CN103176656A - 触摸屏及其制造方法 - Google Patents
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Abstract
本发明涉及一种触摸屏的制造方法,包括下列步骤:提供玻璃基板;对玻璃基板的一表面进行等离子体轰击处理,使表面露出Si-O-基;在玻璃基板进行了等离子轰击处理的表面涂覆胶状物并固化,形成基质层,胶状物固化过程中与玻璃基板表面的Si-O-基结合;使用压印模具压印所述基质层,在基质层背离玻璃基板的一面形成沟槽;将金属填充于沟槽内,形成金属网格作为导电层。本发明还涉及一种触摸屏。本发明的触摸屏采用压印工艺进行制造,相较于传统的ITO膜作为导电层的工艺,网格形状可一步成形,工艺简单,良率高。并且以金属代替ITO,材料成本大大降低,由于不需要用到刻蚀工艺,不会造成导电层材料的浪费,并减少了废液中重金属的排放。
Description
技术领域
本发明涉及触摸屏,还涉及一种触摸屏的制造方法。
背景技术
触摸屏是可接收触摸等输入信号的感应式装置。触摸屏赋予了信息交互崭新的面貌,是极富吸引力的全新信息交互设备。触摸屏技术的发展引起了国内外信息传媒界的普遍关注,已成为光电行业异军突起的朝阳高新技术产业。
目前,ITO(氧化铟锡)层是触摸屏模组中至关重要的组成部分。虽然触摸屏的制造技术一日千里地飞速发展着,但是以投射式电容屏为例,作为电容感应的导电层的ITO层的基础制造流程近年来并未发生太大的改变,总是不可避免的需要ITO镀膜、ITO图形化。
这种传统的制作方式不可避免的需要用到刻蚀工艺,大量的ITO及金属材料会被浪费。
发明内容
基于此,有必要针对传统的触摸屏制造中导电层的ITO制造工艺会造成较大浪费的问题,提供一种触摸屏的制造方法。
一种触摸屏的制造方法,包括下列步骤:提供玻璃基板;对所述玻璃基板的一表面进行等离子体轰击处理,使所述表面露出Si-O-基;在所述玻璃基板进行了等离子轰击处理的表面涂覆胶状物并固化,形成基质层,所述胶状物固化过程中与玻璃基板表面的Si-O-基结合;使用压印模具压印所述基质层,在所述基质层背离所述玻璃基板的一面形成沟槽;将金属填充于所述沟槽内,形成金属网格作为导电层。
在其中一个实施例中,所述玻璃基板经等离子体轰击处理的表面具有5至10纳米的粗糙度。
一种触摸屏,包括玻璃基板、导电层及基质层,所述玻璃基板的一表面经等离子体轰击处理形成有Si-O-基,所述基质层设于所述表面从而与所述Si-O-基结合,所述基质层由胶状物固化形成,所述基质层背离所述玻璃基板的一面开设有沟槽,所述导电层设于所述沟槽内,所述导电层为金属线构成的网格,所述网格包括若干网格单元,所述网格单元包括若干条网格边及相邻两网格边相接形成的结点,所述导电层包括感应区和与感应区电连接的引线区,所述感应区包括至少一第一感应图案和至少一第二感应图案,所述第一感应图案和第二感应图案相邻且相互绝缘,每个所述第一感应图案内的网格单元相互电连接,每个所述第二感应图案内的网格单元相互电连接。
在其中一个实施例中,所述玻璃基板经等离子体轰击处理的表面具有5至10纳米的粗糙度。
在其中一个实施例中,所述第一感应图案包括沿二维坐标系的第二维方向延伸的一第一主线及自所述第一主线向侧向延伸的若干第一侧枝,所述第二感应图案包括沿二维坐标系的第二维方向延伸的一第二主线及自所述第二主线向侧向延伸的若干第二侧枝,各个第二主线的首尾相互间隔,所述第一侧枝与第二侧枝间隔交替排列。
在其中一个实施例中,所述第一侧枝和第二侧枝沿所述二维坐标系的第一维方向延伸,所述第一主线与第二主线平行。
在其中一个实施例中,所述导电层还包括与所述感应区和引线区形成互补图形的配色线,所述配色线与所述感应区和引线区绝缘。
在其中一个实施例中,所述配色线形成网格,所述配色线形成的网格的网格单元形状及网格边长与所述第一感应图案及第二感应图案中的网格的网格单元形状及网格边长相同。
