CN102959437A - 电磁波反射膜及其制造方法 - Google Patents
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Abstract
本发明的主要目的在于提供一种可以制造具有将多个选择反射层直接相接地层叠而成且被选择反射的光当中的扩散反射的比例少的电磁波反射膜的方法。本发明的电磁波反射膜的制造方法的特征在于,包括:第一选择反射层形成工序,使用透明基板,在上述透明基板上涂布第一选择反射层形成用涂布液而形成第一选择反射层形成用层,通过对上述第一选择反射层形成用层照射25mJ/cm2~800mJ/cm2的范围内的紫外线而形成第一选择反射层;第二选择反射层形成工序,使用第二选择反射层形成用涂布液,在上述第一选择反射层上直接相接地涂布上述第二选择反射层形成用涂布液而形成第二选择反射层形成用层,通过对上述第二选择反射层形成用层照射紫外线而形成第二选择反射层。通过提供该制造方法来解决上述课题。
Description
技术领域
本发明涉及在透明基板上层叠两层以上的可以选择性反射给定的波长区域的光的选择反射层而成的电磁波反射膜及其制造方法。
背景技术
作为可以在可见光线乃至红外线的波长区域中选择性地反射所需波长的构件,已知有使用了胆甾型液晶的选择反射构件。这些选择反射构件由于可以仅将所需的光(电磁波)选择性地反射,因此例如可以期待用作使可见光线透过而仅反射热线的热线反射膜或透过性绝热膜。
对于使用胆甾型液晶反射电磁波的电磁波反射膜,例如已知有以下的文献。专利文献1中,公开有由实施了在宽波段中反射近红外线的薄膜涂布的透明基板、和在近红外线部具有尖锐的波长选择反射性的胆甾型液晶制的滤光片构成的层叠体。该技术的目的在于,不降低可见光的透过率地以高效率反射近红外线。另外,专利文献2中,公开有包含在红外线波长范围内将所入射的放射量的至少40%反射的1种或其以上的胆甾型层的绝热涂层。该技术的目的在于,通过使用胆甾型层而获得所需的绝热效果。
此外,专利文献3中,公开有如下的高分子液晶层结构体,即,具备利用特定的方法提高了光反射率的高分子液晶层和支承该高分子液晶层的支承体的高分子液晶层结构体,相对于特定波长的光而言反射率为35%以上。该技术主要用于液晶显示器(LCD)中,通过使用氟系非离子性表面活性剂,来提高高分子液晶层的反射率。另外,专利文献4中,公开有如下的近红外线遮蔽用的双面粘接膜,其具备具有选择反射层A的近红外线遮蔽层,该选择反射层A由使可见光透过且选择性地反射特定波长区域的近红外线的、具有胆甾型液晶结构的高分子固化体层构成。该技术主要用于等离子体显示器面板(PDP)中,利用近红外线遮蔽用的双面粘接膜抑制PDP对周围造成的电磁波的影响。
现有技术文献
专利文献
专利文献1:日本特开平4-281403号公报
专利文献2:日本特表2001-519317号公报
专利文献3:日本专利第3419568号
专利文献4:日本特开2008-209574号公报
发明的概要
发明所要解决的问题
但是,对于使用了胆甾型液晶化合物的电磁波反射膜而言,发现了如下功能,即,通常在层叠于透明基板上的选择反射层中含有胆甾型液晶化合物,依赖于该胆甾型构造而选择性地反射给定的波长区域的光的功能。即,选择反射层对电磁波反射膜赋予光的选择反射功能。此外,由于选择反射层所反射的光的波长区域及圆偏振光的回旋方向是由胆甾型构造引起的,因此通过使用多个选择反射层可以自由控制电磁波反射膜的选择反射特性。例如,可以选择反射多个波长区域的光,或即使是相同的波长区域也可以反射右旋的圆偏振光及左旋的圆偏振光双方。这样,使用胆甾型液晶化合物的电磁波反射膜通过将选择反射性不同的多个选择反射层组合使用,从而具有可以设计出能够用于所有用途的材料的特征。
在将多个选择反射层组合使用的情况下,通常在透明基板上以给定的顺序将该多个选择反射层层叠而使用。作为该情况下层叠选择反射层的方法,可以考虑:在多个选择反射层之间夹设某个层而进行层叠的方法、不夹设其他层而将多个选择反射层彼此直接相接地进行层叠的方法。这些方法可以根据需要分别使用,然而从简化制造工序、提供制造适用性优异的电磁波反射膜的观点考虑,可以说优选使用后者的方法。但是,在将多个选择反射层直接相接地层叠的方法中,可以预想,在形成第一选择反射层后,在该第一选择反射层上形成第二选择反射层时,第二选择反射层会受到第一选择反射层的某些影响,难以在第二选择反射层中实现所需的选择反射性能。由此,现实状况是,以往基本上不使用将多个选择反射层直接相接而进行层叠的方法。另外,对于使用该方法时产生的问题,对于其详情也基本上没有被阐明。
本发明人等十分重视将多个选择反射层直接相接而进行层叠的方法的有用性,为了将其发展为生产性优异的电磁波反射膜的制造方法而进行了深入研究,结果确认出如下情况,即,在形成第一选择反射层后,在该第一选择反射层上形成第二选择反射层时,第二选择反射层的确受到第一选择反射层的影响,在第二选择反射层上,在实现像预先设计好那样的选择反射特性方面存在困难性。此外,作为具体的问题之一,发现如果在第一选择反射层上直接层叠第二选择反射层,则会在第二选择反射层中发生如下所示的现象。即发现,第二选择反射层被设计成依赖于胆甾型构造而反射给定的波长区域的光,当在第一选择反射层上直接相接地层叠第二选择反射层时,被选择反射的波长区域成为当初的设计那样,另外所反射的光的总量(即,相对于被选择反射的波长区域的光的透过率)也基本上像设计那样,然而所反射的光当中的被正反射的光的比例减少,被扩散反射的光的比例增加。而且,一般来说被扩散反射的光的比例增加对于电磁波反射膜来说是不希望产生的。这是因为,扩散反射主要因胆甾型构造的不均匀排列而产生,而该不均匀排列会产生光的散射,从而会有损害透明性的情况。
发明内容
本发明是鉴于此种状况而完成的,其主要目的在于提供一种电磁波反射膜的制造方法,该制造方法可以制造如下的电磁波反射膜,即,具有将含有形成了胆甾型构造的棒状化合物的多个选择反射层直接相接地层叠的构成,被选择反射的光当中的扩散反射的比例少。
用于解决问题的手段
本发明人等为了解决上述问题而进行了深入研究,结果发现,在以与第一选择反射层直接相接的方式形成第二选择反射层的方法中,通过将形成第一选择反射层时的工序条件控制为给定的条件,可以防止第二选择反射层中扩散反射的比例增加,从而完成了本发明。
即,为了解决上述问题,本发明提供一种电磁波反射膜的制造方法,其特征在于,具有:第一选择反射层形成工序,使用透明基板,在上述透明基板上涂布含有由下述结构式(I)表示的棒状化合物、对上述棒状化合物赋予回旋性的第一手性剂、及第一调平剂的第一选择反射层形成用涂布液,从而形成第一选择反射层形成用层,通过对上述第一选择反射层形成用层照射25mJ/cm2~800mJ/cm2的范围内的紫外线而形成第一选择反射层;第二选择反射层形成工序,使用含有由下述结构式(I)表示的棒状化合物、对上述棒状化合物赋予回旋性的第二手性剂、及第二调平剂的第二选择反射层形成用涂布液,在上述第一选择反射层上直接相接地涂布上述第二选择反射层形成用涂布液而形成第二选择反射层形成用层,通过对上述第二选择反射层形成用层照射紫外线而形成第二选择反射层。
[化1]
