CN102897534B - 真空连续沉浸机的真空浸渍装置 - Google Patents

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Abstract

本发明公开了一种密封效果好的真空连续沉浸机的真空浸渍装置,包括真空浸渍缸和两条相互平行的循环链,所述循环链安装于机壳内部,两条循环链对应的链轴之间连接有悬挂轴,该真空浸渍缸位于循环链下方的浸渍工位,且该真空浸渍缸由升降装置驱动升降,所述真空浸渍装置还包括若干个缸盖,该缸盖通过悬挂装置间隔均匀的悬挂于循环链的各悬挂轴上,所述缸盖的下端安装有待浸渍工件,所述真空浸渍缸的上端法兰上安装有与缸盖下端面密封配合的密封装置,所述真空浸渍缸与抽真空装置连接,在浸渍工位处位于下段循环链的上方安装有限制缸盖上移的缸盖定位支撑装置。

Description

真空连续沉浸机的真空浸渍装置
技术领域
本发明涉及一种真空浸渍装置,特别是指一种真空连续沉浸机的真空浸渍装置。
背景技术
对于电机线圈、铁芯、变压器等工件需要浸渍和烘干处理,这主要利用到真空连续沉浸机,而专利号为ZL99228572.0的专利公开了一种真空连续沉浸机的真空浸渍装置,主要结构包括机壳、设置于机壳内的两条平行的循环链,两条循环链之间一定间距的均匀间隔的悬挂有吊篮,吊篮内可放置待浸渍工件,在机壳内,位于下段的循环链的下方的设一浸渍工位,该工位上安装一浸渍槽,浸渍槽由升降装置驱动升降,吊篮上侧设有一真空盖板,升降装置驱动浸渍槽上升后浸渍槽的上端与真空盖板密封配合。然这种结构中,由于真空盖板是安装在吊篮的竖直杆上,竖直杆需要从真空盖板伸出安装在链条上,因此,真空盖板与竖直杆之间的密封难以控制。另外,由于链条是软结构,因此,浸渍槽上升时顶住真空盖板的力不能太大,因此,同样影响了浸渍槽与真空盖板之间的密封。
发明内容
本发明所要解决的技术问题是:提供一种密封效果好的真空连续沉浸机的真空浸渍装置。
为解决上述技术问题,本发明的技术方案是:一种真空连续沉浸机的真空浸渍装置,包括真空浸渍缸和两条相互平行的循环链,所述循环链安装于机壳内部,两条循环链对应的链轴之间连接有悬挂轴,该真空浸渍缸位于循环链下方的浸渍工位,且该真空浸渍缸由升降装置驱动,所述真空浸渍装置还包括若干个缸盖,该缸盖通过悬挂装置间隔均匀的悬挂于循环链的各悬挂轴上,所述缸盖的下端安装有待浸渍工件,所述真空浸渍缸的上端法兰上安装有与缸盖下端面密封配合的密封装置,所述真空浸渍缸与抽真空装置连接,在浸渍工位处位于下段循环链的上方安装有限制缸盖上移的缸盖定位支撑装置。
作为一种优选的方案,所述缸盖定位支撑装置包括固定于机壳上的支撑梁,该支撑梁可与悬挂装置配合定位支撑。
作为一种优选的方案,所述悬挂装置包括沿悬挂轴轴向设置的若干个挂钩,该挂钩的下端与缸盖固定连接,所述支撑梁上设有分别与各挂钩上端部一一对应配合的定位支撑块。
作为一种优选的方案,所述缸盖定位支撑装置包括固定于机壳上的支撑梁,对应的,所述缸盖的上端设有与支撑梁顶紧限位的顶块。
作为一种优选的方案,所述升降装置为液压升降平台。
作为一种优选的方案,所述密封装置包括设置于真空浸渍缸的上端法兰上的密封垫,该密封垫与缸盖的下端面配合密封。
作为一种优选的方案,所述待浸渍工件通过挂钩或者悬挂吊篮安装于缸盖上。