在其中一个实施例中,相邻的所述第一感应图案和第二感应图案之间的配色线缺失与绝缘轨迹相交的网格边。
在其中一个实施例中,相邻的所述第一感应图案和第二感应图案之间的配色线从网格边的中部断开。
在其中一个实施例中,相邻的所述第一感应图案和第二感应图案之间的配色线自与第一感应图案和/或第二感应图案邻接处的网格的结点断开。
在其中一个实施例中,所述引线区包括若干引线簇,所述引线簇之间相互绝缘,每一所述引线簇由单列网格单元相互连接形成,每一所述引线簇的一端与一所述第二感应图案电连接。
在其中一个实施例中,每一所述引线簇与所述第二感应图案具有两个公共结点。
在其中一个实施例中,部分引线簇包括干部,所述干部中相邻两个网格单元之间仅通过一个公共结点连接。
在其中一个实施例中,所述部分引线簇进一步包括与干部连接的枝部,所述枝部中相邻两个网格单元之间通过一公共网格边连接,所述相邻两个网格单元之间包括两个公共结点,所述枝部一末端的网格单元与所述干部一末端的网格单元通过公共网格边连接。
在其中一个实施例中,相邻的两引线簇的干部之间的配色线从网格边的中部断开。
在其中一个实施例中,所述断开的长度为2-20微米。
在其中一个实施例中,所述断开的长度为3-9微米。
在其中一个实施例中,所述干部自与相邻的配色线邻接处的网格的结点断开。
在其中一个实施例中,部分所述引线簇中的相邻两个网格单元之间通过一公共网格边连接,所述相邻两个网格单元之间包括两个公共结点。
在其中一个实施例中,所述网格的网格单元为菱形。
在其中一个实施例中,所述感应区包括相互分离设置的左感应区和右感应区,每个左感应区和右感应区均包括至少一个第一感应图案和至少一个第二感应图案,所述引线区设于左感应区和右感应区的中间。
在其中一个实施例中,所述沟槽为具有预设形状的凸起的压印模具压印形成。
在其中一个实施例中,所述沟槽的深宽比大于1。
在其中一个实施例中,所述沟槽的深度不小于所述导电层的厚度。
在其中一个实施例中,所述基质层的厚度小于所述玻璃基板的厚度。
在其中一个实施例中,还包括保护层,所述保护层覆盖所述基质层及导电层。
上述触摸屏的制造方法及触摸屏,采用压印工艺进行制造,相较于传统的ITO膜作为导电层的工艺,网格形状可以一步成形,工艺简单,良率高。并且以金属代替ITO,材料成本大大降低,由于不需要用到刻蚀工艺,不会造成导电层材料的浪费,并减少了废液中重金属的排放。
附图说明
图1是一实施例中触摸屏的示意图;
图2是触摸屏的剖视图;
图3A是感应区的结构示意图,图3B是图3A的局部示意图;
图4A是引线区结构及设于引线区和感应区中间的配色线结构的示意图,图4B是图4A删除对称轴右边的配色线后的示意图;
图5是图4B中的结构中引线簇与第二感应图案连接的示意图;
图6A是图1中区域I的局部放大图,图6B是图6A去除配色线后的示意图;
图7是一实施例中实现引线簇绝缘的配色线绝缘结构的示意图;
图8是另一实施例中实现引线簇绝缘的配色线绝缘结构的示意图;
图9A~9D分别是实现第一感应图案和第二感应图案间绝缘的配色线绝缘结构的示意图;
图10是一实施例中触摸屏的制造方法的示意图;
图11A~11E是触摸屏在制造过程中的剖视图。
具体实施方式
为了便于理解本发明,下面将参照相关附图对本发明进行更全面的描述。附图中给出了本发明的首选实施例。但是,本发明可以以许多不同的形式来实现,并不限于本文所描述的实施例。相反地,提供这些实施例的目的是使对本发明的公开内容更加透彻全面。
需要说明的是,当元件被称为“固设于”另一个元件,它可以直接在另一个元件上或者也可以存在居中的元件。当一个元件被认为是“连接”另一个元件,它可以是直接连接到另一个元件或者可能同时存在居中元件。本文所使用的术语“垂直的”、“水平的”、“上”、“下”、“左”、“右”、“横”、“竖”以及类似的表述只是为了说明的目的。