根据本发明,通过在上述第一选择反射层形成工序中使对上述第一选择反射层形成用层照射的紫外线照射量在上述范围内,就可以使利用本发明制造的电磁波反射膜中由第二选择反射层选择反射的光当中的被扩散反射的光的比例降低。由此,根据本发明,可以制造被选择反射的光当中的扩散反射的比例少的电磁波反射膜。
本发明中,上述第一选择反射层的表面与纯水的接触角优选为65~85度的范围内。这是因为,由此可以进一步降低利用本发明制造的电磁波反射膜中由第二选择反射层选择反射的光当中的被扩散反射的光的比例。
另外,本发明中,上述第一选择反射层的表面的维氏硬度优选为5~25的范围内。这是因为,由此可以进一步降低利用本发明制造的电磁波反射膜中由第二选择反射层选择反射的光当中的被扩散反射的光的比例。
此外,本发明提供一种电磁波反射膜,具有:透明基板、形成于上述透明基板上且含有形成胆甾型构造的由下述结构式(I)表示的棒状化合物的第一选择反射层、形成于上述第一选择反射层上且含有形成胆甾型构造的由下述结构式(I)表示的棒状化合物的第二选择反射层的电磁波反射膜,其特征在于,在上述第一选择反射层上直接相接地形成上述第二选择反射层,并且上述第二选择反射层中被选择反射的光当中的被正反射的光的比例为80%以上。
[化2]
根据本发明,通过使上述第二选择反射层中被选择反射的光当中的被正反射的光的比例在上述范围内,就可以制成作为电磁波反射膜整体来说扩散反射性少的电磁波反射膜。
发明效果
本发明起到可以制造被选择反射的光当中的扩散反射的比例少的电磁波反射膜的效果。
附图说明
图1是表示本发明的电磁波反射膜的制造方法的一例的工序图。
图2是表示本发明的电磁波反射膜的一例的概略剖面图。
图3是地面处的太阳光光谱。
图4是表示本发明的电磁波反射膜具有的反射波段的一例的曲线图。
图5是表示本发明的电磁波反射膜具有的反射波段的其他例子的曲线图。
图6是表示实施例及比较例中制作的电磁波反射膜的反射光谱图的曲线图。
符号说明
10...电磁波反射膜
11...透明基板
12...第一选择反射层
12’...第一选择反射层形成用层
13...第二选择反射层
13’...第二选择反射层形成用层
具体实施方式
本发明涉及电磁波反射膜的制造方法及电磁波反射膜。以下,对各发明进行详细说明。
A.电磁波反射膜的制造方法
首先,对本发明的电磁波反射膜的制造方法进行说明。如上所述,本发明的电磁波反射膜的制造方法的特征在于,具有:第一选择反射层形成工序,使用透明基板,在上述透明基板上涂布含有由下述结构式(I)表示的棒状化合物、对上述棒状化合物赋予回旋性的第一手性剂、第一调平剂的第一选择反射层形成用涂布液而形成第一选择反射层形成用层,通过对上述第一选择反射层形成用层照射25mJ/cm2~800mJ/cm2的范围内的紫外线,从而形成第一选择反射层;第二选择反射层形成工序,使用含有由下述结构式(I)表示的棒状化合物、对上述棒状化合物赋予回旋性的第二手性剂、第二调平剂的第二选择反射层形成用涂布液,在上述第一选择反射层上直接相接地涂布上述第二选择反射层形成用涂布液而形成第二选择反射层形成用层,通过对上述第二选择反射层形成用层照射紫外线而形成第二选择反射层。
[化3]
在参照附图的同时,对此种本发明的电磁波反射膜的制造方法进行说明。图1是针对本发明的电磁波反射膜的制造方法表示其一例的工序图。如图1中例示所示,本发明的电磁波反射膜的制造方法包括:第一选择反射层形成工序(图1(a)~(d)),使用透明基板11(图1(a)),在上述透明基板11上涂布含有由上述结构式(I)表示的棒状化合物、对上述棒状化合物赋予回旋性的第一手性剂、第一调平剂的第一选择反射层形成用涂布液而形成第一选择反射层形成用层12’(图1(b)),通过对上述第一选择反射层形成用层12’照射紫外线(图1(c)),从而在透明基板11上形成第一选择反射层12(图1(d));第二选择反射层形成工序(图1(e)~(g)),使用含有由上述结构式(I)表示的棒状化合物、对上述棒状化合物赋予回旋性的第二手性剂、第二调平剂的第二选择反射层形成用涂布液,在上述第一选择反射层12上直接相接地涂布上述第二选择反射层形成用涂布液而形成第二选择反射层形成用层13’(图1(e)),通过对上述第二选择反射层形成用层13’照射紫外线(图1(f)),从而形成第二选择反射层13(图1(g))。这样,通过具有这些工序,本发明的电磁波反射膜的制造方法制造出如下的电磁波反射膜10,该电磁波反射膜10具有:形成于透明基板11上而含有形成了胆甾型构造的上述棒状化合物的第一选择反射层12、直接相接地形成于第一选择反射层12上而同样含有形成了胆甾型构造的上述棒状化合物的第二选择反射层13。
在此种例子中,本发明的电磁波反射膜的制造方法的特征在于,在上述第一选择反射层形成工序中,向第一选择反射层形成用层12’照射的紫外线照射量在25mJ/cm2~800mJ/cm2的范围内。
根据本发明,通过使上述第一选择反射层形成工序中向上述第一选择反射层形成用层照射的紫外线照射量在上述范围内,可以降低利用本发明制造的电磁波反射膜中由第二选择反射层选择反射的光当中的被扩散反射的光的比例。另外,由于第一选择反射层形成于透明基板上,因此基本上不显示扩散反射性。由此,根据本发明,能够制造被选择反射的光当中的扩散反射的比例少的电磁波反射膜。
本发明的电磁波反射膜的制造方法至少包括第一选择反射层形成工序和第二选择反射层形成工序,根据需要也可以具有其他工序。以下,对本发明中所用的各工序依次进行说明。
1.第一选择反射层形成工序
首先,对本发明的第一选择反射层形成工序进行说明。在本工序中,在透明基板上涂布含有由上述结构式(I)表示的棒状化合物、对上述棒状化合物赋予回旋性的第一手性剂、第一调平剂的第一选择反射层形成用涂布液而形成第一选择反射层形成用层,通过对该第一选择反射层形成用层照射紫外线而形成第一选择反射层。此外,本工序的特征在于,向上述第一选择反射层形成用层照射的紫外线照射量在25mJ/cm2~800mJ/cm2的范围内。
(1)透明基板
对本工序中所用的透明基板进行说明。本工序中所用的透明基板只要是至少可以支承在本工序中形成的第一选择反射层、在后述的第二选择反射层形成工序中形成的第二选择反射层的基板,则没有特别限定。尤其是,本工序中所用的透明基板的可见光区域的透过率优选为80%以上,更优选为90%以上。这里,透明基板的透过率可以利用JIS K7361-1(塑料一透明材料的总透光率的试验方法)来测定。
本工序中所用的透明基板只要是具备所需的透明性的基板,则无论是具有挠曲性的柔性材料,还是没有挠曲性的刚性材料,都可以使用。作为此种透明基板,例如可以举出包含聚对苯二甲酸乙二醇酯、聚萘二甲酸乙二醇酯等聚酯系树脂、聚乙烯或聚甲基戊烯等烯烃系树脂、丙烯酸系树脂、聚氨酯系树脂、聚醚砜、聚碳酸酯、聚砜、聚醚、聚醚酮、(甲基)丙烯腈、环烯烃聚合物、环烯烃共聚物等树脂的基板。其中优选在本工序中使用包含聚对苯二甲酸乙二醇酯的透明基板。这是因为,聚对苯二甲酸乙二醇酯通用性高,易于获得。
对于透明基板的厚度,可以根据利用本发明制造的电磁波反射膜的用途及构成透明基板的材料等适当地决定,并没有特别限定。
(2)第一选择反射层形成用涂布液
下面,对本工序中所用的第一选择反射层形成用涂布液进行说明。本工序中所用的第一选择反射层形成用涂布液至少含有棒状化合物、对上述棒状化合物赋予回旋性的第一手性剂、第一调平剂。
(i)棒状化合物
