。此外，朝向－Z方向的射出面7可是凸面、也可以是凹面。终端光学组件8的光轴与Z轴平行。本实施形态中，从射出面7射出的曝光用光EL往－Z方向行进。

基板载台2P能在保持有基板P的状态下在包含投影区域PR的底座构件9的导引面9G上移动。基板载台2P通过如例如美国发明专利第6452292号说明书所揭示的包含平面马达的驱动***的作动而移动。平面马达具有布置于基板载台2P的可动子与布置于底座构件9的固定子。本实施形态中，基板载台2P可通过驱动***的作动，在导引面9G上移动于X轴、Y轴、Z轴、θX、θY及θZ方向的六个方向。此外，使基板载台2P移动的驱动***也可不是平面马达。例如，驱动***也可包含线性马达。

基板载台2P具有能将基板P保持为可释放的基板保持部10。基板保持部10将基板P保持成基板P的表面朝向＋Z方向。本实施形态中，保持于基板保持部10的基板P的表面与布置于该基板P周围的基板载台2P的上表面11P布置于同平面内(同面)。上表面11P是平坦的。本实施形态中，保持于基板保持部10的基板P的表面及基板载台2P的上表面11P与XY平面大致平行。

此外，保持于基板保持部10的基板P的表面与基板载台2P的上表面11P也可非布置于同平面内，基板P的表面及上表面11P的至少一方也可与XY平面为非平行。又，上表面11P也可非为平坦。例如，上表面11P也可包含曲面。

又，本实施形态中，基板载台2P具有如例如美国发明专利申请公开第2007／0177125号说明书、美国发明专利申请公开第2008／0049209号说明书等所揭示，将罩构件T保持成能释放的罩构件保持部12。本实施形态中，基板载台2P的上表面11包含保持于罩构件保持部12的罩构件T的上表面。

此外，罩构件T也可非为能释放。此情形下，罩构件保持部12能省略。又，基板载台2P的上表面11P也可包含搭载于基板载台2P的传感器、测量构件等的表面。

测量载台2C能在搭载有测量曝光用光EL的测量构件及测量器的状态下在包含投影区域PR的底座构件9的导引面9G上移动。测量载台2C是通过如例如美国发明专利第6452292号说明书所揭示的包含平面马达的驱动***的作动而移动。平面马达具有布置于测量载台2C的可动子与布置于底座构件9的固定子。本实施形态中，测量载台2C可通过驱动***的作动，在导引面9G上移动于X轴、Y轴、Z轴、θX、θY及θZ方向的六个方向。此外，使测量载台2C移动的驱动***也可不是平面马达。例如，驱动***也可包含线性马达。

本实施形态中，测量载台2C的上表面11C与XY平面大致平行。

本实施形态中，掩模载台1、基板载台2P、以及测量载台2C的位置通过包含雷射干涉仪单元13A、13B的干涉仪***13测量。雷射干涉仪单元13A能使用布置于掩模载台1的测量反射镜测量掩模载台1的位置。雷射干涉仪单元13B能使用布置于基板载台2P的测量反射镜测量基板载台2P及测量载台2C各自的位置。在执行基板P的曝光处理时，或在执行既定的测量处理时，控制装置4是根据干涉仪***13的测量结果执行掩模载台1(掩模M)、基板载台2P(基板P)、以及测量载台2C(测量构件)的位置控制。

其次，说明本实施形态的液浸构件3。图2是显示本实施形态的液浸构件3例的与YZ平面平行的侧剖面图、图3是显示本实施形态的液浸构件3例的与XZ平面平行的侧剖面图、图4是从下侧(-Z侧)观看液浸构件3的图、图5是放大图2部分的图、图6是放大图3部分的图。

液浸构件3布置于通过终端光学组件8、以及终端光学组件8与布置于投影区域PR的物体间的液体LQ的曝光用光EL的光路K周围的至少一部分。

本实施形态中，能布置于投影区域PR的物体，包含基板载台2P(罩构件T)、保持于基板载台2P(基板保持部10)的基板P、以及测量载台2C的至少者。在基板P的曝光中，是以用液体LQ充满照射于基板P的曝光用光EL的光路K的方式形成第一浸没空间LS1。在曝光用光EL照射于基板P时，仅包含投影区域PR的基板P表面的一部分区域被以液体LQ覆盖而形成第一浸没空间LS1。

本实施形态中，液浸构件3具备：第一液浸构件31，布置于通过终端光学组件8与布置于投影区域PR的物体间的液体LQ的曝光用光EL的光路K周围的至少一部分，以用液体LQ充满终端光学组件8与物体之间的曝光用光EL的光路K的方式于终端光学组件8的射出面7侧形成液体LQ的第一浸没空间LS1；引导部40，将第一浸没空间LS1的液体LQ的至少一部分引导至光路K周围的一部分即第一引导空间A1；以及第二液浸构件32，相对光路K布置于第一液浸构件31外侧，于第一浸没空间LS1周围的一部分与第一引导空间A1相邻地形成液体LQ的第二浸没空间LS2。

本实施形态中，引导部40是将第一浸没空间LS1的液体LQ的至少一部分引导至光路K周围的一部分的与第一引导空间A1不同的第二引导空间A2。

此外，本实施形态中，所谓光路K周围，包含光路K周方向的空间(区域)。换言之，所谓光路K周围，包含包围光路K的环状空间(区域)。本实施形态中，所谓光路K周围的一部分空间，是指包围光路K的环状空间的一部分空间。此外，所谓光路K周围的空间，也可谓为投影光学***PL的光轴AX周围。所谓光路K周围的一部分空间，也可谓为延伸于光轴AX周方向的环状空间的一部分。

又，本实施形态中，液浸构件3具备第三液浸构件33，其相对光路K布置于第一液浸构件31外侧，于第一浸没空间LS1周围的一部分与第二引导空间A2相邻地形成与第二浸没空间LS2不同的液体LQ的第三浸没空间LS3。

本实施形态中，第一液浸构件31与第二液浸构件32是不同的构件且分离。第一液浸构件31与第三液浸构件33是不同的构件且分离。第二液浸构件32与第三液浸构件33是不同的构件且分离。

本实施形态中，曝光装置EX具备支撑第一液浸构件31、第二液浸构件32、以及第三液浸构件33的支撑构件(未图示)。本实施形态中，第一液浸构件31、第二液浸构件32、以及第三液浸构件33被一个支撑构件(框构件)支撑。此外，支撑构件也可连接于支撑投影光学***PL的支撑机构，也可分离。此外，支撑第一液浸构件31的支撑构件与支撑第二液浸构件32的支撑构件也可是不同构件。支撑第二液浸构件32的支撑构件与支撑第三液浸构件33的支撑构件也可是不同构件。

此外，本实施形态中，液浸构件3具备相对光路K布置于第一液浸构件31外侧、能回收流体的第一回收构件34及第二回收构件35。

第一液浸构件31具有布置于投影区域PR的基板P等物体能相对的下表面14。第二液浸构件32具有布置于投影区域PR的基板P等物体能相对的下表面15。第三液浸构件33具有布置于投影区域PR的基板P等物体能相对的下表面16。第一回收构件34具有布置于投影区域PR的基板P等物体能相对的下表面17。第二回收构件35具有布置于投影区域PR的基板P等物体能相对的下表面18。

本实施形态中，第一液浸构件31是环状构件。本实施形态中，第一液浸构件31的部分布置于终端光学组件8周围。又，本实施形态中，第一液浸构件31的一部分布置于终端光学组件8与物体间的曝光用光EL的光路K周围。第一浸没空间LS1，以用液体LQ充满终端光学组件8与布置于投影区域PR的基板P等物体之间的曝光用光EL的光路K的方式而形成。

此外，第一液浸构件31也可非是环状构件。例如，第一液浸构件31也可布置于终端光学组件8及光路K周围的一部分。又，第一液浸构件31也可非布置于终端光学组件8周围的至少一部分。例如，第一液浸构件31也可布置于射出面7与物体间的光路K周围的至少一部分，而非布置于终端光学组件8周围。又，第一液浸构件31也可非布置于射出面7与物体间的光路K周围的至少一部分。例如，第一液浸构件31也可布置于终端光学组件8周围的至少一部分，而非布置于射出面7与物体间的光路K周围。

本实施形态中，第一液浸构件31包含至少一部分布置成与射出面7相对的板部311和至少一部分布置成与终端光学组件8的侧面8F相对的本体部312。此外，侧面8F布置于射出面7周围。本实施形态中，侧面8F是在相对光路K的放射方向朝向外侧倾斜于上方。此外，相对光路K的放射方向包含相对投影光学***PL的光轴AX的放射方向，包含与Z轴垂直的方向。

本实施形态中，第一液浸构件31具有至少一部分与射出面7相对的上表面19。上表面19布置于板部311。又，第一液浸构件31具有射出面7所面对的孔(开口)20。从射出面7射出的曝光用光EL能通过孔20而照射于基板P。上表面19布置于孔20上端的周围，下表面14布置于孔20下端的周围。孔20形成为连结上表面19与下表面14。此外，本实施形态中，上表面19也可是大致垂直于光轴AX，也可相对与光轴AX垂直的面成倾斜。例如上表面19也可在相对光轴AX的放射方向朝向外侧倾斜于上方。

第一液浸构件31能在下表面14与物体之间保持液体LQ。第一液浸构件31在与物体之间保持液体LQ，以用液体LQ充满光路K的方式于射出面7侧形成第一浸没空间LS1。本实施形态中，第一浸没空间LS1的液体LQ部分保持于终端光学组件8与布置成相对于该终端光学组件8的射出面7的物体(例如基板P)之间。又，第一浸没空间LS1的液体LQ部分保持于第一液浸构件31与布置成相对于该第一液浸构件31的下表面14的物体之间。通过于一方侧的射出面7及下表面14与另一方侧的物体表面(上表面)之间保持液体LQ，以用液体LQ充满终端光学组件8与物体间的曝光用光EL的光路K的方式形成第一浸没空间LS1。

在例如基板P的曝光中，第一液浸构件31是以用液体LQ充满照射于基板P的曝光用光EL的光路K的方式在与基板P之间保持液体LQ而形成第一浸没空间LS1。在曝光用光EL照射于基板P时，包含投影区域PR的基板P表面的一部分区域被以液体LQ覆盖而形成第一浸没空间LS1。

本实施形态中，第一浸没空间LS1的液体LQ的界面(弯月面、边缘)LG1的至少一部分形成于下表面14与物体(基板P)表面之间。也即，本实施形态的曝光装置EX采用局部液浸方式。第一浸没空间LS1的外侧(界面LG1的外侧)是气体空间。

第二液浸构件32相对光路K布置于第一液浸构件31外侧。第二液浸构件32布置于第一液浸构件31周围的一部分。第二液浸构件32布置成与第一液浸构件31的外面相对。也即，第二液浸构件32布置于第一液浸构件31外面所面对的环状空间的一部分。换言之，第二液浸构件32在光路K(第一液浸构件31)周围的空间部分布置成与第一液浸构件31外面相对。

第二液浸构件32能在下表面15与物体之间保持液体LQ。第二液浸构件32在与物体之间保持液体LQ而于第一浸没空间LS1周围的一部分形成第二浸没空间LS2。第二浸没空间LS2形成于第一浸没空间LS1的界面LG1所面对的环状空间的一部分。换言之，第二浸没空间LS2在光路K(第一浸没空间LS1)周围的空间部分布置成与第一浸没空间LS1的界面LG1相对。

第三液浸构件33相对光路K布置于第一液浸构件31外侧。第三液浸构件33布置于第一液浸构件31周围的一部分。第三液浸构件33布置成与第一液浸构件31的外面相对。也即，第三液浸构件33布置于第一液浸构件31外面所面对的环状空间的一部分。换言之，第三液浸构件33在光路K(第一液浸构件31)周围的空间部分布置成与第一液浸构件31外面相对。

第三液浸构件33能在下表面16与物体之间保持液体LQ。第三液浸构件33在与物体之间保持液体LQ而于第一浸没空间LS1周围的一部分形成第三浸没空间LS3。第三浸没空间LS3形成于第一浸没空间LS1的界面LG1所面对的环状空间的一部分。换言之，第三浸没空间LS3在光路K(第一浸没空间LS1)周围的空间部分布置成与第一浸没空间LS1的界面LG1相对。

本实施形态中，第二浸没空间LS2与第三浸没空间LS3基本上分离形成。又，本实施形态中，第二浸没空间LS3基本上与第一浸没空间LS1分离形成。又，本实施形态中，第三浸没空间LS3基本上与第一浸没空间LS1分离形成。例如，在与液浸构件3相对的物体基本上静止的情形下，第一浸没空间LS1、第二浸没空间LS2、第三浸没空间LS3彼此基本上分离形成。

本实施形态中，第二浸没空间LS2较第一浸没空间LS1小。第三浸没空间LS3较第一浸没空间LS1小。本实施形态中，第二浸没空间LS2与第三浸没空间LS3的大小大致相等。此外，所谓浸没空间的大小包含形成浸没空间的液体的体积。又，所谓浸没空间的大小包含形成浸没空间的液体的重量。又，所谓浸没空间的大小例如包含在与基板P表面平行的面内(XY平面内)的浸没空间的面积。又，所谓浸没空间的大小例如包含在与基板P表面平行的面内(XY平面内)的既定方向(例如X轴方向或Y轴方向)的浸没空间的尺寸。本实施形态中，在与基板P表面平行的面内(XY平面内)，第二浸没空间LS2及第三浸没空间LS3较第一浸没空间LS1小。此外，第二浸没空间LS2也可较第三浸没空间LS3大或较小。

本实施形态中，第三浸没空间LS3相对光路K布置于第二液浸构件32的相反侧。本实施形态中，第三浸没空间LS3相对光路K形成于第二浸没空间LS2的相反侧。

本实施形态中，第二液浸构件32布置于第一液浸构件31的+Y侧。第三液浸构件33布置于第一液浸构件31的-Y侧。本实施形态中，第二浸没空间LS2形成于第一浸没空间LS1的+Y侧。第三浸没空间LS3形成于第一浸没空间LS1的-Y侧。

第一回收构件34相对光路K布置于第一液浸构件31外侧。第一回收构件34布置于第一液浸构件31周围的一部分。第一回收构件34布置成与第一液浸构件31的外面相对。也即，第一回收构件34布置于第一液浸构件31外面所面对的环状空间的一部分。换言之，第一回收构件34在光路K(第一液浸构件31)周围的空间部分布置成与第一液浸构件31外面相对。

第二回收构件35相对光路K布置于第一液浸构件31外侧。第二回收构件35布置于第一液浸构件31周围的一部分。第二回收构件35布置成与第一液浸构件31的外面相对。也即，第二回收构件35布置于第一液浸构件31外面所面对的环状空间的一部分。换言之，第二回收构件35在光路K(第一液浸构件31)周围的空间部分布置成与第一液浸构件31外面相对。

本实施形态中，第二回收构件35相对光路K布置于第一回收构件34的相反侧。

本实施形态中，第一回收构件34布置于第一液浸构件31的+X侧。第二回收构件35布置于第一液浸构件31的-X侧。

引导部40能将第一浸没空间LS1的液体LQ的至少一部分引导至第一引导空间A1。又，引导部40能将第一浸没空间LS1的液体LQ的至少一部分引导至第二引导空间A2。

第一引导空间A1是光路K周围的一部分的空间。第二引导空间A2是光路K周围的一部分的空间。本实施形态中，第一引导空间A1与第二引导空间A2是分离。

本实施形态中，第一引导空间A1包含第一液浸构件31的下表面14与物体表面间的空间SP1中部分的空间(部分)。下表面14面对空间SP1。第二引导空间A2包含空间SP1中部分的空间(部分)。此外，本实施形态中，第一引导空间A1与第二引导空间A2的一方或两方也可不包含第一液浸构件31的下表面14与物体表面间的空间SP1中部分的空间(部分)。

本实施形态中，第一引导空间A1包含下表面14的第一部分(第一区域)B1与物体间的空间。第二引导空间A2包含下表面14的第二部分(第二区域)B2与物体间的空间。第一部分B1与第二部分B2是分离。第一引导空间A1是与第一部分B1相邻的空间。第二引导空间A2是与第二部分B2相邻的空间。