除非另有定义,本文所使用的所有的技术和科学术语与属于本发明的技术领域的技术人员通常理解的含义相同。本文中在本发明的说明书中所使用的术语只是为了描述具体的实施例的目的,不是旨在于限制本发明。本文所使用的术语“及/或”包括一个或多个相关的所列项目的任意的和所有的组合。
图1是一实施例中触摸屏的示意图,图2是触摸屏的剖视图,触摸屏包括玻璃基板10、导电层100及基质层20。
玻璃基板10为硅酸钙钠玻璃或硅铝酸盐玻璃,玻璃基板10包括一与基质层20结合的结合面21,该结合面21经等离子体轰击处理,使之露出Si-O-基,该结合面21的粗糙度为5-10纳米。
基质层20设于结合面21,基质层20由胶状物固化形成,其厚度小于玻璃基板10的厚度。固化时,该胶状物中的自由基与结合面21Si-O-基结合,以使基质层20与玻璃基板10能紧密结合。
在本实施例中,形成基质层20的胶状物为无溶剂紫外固化亚克力树脂。在其他实施例中,形成基质层20的胶状物还可以为其他光固胶、热固胶及自干胶。其中光固胶为预聚物、单体及光引发剂及助剂按照摩尔配比:30~50%、40~60%、1~6%及0.2~1%组成的混合物。其中,预聚物选为环氧丙烯酸酯、聚氨酯丙烯酸酯、聚醚丙烯酸酯、聚酯丙烯酸酯、丙烯酸树脂中的至少一种;单体为单官能(IBOA、IBOMA、HEMA等)、二官能(TPGDA、HDDA、DEGDA、NPGDA等)、三官能及多官能(TMPTA、PETA等)中的至少一种;光引发剂为二苯甲酮、二苯乙酮等。进一步的,在上述混合物中还可添加摩尔配比为0.2~1%的助剂。助剂可为对苯二酚、对甲氧基苯酚、对苯醌、2,6一二叔丁基甲苯酚等。
请参图11D,基质层20上形成有沟槽23,沟槽23为具有预设形状的凸起的压印模压印形成,金属线收容于沟槽23中。沟槽23的深宽比大于1,沟槽23的深度不小于导电层100的厚度,以便于基质层20形成对导电层100的保护。
导电层100的金属可以是金、银、铜、铝、镍、锌或其中任意两者或两者以上的合金。
导电层100为金属线构成的金属网格,网格包括若干网格单元,网格单元包括若干条网格边及由相邻两网格边相接形成的结点。在本实施例中,金属网格的每个网格单元为菱形,在其它实施例中也可以采用其它形状的网格单元,例如长方形、三角形等。
导电层100包括感应区110和与感应区电连接的引线区120。
在本实施例中,为了减小色差,获得更好的显示效果,导电层100还包括与感应区110和引线区120形成互补图形的配色线,配色线与感应区和引线区均绝缘,在其它实施例中也可以将配色线省略。在本实施例中,感应区110、引线区120及配色线的网格单元形状和周期均相同,在其它实施例中也可以不相同,例如配色线也可以为锯齿状或折线状。
图1所示的导电层100为轴对称结构,导电层100关于其一条中垂线轴对称,在其它实施例中,导电层100也可以采用轴对称以外的结构。请一并参见图3B,感应区110包括至少一个第一感应图案111和至少一个第二感应图案113,第一感应图案111和第二感应图案113相邻且相互绝缘,每个第一感应图案111内的网格单元相互电连接,每个第二感应图案113内的网格单元相互电连接。请一并参见图3A,在本实施例中,感应区110包括相互分离设置的左感应区112和右感应区114,由于本实施例中导电层100为轴对称结构,所以左感应区112和右感应区114关于对称轴对称,每个左感应区112和右感应区114均包括至少一个第一感应图案111和至少一个第二感应图案113。
请参见图3B,第一感应图案111包括沿二维坐标系的第二维方向延伸的一第一主线111a及自第一主线111a向侧向延伸的若干第一侧枝111b。第二感应图案113包括沿二维坐标系的第二维方向延伸的一第二主线113a及自第二主线113a向侧向延伸的若干第二侧枝113b,各个第二主线113a的首尾相互间隔。第一侧枝111b与第二侧枝113b位于对应的第一主线111a与第二主线113a之间,且第一侧枝111b与第二侧枝113b间隔交替排列,使得第二感应图案113与第一感应图案111形成互感。第一侧枝111b和第二侧枝113b沿二维坐标系的第一维方向延伸且相互平行,第一主线111a和第二主线113a亦相互平行。