作为本工序中所用的棒状化合物,可以使用由上述结构式(I)表示的化合物。
(ii)第一手性剂
本工序中所用的第一手性剂只要是可以对上述棒状化合物赋予回旋性,就没有特别限定。另外,本工序中所用的第一手性剂既可以是对上述棒状化合物赋予右旋性的物质,也可以是赋予左旋性的物质。
赋予右旋性的第一手性剂对上述棒状化合物赋予右旋性而形成胆甾型构造。作为此种第一手性剂,例如优选使用由下述的通式(A)、(B)或(C)表示的在分子内具有轴不对称性的低分子化合物。
[化4]
(e=2~5的整数)
[化5]
[化6]
上述通式(A)中,R1表示氢或甲基。Y是上述所示的式(i)~(xxiv)的任意一个,然而其中优选为式(i)、(ii)、(iii)、(v)及(vii)的任意一个。另外,表示亚烃基的链长的c及d可以分别独立地在2~12的范围中取任意的整数,然而优选为4~10的范围,更优选为6~9的范围。另外,作为第一手性剂,也可以使用由如下所示的化学式表示的物质。
[化7]
赋予左旋性的第一手性剂对上述棒状化合物赋予左旋性而形成胆甾型构造。此种第一手性剂没有特别限定,然而例如可以举出ADEKA公司制CNL-716等。
而且,根据第一选择反射层形成用涂布液中的第一手性剂的含量,可以调整本工序中形成的第一选择反射层所反射的光的波长。相对于棒状化合物及上述第一手性剂的合计而言,第一手性剂的比例根据第一手性剂的回旋性而不同,例如在使用赋予右旋性的第一手性剂的情况下,为1.0质量%~5.0质量%的范围内,尤其优选为1.5质量%~3.5质量%的范围内。另一方面,在使用赋予左旋性的第一手性剂的情况下,为1.0质量%~7.0质量%的范围内,尤其优选为2.0质量%~5.0质量%的范围内。
(iii)第一调平剂
下面,对本工序中所用的第一调平剂进行说明。本工序中所用的第一调平剂在本工序中形成的第一选择反射层促进上述棒状化合物的胆甾型构造的形成。作为本工序中所用的第一调平剂,只要是可以在本工序中形成的第一选择反射层促进上述棒状化合物的胆甾型排列的物质,就没有特别限定。作为此种第一调平剂,例如可以举出硅系化合物、氟系化合物、或丙烯酸系化合物等。本工序中无论是所述的哪种化合物,都有可以作为第一调平剂使用的情况。作为本工序中所用的第一调平剂的具体例,例如可以举出BYKChemie Japan公司制BYK-361N、AGCSeimi Chemicals公司制S-241等。本工序中无论是这些的哪种第一调平剂都可以合适地使用,然而其中更优选使用作为丙烯酸系化合物的BYK-361N。
另外,本工序中所用的第一调平剂既可以是1种,也可以是2种以上。
作为第一选择反射层形成用涂布液中的第一调平剂的含量,只要是在能够以所需的规则性形成上述棒状化合物的胆甾型构造的范围内,就没有特别限定。具体的含量可以根据第一调平剂的种类等适当地决定。其中,在本工序中,上述第一选择反射层形成用涂布液中的第一调平剂的含量优选为0.01质量%~5.0质量%的范围内,更优选为0.03质量%~1.0质量%的范围内。
(iv)其他的成分
本工序中所用的第一选择反射层形成用涂布液优选还含有聚合引发剂。这是因为,在本工序中形成第一选择反射层时,出于使上述棒状化合物聚合的目的照射紫外线,然而通过在第一选择反射层形成用涂布液中含有聚合引发剂,就易于在本工序中产生上述棒状化合物的聚合反应。聚合引发剂的种类只要是能够促进由上述结构式(I)表示的棒状化合物的聚合反应,就没有特别限定,可以根据所照射的能量的种类适当地选择。作为此种聚合引发剂的具体的例子,可以举出光聚合引发剂及热聚合引发剂等。另外,在含有聚合引发剂的情况下,其含量只要是产生所需的聚合反应的程度,就没有特别限定,可适当地决定。
另外,本工序中所用的第一选择反射层形成用涂布液通常使用含有溶剂的溶液。作为上述溶剂,只要是至少可以使上述棒状化合物、第一手性剂、第一调平剂分散的溶剂,就没有特别限定。作为此种溶剂,例如可以举出环己酮等。
(3)第一选择反射层的形成方法
下面,对本工序中在透明基板上形成第一选择反射层的方法进行说明。本工序中,在透明基板上涂布第一选择反射层形成用涂布液而形成第一选择反射层形成用层,通过对上述第一选择反射层形成用层照射紫外线而形成第一选择反射层。这里,上述第一选择反射层形成用层是指处于涂布第一选择反射层形成用涂布液后且照射紫外线前的阶段的层,通过照射紫外线而成为第一选择反射层。
作为在透明基板上涂布第一选择反射层形成用涂布液的方法,只要是能够以所需的厚度涂布第一选择反射层形成用涂布液而形成第一选择反射层形成用层的方法,就没有特别限定。作为此种方法,可以使用普通的涂布法,具体来说,可以举出棒涂法、旋涂法、刮涂法等。另外,通常来说,通过将涂布于透明基板上的第一选择反射层形成用涂布液干燥、除去溶剂而得到第一选择反射层形成用层。
上述第一选择反射层形成用层通过被照射紫外线而成为第一选择反射层。本工序中对第一选择反射层形成用层照射紫外线是为了将通过第一手性剂及第一调平剂的作用而形成胆甾型构造的棒状化合物在维持该胆甾型构造的同时交联,使胆甾型构造难以被打乱。本工序中的特征在于,对第一选择反射层形成用层照射的紫外线的照射量为25mJ/cm2~800mJ/cm2的范围内。本发明的电磁波反射膜的制造方法通过使本工序中对第一选择反射层形成用层照射的紫外线量为上述范围内,从而可以将后述的第二选择反射层形成工序中形成的第二选择反射层设为扩散反射性低的层。这里,将本工序中的对第一选择反射层形成用层的紫外线照射量设为上述范围内是因为,如果紫外线照射量比上述范围少,则第一选择反射层形成用层中所含的棒状化合物的聚合不够充分,其结果是,本工序中形成的第一选择反射层中棒状化合物的胆甾型构造易于被打乱。另外还因为,如果紫外线照射量比上述范围多,则会有第一调平剂在第一选择反射层形成用层表面出现的情况。只要本工序中的对第一选择反射层形成用层的紫外线照射量为上述范围内,就没有特别限定,然而其中更优选为25mJ/cm2~400mJ/cm2的范围内,进一步优选为50mJ/cm2~200mJ/cm2的范围内。
(4)第一选择反射层
下面,对本工序中形成的第一选择反射层进行说明。本工序中形成的第一选择反射层具有如下的功能,即,依赖于上述棒状化合物的胆甾型构造而选择性反射给定的波长范围的光当中的右旋圆偏振光或左旋圆偏振光中的一方。如果第一选择反射层中的胆甾型构造是右旋结构,则选择反射右旋圆偏振光,如果是左旋结构,则选择反射左旋圆偏振光。另外,依赖于胆甾型构造的间距地决定被选择反射的光的波长区域。
本工序中形成的第一选择反射层的厚度只要是能够对第一选择反射层赋予所需的选择反射功能的范围内,就没有特别限定。由此,第一选择反射层的厚度可以根据利用本发明制造的电磁波反射膜的用途等适当决定,然而通常优选为0.1μm~100μm的范围内,更优选为0.5μm~20μm的范围内,进一步优选为1μm~10μm的范围内。
另外,本工序中形成的第一选择反射层的表面与纯水的接触角优选为65~85度的范围内,更优选为70~85度的范围内,进一步优选为75~80度的范围内。这是因为,通过使第一选择反射层的表面与纯水的接触角为此种范围内,就可以进一步降低利用本发明制造的电磁波反射膜中由第二选择反射层选择反射的光当中的被扩散反射的光的比例。这里,上述与纯水的接触角是指,与第一选择反射层的表面当中的在后述的第二选择反射层形成工序中形成第二选择反射层的一侧的表面的接触角。上述接触角是指在23℃环境下手动滴下5.0微升的纯水而实施5次的平均值,接触角例如可以通过作为测定装置使用协和界面科学制DM-301来测定。另外,上述接触角可以通过将对第一选择反射层形成用层的紫外线照射量在上述的范围内适当地调整而实现所需的值。