本实施形态中，第一引导空间A1包含第一液浸构件31的***边缘部36部分与物体间的空间。第二引导空间A2包含第一液浸构件31的***边缘部36部分与物体间的空间。

第一液浸构件31的***边缘部36包含下表面14的***边缘部。第一引导空间A1包含下表面14的***边缘部36部分所限定的第一部分B1与物体间的空间。第二引导空间A2包含下表面14的***边缘部36部分所限定的第二部分B2与物体间的空间。

本实施形态中，第二引导空间A2相对光路K布置于第一引导空间A1的相反侧。本实施形态中，第一引导空间A1是在光路K周围的空间SP1中相对光路K的+Y侧的一部分空间。第二引导空间A2是在光路K周围的空间SP1中相对光路K的-Y侧的一部分空间。

也即，本实施形态中，第二部分B2相对光路K布置于第一部分B1的相反侧。本实施形态中，第一部分B1是相对光路K被限定于+Y侧的下表面14的一部分区域。第二部分B2是相对光路K被限定于-Y侧的下表面14的一部分区域。

此外，第一引导空间A1及第二引导空间A2的一方或两方也可非为下表面14的***边缘部36的一部分与物体间的空间。例如，第一引导空间A1及第二引导空间A2的一方或两方也可是下表面14的***边缘部36内侧区域的一部分与物体间的空间。例如，第一引导空间A1及第二引导空间A2的一方或两方也可是下表面14中央部的一部分与物体间的空间。也即，下表面14的第一部分B1及第二部分B2的一方或两方也可限定于与下表面14的***边缘部36不同的区域。例如，第一部分B1及第二部分B2的一方或两方也可限定于***边缘部36内侧，也可限定于下表面14的例如中央部。

本实施形态中，第一引导空间A1限定于第二液浸构件32所形成的第二浸没空间LS2与光路K之间。本实施形态中，第二液浸构件32，至少一部分与第一引导空间A1相邻布置。第二液浸构件32相对光路K在第一引导空间A1(第一部分B1)外侧，于第一引导空间A1附近布置成相邻于第一引导空间A1(第一部分B1)。第一引导空间A1例如形成为包含将光路K与第二浸没空间LS2(第二液浸构件32)连结的假想线。

本实施形态中，第二引导空间A2限定于第三液浸构件33所形成的第三浸没空间LS3与光路K之间。本实施形态中，第三液浸构件33，至少一部分与第二引导空间A2相邻布置。第三液浸构件33相对光路K在第二引导空间A2(第二部分B2)外侧，于第二引导空间A2附近布置成相邻于第二引导空间A2(第二部分B2)。第二引导空间A2例如形成为包含将光路K与第三浸没空间LS3(第三液浸构件33)连结的假想线。

此外，第一引导空间A1及第二引导空间A2的一方或两方也可包含下表面14与物体间的空间SP1外侧的空间。例如，第一引导空间A1也可包含第二液浸构件32的下表面15与物体表面间的空间SP2的至少一部分。又，第二引导空间A2也可包含第三液浸构件33的下表面16与物体表面间的空间SP3的至少一部分。又，第一引导空间A1也可包含第一液浸构件31的外面与第二液浸构件32的内面之间隙下方的空间。又，第二引导空间A2也可包含第一液浸构件31的外面与第三液浸构件33的内面之间隙下方的空间。

本实施形态中，引导部40的至少一部分布置于第一液浸构件31。本实施形态中，引导部40的至少一部分布置于物体能相对的第一液浸构件31的下表面14。引导部40能将下表面14与物体间的第一浸没空间LS1的液体LQ的至少一部分引导至第一引导空间A1及第二引导空间A2中的至少一方。

本实施形态中，引导部40例如包含第一液浸构件31的边缘41。第一液浸构件31的边缘41包含***边缘部36的边缘。又，第一液浸构件31的边缘41包含下表面14的边缘。第一液浸构件31的边缘41能将第一浸没空间LS1的液体LQ的至少一部分引导至第一引导空间A1及第二引导空间A2中的一方或两方。

第一浸没空间LS1的液体LQ的至少一部分被第一液浸构件31的边缘41引导而往第一引导空间A1及第二引导空间A2中的一方或两方流动。

本实施形态中，第一液浸构件31包含布置成物体与之相对、能回收液体LQ的液体回收部21。本实施形态中，引导部40包含液体回收部21的至少一部分。

本实施形态中，本体部312具有于下端形成有开口22的内部空间23R。第一液浸构件31具备布置于开口22的多孔构件24。开口22形成为面对空间SP1。多孔构件24布置成面对空间SP1。多孔构件24具有液体LQ能流通的多个孔(opening或pores)。也可于开口22布置多个小孔形成为网眼状的多孔构件即网眼过滤器。

液体回收部21包含布置成物体与之相对的多孔构件24的下表面42的至少一部分。本实施形态中，多孔构件24是板状构件。多孔构件24具有面对空间SP1的下表面42、面对内部空间23R的上表面25、形成为连结上表面25与下表面42的多个孔。液体回收部21能透过多孔构件24的孔回收下表面42与之相对的物体上的液体LQ(空间SP1的液体LQ)。本实施形态中，多孔构件24的孔发挥能回收空间SP1的液体LQ的回收口23的功能。透过多孔构件24的孔(回收口23)回收的液体LQ流动于内部空间(回收流路)23R。

本实施形态中，透过多孔构件24实质地仅回收液体LQ，而不回收气体。控制装置4，是将多孔构件24的下表面42侧的压力(空间SP1的压力)与上表面25侧的压力(回收流路23R的压力)的差调整成空间SP1的液体LQ会通过多孔构件24的孔而流入回收流路23R且气体不通过。此外，透过多孔构件仅回收液体的技术例揭示于例如美国发明专利第7292313号等。

此外，也可透过多孔构件24回收液体LQ及气体两者。

本实施形态中，引导部40包含多孔构件24的下表面42的至少一部分。多孔构件24的下表面42能将第一浸没空间LS1的液体LQ的至少一部分引导至第一引导空间A1及第二引导空间A2中的一方或两方。

第一浸没空间LS1的液体LQ的至少一部分被多孔构件24的下表面42引导而往第一引导空间A1及第二引导空间A2中的一方或两方流动。

又，本实施形态中，第一液浸构件31包含布置成物体与之相对、与液体回收部21相邻的平坦部26S。本实施形态中，引导部40包含液体回收部21与平坦部26S的边界43。

本实施形态中，平坦部26S包含布置成与多孔构件24的下表面42相邻的下表面26。下表面26的至少一部分是平坦。下表面26是液体LQ无法流通，能在与物体之间保持液体LQ。本实施形态中，第一液浸构件31的下表面14包含多孔构件24的下表面42与下表面26。本实施形态中，边界43包含下表面42与下表面26的边界。

本实施形态中，下表面42的状态(表面状态)与下表面26的状态(表面状态)不同。下表面42布置于多孔构件24的孔下端周围。下表面42具有凹凸。此外，下表面42与下表面26的相对液体LQ的接触角也可不同。例如，下表面42相对液体LQ的接触角也可较下表面26相对液体LQ的接触角小。此外，下表面42相对液体LQ的接触角也可较下表面26相对液体LQ的接触角大。此外，下表面42相对液体LQ的接触角与下表面26相对液体LQ的接触角也可相等。

边界43能将第一浸没空间LS1的液体LQ的至少一部分引导至第一引导空间A1及第二引导空间A2中的一方或两方。此外，下表面42与下表面26的高度也可不同。也即，边界43也可包含段差。

第一浸没空间LS1的液体LQ的至少一部分被边界43引导而往第一引导空间A1及第二引导空间A2中的一方或两方流动。

本实施形态中，第一液浸构件31的***边缘部36包含液体回收部21。本实施形态中，***边缘部36包含多孔构件24的下表面42。本实施形态中，边缘41包含多孔构件24的下表面42的边缘。此外，边缘41也可包含本体部312的边缘。

本实施形态中，下表面26布置于较下表面42接近光路K的位置。本实施形态中，下表面42布置于下表面26周围的至少一部分。本实施形态中，于开口20下端的周围布置下表面26。于下表面26周围布置下表面42。

本实施形态中，第一引导空间A1包含液体回收部21的至少一部分与物体间的空间。本实施形态中，第一部分B1包含多孔构件24的下表面42的一部分区域，第一引导空间A1包含多孔构件24的下表面42的至少一部分与物体间的空间。

本实施形态中，第二引导空间A2包含液体回收部21的至少一部分与物体间的空间。本实施形态中，第二部分B2包含多孔构件24的下表面42的一部分区域，第二引导空间A2包含多孔构件24的下表面42的至少一部分与物体间的空间。

本实施形态中，边缘41包含往第一引导空间A1线状延伸的部分41A及部分41B、以及往第二引导空间A2线状延伸的部分41C及部分41D。

又，本实施形态中，多孔构件24的下表面42包含往第一引导空间A1带状延伸的部分42A及部分42B、以及往第二引导空间A2带状延伸的部分42C及部分42D。

又，本实施形态中，边界43包含往第一引导空间A1线状延伸的部分43A及部分43B、以及往第二引导空间A2线状延伸的部分43C及部分43D。

本实施形态中，边缘41的部分41A是在与物体表面大致平行的面内(XY平面内)布置成从通过空间SP2的轴J2的+X侧往第一引导空间A1延伸。边缘41的部分41B是在与物体表面大致平行的面内(XY平面内)布置成从通过空间SP2的轴J2的-X侧往第一引导空间A1延伸。

轴J2包含通过空间SP2的假想轴(假想线)。通过空间SP2的轴J2通过第二浸没空间LS2。轴J2是在XY平面内连结光路K与空间SP2(第二浸没空间LS2)。轴J2例如连结光路K与在X轴方向的空间SP2(第二浸没空间LS2)的中心。本实施形态中，轴J2与Y轴大致平行。

本实施形态中，在与物体表面大致平行的面内(XY平面内)，在与轴J2垂直的方向(X轴方向)的部分41A与部分41B的间隔随着接近第一引导空间A1而变小。

又，本实施形态中，部分41A与部分41B的间隔随着从光路K离开而变小。

本实施形态中，下表面42的部分42A是在与物体表面大致平行的面内(XY平面内)布置成从轴J2的+X侧往第一引导空间A1延伸。下表面42的部分42B是在与物体表面大致平行的面内(XY平面内)布置成从轴J2的-X侧往第一引导空间A1延伸。

本实施形态中，在与物体表面大致平行的面内(XY平面内)，在与轴J2垂直的方向(X轴方向)的部分42A与部分42B的间隔随着接近第一引导空间A1而变小。

又，本实施形态中，部分42A与部分42B的间隔随着从光路K离开而变小。

本实施形态中，边界43的部分43A是在与物体表面大致平行的面内(XY平面内)布置成从轴J2的+X侧往第一引导空间A1延伸。边界43的部分43B是在与物体表面大致平行的面内(XY平面内)布置成从轴J2的-X侧往第一引导空间A1延伸。

本实施形态中，在与物体表面大致平行的面内(XY平面内)，在与轴J2垂直的方向(X轴方向)的部分43A与部分43B的间隔随着接近第一引导空间A1而变小。

又，本实施形态中，部分43A与部分43B的间隔随着从光路K离开而变小。

本实施形态中，边缘41的部分41C是在与物体表面大致平行的面内(XY平面内)布置成从通过空间SP3的轴J3的+X侧往第二引导空间A2延伸。边缘41的部分41D是在与物体表面大致平行的面内(XY平面内)布置成从通过空间SP3的轴J3的-X侧往第二引导空间A2延伸。

轴J3包含通过空间SP3的假想轴(假想线)。通过空间SP3的轴J3通过第三浸没空间LS3。轴J3是在XY平面内连结光路K与空间SP3(第三浸没空间LS3)。轴J3例如连结光路K与在X轴方向的空间SP3(第三浸没空间LS3)的中心。本实施形态中，轴J3与Y轴大致平行。

本实施形态中，在与物体表面大致平行的面内(XY平面内)，在与轴J3垂直的方向(X轴方向)的部分41C与部分41D的间隔随着接近第二引导空间A2而变小。

又，本实施形态中，部分41C与部分41D的间隔随着从光路K离开而变小。

本实施形态中，下表面42的部分42C是在与物体表面大致平行的面内(XY平面内)布置成从轴J3的+X侧往第二引导空间A2延伸。下表面42的部分42D是在与物体表面大致平行的面内(XY平面内)布置成从轴J3的-X侧往第二引导空间A2延伸。

本实施形态中，在与物体表面大致平行的面内(XY平面内)，在与轴J3垂直的方向(X轴方向)的部分42C与部分42D的间隔随着接近第二引导空间A2而变小。

又，本实施形态中，部分42C与部分42D的间隔随着从光路K离开而变小。

本实施形态中，边界43的部分43C是在与物体表面大致平行的面内(XY平面内)布置成从轴J3的+X侧往第二引导空间A2延伸。边界43的部分43D是在与物体表面大致平行的面内(XY平面内)布置成从轴J3的-X侧往第二引导空间A2延伸。

本实施形态中，在与物体表面大致平行的面内(XY平面内)，在与轴J3垂直的方向(X轴方向)的部分43C与部分43D的间隔随着接近第二引导空间A2而变小。

又，本实施形态中，部分43C与部分43D的间隔随着从光路K离开而变小。

本实施形态中，下表面14的外形为大致四角形。此外，如图4等所示，本实施形态中，外形为四角形的下表面14的角(顶点)带有圆弧。本实施形态中，下表面14的角相对光路K分别布置于+Y侧、-Y侧、+X侧、以及-X侧。本实施形态中，第一部分B1包含下表面14的+Y侧的角，第二部分B2包含下表面14的-Y侧的角。

本实施形态中，第一液浸构件31具备布置成物体与之相对、能供应液体LQ的供应口27。供应口27于第一液浸构件31的下表面14的至少一部分布置成面对空间SP1。本实施形态中，供应口27能对空间SP1供应液体LQ。

本实施形态中，供应口27布置于下表面26。于供应口27周围布置下表面26。本实施形态中，供应口27于光路K(开口20)周围布置有多个。

在相对光路K的放射方向，液体回收部21布置于供应口27外侧。本实施形态中，供应口27与液体回收部21相邻布置。供应口27沿多孔构件24的下表面42的内侧边缘布置有多个。

又，第一液浸构件31具备能供应液体LQ的供应口28。供应口28于第一液浸构件31内侧面的至少一部分布置成面对射出面7所面对的空间SP4。本实施形态中，供应口28能对空间SP4供应液体LQ。空间SP4包含射出面7与上表面19的空间。本实施形态中，供应口28于光路K(空间SP4)周围布置有多个。此外，供应口28也可布置成与终端光学组件8的侧面8F相对。

供应口28经由形成于第一液浸构件31内部的供应流路28R与能供应液体LQ的液体供应装置28S连接。液体供应装置28S能供应洁净且经温度调整的液体LQ。供应口28将来自液体供应装置28S的液体LQ供应至空间SP4。从供应口28供应至空间SP4的液体LQ的至少一部分经由开口20流动至空间SP1。

供应口27经由形成于第一液浸构件31内部的供应流路27R与能供应液体LQ的液体供应装置27S连接。液体供应装置27S能供应洁净且经温度调整的液体LQ。供应口27将来自液体供应装置27S的液体LQ供应至空间SP1。

空间SP1的液体LQ的至少一部分被从多孔构件24的孔回收。如上述，本实施形态中，多孔构件24的孔发挥能回收空间SP1的液体LQ的回收口23的功能。回收口23经由形成于第一液浸构件31内部的回收流路23R与能回收(吸引)液体LQ的液体回收装置23C连接。液体回收装置23C例如包含真空***，能回收(吸引)液体LQ。

液体供应装置27S、液体供应装置28S、以及液体回收装置23C，被控制装置4控制。本实施形态中，通过与从供应口28的液体LQ的供应并行地执行从回收口23的液体LQ的回收，而在方侧的终端光学组件8及第一液浸构件31与另一方侧的物体间以液体LQ形成第一浸没空间LS1。又，本实施形态中，是并行地执行从供应口28的液体LQ的供应、从回收口23的液体LQ的回收、以及从供应口27的液体LQ的供应。本实施形态中，第一浸没空间LS1通过从供应口28供应的液体LQ而形成。又，本实施形态中，第一浸没空间LS1通过从供应口27供应的液体LQ而形成。