具体在图示的实施例中,二维坐标系为XOY直角坐标系,第一维方向为X轴方向,第二维方向为Y轴方向。在其它实施例中二维坐标系也可以为其它坐标系,例如二维斜角坐标系。
引线区120设于左感应区112和右感应区114的中间。图4A示出了引线区120,及设于引线区120和感应区110中间的配色线的结构。为了便于区分引线区120及其旁边的配色线,图4B中将对称轴31右边的配色线删除,对称轴31左边的配色线予以保留。
引线区120包括与第二感应图案113的数量相等的引线簇,每一引线簇对应连接一第二感应图案113,每一引线簇之间相互绝缘。
引线簇分布于第二感应图案113的侧向,每一引线簇的一端与第二感应图案113电连接,另一端延伸至基质层20的一边缘内侧。在本实施例中,每一引线簇由单列网格单元相互连接形成,引线簇所在位置作为触摸屏上的触摸感应盲区,这种单列的引线结构尽量减小感应盲区的面积,提高触摸屏的触摸灵敏度。请参照图5,每一引线簇与第二感应图案113具有两个公共结点1132。
图6A是图1中区域I的局部放大图,图6B是将图6A中的配色线删除后形成的示意图。请一并参照图6A、图6B,每一引线簇均包括枝部122,并通过枝部122连接第二感应图案113。每一枝部122内相邻两个网格单元之间通过一公共网格边1222连接,且相邻两个网格单元之间包括两个公共结点。在本实施例中,引线簇还包括与枝部122连接的干部124,各个引线簇的干部124之间相互平行,通过干部124将枝部122引至导电层100的边缘,再通过导线接入PCB板,从而将感应区110因电容变化产生的信号传输至PCB板。每一干部124内相邻两个网格单元之间仅通过一个公共结点连接。干部124一末端的网格单元与枝部122一末端的网格单元通过公共网格边连接,图6B中用一虚线圆框框出了该公共网格边。
因为干部124的作用主要是将枝部引至导电层100的下方边缘,因此对于位置靠近导电层100下方边缘的第二感应图案113,可以直接通过枝部122引至导电层100的边缘,即对应的引线簇不包括干部124,引线簇内相邻两个网格单元之间通过一公共网格边连接,且相邻两个网格单元之间包括两个公共结点。
呈菱形的网格单元的两条对角线分别沿平面直角坐标系的X坐标轴方向和Y坐标轴方向延伸,也就是干部124沿Y坐标轴方向延伸。参见附图,引线区120亦为轴对称结构,对称轴左边的引线簇连接左感应区112,对称轴右边的引线簇连接右感应区114。
如前述,导电层100还包括配色线。根据触摸屏的工作原理,各个第一感应图案111和第二感应图案113之间、各个引线簇之间均要实现绝缘,因此本发明通过将配色线断开以实现绝缘效果。
具体的,本发明提供多种断开方式,以下通过图示首先说明实现引线簇绝缘的配色线绝缘结构:
(1)将相邻的两引线簇的干部124之间的配色线中的一列去除。参见图6B,相当于配色线缺失与第一直线131相交的网格边,该第一直线131是一条虚拟的直线,其延伸方向平行于干部124的延伸方向,也就是Y坐标轴的方向。该断开结构相当于在原有网格的基础上缺失若干网格边,网格周期不变,因此,触摸屏在显示时不会出现较大色差。
(2)相邻的两引线簇的干部124之间的配色线从网格边的中部断开。如图7所示,断开处形成断口121,断开的长度为2-20微米,较佳的断开长度为3-9微米,在一较佳的实施例中,断开的长度为6微米。如果相邻的两引线簇的干部124之间的间隔较宽,存在多列的配色线,则理论上不需要将配色线的每一条网格边均断开,例如可以只断开一列的配色线,即断开与第一直线131相交的配色线。考虑到在制造过程中可能会出现原本设计断开的地方没有做好而粘连的情况,可以在设计时将更多的配色线断开,例如相邻的两引线簇的干部124之间的配色线每一条网格边都自中部断开,以保证绝缘效果。
