CN102898039A - 影院用易清洁镀膜窗口玻璃及其制作方法 - Google Patents

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Abstract

本发明属影院放映设施领域，具体涉及一种电影放映窗口用易清洁镀膜窗口玻璃及其制作方法，包括浮法玻璃（1）；在浮法玻璃（1）的上下两面设有过渡层（2）；在过渡层（2）上依次设有缓冲层（3）及易清洁薄膜（4）；制作方法包括：a、对浮法玻璃基底进行刻蚀；b、用钼舟蒸镀MgF2增透薄膜；c、MgF2增透薄膜蒸镀完毕后，蒸镀SiO2薄膜缓冲层；d、待真空室温度冷却到80℃左右时，同时钼舟热蒸发，在SiO2薄膜缓冲层的表面沉积易清洁薄膜；e、待真空室冷却至室温，开启真空室门，将镀制完的浮法玻璃反面，重复a～d步骤接续完成第二面的镀制。本发明最终产品维护方便，易于擦拭，不易留下水及污物痕迹。

Description

影院用易清洁镀膜窗口玻璃及其制作方法
技术领域
本发明属影院放映设施领域，具体涉及一种电影放映窗口用易清洁镀膜窗口玻璃及其制作方法。 
背景技术
电影放映窗口玻璃安装于影院观众厅和电影放映机房之间，电影放映窗口玻璃的品质高低，直接的影响了影院放映的画面质量及透光效率。 
以往的电影放映窗口玻璃大多采用以浮法玻璃为基底，双面镀制单层氟化镁增透膜，工艺尺寸多为250mm×300mm。但这种窗口玻璃的最大缺陷是不耐擦洗清洁，使用寿命短，因为氟化镁膜层的牢固度较差，在使用过程中会氧化，潮解脱落，降低光线透过率。所以在使用维护过程中要非常小心，且更换频率高，增加了使用成本。而电影院为公共场所，人员流动大，所以电影放映窗口表面极易被外界灰尘及潮气污物污染，因此为了保证影院放映的画面质量，长期保持窗口玻璃表面的清洁度是很有必要的。目前尚无此类易清洁窗口玻璃的相关报道。 
发明内容
本发明旨在克服现有技术的不足之处而提供一种维护方便，易于擦拭，不易留下水及污物痕迹的影院用易清洁镀膜窗口玻璃。 
本发明还提供一种上述影院用易清洁镀膜窗口玻璃的制作方法。 
为解决上述技术问题，本发明是这样实现的。 
一种影院用易清洁镀膜窗口玻璃，它包括浮法玻璃；在所述浮法玻璃的上下两面设有过渡层；在所述过渡层上依次设有缓冲层及易清洁薄膜。 
作为一种优选方案，本发明所述缓冲层可选择SiO2薄膜。 
作为另一种优选方案，本发明所述过渡层可选择MgF2增透薄膜。 
进一步地，本发明所述易清洁薄膜可选择醋酸纤维素、聚芳酰胺、PVC及PVC聚丙烯腈共聚物中的一种。 
更进一步地，本发明所述浮法玻璃的厚度可选择3～5mm。 
另外，本发明所述缓冲层的厚度可选择15～20nm。 
其次，本发明所述过渡层的厚度可选择95～110nm。 
再次，本发明所述易清洁薄膜的厚度可选择20～30nm。 
上述易清洁薄膜使窗口玻璃的制作方法，可按如下步骤依次实施。 
a、将镀膜机的温控表设定为200℃，开启烘烤加热；当抽至高真空时打开霍尔离子源，离子轰击10min，对浮法玻璃基底进行刻蚀。 
b、待蚀刻完毕后，将卡具转动调制最高转速，用钼舟蒸镀MgF2增透薄膜，厚度设定为95～110nm，速率设定为8?/S。 
c、MgF2增透薄膜蒸镀完毕后，使用e型电子枪蒸镀15～20nm的SiO2薄膜缓冲层，速率设定为5 ?/S。 
d、待真空室温度冷却到80℃左右时，同时钼舟热蒸发，在SiO2薄膜缓冲层的表面沉积一层厚度为20～30nm的易清洁薄膜；速率设定为8 ?/S。 
e、待真空室冷却至室温，开启真空室门，将镀制完的浮法玻璃反面，重复a～d步骤接续完成第二面的镀制。 
电影院为公共场所，人员流动大，所以电影放映窗口表面极易被外界灰尘及潮气污物污染，因此为了保证影院放映的画面质量，长期保持窗口玻璃表面的清洁度是很有必要的。本发明易清洁薄膜是一种具有疏水特性的薄膜，易清洁薄膜使水、尘等脏污与窗口玻璃的接触面积变小，接触角呈110度左右，使其不易粘附于窗口玻璃表面，所以窗口玻璃表面更加光洁，使其具有水、灰尘、指纹等易清洁的功能。 