第二液浸构件32具备能供应液体LQ的供应口50。本实施形态中，供应口50是物体能相对。供应口50于第二液浸构件32的下表面15的至少一部分布置成面对空间SP2。本实施形态中，供应口50能对空间SP2供应液体LQ。本实施形态中，轴J2通过供应口50。

第二液浸构件32具备能回收流体的流体回收部51。流体包含液体及气体的至少一方。本实施形态中，流体回收部51是物体能相对。流体回收部51于第二液浸构件32的下表面15的至少一部分布置成面对空间SP2。本实施形态中，流体回收部51能回收空间SP2的液体LQ。又，流体回收部51能回收空间SP2的气体。本实施形态中，流体回收部51包含在下表面15的至少一部分布置成面对空间SP2的回收口52。

本实施形态中，在相对光路K的放射方向，流体回收部51(回收口52)的至少一部分布置于第一液浸构件31外侧。本实施形态中，流体回收部51(回收口52)的至少一部分布置于第一液浸构件31与供应口50之间。又，本实施形态中，在相对光路K的放射方向，流体回收部51(回收口52)的至少一部分布置于第一部分B1外侧。

本实施形态中，流体回收部51(回收口52)的至少一部分相对第一液浸构件31布置于供应口50外侧。本实施形态中，在相对光路K的放射方向，流体回收部51(回收口52)的至少一部分布置于供应口50外侧。

本实施形态中，轴J2通过第一液浸构件31与供应口50间的流体回收部51(回收口52)。本实施形态中，轴J2通过相对第一液浸构件31的供应口50外侧的流体回收部51(回收口52)。

本实施形态中，流体回收部51(回收口52)设成包围供应口50。

第三液浸构件33具备能供应液体LQ的供应口53。本实施形态中，供应口53是物体能相对。供应口53于第三液浸构件33的下表面16的至少一部分布置成面对空间SP3。本实施形态中，供应口53能对空间SP3供应液体LQ。本实施形态中，轴J3通过供应口53。

第三液浸构件33具备能回收流体的流体回收部54。流体包含液体及气体的至少一方。本实施形态中，流体回收部54是物体能相对。流体回收部54于第三液浸构件33的下表面16的至少一部分布置成面对空间SP3。本实施形态中，流体回收部54能回收空间SP3的液体LQ。又，流体回收部54能回收空间SP3的气体。本实施形态中，流体回收部54包含在下表面16的至少一部分布置成面对空间SP3的回收口55。

本实施形态中，在相对光路K的放射方向，流体回收部54(回收口55)的至少一部分布置于第一液浸构件31外侧。本实施形态中，流体回收部54(回收口55)的至少一部分布置于第一液浸构件31与供应口53之间。又，本实施形态中，在相对光路K的放射方向，流体回收部54(回收口55)的至少一部分布置于第二部分B2外侧。

本实施形态中，流体回收部54(回收口55)的至少一部分相对第一液浸构件31布置于供应口53外侧。本实施形态中，在相对光路K的放射方向，流体回收部54(回收口55)的至少一部分布置于供应口53外侧。

本实施形态中，轴J3通过第一液浸构件31与供应口53间的流体回收部54(回收口55)。本实施形态中，轴J3通过相对第一液浸构件31的供应口53外侧的流体回收部54(回收口55)。

本实施形态中，流体回收部54(回收口55)设成包围供应口53。

本实施形态中，下表面15布置成包围第一部分B1的一部分。下表面15具有与下表面14的+Y侧的角及连接于该角的两个边h1大致平行的边h2。也即，下表面15具有沿着下表面14的+Y侧的角的外形。供应口50是与边h1、h2大致平行的狭缝状。第一液浸构件31与供应口50间的回收口52的一部分是与供应口50大致平行的狭缝状。相对第一液浸构件31的供应口50外侧的回收口52的一部分是与供应口50大致平行的狭缝状。

本实施形态中，下表面16布置成包围第二部分B2的一部分。下表面16具有与下表面14的-Y侧的角及连接于该角的两个边h3大致平行的边h4。也即，下表面16具有沿着下表面14的-Y侧的角的外形。供应口53是与边h3、h4大致平行的狭缝状。第一液浸构件31与供应口53间的回收口55的一部分是与供应口53大致平行的狭缝状。相对第一液浸构件31的供应口53外侧的回收口55的一部分是与供应口53大致平行的狭缝状。

此外，回收口52也可于供应口50周围布置有多个。也即，多个回收口52也可于供应口50周围离散地布置。又，回收口55也可于供应口53周围布置有多个。

供应口50经由形成于第二液浸构件32内部的供应流路50R与能供应液体LQ的液体供应装置50S连接。液体供应装置50S能供应洁净且经温度调整的液体LQ。供应口50将来自液体供应装置50S的液体LQ供应至空间SP2。

空间SP2的液体LQ的至少一部分从流体回收部51(回收口52)被回收。第二液浸构件32的流体回收部51(回收口52)能回收来自第一液浸构件31与物体间的空间SP1的液体LQ。

回收口52经由形成于第二液浸构件32内部的回收流路52R与能回收(吸引)液体LQ的液体回收装置52C连接。液体回收装置52C例如包含真空***，能回收(吸引)液体LQ。又，回收口52也能回收空间SP2的气体。

供应口53经由形成于第三液浸构件33内部的供应流路53R与能供应液体LQ的液体供应装置53S连接。液体供应装置53S能供应洁净且经温度调整的液体LQ。供应口53将来自液体供应装置53S的液体LQ供应至空间SP3。

空间SP3的液体LQ的至少一部分从流体回收部54(回收口55)被回收。第三液浸构件33的流体回收部54(回收口55)能回收来自第一液浸构件31与物体间的空间SP1的液体LQ。

回收口55经由形成于第三液浸构件33内部的回收流路55R与能回收(吸引)液体LQ的液体回收装置55C连接。液体回收装置55C例如包含真空***，能回收(吸引)液体LQ。又，回收口55也能回收空间SP3的气体。

本实施形态中，第二浸没空间LS2是通过从供应口50供应的液体LQ而形成。本实施形态中，第三浸没空间LS3是通过从供应口53供应的液体LQ而形成。

第一回收构件34具有布置于第一液浸构件31周围的至少一部分、能回收流体的流体回收部56。流体包含液体及气体的至少一方。本实施形态中，流体回收部56是物体能相对。流体回收部56于第一回收构件34的下表面17的至少一部分布置成面对下表面17与物体表面间的空间SP5。本实施形态中，流体回收部56能回收空间SP5的液体LQ及气体的至少一方。本实施形态中，流体回收部56包含在下表面17的至少一部分布置成面对空间SP5的回收口57。本实施形态中，回收口57于下表面17布置有多个。

本实施形态中，在相对光路K的放射方向，流体回收部56(回收口57)的至少一部分布置于第一液浸构件31外侧。本实施形态中，在相对光路K的放射方向，流体回收部56(回收口57)的至少一部分布置于液体回收部21外侧。

本实施形态中，下表面17布置成包围下表面14的+X侧的角。下表面17具有与下表面14的+X侧的角及连接于该角的两个边h5大致平行的边h6。也即，下表面17具有沿着下表面14的+X侧的角的外形。

此外，回收口57也可是沿着边h6的狭缝状。

第二回收构件35具有布置于第一液浸构件31周围的至少一部分、能回收流体的流体回收部58。流体包含液体及气体的至少一方。本实施形态中，流体回收部58是物体能相对。流体回收部58于第二回收构件35的下表面18的至少一部分布置成面对下表面18与物体表面间的空间SP6。本实施形态中，流体回收部58能回收空间SP6的液体LQ及气体的至少一方。本实施形态中，流体回收部58包含在下表面18的至少一部分布置成面对空间SP6的回收口59。本实施形态中，回收口59于下表面18布置有多个。

本实施形态中，在相对光路K的放射方向，流体回收部58(回收口59)的至少一部分布置于第一液浸构件31外侧。本实施形态中，在相对光路K的放射方向，流体回收部58(回收口59)的至少一部分布置于液体回收部21外侧。

本实施形态中，下表面18布置成包围下表面14的-X侧的角。下表面18具有与下表面14的-X侧的角及连接于该角的两个边h7大致平行的边h8。也即，下表面18具有沿着下表面14的-X侧的角的外形。

此外，回收口59也可是沿着边h8的狭缝状。

空间SP5的液体LQ的至少一部分从回收口57被回收(吸引)。回收口57能回收例如来自第一液浸构件31与物体间的空间SP1的液体LQ。回收口57经由形成于第一回收构件34内部的回收流路57R与能回收(吸引)液体LQ的液体回收装置57C连接。液体回收装置57C例如包含真空***，能回收(吸引)液体LQ。又，回收口57也能回收空间SP3的气体。

第一回收构件34不具有用以于下表面17与相对的物体间形成浸没空间的液体供应口，不于下表面17与相对的物体间形成浸没空间，而从回收口57回收来自空间SP1的液体LQ。也即，第一回收构件34的回收口57是回收第一液浸构件31周围空间中未形成有第二浸没空间LS2与第三浸没空间LS3的漏出至第二浸没空间LS2与第三浸没空间LS3间的空间的来自空间SP1的液体LQ。

空间SP6的液体LQ的至少一部分从回收口59被回收(吸引)。回收口59能回收例如来自第一液浸构件31与物体间的空间SP1的液体LQ。回收口59经由形成于第二回收构件35内部的回收流路59R与能回收(吸引)液体LQ的液体回收装置59C连接。液体回收装置59C例如包含真空***，能回收(吸引)液体LQ。又，回收口59也能回收空间SP6的气体。

第二回收构件35不具有用以于下表面18与相对的物体间形成浸没空间的液体供应口，不于下表面18与相对的物体间形成浸没空间，而从回收口59回收来自空间SP1的液体LQ。也即，第二回收构件35的回收口59是回收第一液浸构件31周围空间中未形成有第二浸没空间LS2与第三浸没空间LS3的漏出至第二浸没空间LS2与第三浸没空间LS3间的空间的来自空间SP1的液体LQ。

本实施形态中，下表面14的至少一部分与XY平面大致平行。又，本实施形态中，下表面15的至少一部分与XY平面大致平行。又，本实施形态中，下表面16的至少一部分与XY平面大致平行。又，本实施形态中，下表面17的至少一部分与XY平面大致平行。又，本实施形态中，下表面18的至少一部分与XY平面大致平行。

此外，下表面14的至少一部分也可相对XY平面成倾斜，也可包含曲面。下表面15的至少一部分也可相对XY平面成倾斜，也可包含曲面。下表面16的至少一部分也可相对XY平面成倾斜，也可包含曲面。下表面17的至少一部分也可相对XY平面成倾斜，也可包含曲面。下表面18的至少一部分也可相对XY平面成倾斜，也可包含曲面。

本实施形态中，在Z轴方向的下表面14的位置(高度)与下表面15的位置(高度)是大致相等。又，在Z轴方向的下表面14的位置(高度)与下表面16的位置(高度)是大致相等。又，在Z轴方向的下表面14的位置(高度)与下表面17的位置(高度)是大致相等。又，在Z轴方向的下表面14的位置(高度)与下表面18的位置(高度)是大致相等。

换言之，本实施形态中，下表面14与物体表面的距离、下表面15与物体表面的距离、下表面16与物体表面的距离、下表面17与物体表面的距离、下表面18与物体表面的距离是大致相等。

此外，下表面14的高度与下表面15的高度也可不同。例如，下表面15也可布置于较下表面14高的位置，也可如图28所示，下表面15布置于较下表面14低的位置。也即，下表面14与物体表面的距离也可较下表面15与物体表面的距离大或也可较小。又，下表面14与物体表面的距离也可较下表面16与物体表面的距离大，也可较下表面16与物体表面的距离小。又，下表面14与物体表面的距离也可较下表面17与物体表面的距离大或也可较小。又，下表面14与物体表面的距离也可较下表面18与物体表面的距离大或也可较小。

其次，说明使用具有上述构成的曝光装置EX使基板P曝光的方法。

控制装置4执行将曝光前的基板P搬入(装载)于基板保持部10的处理。控制装置4，为了将曝光前的基板P搬入(装载)于基板保持部10，是使基板载台2P移动至与液浸构件3分离的基板更换位置。此外，例如曝光后的基板P保持于基板保持部10时，是在执行从基板保持部10搬出(卸除)该曝光后的基板P的处理后，执行将曝光前的基板P搬入(装载)于基板保持部10的处理。

基板更换位置是能执行基板P的更换处理的位置。基板P的更换处理，包含使用搬送装置将保持于基板保持部10的曝光后的基板P从基板保持部10搬出(卸除)的处理、以及将曝光前的基板P搬入(装载)于基板保持部10的处理的至少一方。控制装置4是使基板载台2P移动至与液浸构件3分离的基板更换位置，并执行基板P的更换处理。

在基板载台2P与液浸构件3分离的期间的至少一部分，控制装置4是将测量载台2C相对液浸构件3布置于既定位置，在终端光学组件8及第一液浸构件31与测量载台2C之间保持液体LQ而形成第一浸没空间LS1。也即，控制装置4在终端光学组件8及第一液浸构件31与测量载台2C相对的状态下，以第一液浸构件31于终端光学组件8的射出面7侧形成液体LQ的第一浸没空间LS1。

控制装置4是与从供应口28的液体LQ供应并行地执行从回收口23的液体LQ回收。藉此形成第一浸没空间LS1。又，本实施形态中，控制装置4是与从供应口28的液体LQ供应及从回收口23的液体LQ回收并行地执行从供应口27的液体LQ供应。

通过从供应口27供应液体LQ调整例如界面LG1的形状。例如，通过从供应口27供应液体LQ，调整在于终端光学组件8及第一液浸构件31与物体间形成有第一浸没空间LS1的状态下在XY平面内物体移动时的界面LG1的形状。

此外，在形成有第一浸没空间LS1的状态下从供应口27的每单位时间的液体供应量也可为定，也可变化。此外，来自多个供应口27各自的每单位时间的液体供应量也可相等，也可不同。例如，也可在形成有第一浸没空间LS1的状态下，依照在XY平面内的物体(基板P)的移动方向，控制成来自多个供应口27各自的每单位时间的液体供应量不同。

此外，也可在通过从供应口28的液体LQ供应及从回收口23的液体LQ回收而形成有第一浸没空间LS1的状态下停止从供应口27的液体LQ供应。此外，也可无供应口27。

又，控制装置4是以第二液浸构件32于第一浸没空间LS1周围的一部分形成液体LQ的第二浸没空间LS2。通过从供应口50供应的液体LQ形成第2浸没空间LS2。又，控制装置4是以第三液浸构件33于第一浸没空间LS1周围的一部分形成液体LQ的第三浸没空间LS3。通过从供应口53供应的液体LQ形成第三浸没空间LS3。

又，在基板载台2P从液浸构件3分离的期间的至少一部分，是视必要执行使用搭载于测量载台2C的测量构件(测量器)的测量处理。在执行使用测量构件(测量器)的测量处理时，控制装置4是使终端光学组件8及第一液浸构件31与测量载台2C相对，以用液体LQ充满终端光学组件8与测量构件间的光路K的方式形成第一浸没空间LS1。控制装置4经由投影光学***PL及液体LQ对测量构件照射曝光用光EL，执行使用测量构件的测量处理。该测量处理的结果，反映于基板P的曝光处理。

在曝光前的基板P装载于基板保持部10，使用测量构件(测量器)的测量处理结束后，控制装置4是使基板载台2P移动至投影区域PR，于终端光学组件8及第一液浸构件31与基板载台2P(基板P)间形成液体LQ的第一浸没空间LS1。

此外，在基板载台2P从基板交换位置往投影区域PR(曝光位置)移动的期间，也可使用例如美国发明专利申请公开第2007／0288121号所揭示的包含编码器***、对准***、以及表面位置检测***的检测***检测基板P(基板载台2P)的位置信息。

本实施形态中，例如美国发明专利申请公开第2006／0023186号、美国发明专利申请公开第2007／0127006号等所揭示，控制装置4能在使基板载台2P上表面与测量载台2C上表面接近或接触的状态下边使终端光学组件8及第一液浸构件31与基板载台2P及测量载台2C的至少一方相对、边相对终端光学组件8及液浸构件3使基板载台2P及测量载台2C在XY平面内移动，藉以于终端光学组件8及第一液浸构件31与基板载台2P及测量载台2C的至少一方之间持续形成液体LQ的第一浸没空间LS1。