(3)干部124自与相邻的配色线邻接处的网格的结点断开。参见图8,在网格结点123处断开。可以理解的,每一簇干部124只需与左边或右边相邻的配色线在网格的结点处断开即可实现绝缘,但为了在制造过程中出现粘连的情况下还能保证绝缘效果,也可以将干部124左、右的结点均断开。
图6A所示实施例中,是将(2)、(3)两种方式结合,即干部124自与相邻的配色线邻接处的网格的结点123断开,断开的网格结点123之间的网格边从中部断开形成断口121。
上述绝缘结构(2)、(3)和图6A所示实施例的绝缘结构,由于断开部分的大小相对于网格边可忽略,故可进一步减小色差。
接下来介绍实现第一感应图案111和第二感应图案113间绝缘的配色线绝缘结构:
(4)相邻的第一感应图案111和第二感应图案113之间的配色线缺失与绝缘轨迹相交的网格边。请参见图9A,图9A是一实施例中配色线断开实现绝缘结构的示意图,其在导电层100上的位置即为图1中的区域II。绝缘轨迹11是位于相邻的第一感应图案111和第二感应图案113之间空隙的一条线(可以是折线或曲线),为了便于理解,图3B中也示出了绝缘轨迹11。在该实施例中绝缘轨迹11是折线,包括沿X轴方向延伸的部分和沿Y轴方向延伸的部分。由于在图示的实施例中,第一感应图案111和第二感应图案113之间的配色线是单排/单列的结构,因此该实施例中第一感应图案111和第二感应图案113之间的配色线全部缺失。绝缘结构(4)相当于在原有网格的基础上缺失若干网格边,网格周期不变,因此,触摸屏在显示时不会出现较大色差。
(5)相邻的第一感应图案111和第二感应图案113之间的配色线从网格边的中部断开。如图9B所示,断开处形成断口13,断开的长度为2-20微米,较佳的断开长度为3-9微米,在一较佳的实施例中,断开的长度为6微米。如果相邻的第一感应图案111和第二感应图案113之间的间隔较宽,存在多列/多行的配色线,则理论上不需要将配色线的每一条网格边均断开,例如可以只断开一列/一行的配色线,即断开与绝缘轨迹11相交的配色线。考虑到在制造过程中可能会出现原本设计断开的地方没有做好而粘连的情况,可以在设计时将更多的配色线断开,例如相邻的第一感应图案111和第二感应图案113之间的配色线每一条网格边都自中部断开,以保证绝缘效果。
(6)相邻的第一感应图案111和第二感应图案113之间的配色线自与第一感应图案111和第二感应图案113邻接处的网格的结点断开。参见图9C,在网格结点15处断开。可以理解的,相邻的第一感应图案111和第二感应图案113之间的配色线只需自与第一感应图案111邻接的网格的结点处断开,或自与第二感应图案113邻接的网格的结点处断开,即可实现绝缘,但为了在制造过程中出现粘连的情况下还能保证绝缘效果,也可以将配色线与第一感应图案111和第二感应图案113邻接的结点均断开。
图1所示实施例中,是将(5)、(6)两种方式结合,具体请参图9D,相邻的第一感应图案111和第二感应图案113之间的配色线自与第一感应图案111和第二感应图案113邻接处的网格的结点15断开,断开的网格结点15之间的网格边从中部断开形成断口13。
上述绝缘结构(5)、(6)和图9D所示实施例的绝缘结构,由于断开部分的大小相对于网格边可忽略,故可进一步减小色差。
上述导电层采用金属网格结构,可以采用压印工艺进行制造,相较于传统的ITO膜作为导电层的工艺,网格形状可以一步成形,工艺简单,良率高。并且以金属代替ITO,材料成本大大降低,由于不需要用到刻蚀工艺,不会造成导电层材料的浪费,并减少了废液中重金属的排放。
请参照图2,触摸屏还包括保护层30,保护层30覆盖基质层20及导电层100,用于对基质层20及导电层100进行保护。
本发明还提供一种触摸屏的制造方法,如图10所示,包括下列步骤:
S110,提供玻璃基板。
提供如图11A所示的玻璃基板10,玻璃基板10为硅酸钙钠玻璃或硅铝酸盐玻璃。
S120,对玻璃基板的一表面进行等离子体轰击处理,使该表面露出Si-O-基。