本发明采用的易清洁薄膜使窗口玻璃维护更加简单方便，膜层基于良好的疏水性，粘附在窗口玻璃表面的灰尘和污物极易用水擦拭，较易去除表面污物不易留下水及污物痕迹，使用维护清洁方便。 
附图说明
下面结合附图和具体实施方式对本发明作进一步说明。本发明的保护范围不仅局限于下列内容的表述。 
图1为本发明影院用易清洁镀膜窗口玻璃的整体结构示意图。 
图2为本发明最终成品的透过率光谱曲线图。 
图中：1、浮法玻璃；2、过渡层；3、缓冲层；4、易清洁薄膜。 
具体实施方式
实施例1。
如图1所示，影院用易清洁镀膜窗口玻璃，它包括浮法玻璃1；在所述浮法玻璃1的上下两面设有过渡层2；在所述过渡层2上依次设有缓冲层3及易清洁薄膜4。本发明所述缓冲层3选择SiO2薄膜。本发明所述过渡层2选择MgF2增透薄膜。本发明所述易清洁薄膜4选择醋酸纤维素层。本发明所述浮法玻璃1的厚度选择3mm。本发明所述缓冲层3的厚度选择15nm。本发明所述过渡层2的厚度选择95nm。本发明所述易清洁薄膜4的厚度选择20nm。 
本发明浮法玻璃的上表面为MgF2增透薄膜；MgF2增透薄膜的上表面为缓冲层3；缓冲层的上表面为易清洁薄膜4；所述缓冲层为SiO2薄膜，所述MgF2增透薄膜为低折射率增透薄膜，所述易清洁薄膜为疏水性的有机高分子聚合物，可选择醋酸纤维素、聚芳酰胺、PVC及PVC聚丙烯腈共聚物中的一种。因易清洁薄膜蒸镀厚度非常薄，所以不会改变MgF2增透层的光学性能。 
上述影院用易清洁镀膜窗口玻璃的制作方法，可按如下步骤依次实施。 
a、将镀膜机的温控表设定为200℃，开启烘烤加热；当抽至高真空时打开霍尔离子源，离子轰击10min，对浮法玻璃基底进行刻蚀，起到活化基底表面和清洗的作用。 
b、待蚀刻完毕后，将卡具转动调制最高转速，用钼舟蒸镀MgF2增透薄膜，厚度设定为95nm，速率设定为8?/S。 
c、MgF2增透薄膜蒸镀完毕后，使用e型电子枪蒸镀15nm的SiO2薄膜缓冲层，速率设定为5 ?/S。 
d、待真空室温度冷却到80℃左右时，同时钼舟热蒸发，在SiO2薄膜缓冲层的表面沉积一层厚度为20nm的易清洁薄膜；速率设定为8 ?/S。 
e、待真空室冷却至室温，开启真空室门，将镀制完的浮法玻璃反面，重复a～d步骤接续完成第二面的镀制。 
参见图2所示，图2是最终成品的透过率光谱曲线图，400-700nm平均透过率96%以上。 
实施例2。
如图1所示，影院用易清洁镀膜窗口玻璃，它包括浮法玻璃1；在所述浮法玻璃1的上下两面设有过渡层2；在所述过渡层2上依次设有缓冲层3及易清洁薄膜4。本发明所述缓冲层3选择SiO2薄膜。本发明所述过渡层2选择MgF2增透薄膜。本发明所述易清洁薄膜4选择PVC聚丙烯腈共聚物。本发明所述浮法玻璃1的厚度选择5mm。本发明所述缓冲层3的厚度选择20nm。本发明所述过渡层2的厚度选择110nm。本发明所述易清洁薄膜4的厚度选择30nm。 
上述影院用易清洁镀膜窗口玻璃的制作方法，可按如下步骤依次实施。 
a、将镀膜机的温控表设定为200℃，开启烘烤加热；当抽至高真空时打开霍尔离子源，离子轰击10min，对浮法玻璃基底进行刻蚀，起到活化基底表面和清洗的作用。 
b、待蚀刻完毕后，将卡具转动调制最高转速，用钼舟蒸镀MgF2增透薄膜，厚度设定为110nm，速率设定为8?/S。 
c、MgF2增透薄膜蒸镀完毕后，使用e型电子枪蒸镀20nm的SiO2薄膜缓冲层，速率设定为5 ?/S。 
d、待真空室温度冷却到80℃左右时，同时钼舟热蒸发，在SiO2薄膜缓冲层的表面沉积一层厚度为30nm的易清洁薄膜；速率设定为8 ?/S。 
e、待真空室冷却至室温，开启真空室门，将镀制完的浮法玻璃反面，重复a～d步骤接续完成第二面的镀制。 
以上所述仅为本发明的优选实施例而已，并不用于限制本发明，对于本领域的技术人员来说，本发明可以有各种更改和变化。凡在本发明的精神和原则之内，所作的任何修改、等同替换、改进等，均应包含在本发明的保护范围之内。 