藉此，如图7所示，边抑制液体LQ的漏出、边第一浸没空间LS1从形成于终端光学组件8及第一液浸构件31与测量载台2C间的状态变化为形成于终端光学组件8及第一液浸构件31与基板载台2P间的状态。又，控制装置4也能使第一浸没空间LS1从形成于终端光学组件8及第一液浸构件31与基板载台2P间的状态变化为形成于终端光学组件8及第一液浸构件31与测量载台2C间的状态。

以下说明中，将在使基板载台2P的上表面11P与测量载台2C的上表面11C接近或接触的状态下相对终端光学组件8及液浸构件3使基板载台2P与测量载台2C在XY平面内同部移动的动作适当称为并列移动动作。

如图7所示，在并列移动动作中，基板载台2P及测量载台2C，是在使上表面11P与上表面11C接近或接触的状态下往包含Y轴方向的成分的方向移动。在该基板载台2P及测量载台2C往包含Y轴方向的成分的方向的移动中，基板载台2P的上表面11P与测量载台2C的上表面11C是横越曝光用光EL的光路K。

此外，所谓往包含Y轴方向的成分的方向的移动，包含往+Y方向的移动、往-Y方向的移动、往+Y方向且+X方向的移动、往+Y方向且-X方向的移动、往-Y方向且+X方向的移动、往-Y方向且-X方向的移动的至少一个。

本实施形态中，在并列移动动作中，也于第一浸没空间LS1周围的一部分持续形成第二浸没空间LS2及第三浸没空间LS3。

执行并列移动动作，于终端光学组件8及第一液浸构件31与基板载台2P(基板P)之间形成液体LQ的第一浸没空间LS1，于第一浸没空间LS1周围的一部分形成第二浸没空间LS2及第三浸没空间LS3后，控制装置4开始基板P的曝光处理。

在执行基板P的曝光处理时，控制装置4是使终端光学组件8及液浸构件3与基板载台2P相对，以用液体LQ充满终端光学组件8与基板P间的光路K的方式以第一液浸构件31于终端光学组件8的射出面7侧形成液体LQ的第一浸没空间LS1。控制装置4从照明***IL射出曝光用光EL。照明***IL以曝光用光EL照明掩模M。来自掩模M的曝光用光EL经由投影光学***PL及液体LQ照射于基板P。藉此，基板P经由第一浸没空间LS1的液体LQ被以曝光用光EL曝光，掩模M的图案像投影至基板P。

本实施形态的曝光装置EX，是边将掩模M与基板P同步移动于既定扫描方向、边将掩模M的图案的像投影至基板P的扫描型曝光装置(所谓的扫描步进机)。本实施形态中，以基板P的扫描方向(同步移动方向)为Y轴方向、掩模M的扫描方向(同步移动方向)也为Y轴方向。控制装置4，使基板P相对投影光学***PL的投影区域PR移动于Y轴方向，并与该基板P往Y轴方向的移动同步，边使掩模M相对照明***IL的照明区域IR移动于Y轴方向、边经由投影光学***PL与基板P上的第一浸没空间LS1的液体LQ对基板P照射曝光用光EL。

图8是显示保持于基板载台2P的基板P的一例的图。本实施形态中，于基板P矩阵状布置有多个曝光对象区域即照射区域S1～S21。在基板P的曝光中，以用液体LQ充满终端光学组件8的射出面7侧的曝光用光EL的光路Ｋ的方式于基板P上形成第一浸没空间LS1。控制装置4，经由第一浸没空间LS1的液体LQ以曝光用光EL将保持于基板保持部10的基板P的多个照射区域S1～S21依序曝光。基板P的多个照射区域S1～S21是被通过液体LQ的曝光用光EL曝光。

为了使例如基板P的第一照射区域S1曝光，控制装置4是使基板P(第一照射区域S1)相对投影光学***PL的投影区域PR往Y轴方向移动，且与该基板P往Y轴方向的移动同步地，边相对照明***IL的照明区域IR使掩模M往Y轴方向移动，边经由投影光学***PL与基板P上的第一浸没空间LS1的液体LQ将曝光用光EL照射于第一照射区域S1。藉此，掩模M的图案像被投影至基板P的第一照射区域S1，该第一照射区域S1被以从射出面7射出的曝光用光EL曝光。在第一照射区域S1的曝光结束后，控制装置4为了开始次第二照射区域S2的曝光，是在形成有第一浸没空间LS1的状态下，使基板P往在XY平面内的既定方向(例如X轴方向、或在XY平面内相对X轴方向倾斜的方向等)移动，使第二照射区域S2移动至曝光开始位置。其后，控制装置4开始第二照射区域S2的曝光。

控制装置4，在反复边相对投影区域PR使照射区域往Y轴方向移动、边使该照射区域曝光的动作以及用以在该照射区域的曝光结束后使次照射区域移动至曝光开始位置的动作的同时，使基板P的多个照射区域依序曝光。

以下说明中，将为了使照射区域曝光而相对终端光学组件8使基板P往Y轴方向移动的动作适当称为扫描移动动作。又，将在对某照射区域的曝光结束后为了使次照射区域曝光而相对终端光学组件8使基板P移动以使次照射区域布置于曝光开始位置的动作适当称为步进移动动作。

本实施形态中，在扫描移动动作中也于第一浸没空间LS1周围的一部分持续形成第二浸没空间LS2及第三浸没空间LS3。又，本实施形态中，在步进移动动作中也于第一浸没空间LS1周围的一部分持续形成第二浸没空间LS2及第三浸没空间LS3。

控制装置4根据基板P上的多个照射区域S1～S21的曝光条件使基板P(基板载台2P)移动。多个照射区域S1～S21的曝光条件是通过例如被称为曝光制法(recipe)的曝光控制信息所限定。曝光控制信息储存于储存装置5。控制装置4根据储存于该储存装置5的曝光条件边以既定移动条件使基板P移动、边依序使多个照射区域S1～S21曝光。基板P(基板载台2P)的移动条件包含移动速度、移动距离、以及相对光路K(第一浸没空间LS1)的移动轨迹中的至少一个。

本实施形态中，控制装置4边以投影光学***PL的投影区域PR与基板P沿图8中箭头Sr所示的移动轨迹相对移动的方式使基板载台2P移动，边将曝光用光EL照射于投影区域PR，经由液体LQ以曝光用光EL依序使基板P的多个照射区域S1～S21曝光。

如图8所示，在扫描移动动作及步进移动动作的至少一部分，基板P(基板载台2P)往包含Y轴方向的成分的方向移动。在该基板P(基板载台2P)往包含Y轴方向的成分的方向的移动中，基板P表面(基板载台2P)是横越曝光用光EL的光路K。

此外，所谓往包含Y轴方向的成分的方向的移动，包含往+Y方向的移动、往-Y方向的移动、往+Y方向且+X方向的移动、往+Y方向且-X方向的移动、往-Y方向且+X方向的移动、往-Y方向且-X方向的移动的至少一个。

图9及图10是示意地显示在形成有第一浸没空间LS1的状态下基板P等物体在与轴J2、J3平行的Y轴方向移动时的形成第一浸没空间LS1的液体LQ状态例的图。

本实施形态中，设有将形成第一浸没空间LS1的液体LQ的至少一部分引导至第一引导空间A1及第二引导空间A2的至少一方的引导部40。

如图9所示，在例如物体往+Y方向移动时，通过该物体的移动，形成第一浸没空间LS1的液体LQ的至少一部分在空间SP1流动。形成通过往+Y方向的物体移动而流动的第一浸没空间LS1的液体LQ的至少一部分，通过引导部40往例如箭头R1、R2所示的方向移动，被引导至第一引导空间A1。例如，形成第一浸没空间LS1的液体LQ的至少一部分，通过引导部40中例如部分41A、42A、以及部分43A的至少一部分往箭头R1所示的方向流动，被引导至第一引导空间A1。又，形成第一浸没空间LS1的液体LQ的至少一部分，通过引导部40中例如部分41B、42B、以及部分43B的至少一部分往箭头R2所示的方向流动，被引导至第一引导空间A1。

此外，引导部40在物体往与+Y方向不同的方向的移动时，也能将液体LQ引导至第一引导空间A1。也即，在物体往包含+Y方向的成分的方向移动时，引导部40能将液体LQ引导至第一引导空间A1。例如，在物体往+Y方向移动且同时往+X方向移动时，引导部40能将液体LQ引导至第一引导空间A1。又，在物体往+Y方向移动且同时往-X方向移动时，引导部40能将液体LQ引导至第一引导空间A1。如上述，引导部40，能将形成通过物体移动(包含往+Y方向的移动)而流动的第一浸没空间LS1的液体LQ的至少一部分引导至第一引导空间A1。

如图10所示，在例如物体往-Y方向移动时，通过该物体的移动，形成第一浸没空间LS1的液体LQ的至少一部分在空间SP1流动。形成通过往-Y方向的物体移动而流动的第一浸没空间LS1的液体LQ的至少一部分，通过引导部40往例如箭头R3、R4所示的方向移动，被引导至第二引导空间A2。例如，形成第一浸没空间LS1的液体LQ的至少一部分，通过引导部40中例如部分41C、42C、以及部分43C的至少一部分往箭头R3所示的方向流动，被引导至第二引导空间A2。又，形成第一浸没空间LS1的液体LQ的至少一部分，通过引导部40中例如部分41D、42D、以及部分43D的至少一部分往箭头R4所示的方向流动，被引导至第二引导空间A2。

此外，引导部40在物体往与-Y方向不同的方向的移动时，也能将液体LQ引导至第二引导空间A2。也即，在物体往包含-Y方向的成分的方向移动时，引导部40能将液体LQ引导至第二引导空间A2。例如，在物体往-Y方向移动且同时往+X方向移动时，引导部40能将液体LQ引导至第二引导空间A2。又，在物体往-Y方向移动且同时往-X方向移动时，引导部40能将液体LQ引导至第二引导空间A2。如上述，引导部40，能将形成通过物体移动(包含往-Y方向的移动)而流动的第一浸没空间LS1的液体LQ的至少一部分引导至第二引导空间A2。

在曝光装置EX的既定动作中，在形成有第一浸没空间LS1的状态下物体以既定移动条件移动时，第一浸没空间LS1的液体LQ的至少一部分有可能流出至空间SP1外侧。

例如，在曝光装置EX的并列移动动作中，第一浸没空间LS1的液体LQ的至少一部分有可能流出至空间SP1外侧。

例如，在曝光装置EX的扫描移动动作中，第一浸没空间LS1的液体LQ的至少一部分有可能流出至空间SP1外侧。

例如，在曝光装置EX的步进移动动作中，第一浸没空间LS1的液体LQ的至少一部分有可能流出至空间SP1外侧。

例如，在并列移动动作、扫描移动动作、以及步进移动动作的至少一个既定动作中，物体有可能在不满足能于第一液浸构件31与物体间维持液体LQ的第一浸没空间LS1的既定容许条件的条件下往Y轴方向移动。

例如，在既定动作中，物体有可能往Y轴方向移动较能于第一液浸构件31与物体间维持液体LQ的第一浸没空间LS1的既定容许距离长的距离。

例如，在既定动作中，物体有可能以较能于第一液浸构件31与物体间维持液体LQ的第一浸没空间LS1的既定容许速度快的速度往Y轴方向移动。

图11是示意地显示物体在不满足能于第一液浸构件31与物体间维持液体LQ的第一浸没空间LS1的既定容许条件的条件下往Y轴方向移动的状态例的图。如图11所示，例如物体在不满足容许条件的条件下往Y轴方向移动时，第一浸没空间LS1的液体LQ的至少一部分有可能流出至空间SP1外侧。

本实施形态中，在物体往+Y方向移动时，第一浸没空间LS1的液体LQ被引导部40引导至第一引导空间A1。因此，物体在不满足容许条件的条件下往+Y方向移动时，第一浸没空间LS1的液体LQ在被聚集于第一引导空间A1后，从该第一引导空间A1流出至空间SP1外侧的可能性高。也即，在物体往+Y方向移动时，第一浸没空间LS1的液体LQ在被聚集于第一引导空间A1后，流出至第一引导空间A1的+Y侧的可能性高。

本实施形态中，以与第一引导空间A1相邻的方式通过第二液浸构件32形成液体LQ的第二浸没空间LS2。本实施形态中，第二液浸构件32是在曝光装置EX的既定动作中物体移动的Y轴方向与第一液浸构件31相邻布置。第二浸没空间LS2在第一引导空间A1的+Y侧布置成与第一引导空间A1相邻。

因此，从第一引导空间A1流出至空间SP1外侧的液体LQ，通过第二浸没空间LS2而被抑制往空间SP2外侧的流出。也即，第二浸没空间LS2挡止从第一引导空间A1的液体LQ流出。例如，从第一引导空间A1流出至空间SP1外侧的液体LQ，是在空间SP2中与第二浸没空间LS2的液体LQ成体。又，从第一引导空间A1流出至空间SP1外侧的液体LQ从第一液浸构件31与供应口50间的回收口52被回收。

又，在物体往-Y方向移动时，第一浸没空间LS1的液体LQ被引导部40引导至第二引导空间A2。因此，物体在不满足容许条件的条件下往-Y方向移动时，第一浸没空间LS1的液体LQ在被聚集于第二引导空间A2后，从该第二引导空间A2流出至空间SP1外侧的可能性高。也即，在物体往-Y方向移动时，第一浸没空间LS1的液体LQ在被聚集于第二引导空间A2后，流出至第二引导空间A2的-Y侧的可能性高。

本实施形态中，以与第二引导空间A2相邻的方式通过第二液浸构件32形成液体LQ的第三浸没空间LS3。本实施形态中，第三液浸构件33是在曝光装置EX的既定动作中物体移动的Y轴方向与第一液浸构件31相邻布置。第三浸没空间LS3在第二引导空间A2的-Y侧布置成与第二引导空间A2相邻。

因此，从第二引导空间A2流出至空间SP1外侧的液体LQ，通过第三浸没空间LS3而被抑制往空间SP3外侧的流出。也即，第三浸没空间LS3挡止从第二引导空间A2的液体LQ流出。例如，从第二引导空间A2流出至空间SP1外侧的液体LQ，是在空间SP3中与第三浸没空间LS3的液体LQ成体。又，从第二引导空间A2流出至空间SP1外侧的液体LQ从第一液浸构件31与供应口53间的回收口55被回收。

本实施形态中，第二浸没空间LS2较第一浸没空间LS1小。因此，即使物体在不满足能于空间SP1维持液体LQ的第一浸没空间LS1的既定容许条件的条件下往Y轴方向移动，仍能抑制第二浸没空间LS2的液体LQ从空间SP2流出。

又，本实施形态中，第三浸没空间LS3较第一浸没空间LS1小。因此，即使物体在不满足能于空间SP1维持液体LQ的第一浸没空间LS1的既定容许条件的条件下往Y轴方向移动，仍能抑制第三浸没空间LS3的液体LQ从空间SP3流出。

又，第一浸没空间LS1的液体LQ也有可能不经由第一引导空间A1及第二引导空间A2而流出至空间SP1外侧。本实施形态中，设有第一、第二回收构件34、35的流体回收部56、58，已流出的液体LQ是被该流体回收部56、58回收。

本实施形态中，在形成有第一浸没空间LS1的状态下物体移动的期间的至少一部分，执行流体回收部56、58的流体回收动作。本实施形态中，至少在经由第一浸没空间LS1的液体LQ使基板P曝光的期间执行流体回收部56、58的流体回收动作。此外，流体回收部56、58的流体回收动作，也可在基板P的曝光的一部分执行。例如，也可在基板P往X轴方向移动时、或基板P以较既定速度高的速度移动时执行流体回收部56、58的流体回收动作，在基板P往Y轴方向移动时、或基板P以较既定速度慢的速度移动时停止流体回收部56、58的流体回收动作。又，也可在基板P的曝光中停止流体回收部56、58的流体回收动作，在基板P的曝光结束后，执行流体回收部56、58对物体(基板P、基板载台2P等)表面(上表面)所残留的液体LQ的回收动作。