请参见图11B,在该实施例中,是采用等离子体63轰击玻璃基板10的表面,形成结合面21。可以采用等离子清洗机进行处理,优选的粗糙度为5~10纳米。等离子体轰击处理的作用主要是对玻璃表面的清洁及使玻璃表面打出Si-O-键(Si-O-Si→Si-O-)。因为玻璃为极性材料,而基质层20为非极性材料,如果不做处理,则玻璃基板10与基质层20之间的粘合力有限,在后续脱模的时候会起胶。而经过处理后,结合面21露出的Si-O-键有利于与后面的基质层20键合,增加基质层20与玻璃基板10的粘合力。
S130,在玻璃基板进行了等离子轰击处理的表面涂覆胶状物并固化,形成基质层。
请参见图11C,基质层20作为压印胶,其材质可以为聚甲基丙烯酸甲酯(PMMA)或光固胶。在本实施例中,基质层20为无溶剂紫外固化亚克力树脂。在其他实施例中,形成基质层20的胶状物还可以为其他光固胶、热固胶及自干胶。其中光固胶为预聚物、单体及光引发剂及助剂按照摩尔配比:30~50%、40~60%、1~6%及0.2~1%组成的混合物。其中,预聚物选为环氧丙烯酸酯、聚氨酯丙烯酸酯、聚醚丙烯酸酯、聚酯丙烯酸酯、丙烯酸树脂中的至少一种;单体为单官能(IBOA、IBOMA、HEMA等)、二官能(TPGDA、HDDA、DEGDA、NPGDA等)、三官能及多官能(TMPTA、PETA等)中的至少一种;光引发剂为二苯甲酮、二苯乙酮等。进一步的,在上述混合物中还可添加摩尔配比为0.2~1%的助剂。助剂可为对苯二酚、对甲氧基苯酚、对苯醌、2,6一二叔丁基甲苯酚等。
S140,使用压印模具61压印基质层,在基质层背离玻璃基板的一面形成沟槽。
请参看图11D,基质层20作为压印胶被具有预设形状的凸起的模具压印后,形成沟槽23。在本实施例中,沟槽23的深度为3微米,宽度为2.2微米。在其它实施例中,沟槽的尺寸可根据实际需要进行更改。
S150,将金属填充于沟槽内,形成金属网格作为导电层。
请参见图11E,导电层100可以采用前述的触摸屏的导电层结构,导电层100的金属可以是金、银、铜、铝、镍、锌或其中任意两者或两者以上的合金。可以使用刮涂技术在沟槽23中填充纳米银墨水,再在150℃条件下烧结,使纳米银墨水中的银单质烧结成导电细线。其中,银墨水固含量35%,溶剂在烧结中挥发。
以上所述实施例仅表达了本发明的几种实施方式,其描述较为具体和详细,但并不能因此而理解为对本发明专利范围的限制。应当指出的是,对于本领域的普通技术人员来说,在不脱离本发明构思的前提下,还可以做出若干变形和改进,这些都属于本发明的保护范围。因此,本发明专利的保护范围应以所附权利要求为准。
Claims (27)
1.一种触摸屏,包括玻璃基板和导电层,其特征在于,还包括基质层,所述玻璃基板的一表面经等离子体轰击处理形成有Si-O-基,所述基质层设于所述表面从而与所述Si-O-基结合,所述基质层由胶状物固化形成,所述基质层背离所述玻璃基板的一面开设有沟槽,所述导电层设于所述沟槽内,所述导电层为金属线构成的网格,所述网格包括若干网格单元,所述网格单元包括若干条网格边及相邻两网格边相接形成的结点,所述导电层包括感应区和与感应区电连接的引线区,所述感应区包括至少一第一感应图案和至少一第二感应图案,所述第一感应图案和第二感应图案相邻且相互绝缘,每个所述第一感应图案内的网格单元相互电连接,每个所述第二感应图案内的网格单元相互电连接。
2.根据权利要求1所述的触摸屏,其特征在于,所述玻璃基板经等离子体轰击处理的表面具有5至10纳米的粗糙度。
3.根据权利要求1所述的触摸屏,其特征在于,所述第一感应图案包括沿二维坐标系的第二维方向延伸的一第一主线及自所述第一主线向侧向延伸的若干第一侧枝,所述第二感应图案包括沿二维坐标系的第二维方向延伸的一第二主线及自所述第二主线向侧向延伸的若干第二侧枝,各个第二主线的首尾相互间隔,所述第一侧枝与第二侧枝间隔交替排列。