Claims (9)

1.一种影院用易清洁镀膜窗口玻璃，包括浮法玻璃（1）；其特征在于，在所述浮法玻璃（1）的上下两面设有过渡层（2）；在所述过渡层（2）上依次设有缓冲层（3）及易清洁薄膜（4）。
2.根据权利要求1所述的影院用易清洁镀膜窗口玻璃，其特征在于：所述缓冲层（3）为SiO2薄膜。
3.根据权利要求2所述的影院用易清洁镀膜窗口玻璃，其特征在于：所述过渡层（2）为MgF2增透薄膜。
4.根据权利要求3所述的影院用易清洁镀膜窗口玻璃，其特征在于：所述易清洁薄膜（4）为醋酸纤维素、聚芳酰胺、PVC及PVC聚丙烯腈共聚物中的一种。
5.根据权利要求1～4之任一所述的影院用易清洁镀膜窗口玻璃，其特征在于：所述浮法玻璃（1）的厚度为3～5mm。
6.根据权利要求5所述的影院用易清洁镀膜窗口玻璃，其特征在于：所述缓冲层（3）的厚度为15～20nm。
7.根据权利要求6所述的影院用易清洁镀膜窗口玻璃，其特征在于：所述过渡层（2）的厚度为95～110nm。
8.根据权利要求7所述的影院用易清洁镀膜窗口玻璃，其特征在于：所述易清洁薄膜（4）的厚度为20～30nm。
9.一种权利要求1～4之任一所述影院用易清洁镀膜窗口玻璃的制作方法，其特征在于，按如下步骤依次实施：
a、将镀膜机的温控表设定为200℃，开启烘烤加热；当抽至高真空时打开霍尔离子源，离子轰击10min，对浮法玻璃基底进行刻蚀；
b、待蚀刻完毕后，将卡具转动调制最高转速，用钼舟蒸镀MgF2增透薄膜，厚度设定为95～110nm，速率设定为8?/S；
c、MgF2增透薄膜蒸镀完毕后，使用e型电子枪蒸镀15～20nm的SiO2薄膜缓冲层，速率设定为5 ?/S； 
d、待真空室温度冷却到80℃左右时，同时钼舟热蒸发，在SiO2薄膜缓冲层的表面沉积一层厚度为20～30nm的易清洁薄膜；速率设定为8 ?/S；
e、待真空室冷却至室温，开启真空室门，将镀制完的浮法玻璃反面，重复a～d步骤接续完成第二面的镀制。
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