此外，也可无流体回收部56、58(第一、第二回收构件34、35)。

在基板P的曝光结束后，基板载台2P移动至基板更换位置。在基板更换位置进行基板更换处理。以后，进行与上述相同的处理，使多个基板P依序曝光。

如以上所说明，根据本实施形态，由于设有引导部40，因此能将第一浸没空间LS1的液体LQ引导至第一引导空间A1。因此，即使在例如第一浸没空间LS1的液体LQ流出时，也可将该流出的位置(部分)限制于第一引导空间A1。又，由于通过第二液浸构件32来与第一引导空间A1相邻地形成第二浸没空间LS2，因此从第一引导空间A1流出的液体LQ通过第二浸没空间LS2而被抑制往空间SP2外侧的流出。同样地，从第二引导空间A2流出的液体LQ通过第三液浸构件33而被抑制往空间SP3外侧的流出。是以，能抑制曝光不良的产生，抑制不良组件的产生。

例如在从第二液浸构件32的回收口52起回收液体LQ与气体时，有可能会产生伴随该回收的气化热。通过将第一液浸构件31与第二液浸构件32分离布置，即使因在第二液浸构件32产生的气化热使第二液浸构件32的温度变化，也可抑制第一液浸构件31的温度变化。同样地，通过将第一液浸构件31与第三液浸构件33分离布置，即使第三液浸构件32的温度变化，也可抑制第一液浸构件31的温度变化。此外，为了抑制因气化热等导致的第二液浸构件32的温度变化，也可设置调整第二液浸构件32温度的温度调整装置。例如，也可于第二液浸构件32布置调整第二液浸构件32温度的帕耳帖组件等温度调整装置。同样地，也可于第三液浸构件33布置调整第三液浸构件33温度的温度调整装置。

此外，第一液浸构件31与第二液浸构件32也可为体。此外，也可设有调整体的第一液浸构件31及第二液浸构件32的温度的温度调整装置。同样地，第一液浸构件31与第三液浸构件33也可为体，也可设有调整体的第一液浸构件31及第三液浸构件33的温度的温度调整装置。也即，也可连结第一液浸构件31与第二液浸构件32与第三液浸构件33。

此外，本实施形态中，引导部40虽包含边缘41、下表面42及边界43，但引导部40也可仅以边缘41构成，也可仅以下表面42构成，也可仅以边界43构成，也可以边缘41与下表面42构成，也可以边缘41与边界43构成，也可以下表面42与边界43构成。

此外，本实施形态中，第二浸没空间LS2虽相对第一浸没空间LS1形成于+Y侧，但当然也可形成于与+Y侧不同的位置。例如，在第一引导空间A1相对光路K被定于+X侧时，第二浸没空间LS2也可相对第一浸没空间LS1形成于+X侧。同样地，本实施形态中，第三浸没空间LS3虽相对第一浸没空间LS1形成于-Y侧，但例如也可形成于-X侧等与-Y侧不同的位置。

此外，本实施形态中，虽设有引导部40，但也可不设置引导部40。例如在曝光装置EX的既定动作中物体在不满足能维持第一浸没空间LS1的既定容许条件的条件下往Y第一方向移动时，也可不设置引导部40，而在该物体移动的第一方向于与第一液浸构件31相邻的位置布置形成第二浸没空间LS2的第二液浸构件32。例如，在通过曝光装置EX的既定动作(例如物体的移动条件)而容易收集第一浸没空间LS1的液体LQ的空间为已知时，也可于与该空间相邻的位置形成第二浸没空间LS2。

此外，本实施形态中，虽液体回收部21包含多孔构件24，但也可无多孔构件24。例如，也可从不布置多孔构件24的开口22回收空间SP1的液体LQ。

此外，本实施形态中，也可于回收口52布置多孔构件。也可于回收口55布置多孔构件。

此外，本实施形态中，例如图12所示，第一液浸构件31B也可具备将回收流路23RB的液体LQ与气体分离排出的排出部60。例如，在液体回收部21起回收液体LQ与气体时，液体LQ及气体是从空间SP1流入回收流路23RB。排出部60是将回收流路23RB的液体LQ与气体分离排出。

图12中，排出部60具有面对回收流路23RB、用以从回收流路23RB排出液体LQ的第一排出口61与面对回收流路23RB、用以从回收流路23RB排出气体的第二排出口62。第一排出口61及第二排出口62均朝向下方。第一排出口61在相对光路K的放射方向布置于第二排出口62外侧。第一排出口61布置于较第二排出口62下方。第一排出口61较第二排出口62更可抑制气体的流入。第二排出口62较第一排出口61更可抑制液体LQ的流入。也即，从第一排出口61排出的流体中的液体LQ比例较从第二排出口62排出的流体中的液体LQ比例多。第一排出口61实质地从回收流路23RB仅排出液体LQ。第二排出口62实质地从回收流路23RB仅排出气体。图12所示的例中，第一液浸构件31B具备具有第一排出口61的多孔构件63。多孔构件63具有能排出液体LQ的多个孔。多孔构件63的孔发挥第一排出口61的功能。通过调整第一排出口61下表面侧的压力与上表面侧的压力的差，而从第一排出口61实质地仅排出液体LQ。

<第2实施形态>

其次说明第2实施形态。以下说明中，对与上述实施形态相同或同等的构成部分赋予相同符号，简略或省略其说明。

图13～图18是显示布置于下表面141～146的引导部401～406例的图。此外，以下为了使说明简单，虽是以引导部401～406为下表面141～146的边缘的情形为例进行说明，但其也可包含多孔构件24多孔构件24的下表面42，也可包含多孔构件24的下表面42与平坦部26S的边界。又，以下说明中，虽针对将液体LQ引导至第一引导空间A1的引导部401～406进行说明，但也可以具有与图13～图18的引导部401～406相同构造的引导部将液体LQ引导至第二引导空间A2。此外，图13～图18是示意地显示液浸构件，图13～图18中省略了例如液体回收部21及下表面26(平坦部26S)的图示。

图13所示的引导部401包含往第一引导空间A1线状延伸的下表面141的边缘411。边缘411具有从通过第二浸没空间LS2的轴J2的+X侧往第一引导空间A1延伸的部分411A、以及从轴J2的-X侧往第一引导空间A1延伸的部分411B。在XY平面内于X轴方向的部分411A与部分411B之间隔随着接近第一引导空间A1而变小。本实施形态中，边缘411的至少一部分是弯曲。

图14所示的引导部402包含往第一引导空间A1线状延伸的下表面142的边缘412。边缘412具有从轴J2的+X侧往第一引导空间A1延伸的部分412A、以及从轴J2的-X侧往第一引导空间A1延伸的部分412B。在XY平面内于X轴方向的部分412A与部分412B的间隔随着接近第一引导空间A1而变小。本实施形态中，边缘412的至少一部分是弯曲。部分412A、412B弯曲成往内侧凹入。

图15所示的引导部403包含往第一引导空间A1线状延伸的下表面143的边缘413。边缘413具有从轴J2的+X侧往第一引导空间A1延伸的部分413A、以及从轴J2的-X侧往第一引导空间A1延伸的部分413B。在XY平面内于X轴方向的部分413A与部分413B的间隔随着接近第一引导空间A1而变小。本实施形态中，部分413A及部分413B均为直线状。形成于部分413A与部分413B间的角是尖锐。

图16所示的引导部404包含往第一引导空间A1线状延伸的下表面144的边缘414。边缘414具有从轴J2的+X侧往第一引导空间A1延伸的部分414A、以及从轴J2的-X侧往第一引导空间A1延伸的部分414B。在XY平面内于X轴方向的部分414A与部分414B的间隔随着接近第一引导空间A1而变小。部分414A及部分414B均为直线状。又，下表面144包含连结部分414A前端与部分414B前端的边缘414S。边缘414S是与X轴大致平行的直线状。

图17所示的引导部405包含往第一引导空间A1线状延伸的下表面145的边缘415。边缘415具有从轴J2的+X侧往第一引导空间A1延伸的部分415A、以及从轴J2的-X侧往第一引导空间A1延伸的部分415B。在XY平面内于X轴方向的部分415A与部分415B的间隔随着接近第一引导空间A1而变小。部分415A及部分415B均为直线状。又，下表面145包含连结部分415A前端与部分415B前端的边缘415S及边缘415T。边缘415S与边缘415T延伸于不同的方向。通过边缘415S及边缘415T形成相对第二浸没空间LS2凹入的凹部70。

图18所示的引导部406是图17所示的引导部405的变形例。引导部406包含往第一引导空间A1线状延伸的下表面146的边缘416。边缘416具有部分416A与部分416B。又，下表面146包含连结部分416A前端与部分416B前端的边缘416S、边缘416T、416U、416V。通过边缘416S与边缘416T形成相对第二浸没空间LS2凹入的第一凹部71，通过边缘416U与边缘416V形成第二凹部72。

<第3实施形态>

其次说明第3实施形态。以下说明中，对与上述实施形态相同或同等的构成部分赋予相同符号，简略或省略其说明。

图19～图21是显示布置于下表面147～149的引导部407～409例的图。图19～图21是示意地显示液浸构件者，图19～图21中，例如液体回收部21及下表面26(平坦部26S)的图示是省略。

图19所示的引导部407包含往第一引导空间A1线状延伸的边缘417。边缘417具有从轴J2的+X侧往第一引导空间A1延伸的部分417A、以及从轴J2的-X侧往第一引导空间A1延伸的部分417B。在XY平面内于X轴方向的部分417A与部分417B的间隔随着接近第一引导空间A1而变小。又，下表面147包含连结部分417A前端与部分417B前端的边缘417S。边缘417S是与X轴大致平行的直线状。

本实施形态中，下表面147包含布置成物体与之相对的第一区域81与布置成物体与之相对、相对液体LQ的接触角较第一区域81小的第二区域82。引导部407包含第二区域82。第二区域82往第一引导空间A1带状延伸。第二区域82具有从轴J2的+X侧往第一引导空间A1延伸的部分82A、以及从轴J2的-X侧往第一引导空间A1延伸的部分82B。在XY平面内于X轴方向的部分82A与部分82B的间隔随着接近第一引导空间A1而变小。

又，图19所示的例中，引导部407包含第一区域81与第二区域82的边界83。边界83往第一引导空间A1线状延伸。边界83具有从轴J2的+X侧往第一引导空间A1延伸的部分83A、以及从轴J2的-X侧往第一引导空间A1延伸的部分83B。在XY平面内于X轴方向的部分83A与部分83B的间隔随着接近第一引导空间A1而变小。

又，图20所示的引导部408，包含往第一引导空间A1线状延伸的边缘418。边缘418具有从轴J2的+X侧往第一引导空间A1延伸的部分418A、以及从轴J2的-X侧往第一引导空间A1延伸的部分418B。在XY平面内于X轴方向的部分418A与部分418B的间隔随着接近第一引导空间A1而变小。本实施形态中，部分418A与部分418B是弯曲。本实施形态中，下表面148的外形为圆形。

本实施形态中，下表面148包含第一区域81与相对液体LQ的接触角较第一区域81小的第二区域82。引导部408包含第二区域82。又，引导部408包含第一区域81与第二区域82的边界83。第二区域82及边界83与参照图19所说明的第二区域82及边界83相同。

图21所示的引导部409，包含往第一引导空间A1线状延伸的边缘419。边缘419具有从轴J2的+X侧往第一引导空间A1延伸的部分419A、以及从轴J2的-X侧往第一引导空间A1延伸的部分419B。在XY平面内于X轴方向的部分419A与部分419B的间隔随着接近第一引导空间A1而变小。本实施形态中，下表面149包含连结部分419A前端与部分419B前端的边缘419S。

本实施形态中，下表面149包含布置成物体与之相对的第一区域84与布置成物体与之相对、高度与第一区域84不同的第二区域85。本实施形态中，下表面148具有凹部(槽)。凹部的内面是第二区域85。于凹部周围布置第一区域84。第二区域85与物体的距离较第一区域84与物体表面的距离大。

本实施形态中，引导部409包含第一区域84与第二区域85的边界86。边界86往第一引导空间A1线状延伸。边界86具有从轴J2的+X侧往第一引导空间A1延伸的部分86A、以及从轴J2的-X侧往第一引导空间A1延伸的部分86B。在XY平面内于X轴方向的部分86A与部分86B的间隔随着接近第一引导空间A1而变小。

此外，也可于下表面149设置凸部，于与物体相对的凸部的表面布置第二区域85。于凸部周围布置第一区域84。将具有第二区域85的凸部设于下表面149时，第二区域85与物体的距离较第一区域84与物体表面的距离小。

<第4实施形态>

其次说明第4实施形态。以下说明中，对与上述实施形态相同或同等的构成部分赋予相同符号，简略或省略其说明。

图22是显示本实施形态的液浸构件300例的图。此外，图22是示意地显示液浸构件者，图22中，例如液体回收部21及下表面26(平坦部26S)的图示是省略。

图22中，液浸构件300具备形成第一浸没空间LS1的第一液浸构件301、将第一浸没空间LS1的液体LQ的至少一部分引导至光路K周围的一部分即第一引导空间A1的引导部400、相对光路K布置于第一液浸构件301外侧且于第一浸没空间LS1周围的一部分与第一引导空间A1相邻地形成液体LQ的第二浸没空间LS2的第二液浸构件302、相对光路K布置于第一液浸构件301外侧且于第一浸没空间LS1周围的一部分与第二引导空间A2相邻地形成与第二浸没空间LS2不同的液体LQ的第三浸没空间LS3的第三液浸构件303。本实施形态中，第三浸没空间LS3相对光路K形成于与第二浸没空间LS2相同的侧。引导部400将第一浸没空间LS1的液体LQ的至少一部分引导至第二引导空间A2。

又，本实施形态中，液浸构件300具备相对光路K布置于第一液浸构件301外侧且于第一浸没空间LS1周围的一部分与第三引导空间A3相邻地形成液体LQ的第四浸没空间LS4的第四液浸构件304、相对光路K布置于第一液浸构件301外侧且于第一浸没空间LS1周围的一部分与第四引导空间A4相邻地形成液体LQ的第五浸没空间LS5的第五液浸构件305。本实施形态中，第三浸没空间LS3、第四浸没空间LS4、以及第五浸没空间LS5相对光路K形成于与第二浸没空间LS2相同的侧。引导部400将第一浸没空间LS1的液体LQ的至少一部分引导至第三引导空间A3及第四引导空间A4。

引导部400包含往第一引导空间A1延伸的边缘Ea的部分Ea1及部分Ea2、往第二引导空间A2延伸的边缘Eb的部分Eb1及部分Eb2、往第三引导空间A3延伸的边缘Ec的部分Ec1及部分Ec2、往第四引导空间A4延伸的边缘Ed的部分Ed1及部分Ed2。

<第5实施形态>

其次说明第5实施形态。以下说明中，对与上述实施形态相同或同等的构成部分赋予相同符号，简略或省略其说明。

图23(A)～(H)均显示第一液浸构件的下表面14A～14H的例。此外，图23(A)～(H)是示意地显示液浸构件者，图23中，例如液体回收部21及下表面26(平坦部26S)的图示是省略。如图23(A)所示，下表面14A的外形也可为八角形。如图23(B)所示，下表面14B的外形也可为六角形。如图23(C)及图23(D)所示，下表面14C、14D的外形也可为菱形。图23(C)所示的下表面14C在X轴方向的尺寸较在Y轴方向的尺寸大。图23(D)所示的下表面14D在X轴方向的尺寸较在Y轴方向的尺寸小。如图23(E)所示，下表面14E的外形也可是于X轴方向较长的六角形。如图23(F)所示，下表面14F的外形也可是于Y轴方向较长的六角形。如图23(G)及图23(H)所示，下表面14G、14H的外形也可是椭圆形。图23(G)所示的下表面14G在X轴方向的尺寸较在Y轴方向的尺寸大。图23(H)所示的下表面14H在X轴方向的尺寸较在Y轴方向的尺寸小。