另外,本工序中形成的第一选择反射层的表面的维氏硬度优选为5~25的范围内,更优选为10~25的范围内,进一步优选为10~20的范围内。这是因为,通过使第一选择反射层的表面的维氏硬度为此种范围内,可以进一步降低利用本发明制造的电磁波反射膜中由第二选择反射层选择反射的光当中的被扩散反射的光的比例。这里,上述维氏硬度是指针对第一选择反射层的表面当中的在后述的第二选择反射层形成工序中形成第二选择反射层的一侧的表面的硬度。上述维氏硬度是指对样品施加载荷0.5mN/10s、在测定环境25℃下测定5次而得的平均值,维氏硬度例如可以通过作为测定装置使用Fisher Instruments制HM500来测定。另外,上述维氏硬度可以通过在上述的范围内适当地调整对第一选择反射层形成用层的紫外线照射量而实现所需的值。
2.第二选择反射层形成工序
下面,对本发明中所用的第二选择反射层形成工序进行说明。本工序是如下的工序,即,使用含有由上述结构式(I)表示的棒状化合物、对上述棒状化合物赋予回旋性的第二手性剂、第二调平剂的第二选择反射层形成用涂布液,在上述第一选择反射层上直接相接地涂布上述第二选择反射层形成用涂布液而形成第二选择反射层形成用层,通过对上述第二选择反射层形成用层照射紫外线而形成第二选择反射层。
本工序中通过将第二选择反射层形成用涂布液直接相接地涂布在上述第一选择反射层上而形成第二选择反射层,然而所谓“直接相接地”是指,在本工序中形成的第二选择反射层与第一选择反射层之间不夹设其他层。
(1)第二选择反射层形成用涂布液
本工序中所用的第二选择反射层形成用涂布液含有由上述结构式(I)表示的棒状化合物、第二手性剂、第二调平剂。这里,作为本工序中所用的第二手性剂、第二调平剂,可以分别使用与上述的第一选择反射层形成用涂布液中所用的作为用作第一手性剂、第一调平剂的材料例示的材料相同的材料。而且,本工序中所用的第二手性剂、第二调平剂分别既可以与上述第一选择反射层形成用涂布液中所用的第一手性剂、第一调平剂相同,也可以不同。对于第二选择反射层形成用涂布液中的第二手性剂、第二调平剂的含量,可以分别设为与上述第一选择反射层形成用涂布液中的第一手性剂、第一调平剂的含量相同的程度。
(2)第二选择反射层的形成方法
下面,对本工序中形成第二选择反射层的方法进行说明。本工序中,在第一选择反射层形成工序中形成的第一选择反射层上直接相接地涂布第二选择反射层形成用涂布液而形成第二选择反射层形成用层,通过对上述第二选择反射层形成用层照射紫外线而形成第二选择反射层。这里,上述第二选择反射层形成用层是指处于涂布第二选择反射层形成用涂布液后且照射紫外线前的阶段的层,通过照射紫外线而成为第二选择反射层。
作为在第一选择反射层上涂布第二选择反射层形成用涂布液的方法,只要是能够以所需的厚度涂布第二选择反射层形成用涂布液而形成第二选择反射层形成用层的方法,就没有特别限定。作为此种方法,可以使用普通的涂布法,具体来说,可以举出棒涂法、旋涂法、刮涂法等。另外,通常来说,通过将涂布在第一选择反射层上的第二选择反射层形成用涂布液干燥、除去溶剂而得到第二选择反射层形成用层。
上述第二选择反射层形成用层通过被照射紫外线而成为第二选择反射层。本工序中对第二选择反射层形成用层照射紫外线的原因与第一选择反射层形成工序的情况相同,是为了将通过第二手性剂及第二调平剂的作用形成胆甾型构造的棒状化合物在维持该胆甾型构造的同时交联,使胆甾型构造难以被打乱。本工序中的对第二选择反射层形成用层的紫外线照射量可以根据利用本发明制造的电磁波反射膜的构成适当地决定。具体来说,在利用本发明制造的电磁波反射膜作为选择反射层而仅具有第一选择反射层、第二选择反射层的情况下,只要对第二选择反射层形成用层的紫外线照射量是可以将棒状化合物充分地聚合的范围内,就没有特别限定。所以,对于具体来说照射何种程度的紫外线,可以根据利用本发明制造的电磁波反射膜的用途等适当地决定。例如,在利用本发明制造的电磁波反射膜的用途是不会对第二选择反射层施加80℃以上的热或大气压以上的载荷的情况下,通常来说,如果对第二选择反射层形成用层的紫外线照射量为200mJ/cm2以上,可以说只要没有特殊的情况,就不会有什么问题。另一方面,例如在将利用本发明制造的电磁波反射膜用于汽车用的夹层玻璃用途的情况下,由于该情况下第二选择反射层被置于高温·高压的状况下,因此对第二选择反射层形成用层的紫外线照射量通常设为800mJ/cm2左右。
另外,在利用本发明制造的电磁波反射膜具有除了第一选择反射层、第二选择反射层以外还在第二选择反射层上层叠第三选择反射层、第四选择反射层、...等补充选择反射层的构成的情况下,本工序中向第二选择反射层形成用层照射的紫外线量与对上述第一选择反射层形成用层的紫外线照射量相同,优选为25mJ/cm2~800mJ/cm2的范围内,更优选为25mJ/cm2~400mJ/cm2的范围内,进一步优选为50mJ/cm2~200mJ/cm2的范围内。这是因为,例如,在第二选择反射层上形成有第三选择反射层的情况下,与可以通过将对第一选择反射层形成用层的紫外线照射量设为上述的范围内来降低第二选择反射层的扩散反射性的情况相同,通过将对第二选择反射层形成用层的紫外线照射量设为上述范围内,可以降低第三选择反射层的扩散反射性。而且,该设置对于在第三选择反射层上形成第四选择反射层时的对第三选择反射层形成用层的紫外线照射量也是同样的。
(3)第二选择反射层
下面,对本工序中形成的第二选择反射层进行说明。本工序中形成的第二选择反射层具有如下的功能,即,依赖于上述棒状化合物的胆甾型构造地选择性反射给定的波长范围的光当中的右旋圆偏振光或左旋圆偏振光中的一方。如果第二选择反射层中的胆甾型构造是右旋结构,则选择反射右旋圆偏振光,如果是左旋结构,则选择反射左旋圆偏振光。另外,依赖于胆甾型构造的间距地决定被选择反射的光的波长区域。
本工序中形成的第二选择反射层的厚度只要是能够对第二选择反射层赋予所需的选择反射功能的范围内,就没有特别限定。由此,第二选择反射层的厚度可以根据利用本发明制造的电磁波反射膜的用途等适当地决定,通常来说,优选为0.1μm~100μm的范围内,更优选为0.5μm~20μm的范围内,进一步优选为1μm~10μm的范围内。
3.其他的工序
本发明的电磁波反射膜的制造方法至少具有上述的第一选择反射层形成工序和第二选择反射层形成工序,然而根据需要也可以使用其他的任意的工序。任意的工序只要是能够根据利用本发明制造的电磁波反射膜的用途等制造具有所需的构成或功能的电磁波反射膜,就没有特别限定。作为此种任意的工序,例如可以举出:在上述第二选择反射层上形成第三选择反射层的第三选择反射层形成工序、在该第三选择反射层上形成第四选择反射层的第四选择反射层形成工序等在第二选择反射层上形成补充选择反射层的补充选择反射层形成工序。此种补充选择反射层形成工序也可以使用多个工序。