4.根据权利要求1所述的触摸屏,其特征在于,所述第一侧枝和第二侧枝沿所述二维坐标系的第一维方向延伸,所述第一主线与第二主线平行。
5.根据权利要求1所述的触摸屏,其特征在于,所述导电层还包括与所述感应区和引线区形成互补图形的配色线,所述配色线与所述感应区和引线区绝缘。
6.根据权利要求5所述的触摸屏的导电层,其特征在于,所述配色线形成网格,所述配色线形成的网格的网格单元形状及网格边长与所述第一感应图案及第二感应图案中的网格的网格单元形状及网格边长相同。
7.根据权利要求5所述的触摸屏,其特征在于,相邻的所述第一感应图案和第二感应图案之间的配色线缺失与绝缘轨迹相交的网格边。
8.根据权利要求5所述的触摸屏,其特征在于,相邻的所述第一感应图案和第二感应图案之间的配色线从网格边的中部断开。
9.根据权利要求5-8中任意一项所述的触摸屏,其特征在于,相邻的所述第一感应图案和第二感应图案之间的配色线自与第一感应图案和/或第二感应图案邻接处的网格的结点断开。
10.根据权利要求5所述的触摸屏,其特征在于,所述引线区包括若干引线簇,所述引线簇之间相互绝缘,每一所述引线簇由单列网格单元相互连接形成,每一所述引线簇的一端与一所述第二感应图案电连接。
11.根据权利要求10所述的触摸屏,其特征在于,每一所述引线簇与所述第二感应图案具有两个公共结点。
12.根据权利要求10所述的触摸屏的导电层,其特征在于,部分引线簇包括干部,所述干部中相邻两个网格单元之间仅通过一个公共结点连接。
13.根据权利要求12所述的触摸屏,其特征在于,所述部分引线簇进一步包括与干部连接的枝部,所述枝部中相邻两个网格单元之间通过一公共网格边连接,所述相邻两个网格单元之间包括两个公共结点,所述枝部一末端的网格单元与所述干部一末端的网格单元通过公共网格边连接。
14.根据权利要求12所述的触摸屏,其特征在于,相邻的两引线簇的干部之间的配色线从网格边的中部断开。
15.根据权利要求8或14所述的触摸屏,其特征在于,所述断开的长度为2-20微米。
16.根据权利要求15所述的触摸屏,其特征在于,所述断开的长度为3-9微米。
17.根据权利要求12、13、14、16中任意一项所述的触摸屏,其特征在于,所述干部自与相邻的配色线邻接处的网格的结点断开。
18.根据权利要求11所述的触摸屏,其特征在于,部分所述引线簇中的相邻两个网格单元之间通过一公共网格边连接,所述相邻两个网格单元之间包括两个公共结点。
19.根据权利要求1所述的触摸屏,其特征在于,所述网格的网格单元为菱形。
20.根据权利要求1所述的触摸屏,其特征在于,所述感应区包括相互分离设置的左感应区和右感应区,每个左感应区和右感应区均包括至少一个第一感应图案和至少一个第二感应图案,所述引线区设于左感应区和右感应区的中间。
21.根据权利要求1所述的触摸屏,其特征在于,所述沟槽为具有预设形状的凸起的压印模具压印形成。
22.根据权利要求21所述的触摸屏,其特征在于,所述沟槽的深宽比大于1。
23.根据权利要求21所述的触摸屏,其特征在于,所述沟槽的深度不小于所述导电层的厚度。
24.根据权利要求1所述的触摸屏,其特征在于,所述基质层的厚度小于所述玻璃基板的厚度。
25.根据权利要求1所述的触摸屏,其特征在于,还包括保护层,所述保护层覆盖所述基质层及导电层。
26.一种触摸屏的制造方法,包括下列步骤:
提供玻璃基板;
对所述玻璃基板的一表面进行等离子体轰击处理,使所述表面露出Si-O-基;
在所述玻璃基板进行了等离子轰击处理的表面涂覆胶状物并固化,形成基质层,所述胶状物固化过程中与玻璃基板表面的Si-O-基结合;
使用压印模具压印所述基质层,在所述基质层背离所述玻璃基板的一面形成沟槽;
将金属填充于所述沟槽内,形成金属网格作为导电层。
27.根据权利要求26所述的触摸屏的制造方法,其特征在于,所述玻璃基板经等离子体轰击处理的表面具有5至10纳米的粗糙度。
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