<第6实施形态>

其次说明第6实施形态。以下说明中，对与上述实施形态相同或同等的构成部分赋予相同符号，简略或省略其说明。

图24(A)～(H)均显示在XY平面内的第二浸没空间LS2形状的例。此外，图24(A)～(H)是示意地显示液浸构件，图24中，例如液体回收部21及下表面26(平坦部26S)的图示是省略。如图24(A)所示，在XY平面内的第二浸没空间LS2的形状也可是于Y轴方向较长的直线状(带状)。如图24(B)所示，也可是在XY平面内，第二浸没空间LS2弯曲成中央部布置于较两端部接近第一液浸构件31的位置。如图24(C)所示，在XY平面内的第二浸没空间LS2的形状也可是于X轴方向较长的直线状(带状)。如图24(D)所示，第二浸没空间LS2也可与第一引导空间A1相邻布置多个。图24(D)中，多个第二浸没空间LS2均在XY平面内带状延伸。如图24(E)所示，在XY平面内的第二浸没空间LS2的形状也可是圆形。如图24(F)所示，在XY平面内圆形的第二浸没空间LS2也可与第一引导空间A1相邻布置多个。如图24(G)所示，也可在相对光路K的放射方向布置多个第二浸没空间LS2。如图24(H)所示，也可在相对光路K的放射方向布置多个第二浸没空间LS2，且于光路K的周方向布置多个第二浸没空间LS2。

此外，参照图13～图22所说明的实施形态、参照图23所说明的实施形态、以及参照图24所说明的实施形态，可适当组合。

<第7实施形态>

其次说明第7实施形态。以下说明中，对与上述实施形态相同或同等的构成部分赋予相同符号，简略或省略其说明。

图25是显示第7实施形态的液浸构件3000例的图。本实施形态中，是以引导部4000包含从第一浸没空间LS1外侧朝向第一浸没空间LS1供应气体的供气口90的情形为例进行说明。

如图25所示，液浸构件3000具备供气构件91，该供气构件91具有从第一浸没空间LS1外侧朝向第一浸没空间LS1供应气体的供气口90。本实施形态中，供气口90发挥引导部4000的功能。图25所示的例中，供气口90(供气构件91)于第一液浸构件31外侧布置多个。供气口90能从空间SP1外侧朝向空间SP1供应气体。供气口90布置成面对空间SP1。供气口90能对第一浸没空间LS1的液体LQ的界面LG1供应气体。

通过从供气口90对第一浸没空间LS1供应气体，通过该气体的力抑制第一浸没空间LS1的液体LQ流出至空间SP1外侧。又，通过从供气口90供应的气体，第一浸没空间LS1的液体LQ的至少一部分流动而被引导至第一引导空间A1。又，通过从供气口90供应的气体，第一浸没空间LS1的液体LQ的至少一部分流动而被引导至第二引导空间A2。

此外，如图26所示，供气口90B也可布置于第二回收构件3500的至少一部分。又，供气口90B也可布置于第一回收构件的至少一部分。

此外，第一液浸构件3100的下表面1400也可是如图27所示的形状。又，如图27所示，也可布置供气构件96及吸引构件98，该供气构件96具有能于空间SP1(第一浸没空间LS1)周围生成气流的供气口95，该吸引构件98具有能吸引来自该供气口95的气体的至少一部分的吸引口97。通过于空间SP1周围生成气流，抑制第一浸没空间LS1的液体LQ流出至空间SP1外侧。此外，图27是示意地显示液浸构件者，图27中，例如液体回收部21及下表面26(平坦部26S)的图示是省略。

此外，上述第1～第7实施形态中，如图29A，也可相对光路K于第二液浸构件(32等)的回收口52外侧设有气体供应口351。气体供应口351从回收口52(第二液浸构件32等)外侧朝向空间SP2(第二浸没空间LS2)供应气体。通过从气体供应口351供应的气体，抑制空间SP2的液体LQ流出至空间SP2外侧。此情形下，从气体供应口351供应的气体可是与从环境控制装置供应至腔室CH的气体相同的气体(例如空气)，也可是与供应至腔室CH的气体不同的气体(例如氮)。又，上述第1～第7实施形态中，如图29B，也可相对光路K于第二液浸构件(32等)的回收口52外侧设有液体供应口352。气体供应口352从回收口52(第二液浸构件32等)外侧朝向空间SP2(第二浸没空间LS2)供应液体。通过从液体供应口352供应的液体，抑制空间SP2的液体LQ流出至空间SP2外侧。此情形下，从液体供应口352供应的液体可是与从从供应口50供应的液体相同的液体(例如纯水)，也可是不同。同样地，也可相对光路K于第三液浸构件(33等)的回收口55外侧设有气体供应口及／或液体供应口。

此外，上述第1～第7实施形态中，也可共享液体供应装置27S、液体供应装置28S、液体供应装置50S、以及液体供应装置53S的至少一个。例如，也可从液体供应装置28S对所有的供应口27,28,50,53供应液体LQ，或也可从液体供应装置28S对供应口27,28供应液体LQ，从液体供应装置50S对供应口50,53供应液体LQ。

此外，上述第1～第7实施形态中，虽形成第一浸没空间LS1的液体LQ与形成第二浸没空间LS2的液体LQ是相同的液体(纯水)，但也可是不同的液体。也即，从供应口28(27)供应的液体与从供应口50供应的液体可是不同种类的液体。又，从供应口28(27)供应的液体与从供应口50供应的液体可是不同的洁净度，可是不同的温度，可是不同的黏度。又，形成第一浸没空间LS1的液体LQ与形成第三浸没空间LS3的液体LQ可是相同的液体(纯水)，也可是不同的液体。也即，从供应口28(27)供应的液体与从供应口53供应的液体可是相同的液体，也可是不同种类的液体。又，形成第二浸没空间LS2的液体LQ与形成第三浸没空间LS3的液体LQ可是相同的液体(纯水)，也可是不同的液体。

此外，上述各实施形态中，虽第二浸没空间LS2是形成于第一浸没空间LS1周围的一部分空间，但也可形成于第一浸没空间LS1周围。换言之，第二浸没空间LS2也可环状形成为包围第一浸没空间LS1。藉此，能以第二浸没空间LS2捕捉来自引导部(40等)的液体LQ。又，即使不设置引导部(40等)，也能以环状的第二浸没空间LS2捕捉来自第一浸没空间LS1的液体LQ。

此外，上述各实施形态中，「相对光路K的放射方向」也可视为相对在投影区域PR附近的投影光学***PL的光轴AX的放射方向。

此外，如上所述，控制装置4包含含有CPU等的计算机***。又，控制装置4包含能执行计算机***与外部装置的通讯的接口。储存装置5包含例如RAM等内存、硬盘、CD－ROM等储存媒体。于储存装置5安装有控制计算机***的操作***(OS)，储存有用以控制曝光装置EX的程序。

此外，也可于控制装置4连接有能输入输入信号的输入设备。输入设备包含能从键盘、鼠标等输入机器或外部装置输入数据的通讯装置等。又，也可设有液晶显示器等显示设备。

储存于储存装置5的包含程序的各种信息，能由控制装置(计算机***)4读取。于储存装置5储存有程序，该程序能使控制装置4执行经由液体LQ以曝光用光EL使基板P曝光的曝光装置EX的控制。

储存于储存装置5的程序，也可依照上述实施形态，使控制装置4执行：以用液体LQ充满终端光学组件8与基板P之间的曝光用光EL的光路K的方式，以布置于光路K周围的至少一部分的第一液浸构件31于终端光学组件8的射出面7侧形成液体LQ的第一浸没空间LS1的处理；经由第一浸没空间LS1的液体LQ使基板P曝光的动作；将第一浸没空间LS1的液体LQ的至少一部分引导至光路K周围的一部分即第一引导空间A1的处理；以及以相对光路K布置于第一液浸构件31外侧的第二液浸构件32，于第一浸没空间LS1周围的一部分与第一引导空间A1相邻地形成液体LQ的第二浸没空间LS2的处理。

又，储存于储存装置5的程序，也可依照上述实施形态，使控制装置4执行：以用液体LQ充满终端光学组件8与基板P之间的曝光用光的光路K的方式，以布置于光路K周围的至少一部分的第一液浸构件31于终端光学组件8的射出面7侧形成液体LQ的第一浸没空间LS1的处理；经由第一浸没空间LS1的液体LQ使基板P曝光的处理；以及以相对光路K布置于第一液浸构件31外侧、且在基板P的既定处理中基板P移动的第一方向与第一液浸构件31相邻布置的第二液浸构件32，于第一浸没空间LS1周围的一部分形成液体LQ的第二浸没空间LS2的处理。

又，储存于储存装置5的程序，也可依照上述实施形态，使控制装置4执行：以用前述第一液体充满光学构件与基板之间的曝光用光的光路的方式，以布置于光路周围的至少一部分的第一液浸构件于光学构件的射出面侧形成第一液体的第一浸没空间的动作；经由第一浸没空间的第一液体使基板曝光的动作；以及以第二液浸构件于第一浸没空间周围的一部分形成第二液体的第二浸没空间的动作；该第二液浸构件相对光路布置于第一液浸构件的外侧，具有布置成基板能相对、能供应第二液体的第二供应口与布置成包围第二供应口且物体能相对、能回收流体的流体回收部。

又，储存于储存装置5的程序，也可依照上述实施形态，使控制装置4执行：以用第一液体充满光学构件与基板之间的曝光用光的光路的方式，以布置于光路周围的至少一部分的第一液浸构件于光学构件的射出面侧形成第一液体的第一浸没空间的动作；经由第一浸没空间的第一液体使基板曝光的动作；以相对光路布置于第一液浸构件的外侧的第二液浸构件，于第一浸没空间周围的一部分形成第二液体的第二浸没空间的动作；以及以相对光路布置于第一液浸构件的外侧的回收构件的流体回收部回收流体的动作。

又，储存于储存装置5的程序，也可依照上述实施形态，使控制装置4执行：以用第一液体充满光学构件与基板之间的曝光用光的光路的方式，以布置于光路周围的至少一部分的第一液浸构件于光学构件的射出面侧形成第一液体的第一浸没空间的动作；经由第一浸没空间的第一液体使基板曝光的动作；以相对光路布置于第一液浸构件的外侧的第二液浸构件，于第一浸没空间周围的一部分形成第二液体的第二浸没空间的动作；以及从第一液浸构件与基板间的空间外侧朝向空间从供气构件的供气口供应气体的动作。

又，储存于储存装置5的程序，也可依照上述实施形态，使控制装置4执行：以用第一液体充满光学构件与基板之间的曝光用光的光路的方式，以布置于光路周围的至少一部分、具有能隔着第一距离与基板表面相对的第一下表面的第一液浸构件，于光学构件的射出面侧形成第一液体的第一浸没空间的动作；经由第一浸没空间的第一液体使基板曝光的动作；以及以相对光路布置于第一液浸构件的外侧、具有能隔着较第一距离小的第二距离与基板表面相对的第二下表面的第二液浸构件，于第一浸没空间周围的一部分形成第二液体的第二浸没空间的动作。

又，储存于储存装置5的程序，也可依照上述实施形态，使控制装置4执行：以用第一液体充满光学构件与基板之间的曝光用光的光路的方式，以布置于光路周围的至少一部分的第一液浸构件于光学构件的射出面侧形成第一液体的第一浸没空间的动作；经由第一浸没空间的第一液体使基板曝光的动作；以相对光路布置于第一液浸构件的外侧的第二液浸构件，于第一浸没空间周围的一部分形成第二液体的第二浸没空间的动作；以及从相对光路布置于第二液浸构件的外侧的气体供气口供应气体的动作。

通过储存于储存装置5的程序被控制装置4读入，以使基板载台2P、测量载台2C、以及液浸构件3等曝光装置EX的各种装置协同动作，在形成第一浸没空间LS1的状态下执行基板P的液浸曝光等各种处理。

此外，上述各实施形态中，投影光学***PL的终端光学组件8的射出面7侧(像面侧)的光路K虽是以液体LQ充满，但也可采用例如国际公开第2004／019128号所揭示，终端光学组件8的入射侧(物体面侧)的光路也以液体LQ充满的投影光学***PL。

此外，上述各实施形态中，虽液体LQ为水，但也可是水以外的液体。液体LQ，最好是对曝光用光EL为透射性，对曝光用光EL具有高折射率，对投影光学***PL或形成基板P表面的感光材(光阻)等膜为稳定者。例如作为液体LQ，也能使用氢氟醚(HFE,HydroFluoro Ether)、过氟聚醚(PFPE,perfluoro－polyether)、氟布尔油(FOMBLIN OIL)等氟是液体。又，液体LQ也可使用各种流体，例如超临界流体。

此外，上述各实施形态中，基板P虽包含半导体组件制造用的半导体晶圆，但也能包含例如显示器组件用的玻璃基板、薄膜磁头用的陶瓷晶圆、或在曝光装置所使用的掩模或标线片的原版(合成石英、硅晶圆)等。

此外，上述各实施形态中，曝光装置EX，虽是使掩模M与基板P同步移动来对掩模M的图案进行扫描曝光的步进扫瞄方式的扫瞄型曝光装置(扫瞄步进机)，但也可是在使掩模M与基板P静止的状态下使掩模M的图案次曝光并使基板P依序步进移动的步进重复方式的投影曝光装置(步进机)。

又，曝光装置EX，在步进重复方式的曝光中，也可是在使第一图案与基板P大致静止的状态下，使用投影光学***将第一图案的缩小像转印至基板P上后，在使第二图案与基板P大致静止的状态下，使用投影光学***使第二图案的缩小像与第一图案部分重迭而次曝光于基板P上的曝光装置(接合方式的一次曝光装置)。又，接合方式的曝光装置，也可是步进接合方式的曝光装置，其是在基板P上将至少2个图案部分重迭而转印，并使基板P依序移动。

又，曝光装置EX，也可是例如美国发明专利第6611316号说明书所揭示的曝光装置，其是将两个掩模的图案透过投影光学***在基板上合成，通过次的扫描曝光来对基板上的一个照射区域大致同时进行双重曝光。又，曝光装置EX也可是近接方式的曝光装置、镜投影对准器等。

又，曝光装置EX也可是例如美国发明专利第6341007号说明书、美国发明专利第6208407号说明书、美国发明专利第6262796号说明书等所揭示的具备多个基板载台的双载台型曝光装置。例如，如图30所示，在曝光装置EX具备两个基板载台2Pa、2Pb的情形，能布置成与射出面7相对的物体，包含方的基板载台、保持于该方的基板载台的基板保持部的基板、另一方的基板载台、以及保持于该另一方的基板载台的基板保持部的基板的至少一个。

又，曝光装置EX也可是具备多个基板载台与测量载台的曝光装置。

曝光装置EX，也可是将半导体组件图案曝光于基板P的半导体组件制造用曝光装置，也可是液晶显示组件制造用或显示器制造用的曝光装置，或也可是用以制造薄膜磁头、摄影组件(CCD)、微型机器、MEMS、DNA芯片、或标线片或掩模等的曝光装置。

此外，上述各实施形态中，虽是使用干涉仪***13来测量各载台的位置信息，但例如也能使用用以检测设于各载台的标尺(绕射光栅)的编码器***，也可并用干涉仪***与编码器***。

此外，上述实施形态中，虽使用于光透射性的基板上形成既定遮光图案(或相位图案，减光图案)的光透射性掩模，但也可使用例如美国发明专利第6778257号说明书所揭示的可变成形掩模来代替此掩模，该可变成形掩模(也称为电子掩模、主动掩模、或影像产生器)是根据欲曝光图案的电子数据来形成透射图案、反射图案、或发光图案。又，也可取代具备非发光型影像显示组件的可变成形掩模，而具备包含自发光型影像显示组件的图案形成装置。

上述各实施形态中，虽曝光装置EX具备投影光学***PL，但也能将上述各实施形态所说明的构成要素适用于不使用投影光学***PL的曝光装置及曝光方法。例如，也能将上述各实施形态所说明的构成要素适用于在透镜等光学构件与基板之间形成浸没空间，并透过该光学构件对基板照射曝光用光的曝光装置及曝光方法。

又，曝光装置EX也可是例如国际公开第2001／035168号小册子所揭示，通过将干涉纹形成于基板P上、而在基板P上曝光线与空间图案的曝光装置(微影***)。

又，上述实施形态的曝光装置EX，是通过组装包含上述各构成要素的各种次***，以能保持既定的机械精度、电气精度、光学精度的方式所制造。为确保此等各种精度，于此组装前后，是进行对各种光学***进行用以达成光学精度的调整、对各种机械***进行用以达成机械精度的调整、对各种电气***进行用以达成电气精度的调整。从各种次***至曝光装置的组装制程，是包含机械连接、电路的配线连接、气压回路的配管连接等。当然，从各种次***至曝光装置的组装制程前，是有各次***个别的组装制程。当各种次***至曝光装置的组装制程结束后，即进行综合调整，以确保曝光装置全体的各种精度。此外，曝光装置的制造最好是在温度及清洁度等皆受到管理的洁净室进行。