在上述补充选择反射层形成工序中,作为形成第三选择反射层、第四选择反射层等补充选择反射层的方法,与上述第二选择反射层形成工序中形成第二选择反射层的方法相同,可以通过涂布含有棒状化合物、手性剂、调平剂的补充选择反射层形成用涂布液而形成补充选择反射层形成用层,通过对该补充选择反射层形成用层照射紫外线而形成。这里,作为对补充选择反射层形成用层的紫外线照射量,在所形成的补充选择反射层在电磁波反射膜中位于最表层的情况下设为200mJ/cm2以上,关于具体照射何种程度的紫外线,可以根据利用本发明制造的电磁波反射膜的用途等适当地决定。另一方面,在预定在被形成的补充选择反射层上形成进一步的补充选择反射层的情况下(例如在预定在第三选择反射层上形成第四选择反射层的情况下),对补充选择反射层形成用层(前例中的第三选择反射层形成用层)的紫外线照射量优选为25mJ/cm2~800mJ/cm2的范围内,更优选为25mJ/cm2~400mJ/cm2的范围内,进一步优选为50mJ/cm2~200mJ/cm2的范围内。这是因为,与可以通过将对第一选择反射层形成用层的紫外线照射量设为上述的范围内来降低第二选择反射层的扩散反射性的情况相同,通过将对补充选择反射层形成用层的紫外线照射量设为上述范围内,可以降低被进一步层叠的补充选择反射层的扩散反射性。
而且,对于上述补充选择反射层形成用涂布液中所用的棒状化合物、手性剂、调平剂,可以使用与上述的第一选择反射层形成用涂布液中所用的棒状化合物、第一手性剂、第一调平剂相同的材料。
4.电磁波反射膜
利用本发明制造的电磁波反射膜具有透明基板、形成于该透明基板上的第一选择反射层、直接相接地形成于该第一选择反射层上的第二选择反射层,第二选择反射层的扩散反射性被降低。此外,由于第一选择反射层形成于透明基板上,因此基本上不会显示出扩散反射性。基于此种情况,利用本发明制造的电磁波反射膜作为整体来说扩散反射性明显降低。
对于此种电磁波反射膜,由于在后述的“B.电磁波反射膜”一项中详细说明,因此省略这里的说明。
B.电磁波反射膜
下面,对本发明的电磁波反射膜进行说明。如上所述,本发明的电磁波反射膜具有:透明基板、形成于上述透明基板上而含有形成胆甾型构造的由上述结构式(I)表示的棒状化合物的第一选择反射层、形成于上述第一选择反射层上而含有形成胆甾型构造的由上述结构式(I)表示的棒状化合物的第二选择反射层,其特征在于,上述第二选择反射层直接相接地形成于上述第一选择反射层上,并且上述第二选择反射层被选择反射的光当中被正反射的光的比例为80%以上。
在参照附图的同时,对此种本发明的电磁波反射膜进行说明。图2是表示本发明的电磁波反射膜的一例的概略剖面图。如图2中例示所示,本发明的电磁波反射膜10具有:透明基板11、形成于上述透明基板11上的第一选择反射层12、形成于上述第一选择反射层12上的第二选择反射层13。这里,上述第一选择反射层12及第二选择反射层13都含有形成胆甾型构造的由上述结构式(I)表示的棒状化合物。在此种例子中,本发明的电磁波反射膜10的特征在于,在上述第一选择反射层12上直接相接地形成上述第二选择反射层13,并且在上述第二选择反射层13被选择反射的光当中被正反射的光的比例为80%以上。
根据本发明,通过使上述第二选择反射层中被选择反射的光当中被正反射的光的比例在上述范围内,就可以制成作为电磁波反射膜整体来说扩散反射性少的电磁波反射膜。
本发明的电磁波反射膜至少具有透明基板、第一选择反射层、第二选择反射层,根据需要也可以具有其他的构成。以下,对于本发明中所用的各构成依次进行说明。
而且,对于本发明中所用的透明基板,由于与上述“A.电磁波反射膜的制造方法”一项中说明的相同,因此省略以下的说明。
1.第二选择反射层
首先,对本发明中所用的第二选择反射层进行说明。第二选择反射层具有如下的功能,即,依赖于上述棒状化合物的胆甾型构造地选择性反射给定的波长范围的光当中的右旋圆偏振光或左旋圆偏振光中的一方。本发明中所用的第二选择反射层直接相接地形成于后述的第一选择反射层上,含有形成胆甾型构造的由上述结构式(I)表示的棒状化合物。另外,本发明中所用的第二选择反射层的特征在于,在第二选择反射层中被选择反射的光当中被正反射的光的比例为80%以上。
这里,所谓第二选择反射层“直接相接地形成于第一选择反射层上”,是指在第二选择反射层与第一选择反射层之间不夹设其他的层地将两层层叠。
本发明的由第二选择反射层选择反射的光当中被正反射的光的比例只要是80%以上,就没有特别限定。这里,将本发明中由第二选择反射层选择反射的光当中被正反射的光的比例设为上述范围是因为,如果比例低于上述范围,则会产生因胆甾型构造的不均匀排列而发生的光的散射,透明性会受到损害。本发明中由第二选择反射层正反射的光的比例只要是上述范围内就没有特别限定,然而更优选为85%以上,进一步优选为90%以上。而且,由第二选择反射层正反射的光的比例例如可以利用如下所示的方法来测定。首先,测定由第二选择反射层选择反射的波长区域的透过率(此时,也可以包括由第一选择反射层选择反射的波长区域)。然后,测定5次正反射成分,然后测定扩散反射率。这里,由于成立100-透过率峰[%]=反射率峰[%]+扩散反射率峰[%]的关系,因此通过算出反射率峰[%]/(反射率峰[%]+扩散反射率峰[%]),可以求出第二选择反射层的正反射率。而且,在由第一选择反射层选择反射的波长区域与由第二选择反射层选择反射的波长区域重复,在两层中被反射的圆偏振光的回旋性不同的情况下,可以通过在上述各测定时向光源中***偏振片及λ/4片提取由第二选择反射层反射的成分的光,从而能够仅将第二选择反射层作为对象进行测定。作为测定装置,例如可以使用岛津制作所制UV-3100。
本发明中所用的第二选择反射层的厚度只要是可以实现选择反射给定的波长区域的光的功能的范围内,就没有特别限定,可以根据本发明的电磁波反射膜的用途等适当地决定。其中,本发明的第二选择反射层的厚度优选为0.1μm~100μm的范围内,更优选为0.5μm~20μm的范围内,进一步优选为1μm~10μm的范围内。
第二选择反射层的棒状化合物的胆甾型构造既可以是右旋结构,也可以是左旋结构。另外,在第二选择反射层中为了形成此种右旋结构、或左旋结构也可以含有手性剂。此外,在第二选择反射层中,为了使棒状化合物的胆甾型构造更加有规则,也可以含有调平剂。对于第二选择反射层中所用的手性剂、调平剂,可以使用与上述“A.电磁波反射膜的制造方法”一项中作为第二选择反射层形成工序中所用的第二选择反射层形成用涂布液中所含的第二手性剂、第二调平剂说明的材料相同的材料。
2.第一选择反射层
下面,对本发明中所用的第一选择反射层进行说明。与第二选择反射层相同,第一选择反射层也具有如下的功能,即,依赖于上述棒状化合物的胆甾型构造地选择性反射给定的波长范围的光当中的右旋圆偏振光或左旋圆偏振光中的一方。另外,本发明中所用的第一选择反射层形成于透明基板上,含有形成胆甾型构造的由上述结构式(I)表示的棒状化合物。
本发明中所用的第一选择反射层的厚度只要是可以实现选择反射给定的波长区域的光的功能的范围内,就没有特别限定,可以根据本发明的电磁波反射膜的用途等适当地决定。其中,本发明的第一选择反射层的厚度优选为0.1μm~100μm的范围内,更优选为0.5μm~20μm的范围内,进一步优选为1μm~10μm的范围内。另外,第一选择反射层的棒状化合物的胆甾型构造既可以是右旋结构,也可以是左旋结构。另外,在第一选择反射层中为了形成此种右旋结构或左旋结构也可以含有手性剂。此外,在第一选择反射层中,为了使棒状化合物的胆甾型构造更加有规则,也可以含有调平剂。对于第一选择反射层中所用的手性剂、调平剂,可以使用与上述“A.电磁波反射膜的制造方法”一项中作为第一选择反射层形成工序中所用的第一选择反射层形成用涂布液中所含的第一手性剂、第一调平剂说明的材料相同的材料。