半导体组件的微型组件，如图31所示，是经由下述步骤等所制造，即：进行微型组件的功能、性能设计的步骤201、根据此设计步骤制作掩模(标线片)的步骤202、制造组件基材即基板的步骤203、包含依据上述实施形态以来自掩模的图案的曝光用光使基板曝光的步骤及使曝光后的基板显影的步骤的基板处理(曝光处理)步骤204、组件组装步骤(包含切割步骤、接合步骤、封装步骤等加工程序)205、检查步骤206等。

此外，上述各实施形态的要件可适当组合。又，也有不使用部分构成要素的情形。又，在法令所允许的范围内，援用与上述各实施形态及变形例所引用的曝光装置等相关的所有公开公报及美国发明专利等的揭示，来作为本文的记载的部分。

Claims (101)

1.一种液浸构件，在浸没曝光装置内，被布置成至少部分地围绕光学构件及通过前述光学构件与物体之间的第一液体的曝光用光的光路，前述液浸构件包括：

第一液浸构件，被布置成至少部分地围绕前述光路，并且在前述光学构件的射出面侧形成前述第一液体的第一浸没空间，使得前述光学构件与前述物体之间的前述曝光用光的光路被前述第一液体充满；

引导部，将前述第一浸没空间中的前述第一液体的至少一些引导至部分地围绕前述光路的第一引导空间；以及

第二液浸构件，相对前述光路布置在前述第一液浸构件的外侧，并且形成部分地围绕前述第一浸没空间且与前述第一引导空间相邻的第二液体的第二浸没空间。

2.如权利要求1的液浸构件，其中，

前述引导部成线状或带状延伸；以及

前述引导部的至少一部分弯曲。

3.如权利要求1或2的液浸构件，其中，前述引导部包含在与前述物体的前表面大致平行的面内从通过前述第二浸没空间的轴的一侧向前述第一引导空间延伸的第一引导部。

4.如权利要求3的液浸构件，其中，

前述引导部包括在与前述物体的前表面大致平行的面内从前述轴的另一侧向前述第一引导空间延伸的第二引导部；以及

在与前述物体大致平行的面内，在与前述轴垂直的方向上的前述第一引导部与前述第二引导部之间的间隔随着接近前述第一引导空间而变小。

5.如权利要求3或4的液浸构件，其中，前述第一引导部与前述第二引导部之间的间隔随着从前述光路离开而变小。

6.如权利要求3至5中任一项的液浸构件，其中，前述引导部将形成前述第一浸没空间且通过前述物体的移动而流动的前述第一液体的至少一些引导至前述第一引导空间，前述物体的移动包含在与前述轴平行的第一方向上的移动。

7.如权利要求1至6中任一项的液浸构件，其中，前述引导部将前述第一浸没空间中的前述第一液体的至少一些引导至部分地围绕前述光路且与前述第一引导空间不同的第二引导空间。

8.如权利要求7的液浸构件，还包括：

第三液浸构件，相对前述光路布置在前述第一液浸构件的外侧，形成与前述第二浸没空间不同、部分地围绕前述第一浸没空间且与前述第二引导空间相邻的第三液体的第三浸没空间。

9.如权利要求8的液浸构件，其中，

前述引导部包括：

第三引导部，在与前述物体的前表面大致平行的面内从通过前述第三浸没空间的轴的一侧向前述第二引导空间延伸；以及

第四引导部，从前述轴的另一侧向前述第二引导空间延伸；以及

在与前述物体大致平行的面内，在与前述轴垂直的方向上的前述第三引导部与前述第四引导部之间的间隔随着接近前述第二引导空间而变小。

10.如权利要求8或9的液浸构件，其中，前述第三引导部与前述第四引导部之间的间隔随着从前述光路离开而变小。

11.如权利要求8至10中任一项的液浸构件，其中，将前述第三浸没空间形成在前述光路的与前述第二浸没空间相反的侧。

12.如权利要求8至11中任一项的液浸构件，其中，将前述第三浸没空间形成在前述光路的与前述第二液浸空间相同的侧。

13.如权利要求8至12中任一项的液浸构件，其中，将前述第二浸没空间与前述第三浸没空间基本上彼此分离地形成。

14.如权利要求1至13中任一项的液浸构件，其中，前述引导部的至少一部分布置在前述第一液浸构件中。

15.如权利要求14的液浸构件，其中，前述引导部包含前述第一液浸构件的***边缘部的边缘。

16.如权利要求14或15的液浸构件，其中，

前述第一液浸构件包含被布置成使得前述物体与之相对、并能回收前述第一液体的液体回收部；以及

前述引导部包含前述液体回收部的至少一部分。

17.如权利要求16的液浸构件，其中，前述液体回收部包含多孔构件的下表面的至少一部分。

18.如权利要求14至17中任一项的液浸构件，其中，

前述第一液浸构件包含液体回收部以及平坦部，前述液体回收部被布置成使得前述物体与之相对、并能回收前述第一液体，所述平坦部被布置成使得前述物体与之相对、并与前述液体回收部相邻；以及

前述引导部包含前述液体回收部与前述平坦部之间的边界。

19.如权利要求18的液浸构件，其中，前述液体回收部包含多孔构件的下表面的至少一部分。

20.如权利要求14至19中任一项的液浸构件，其中，

前述第一液浸构件包含被布置成使得前述物体与之相对的第一区域以及被布置成使得前述物体与之相对的第二区域，其中前述第一液体相对于前述第二区域的接触角比前述第一液体相对于前述第一区域的接触角更小；以及

前述引导部包含前述第二区域。

21.如权利要求14至20中任一项的液浸构件，其中，

前述第一液浸构件包含被布置成使得前述物体与之相对的第一区域以及被布置成使得前述物体与之相对的第二区域，其中前述第一液体相对于前述第二区域的接触角比前述第一液体相对于前述第一区域的接触角更小；

前述引导部包含前述第一区域与前述第二区域之间的边界。

22.如权利要求14至21中任一项的液浸构件，其中，

前述第一液浸构件包含被布置成使得前述物体与之相对的第一区域以及被布置成使得前述物体与之相对的第二区域，并且第二区域的高度与前述第一区域的高度不同；以及

前述引导部包含前述第一区域与前述第二区域之间的边界。

23.如权利要求1至22中任一项的液浸构件，其中，前述引导部包含从前述第一浸没空间的外侧向前述第一浸没空间供应气体的供气口。

24.如权利要求1至23中任一项的液浸构件，其中，前述第一引导空间包含前述第一液浸构件的***边缘部的部分与前述物体之间的空间。

25.如权利要求24的液浸构件，其中，

前述第一液浸构件包含被布置成使得前述物体与之相对、并能回收前述第一液体的液体回收部；以及

前述第一引导空间包含前述液体回收部的至少一部分与前述物体之间的空间。

26.如权利要求25的液浸构件，其中，前述液体回收部包含多孔构件的下表面的至少一部分。

27.如权利要求1至26中任一项的液浸构件，其中，前述第一引导空间被限定在前述第二浸没空间与前述光路之间。

28.一种液浸构件，在浸没曝光装置内，被布置成至少部分地围绕光学构件以及通过前述光学构件与物体之间的第一液体的曝光用光的光路，前述液浸构件包括：

第一液浸构件，被布置成至少部分地围绕前述光路，并且在前述光学构件的射出面侧形成前述第一液体的第一浸没空间，使得前述光学构件与前述物体之间的前述曝光用光的光路被前述第一液体充满；以及

第二液浸构件，相对前述光路布置在前述第一液浸构件的外侧，且在前述浸没曝光装置的既定动作中前述物体移动的第一方向上与前述第一液浸构件相邻，形成部分地围绕前述第一浸没空间的第二液体的第二浸没空间。

29.如权利要求28的液浸构件，其中，在前述既定动作中，前述物体在不满足能维持前述第一液浸构件与前述物体之间的前述第一液体的前述第一浸没空间的既定容许条件的条件下在前述第一方向上移动。

30.如权利要求29的液浸构件，其中，在前述既定动作中，前述物体在前述第一方向上移动比能维持前述第一液浸构件与前述物体之间的前述第一液体的前述第一浸没空间的既定容许距离更长的距离。

31.如权利要求29或30的液浸构件，其中，在前述既定动作中，前述物体在前述第一方向上以比能维持前述第一液浸构件与前述物体之间的前述第一液体的前述第一浸没空间的既定容许速度更快的速度移动。

32.如权利要求28至31中任一项的液浸构件，其中，

前述物体包含多个物体；以及

在前述多个物体在前述第一方向上的移动中，前述多个物体的前表面横越前述曝光用光的光路。

33.如权利要求1至32中任一项的液浸构件，其中，前述物体是被通过前述液体的前述曝光用光曝光的基板，且根据前述基板上的多个照射区域的曝光条件移动。

34.如权利要求1至33中任一项的液浸构件，其中，前述第二浸没空间基本上与前述第一浸没空间彼此分离地形成。

35.如权利要求1至34中任一项的液浸构件，其中，前述第二液浸构件具备能供应前述第二液体的第二供应口。

36.如权利要求35的液浸构件，其中，前述第二液浸构件包括被布置成使得前述物体与之相对、并能回收流体的流体回收部。

37.如权利要求36的液浸构件，其中，前述流体回收部布置在前述第一液浸构件与前述第二供应口之间。

38.如权利要求36或37的液浸构件，其中，前述流体回收部相对前述第一液浸构件布置在前述第二供应口的外侧。

39.如权利要求36至38中任一项的液浸构件，其中，前述液体回收部被设置成包围前述第二供应口。

40.一种液浸构件，在浸没曝光装置内，被布置成至少部分地围绕光学构件以及通过前述光学构件与物体之间的第一液体的曝光用光的光路，前述液浸构件包括：

第一液浸构件，被布置成至少部分地围绕前述光路，并且在前述光学构件的射出面侧形成前述第一液体的第一浸没空间，使得前述光学构件与前述物体之间的前述曝光用光的光路被前述第一液体充满；以及

第二液浸构件，相对前述光路布置在前述第一液浸构件的外侧，且形成部分地围绕前述第一浸没空间的第二液体的第二浸没空间；

前述第二液浸构件包括被布置成使得前述物体与之相对、并能供应前述第二液体的第二供应口以及被布置成包围前述第二供应口且使得前述物体与之相对、并能回收流体的流体回收部。

41.如权利要求40的液浸构件，其中，前述第二液浸构件被布置成在前述浸没曝光装置的既定动作中前述物体移动的第一方向上与前述第一液浸构件相邻。

42.如权利要求40或41的液浸构件，其中，前述第二液浸构件被布置在前述第一液浸构件周围的空间的一部分中，使得其与前述第一液浸构件的外表面相对。

43.如权利要求40至42中任一项的液浸构件，其中，前述第二液浸构件的流体回收部能回收来自前述第一液浸构件与前述物体之间的空间的前述第一液体。

44.如权利要求40至43中任一项的液浸构件，其中，前述流体回收部能回收前述第二液浸构件与前述物体之间的空间中的前述第一液体、前述第二液体、以及气体中的至少之一。

45.如权利要求40至44中任一项的液浸构件，还包括：

第三液浸构件，相对前述光路布置在前述第一液浸构件的外侧，形成部分地围绕前述第一浸没空间的、与前述第二浸没空间不同的第三液体的第三浸没空间。

46.如权利要求45的液浸构件，其中，前述第三液浸构件包括被布置成使得前述物体与之相对、并能供应前述第三液体的第三供应口以及被布置成包围前述第三供应口且使得前述物体与之相对、并能回收流体的流体回收部。

47.如权利要求45或46的液浸构件，其中，前述第三浸没空间基本上与前述第一浸没空间分离地形成。

48.如权利要求45至47中任一项的液浸构件，其中，前述第一液浸构件、前述第二液浸构件与前述第三液浸构件彼此分离。

49.如权利要求45至48中任一项的液浸构件，其中，前述第三浸没空间相对前述光路布置在前述第二浸没空间的相反侧。

50.如权利要求49的液浸构件，其中，

在形成有前述第一浸没空间的状态下，前述物体在前述第一方向上移动；以及

其中，前述第二液浸构件在前述第一方向上相对前述第一液浸构件布置在一侧，前述第三液浸构件在前述第一方向上相对前述第一液浸构件布置在另一侧。

51.如权利要求45至50中任一项的液浸构件，其中，前述第三液浸构件相对前述光路布置在与前述第二液浸构件相同的侧。

52.如权利要求45至51中任一项的液浸构件，还包括：

回收构件，布置成至少部分地围绕前述第一液浸构件，且具有流体回收部，前述流体回收部能回收流体且与前述第二液浸构件的流体回收部不同。

53.如权利要求52的液浸构件，其中，前述回收构件被布置在前述第一液浸构件周围的空间的一部分中，使得其与前述第一液浸构件的外表面相对。

54.一种液浸构件，在浸没曝光装置内，被布置成部分地围绕光学构件以及通过前述光学构件与物体之间的第一液体的曝光用光的光路，前述液浸构件包括：

第一液浸构件，布置成至少部分地围绕前述光路，且在前述光学构件的射出面侧形成前述第一液体的第一浸没空间，使得前述光学构件与前述物体之间的前述曝光用光的光路被前述第一液体充满；

第二液浸构件，相对前述光路布置在前述第一液浸构件的外侧，且形成部分地围绕前述第一浸没空间的第二液体的第二浸没空间；以及

回收构件，相对前述光路布置在前述第一液浸构件的外侧，且具有流体回收部，该流体回收部能回收流体。

55.如权利要求54的液浸构件，其中，前述第二液浸构件和前述回收构件被布置在前述第一液浸构件周围的空间的一部分中，使得其与前述第一液浸构件的外表面相对。

56.如权利要求54或55的液浸构件，还包括：

第三液浸构件，相对前述光路布置在前述第一液浸构件的外侧，形成部分地围绕前述第一浸没空间的第三液体的第三浸没空间，

其中，前述回收构件布置在前述第二液浸构件与前述第三液浸构件之间。

57.如权利要求54至56中任一项的液浸构件，其中，

前述第二液浸构件被布置成在前述浸没曝光装置的既定动作中前述物体移动的第一方向上与前述第一液浸构件相邻；以及

其中，前述回收构件被布置成在与前述第一方向交叉的第二方向上与前述第一液浸构件相邻。

58.如权利要求57的液浸构件，其中，前述回收构件包含在前述第二方向上相对前述第一液浸构件布置在一侧的第一回收构件以及布置在另一侧的第二回收构件。

59.如权利要求52至58中任一项的液浸构件，其中，前述回收构件的前述流体回收部包含吸引流体的回收口。

60.一种液浸构件，在浸没曝光装置内，被布置成至少部分地围绕光学构件以及通过前述光学构件与物体之间的第一液体的曝光用光的光路，前述液浸构件包括：

第一液浸构件，布置成至少部分地围绕前述光路，且在前述光学构件的射出面侧形成前述第一液体的第一浸没空间，使得前述光学构件与前述物体之间的前述曝光用光的光路被前述第一液体充满；

第二液浸构件，相对前述光路布置在前述第一液浸构件的外侧，形成部分地围绕前述第一浸没空间的第二液体的第二浸没空间；以及

供气构件，具有从前述第一液浸构件与前述物体之间的空间的外侧向前述空间供应气体的供气口。

61.如权利要求60的液浸构件，其中，前述供气构件被布置在前述第一液浸构件周围的空间的一部分中，使得其与前述第一液浸构件的外表面相对。

62.如权利要求60或61的液浸构件，还包括：第三液浸构件，相对前述光路布置在前述第一液浸构件的外侧，形成部分地围绕前述第一浸没空间的第三液体的第三浸没空间，

其中，前述供气构件布置在前述第二液浸构件与前述第三液浸构件之间。

63.如权利要求60至62中任一项的液浸构件，其中，

前述第二液浸构件被布置成在前述浸没曝光装置的既定动作中前述物体移动的第一方向上与前述第一液浸构件相邻，以及

其中，前述供气构件被布置成在与前述第一方向交叉的第二方向上与前述第一液浸构件相邻。

64.如权利要求63的液浸构件，其中，前述供气构件包含在前述第二方向上相对前述第一液浸构件布置在一侧的第一供气构件以及布置在另一侧的第二供气构件。

65.如权利要求60至64中任一项的液浸构件，其中，前述供气构件包含回收流体的回收口。

66.如权利要求60至65中任一项的液浸构件，其中，前述供气口向前述空间供应气体，以便将前述第一浸没空间中的前述第一液体的至少一些引导至部分地围绕前述光路的第一引导空间。

67.如权利要求1至66中任一项的液浸构件，其中，

前述第一液浸构件包括第一下表面，前述物体能与前述第一下表面相对，前述第一浸没空间能形成在前述第一下表面与前述物体之间，以及其中

前述第二液浸构件包括第二下表面，前述物体能与前述第二下表面相对，前述第二浸没空间能形成在前述第二下表面与前述物体之间，以及其中

前述第二下表面与前述物体的前表面之间的距离比前述第一下表面与前述物体的前表面之间的距离更小。

68.一种液浸构件，在浸没曝光装置内，被布置成至少部分地围绕光学构件以及通过前述光学构件与物体之间的第一液体的曝光用光的光路，前述液浸构件包括：

第一液浸构件，布置成至少部分地围绕前述光路，具有能与前述物体相对的第一下表面，在前述光学构件的射出面侧形成前述第一液体的第一浸没空间，使得前述光学构件与前述物体之间的前述曝光用光的光路被前述第一液体充满；以及

第二液浸构件，相对前述光路布置在前述第一液浸构件的外侧，具有能与前述物体相对的第二下表面，以及形成部分地围绕前述第一浸没空间的第二液体的第二浸没空间，其中

前述第二下表面与前述物体的前表面之间的距离比前述第一下表面与前述物体的前表面之间的距离更小。

69.如权利要求68的液浸构件，其中，前述第二液浸构件包括布置在前述第二下表面上、并供应前述第二液体的第二供应口以及布置在前述第二下表面上、并回收流体的流体回收部。

70.如权利要求68或69的液浸构件，其中，前述第二液浸构件被布置在前述第一液浸构件周围的空间的的一部分中，使得其与前述第一液浸构件的外表面相对。

71.如权利要求1至70中任一项的液浸构件，还包括：

相对前述光路布置在前述第二液浸构件的外侧、并供应气体的气体供应口。

72.一种液浸构件，在浸没曝光装置内，被布置成至少部分地围绕光学构件以及通过前述光学构件与物体之间的第一液体的曝光用光的光路，前述液浸构件包括：

第一液浸构件，布置成至少部分地围绕前述光路，在前述光学构件的射出面侧形成前述第一液体的第一浸没空间，使得前述光学构件与前述物体之间的前述曝光用光的光路被前述第一液体充满；

第二液浸构件，相对前述光路布置在前述第一液浸构件的外侧，形成部分地围绕前述第一浸没空间的第二液体的第二浸没空间；以及

气体供应口，相对前述光路布置在前述第二液浸构件的外侧，并供应气体。

73.如权利要求72的液浸构件，其中，前述第二液浸构件包括被布置成使得前述物体与之相对、并能供应前述第二液体的第二供应口以及被布置成使得前述物体与之相对、并能回收流体的流体回收部。

74.如权利要求72或73的液浸构件，其中，前述气体供应口从前述第二液浸构件的外侧向前述第二液浸构件与前述物体之间的空间供应气体。

75.如权利要求74的液浸构件，其中，前述气体供应口供应前述气体以抑制前述空间中的前述第二液体流出前述空间。

76.如权利要求40至75中任一项的液浸构件，其中，前述第二浸没空间基本上与前述第一浸没空间分离地形成。

77.如权利要求40至76中任一项的液浸构件，其中，前述第一液浸构件与前述第二液浸构件彼此分离。

78.如权利要求1至77中任一项的液浸构件，其中，前述第一液浸构件包括被布置成使得前述物体与之相对、并能供应前述第一液体的第一供应口。

79.如权利要求78的液浸构件，其中，前述第一液浸构件包括被布置成使得前述物体与之相对、并能回收前述第一液体的液体回收部。

80.如权利要求79的液浸构件，其中，前述流体回收部被布置在相对前述光路的放射方向上的前述第一供应口的外侧。

81.如权利要求1至80中任一项的液浸构件，其中，前述第一液体与前述第二液体为相同液体。

82.如权利要求1至81中任一项的液浸构件，其中，前述第一液体及前述第二液体包含纯水。

83.如权利要求1至82中任一项的液浸构件，其中，前述第二浸没空间比前述第一浸没空间更小。

84.一种浸没曝光装置，经由第一液体以曝光用光使基板曝光，包括：

权利要求1至83中任一项的液浸构件。

85.一种组件制造方法，其包含以下步骤：

使用权利要求84的浸没曝光装置使基板曝光；以及

使曝光后的前述基板显影。

86.一种曝光方法，经由用于充满在基板与能射出曝光用光的光学构件之间的前述曝光用光的光路的第一液体，以前述曝光用光使前述基板曝光，前述方法包含：

以布置成至少部分地围绕前述光路的第一液浸构件在前述光学构件的射出面侧形成前述第一液体的第一浸没空间，使得用前述第一液体充满前述光学构件与前述基板之间的前述曝光用光的光路；

经由前述第一浸没空间的前述第一液体使前述基板曝光；

将前述第一浸没空间中的前述第一液体的至少一些引导至部分地围绕前述光路的第一引导空间；以及

以相对前述光路布置在前述第一液浸构件的外侧的第二液浸构件形成第二液体的第二浸没空间，使得前述第二浸没空间部分地围绕前述第一浸没空间且与前述第一引导空间相邻。

87.一种曝光方法，经由用于充满在基板与能射出曝光用光的光学构件之间的前述曝光用光的光路的第一液体，以前述曝光用光使前述基板曝光，前述方法包含：

以布置成至少部分地围绕前述光路的第一液浸构件在前述光学构件的射出面侧形成前述第一液体的第一浸没空间，使得用前述第一液体充满前述光学构件与前述基板之间的前述曝光用光的光路；

经由前述第一浸没空间的前述第一液体使前述基板曝光；以及

以相对前述光路布置在前述第一液浸构件的外侧、且在前述基板的既定动作中前述物体移动的第一方向上被布置成与前述第一液浸构件相邻的第二液浸构件，形成部分地围绕前述第一浸没空间的第二液体的第二浸没空间。

88.一种曝光方法，经由用于充满在基板与能射出曝光用光的光学构件之间的前述曝光用光的光路的第一液体，以前述曝光用光使前述基板曝光，前述方法包含：

以布置成至少部分地围绕前述光路的第一液浸构件在前述光学构件的射出面侧形成前述第一液体的第一浸没空间，使得用前述第一液体充满前述光学构件与前述基板之间的前述曝光用光的光路；

经由前述第一浸没空间的前述第一液体使前述基板曝光；以及

以第二液浸构件形成部分地围绕前述第一浸没空间的第二液体的第二浸没空间，该第二液浸构件相对前述光路布置在前述第一液浸构件的外侧，该第二液浸构件具有第二供应口和流体回收部，前述基板能与前述第二供应口相对，前述第二液体能够经由前述第二供应口供应，前述流体回收部被布置成包围前述第二供应口，前述基板能与前述流体回收部相对。

89.一种曝光方法，经由用于充满在基板与能射出曝光用光的光学构件之间的前述曝光用光的光路的第一液体，以前述曝光用光使前述基板曝光，前述方法包含：

以布置成至少部分地围绕前述光路的第一液浸构件在前述光学构件的射出面侧形成前述第一液体的第一浸没空间，使得用前述第一液体充满前述光学构件与前述基板之间的前述曝光用光的光路；

经由前述第一浸没空间的前述第一液体使前述基板曝光；

以相对前述光路布置在前述第一液浸构件的外侧的第二液浸构件，形成部分地围绕前述第一浸没空间的第二液体的第二浸没空间；以及

以相对前述光路布置在前述第一液浸构件的外侧的回收构件的流体回收部回收流体。

90.一种曝光方法，通过用于充满在基板与能射出曝光用光的光学构件之间的前述曝光用光的光路的第一液体，以前述曝光用光使前述基板曝光，前述方法包含：

以布置成至少部分地围绕前述光路的第一液浸构件在前述光学构件的射出面侧形成前述第一液体的第一浸没空间，使得用前述第一液体充满前述光学构件与前述基板之间的前述曝光用光的光路；

经由前述第一浸没空间的前述第一液体使前述基板曝光；

以相对前述光路布置在前述第一液浸构件的外侧的第二液浸构件，形成第二液体的第二浸没空间，使得前述第二浸没空间部分地围绕前述第一浸没空间；以及

经由供气构件的供气口从前述第一液浸构件与前述物体之间的空间的外侧向前述空间供应气体。

91.一种曝光方法，经由用于充满在基板与能射出曝光用光的光学构件之间的前述曝光用光的光路的第一液体，以前述曝光用光使前述基板曝光，前述方法包含：

以布置成至少部分地围绕前述光路的第一液浸构件在前述光学构件的射出面侧形成前述第一液体的第一浸没空间，使得用前述第一液体充满前述光学构件与前述基板之间的前述曝光用光的光路，第一液浸构件具有第一下表面，该第一下表面能以第一距离与前述基板的前表面相对；

经由前述第一浸没空间的前述第一液体使前述基板曝光；以及

以相对前述光路布置在前述第一液浸构件的外侧的第二液浸构件形成第二液体的第二浸没空间，使得前述第二浸没空间部分地围绕前述第一浸没空间，前述第二浸没空间具有第二下表面，该第二下表明能以第二距离与前述基板的前表面相对，前述第二距离比前述第一距离更小。

92.一种曝光方法，经由用于充满在基板与能射出曝光用光的光学构件之间的前述曝光用光的光路的第一液体，以前述曝光用光使前述基板曝光，前述方法包含：

以布置成至少部分地围绕前述光路的第一液浸构件在前述光学构件的射出面侧形成前述第一液体的第一浸没空间，使得用前述第一液体充满前述光学构件与前述基板之间的前述曝光用光的光路；

经由前述第一浸没空间的前述第一液体使前述基板曝光；

以相对前述光路布置在前述第一液浸构件的外侧的第二液浸构件，形成第二液体的第二浸没空间，使得前述第二浸没空间部分地围绕前述第一浸没空间；以及

从相对前述光路布置在前述第二液浸构件的外侧的气体供气口供应气体。

93.一种组件制造方法，其包含以下步骤：

使用权利要求86至92中任一项的曝光方法使基板曝光；以及

使曝光后的前述基板显影。

94.一种程序，使得计算机控制经由用于充满在基板与能射出曝光用光的光学构件之间的前述曝光用光的光路的第一液体、以前述曝光用光使前述基板曝光的浸没曝光装置，包括以下步骤：

以布置成至少部分地围绕前述光路的第一液浸构件在前述光学构件的射出面侧形成前述第一液体的第一浸没空间，使得用前述第一液体充满前述光学构件与前述基板之间的前述曝光用光的光路；

经由前述第一浸没空间的前述第一液体使前述基板曝光；

将前述第一浸没空间的前述第一液体的至少一些引导至部分地围绕前述光路的第一引导空间；以及

以相对前述光路布置在前述第一液浸构件的外侧的第二液浸构件，形成第二液体的第二浸没空间，使得前述第二浸没空间部分地围绕前述第一浸没空间且与前述第一引导空间相邻。

95.一种程序，使得计算机控制经由用于充满在基板与能射出曝光用光的光学构件之间的前述曝光用光的光路的第一液体、以前述曝光用光使前述基板曝光的浸没曝光装置，包括以下步骤：

以布置成至少部分地围绕前述光路的第一液浸构件在前述光学构件的射出面侧形成前述第一液体的第一浸没空间，使得用前述第一液体充满前述光学构件与前述基板之间的前述曝光用光的光路；

经由前述第一浸没空间的前述第一液体使前述基板曝光；以及

以相对前述光路布置在前述第一液浸构件的外侧、且在前述基板的既定动作中前述物体移动的第一方向上被布置成与前述第一液浸构件相邻的第二液浸构件，形成部分地围绕前述第一浸没空间的第二液体的第二浸没空间。

96.一种程序，使得计算机控制经由用于充满在基板与能射出曝光用光的光学构件之间的前述曝光用光的光路的第一液体、以前述曝光用光使前述基板曝光的浸没曝光装置，包括以下步骤：

以布置成至少部分地围绕前述光路的第一液浸构件在前述光学构件的射出面侧形成前述第一液体的第一浸没空间，使得用前述第一液体充满前述光学构件与前述基板之间的前述曝光用光的光路；

经由前述第一浸没空间的前述第一液体使前述基板曝光；以及

以相对前述光路布置在前述第一液浸构件的外侧的第二液浸构件，形成部分地围绕前述第一浸没空间的第二液体的第二浸没空间，该第二液浸构件具有第二供应口和流体回收部，前述基板能与前述第二供应口相对，前述第二液体能经由前述第二供应口供应，前述流体回收部被布置成包围前述第二供应口，前述基板能与前述流体回收部相对。

97.一种程序，使得计算机控制经由用于充满在基板与能射出曝光用光的光学构件之间的前述曝光用光的光路的第一液体、以前述曝光用光使前述基板曝光的浸没曝光装置，包括以下步骤：

以布置成至少部分地围绕前述光路的第一液浸构件在前述光学构件的射出面侧形成前述第一液体的第一浸没空间，使得用前述第一液体充满前述光学构件与前述基板之间的前述曝光用光的光路；

经由前述第一浸没空间的前述第一液体使前述基板曝光；

以相对前述光路布置在前述第一液浸构件的外侧的第二液浸构件，形成部分地围绕前述第一浸没空间的第二液体的第二浸没空间；以及

以相对前述光路布置在前述第一液浸构件的外侧的回收构件的流体回收部回收流体。

98.一种程序，使得计算机控制经由用于充满在基板与能射出曝光用光的光学构件之间的前述曝光用光的光路的第一液体、以前述曝光用光使前述基板曝光的浸没曝光装置，包括以下步骤：

以布置成至少部分地围绕前述光路的第一液浸构件在前述光学构件的射出面侧形成前述第一液体的第一浸没空间，使得用前述第一液体充满前述光学构件与前述基板之间的前述曝光用光的光路；

经由前述第一浸没空间的前述第一液体使前述基板曝光；

以相对前述光路布置在前述第一液浸构件的外侧的第二液浸构件形成第二液体的第二浸没空间，使得前述第二浸没空间部分地围绕前述第一浸没空间；以及

从供气构件的供气口从前述第一液浸构件与前述基板之间的空间的外侧向前述空间供应气体。

99.一种程序，使得计算机控制经由用于充满在基板与能射出曝光用光的光学构件之间的前述曝光用光的光路的第一液体、以前述曝光用光使前述基板曝光的浸没曝光装置，包括以下步骤：

以布置成至少部分地围绕前述光路的第一液浸构件在前述光学构件的射出面侧形成前述第一液体的第一浸没空间，使得用前述第一液体充满前述光学构件与前述基板之间的前述曝光用光的光路，前述第一液浸构件具有第一下表面，该第一下表面能以第一距离与前述基板的前表面相对；

经由前述第一浸没空间的前述第一液体使前述基板曝光；以及

以相对前述光路布置在前述第一液浸构件的外侧的第二液浸构件，形成第二液体的第二浸没空间，使得前述第二浸没空间部分地围绕前述第一浸没空间，前述第二浸没空间具有第二下表面，该第二下表面能以第二距离与前述基板的前表面相对，前述第二距离比前述第一距离更小。

100.一种程序，使得计算机控制经由用于充满在基板与能射出曝光用光的光学构件之间的前述曝光用光的光路的第一液体、以前述曝光用光使前述基板曝光的浸没曝光装置，包括以下步骤：

以布置成至少部分地围绕前述光路的第一液浸构件在前述光学构件的射出面侧形成前述第一液体的第一浸没空间，使得用前述第一液体充满前述光学构件与前述基板之间的前述曝光用光的光路；

经由前述第一浸没空间的前述第一液体使前述基板曝光；

以相对前述光路布置在前述第一液浸构件的外侧的第二液浸构件，形成第二液体的第二浸没空间，使得前述第二浸没空间部分地围绕前述第一浸没空间；以及

从相对前述光路布置在前述第二液浸构件的外侧的气体供气口供应气体。

101.一种计算机可读取储存媒体，其上储存有如权利要求94至100中任一项的程序。

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