3.其他的构成
本发明的电磁波反射膜至少具有透明基板、第一选择反射层、第二选择反射层,然而根据需要也可以具有其他的构成。其他的构成没有特别限定,可以根据本发明的电磁波反射膜的用途等适当地选择使用具有所需功能的构成。作为此种其他的构成,例如可以举出形成于上述第二选择反射层上而含有形成胆甾型构造的棒状化合物的补充选择反射层。本发明中可以使用1层或层叠多层地使用这种补充选择反射层。
上述补充选择反射层中所用的棒状化合物只要是可以形成胆甾型构造的棒状化合物,就没有特别限定,优选与第一选择反射层及第二选择反射层中所用的化合物同样,也使用由上述结构式(I)表示的棒状化合物。另外,在补充选择反射层中也可以根据需要含有手性剂、调平剂。对于补充选择反射层中所用的手性剂、调平剂,可以使用与上述第二选择反射层中所用的第二手性剂、第二调平剂相同的材料。
4.电磁波反射膜
本发明的电磁波反射膜具有如下的功能,即,与第一选择反射层及第二选择反射层中的胆甾型构造的回旋性对应地反射特定波长区域的右圆偏振光成分或左圆偏振光成分的电磁波。这里,形成胆甾型构造的棒状化合物具有选择性反射沿着平面排列的螺旋轴入射的光(电磁波)的右旋及左旋的两个圆偏振光当中的一方的偏振光的性质,此时的最大旋光偏振光光散射在下述式(1):
λ=nav·p (1)
中在选择波长λ处产生。而且,式(1)中,nav是与螺旋轴正交的平面内的平均折射率,p是棒状化合物的螺旋结构中的螺距。
另外,反射波长的频带宽度Δλ由下述式(2):
Δλ=Δn·p (2)
表示。而且,式(2)中,Δn是棒状化合物的双折射率。如这些式中所示,含有形成了胆甾型构造的棒状化合物的选择反射层将以选择波长λ为中心的波长频带宽度Δλ的范围的光(电磁波)的右旋或左旋的圆偏振光成分中的一方反射,使另一方的圆偏振光成分和其他的波长区域的非偏振光的光(电磁波)透过。所以,通过在本发明的电磁波反射膜中适当地控制棒状化合物的p,就可以反射所需的电磁波。
本发明的电磁波反射膜优选在红外区域(λ=800nm以上的区域)具有反射峰。这是因为,这样就可以制成在车辆用的热线反射玻璃、建筑用的热线反射玻璃、太阳能电池用的热线反射膜等中有用的红外线反射膜。
其中,本发明的电磁波反射膜优选至少具有与地面处的太阳光光谱的红外区域中包含位于最短波长侧的峰的第一辐射能量波段对应的第一反射波段,特别是在将上述第一反射波段中的最大反射率设为R1、将达到上述R1的半值的反射率的短波长侧的波长设为λ1的情况下,上述λ1优选处于900nm~1010nm的范围内(第一实施方式)。这是因为,可以有效地反射第一辐射能量波段中所含的红外线。此种第一实施方式的电磁波反射膜可以通过如下设置来获得,即,将上述第一选择反射层及第二选择反射层分别设为具有上述第一反射波段的层,使第一选择反射层可以选择反射右旋圆偏振光,第二选择反射层可以选择反射左旋圆偏振光,或者与之相反,使第一选择反射层可以选择反射左旋圆偏振光,第二选择反射层可以选择反射右旋圆偏振光。
在参照附图的同时,对此种第一实施方式的电磁波反射膜的反射波段进行说明。图3是地面处的太阳光光谱。该“地面处的太阳光光谱”显示出温带的地面处的平均的太阳光的辐射能量(Wm-2/nm)的分布(AM1.5G)。而且,在地球轨道上的太阳光光谱(AM0)中,辐射能量的分布十分平缓,然而辐射能量因大气中的反射、散射、吸收等而衰减。其结果是,地面处可以得到如图3所示的太阳光光谱。而且,本说明书中,有时将“地面处的太阳光光谱”简称为“太阳光光谱”。
图4是表示第一实施方式的电磁波反射膜的反射波段的一例的图。如图4中例示所示,第一实施方式的电磁波反射膜具有与地面处的太阳光光谱的红外区域中包含位于最短波长侧的峰的第一辐射能量波段21对应的第一反射波段31。第一辐射能量波段21通常在接近波长1010nm处具有峰,其波长范围为950nm~1150nm。第一反射波段31的提供最大反射率R1的波长处于第一辐射能量波段21的波长范围内。在第一实施方式中,在将达到最大反射率R1的半值(1/2R1)的反射率的短波长侧的波长设为λ1的情况下,λ1优选处于900nm~1010nm的范围内。
这里,λ1的上限优选为1010nm的理由如下。即,太阳光光谱的第一辐射能量波段的峰值波长接近1010nm,在该峰值波长的附近,红外线的能量密度变大。所以,为了有效地反射第一辐射能量波段的峰值波长近傍的红外线,优选至少达到最大反射率R1的半值的λ1为第一辐射能量波段的峰值波长以下。
此外,第一实施方式中λ1的上限优选为970nm,更优选为960nm,进一步优选为950nm。λ1的上限更优选为950nm的理由如下。即,在将太阳光光谱的第一辐射能量波段中的峰强度设为RS1、将达到该RS1的半值的强度的短波长侧的太阳光光谱波长设为λS1的情况下,λS1接近950nm。由此,通过以满足λ1≤λS1的关系的方式设定λ1的值,第一反射波段就可以在第一辐射能量波段中大致覆盖红外线的能量密度大的部分。由此,可以更为有效地进行红外线的反射。
另一方面,λ1的下限优选为900nm的理由如下。即,由于λ1是R1的半值的反射率的波长,因此第一反射波段在与λ1相比为短波长侧具有平缓的反射区域。该平缓的反射区域的波长范围在现行的材料体系中最大估计为100nm左右。由此,如果λ1的下限小于900nm,则平缓的反射区域中的最短的波长就会小于800nm,有可能到达可见光区域。在该情况下,本发明的电磁波反射膜就会发红,穿过电磁波反射膜的可见性有可能降低。由此,λ1的下限优选为900nm。
另外,在第一实施方式中如图4所示,在将第一反射波段31中的最大反射率设为R1、将达到R1的半值(1/2R1)的反射率的长波长侧的波长设为λ2的情况下,λ2的波长范围优选为1010nm~1210nm的范围内。此外,λ2的下限优选为1050nm,更优选为1080nm,进一步优选为1090nm。λ2的下限更优选为1090nm的理由如下。即,在将太阳光光谱的第一辐射能量波段中的峰强度设为RS1、将达到该RS1的半值的强度的长波长侧的太阳光光谱波长设为λS2的情况下,λS2通常接近1090nm。由此,优选以满足λS2≤λ2的关系的方式设定λ2的值。另一方面,λ2的上限优选为1150nm。
另外,第一反射波段的峰值波长的位置没有特别限定,然而优选处于第一辐射能量波段的峰值波长的附近,例如处于900nm~1150nm的范围内,其中优选处于950nm~1100nm的范围内。另外,λ1及λ2的间隔(λ2-λ1)例如处于50nm~200nm的范围内,其中优选处于100nm~200nm的范围内。
另外,本发明的电磁波反射膜如图5所示,优选除了上述第一反射波段31以外,还具有第二反射波段32(第二实施方式)。此种第二实施方式的电磁波反射膜可以通过如下设置来获得,即,将第一选择反射层设为具有第一反射波段的层,将第二选择反射层设为具有第二反射波段的层,或者与之相反,将第一选择反射层设为具有第二反射波段的层,将第二选择反射层设为具有第一反射波段的层。而且,图5中,为了方便,独立地记载第一反射波段31及第二反射波段32,然而实际上,在两者重复的部分计测相加后的反射率。另外,第二反射波段32是与地面处的太阳光光谱的红外区域中包含位于第二短波长侧的峰的第二辐射能量波段22对应的波段。第二辐射能量波段22通常在接近波长1250nm处具有峰,其波长范围为1150nm~1370nm。第二反射波段32的提供最大反射率R2的波长是指处于第二辐射能量波段22的波长范围内的波长。在第二实施方式中,在将达到最大反射率R2的半值(1/2R2)的反射率的长波长侧的波长设为λ4的情况下,λ4优选处于1250nm~1450nm的范围内。
这里,λ4的下限优选为1250nm的理由如下。即,太阳光光谱的第二辐射能量波段的峰值波长接近1250nm,在该峰值波长的附近,红外线的能量密度变大。所以,为了有效地反射第二辐射能量波段的峰值波长附近的红外线,优选至少达到最大反射率R2的半值的λ4为第二辐射能量波段的峰值波长以上。由此,λ4的下限优选为1250nm。
此外,λ4的下限优选为1330nm。其理由如下。即,在将太阳光光谱的第二辐射能量波段中的峰强度设为RS2、将达到该RS2的半值的强度的长波长侧的太阳光光谱波长设为λS4的情况下,λS4接近1330nm。由此,通过以满足λS4≤λ4的关系的方式设定λ4的值,第二反射波段就可以在第二辐射能量波段中将红外线的能量密度大的部分大致覆盖。由此,就可以更为有效地进行红外线的反射。
另一方面,λ4的上限优选为1450nm的理由如下。即,如上所述,在一个选择反射层中,λ1及λ2的间隔(λ2-λ1)最大为200nm左右。而且,λ3是达到R2的半值(1/2R2)的反射率的短波长侧的波长。另一方面,在考虑到太阳光光谱的第二辐射能量波段的峰接近1250nm的情况下,如果使λ4大于1450nm,则λ3就会大于1250nm,第二反射波段就无法在第二辐射能量波段中将红外线的能量密度大的部分大致覆盖。由此,λ4的上限优选为1450nm。另外,为了使第二反射波段将第二辐射能量波段更为有效地覆盖,λ4的上限更优选为1400nm。
另外,λ3的波长范围没有特别限定,然而例如优选为1050nm~1250nm的范围内,更优选为1050nm~1200nm的范围内。另外,在将太阳光光谱的第二辐射能量波段中的峰强度设为RS2、将达到该RS2的半值的强度的短波长侧的太阳光光谱波长设为λS3的情况下,λS3通常接近1150nm。由此,优选以满足λ3≤λS3的关系的方式设定λ3的值。由此,λ3优选处于1050nm~1150nm的范围内。另外,为了使第二反射波段将第二辐射能量波段更加有效地覆盖,λ3更优选处于1100nm~1150nm的范围内。
另外,第二反射波段的峰值波长的位置没有特别限定,然而优选处于第二辐射能量波段的峰值波长的附近,例如处于1175nm~1325nm的范围内,其中优选处于1225nm~1275nm的范围内。另外,对于λ3及λ4的间隔(λ4-λ3),与上述的λ1及λ2的间隔(λ2-λ1)相同。
5.电磁波反射膜的制造方法
本发明的电磁波反射膜例如可以利用上述“A.电磁波反射膜的制造方法”一项中说明的本发明的电磁波反射膜的制造方法来制造。
而且,本发明并不受上述实施方式限定。上述实施方式是例示性的,具有与本发明的技术方案的范围中记载的技术思想实质上相同的构成、起到相同的作用效果的实施方式无论在何种情况下都包含于本发明的技术范围中。
实施例
以下,使用实施例对本发明进行更具体的说明。而且,后述的“份”只要没有特别指出,就是指“重量份”。
[实施例1]
作为透明基板,准备了由聚对苯二甲酸乙二醇酯构成的双轴拉伸薄膜。然后,准备溶解有在两个末端具有可以聚合的丙烯酸酯并且在中央部的液晶原与上述丙烯酸酯之间具有间隔基的液晶性单体分子OPT-01(DNP FineChemical福岛制)(下述结构式(I))97.4份、和在两侧的末端具有可以聚合的丙烯酸酯的手性剂(右旋性、Paliocolor(注册商标)LC756(BASF公司制))2.6份的环己酮溶液。而且,在上述环己酮溶液中,相对于上述液晶性单体分子添加有5.0重量%的光聚合引发剂(Irgacure 184)和调平剂(BYK-361N)0.06重量%(固体成分30重量%)。将其作为第一选择反射层形成用涂布液。
[化8]
然后,准备溶解有在两个末端具有可以聚合的丙烯酸酯并且在中央部的液晶原与上述丙烯酸酯之间具有间隔基的液晶性单体分子OPT-01(DNP FineChemical福岛制)(上述结构式(I))97.9份、在两侧的末端具有可以聚合的丙烯酸酯的手性剂(右旋性、Paliocolor(注册商标)LC756(BASF公司制))2.1份的环己酮溶液。而且,在上述环己酮溶液中,相对于上述液晶性单体分子添加有5.0重量%的光聚合引发剂(Irgacure 184)和调平剂(BYK-361N)0.06重量%(固体成分30重量%)。将其作为第二选择反射层形成用涂布液。
其后,在上述的双轴拉伸薄膜上,不夹隔取向膜地用棒涂机涂布上述第一选择反射层形成用涂布液。然后,在100℃下保持2分钟,使第一选择反射层形成用涂布液中的环己酮蒸发,使液晶性单体分子取向,得到右旋性涂膜(第一选择反射层形成用层)。此后,对所得的第一选择反射层形成用层使用紫外线照射装置(Fusion公司制、H型灯、以下相同)照射50mJ/cm2(照射量测定是利用ORC制作所公司制、UV-351测定,以下相同)的紫外线,通过将利用从第一选择反射层形成用层中的光聚合引发剂中产生的自由基取向的液晶性单体分子的丙烯酸酯及手性剂的丙烯酸酯三维交联而聚合物化,在双轴拉伸薄膜上将胆甾型构造固定化,从而形成第一选择反射层(膜厚5μm)。此时,第一选择反射层表面与纯水的接触角为77.1°,维氏硬度为12.7。
再在上述第一选择反射层上用棒涂机涂布上述第二选择反射层形成用涂布液。然后,在100℃保持2分钟,使第二选择反射层形成用涂布液中的环己酮蒸发,使液晶性单体分子取向,从而得到右旋性涂膜(第二选择反射层形成用层)。此后,对所得的第二选择反射层形成用层使用紫外线照射装置照射800mJ/cm2的紫外线,通过将利用从第二选择反射层形成用层中的光聚合引发剂中产生的自由基取向的液晶性单体分子的丙烯酸酯及手性剂的丙烯酸酯三维交联而聚合物化,将胆甾型构造固定化,从而形成第二选择反射层(膜厚5μm)。这样,就得到电磁波反射膜1。
[实施例2]
准备了溶解有在两末端具有可以聚合的丙烯酸酯并且在中央部的液晶原(mesogen)与上述丙烯酸酯之间具有间隔基的液晶性单体分子OPT-01(DNP FineChemical福岛制)(上述结构式(I))96.0份、和在两侧的末端具有可以聚合的丙烯酸酯的手性剂(左旋性、CNL-716(ADEKA社制))4.0份的环己酮溶液。而且,在上述环己酮溶液中,相对于上述液晶性单体分子添加有5.0重量%的光聚合引发剂(Irgacure184)和0.06重量%的调平剂(BYK-361N)(固体成分30重量%)。将其作为第二选择反射层形成用涂布液。此后,除了使用此种第二选择反射层形成用涂布液以外,利用与实施例1相同的方法得到电磁波反射膜2。
而且,第一选择反射层表面与纯水的接触角为78.7°,维氏硬度为13.1。
[比较例1]
除了将对第一选择反射层形成用层的紫外线照射量设为1600mJ/cm2以外,利用与实施例1相同的方法得到电磁波反射膜3。
[比较例2]
除了将对第一选择反射层形成用层的紫外线照射量设为1600mJ/cm2以外,利用与实施例2相同的方法得到电磁波反射膜4。
[评价]
对实施例1、2及比较例1、2中制作的电磁波反射膜1~4测定了第二选择反射层的正反射率。将其结果表示于图6中。图6(a)是表示有关实施例1及比较例1的测定结果的曲线图,图6(b)是表示有关实施例2及比较例2的测定结果的曲线图。另外,对实施例1、2及比较例1、2中制作的电磁波反射膜1~4测定了雾度,其结果是,电磁波反射膜1(实施例1)为0.8%,电磁波反射膜2(实施例2)为0.9%,电磁波反射膜3(比较例1)为1.7%,此外电磁波反射膜4(比较例2)为2.0%。而且,雾度是依照JIS K7136、以村上色彩研究所制HM-150作为测定装置使用而测定的。
Claims (4)
1.一种电磁波反射膜的制造方法,其特征在于,
具有:
第一选择反射层形成工序,使用透明基板,在所述透明基板上涂布含有由下述结构式(I)表示的棒状化合物、对所述棒状化合物赋予回旋性的第一手性剂、及第一调平剂的第一选择反射层形成用涂布液,从而形成第一选择反射层形成用层,通过对所述第一选择反射层形成用层照射25mJ/cm2~800mJ/cm2的范围的紫外线而形成第一选择反射层;
第二选择反射层形成工序,使用含有由下述结构式(I)表示的棒状化合物、对所述棒状化合物赋予回旋性的第二手性剂、及第二调平剂的第二选择反射层形成用涂布液,在所述第一选择反射层上直接相接地涂布所述第二选择反射层形成用涂布液而形成第二选择反射层形成用层,通过对所述第二选择反射层形成用层照射紫外线而形成第二选择反射层,
[化1]
2.根据权利要求1所述的电磁波反射膜的制造方法,其特征在于,
所述第一选择反射层的表面与纯水的接触角为65~85度的范围内。
3.根据权利要求1或2所述的电磁波反射膜的制造方法,其特征在于,
所述第一选择反射层的表面的维氏硬度为5~25的范围内。
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2010167351 | 2010-07-26 | ||
JP2010-167351 | 2010-07-26 | ||
PCT/JP2011/061389 WO2012014552A1 (ja) | 2010-07-26 | 2011-05-18 | 電磁波反射フィルムおよびその製造方法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
CN102959437A true CN102959437A (zh) | 2013-03-06 |
Family
ID=45529775
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
CN2011800317181A Pending CN102959437A (zh) | 2010-07-26 | 2011-05-18 | 电磁波反射膜及其制造方法 |
Country Status (6)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US8968836B2 (zh) |
EP (1) | EP2600179A1 (zh) |
JP (1) | JP5700045B2 (zh) |
KR (1) | KR20130132737A (zh) |
CN (1) | CN102959437A (zh) |
WO (1) | WO2012014552A1 (zh) |
Families Citing this family (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP6166977B2 (ja) * | 2013-06-21 | 2017-07-19 | 富士フイルム株式会社 | 円偏光フィルターおよびその応用 |
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KR20190008183A (ko) * | 2016-05-24 | 2019-01-23 | 다이니폰 인사츠 가부시키가이샤 | 조광 장치 |
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-
2011
- 2011-05-18 KR KR1020137002087A patent/KR20130132737A/ko not_active Application Discontinuation
- 2011-05-18 WO PCT/JP2011/061389 patent/WO2012014552A1/ja active Application Filing
- 2011-05-18 CN CN2011800317181A patent/CN102959437A/zh active Pending
- 2011-05-18 EP EP11812147.4A patent/EP2600179A1/en not_active Withdrawn
- 2011-05-18 JP JP2012526357A patent/JP5700045B2/ja active Active
- 2011-05-18 US US13/807,144 patent/US8968836B2/en active Active
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Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPWO2012014552A1 (ja) | 2013-09-12 |
EP2600179A1 (en) | 2013-06-05 |
US20130107193A1 (en) | 2013-05-02 |
US8968836B2 (en) | 2015-03-03 |
KR20130132737A (ko) | 2013-12-05 |
WO2012014552A1 (ja) | 2012-02-02 |
JP5700045B2 (ja) | 2015-04-15 |
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C06 | Publication | ||
PB01 | Publication | ||
C10 | Entry into substantive examination | ||
SE01 | Entry into force of request for substantive examination | ||
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WD01 | Invention patent application deemed withdrawn after publication |
Application publication date: 20130306 |