采用了上述技术方案后,本发明的效果是:由于所述真空浸渍装置还包括若干个缸盖,该缸盖通过悬挂装置间隔均匀的悬挂于循环链的各悬挂轴上,所述缸盖的下端安装有待浸渍工件,所述真空浸渍缸的上端法兰上安装有与缸盖下端面密封配合的密封装置,所述真空浸渍缸与抽真空装置连接,在浸渍工位处位于下段循环链的上方安装有限制缸盖上移的缸盖定位支撑装置,因此,利用缸盖直接悬挂在悬挂轴上,升降装置驱动真空浸渍缸上升,当真空浸渍缸的上端法兰顶着缸盖时则带动缸盖以及悬挂装置一起继续上升,最终由缸盖定位支撑装置定位,这时,真空浸渍缸和缸盖之间在升降装置和缸盖定位支撑装置之间压紧密封,其压紧力可比较大,并且只需考虑缸盖和真空浸渍缸上端法兰之间的密封,而无其他须密封的密封部位,因此,密封效果好,从而使真空连续沉浸机的真空浸渍装置工作的可靠性高。
附图说明
下面结合附图和实施例对本发明进一步说明。
图1是本发明实施例的正面局部结构示意图;
图2是本发明实施例的未沉浸状态的侧面结构示意图;
图3是本发明实施例的沉浸状态时的侧面结构示意图;
附图中:1.机壳;2.升降装置;21.支撑杆;22.升降板;23.升降油缸;3.真空浸渍;4.缸盖;5.挂钩;6.支撑梁;7.定位支撑块;8.循环链;9.吊篮;10.待浸渍工件;11.密封装置;12.悬挂轴。
具体实施方式
下面通过具体实施例对本发明作进一步的详细描述。
如图1至图3所示,一种真空连续沉浸机的真空浸渍装置,包括真空浸渍缸3和两条相互平行的循环链8,所述循环链8安装于机壳1内部,由电机带动在机壳1内循环运动,两条循环链8对应的链轴之间连接有悬挂轴12,也就是说,悬挂轴12的两端可以作为链轴,也可以悬挂轴12与链轴分体,本实施例中悬挂轴12是作为循环链8的链轴,该真空浸渍缸3位于循环链8下方的浸渍工位,且该真空浸渍缸3由升降装置2驱动,其中,所述升降装置2为液压升降平台。该液压升降平台包括底板、升降板22、升降架和升降油缸23,该底板和升降板22之间铰接有两组升降架,每组升降架包括两根中部铰接的支撑杆21,该支撑杆21的两端分别铰接在底板和升降板22上,升降油缸23的一端铰接在底板上,另一端铰接在支撑杆21上。升降油缸23的活塞杆动作时驱动支撑杆21绕中部铰接点转动,从而带动升降板22上升或下降。当然,该升降装置2还可以是其他结构,如升降链条在减速器的驱动下可带动升降板22升降。
所述真空浸渍装置还包括若干个缸盖4,该缸盖4通过悬挂装置按照固定间距间隔均匀的悬挂于循环链8的各悬挂轴12上,所述缸盖4的下端安装有待浸渍工件10,所述真空浸渍缸3的上端法兰上安装有与缸盖4下端面密封配合的密封装置11,所述真空浸渍缸3与抽真空装置连接,在浸渍工位处位于下段循环链8的上方安装有限制缸盖4上移的缸盖定位支撑装置。所述缸盖定位支撑装置包括固定于机壳1上的支撑梁6,该支撑梁6可与悬挂装置配合。所述悬挂装置包括沿悬挂轴12轴向设置的若干个挂钩5,该挂钩5的下端与缸盖4固定连接,所述支撑梁6上设有分别与各挂钩5上端部一一对应配合的定位支撑块7,缸盖4与挂钩5可同步升降或下降,由于采用了定位支撑块7,因此支撑梁6的高度相对设置较高,因此就有足够的空间使循环链8等内部部件通过。
当然,所述缸盖定位支撑装置还可以是其他结构,如包括固定于机壳1上的支撑梁6,对应的,所述缸盖4的上端设有与支撑梁6顶紧限位的顶块,也就是说缸盖4上的悬挂装置只起到悬挂的作用,而由缸盖4上端的顶块与支撑梁配合顶紧支撑定位。
所述密封装置11包括设置于真空浸渍缸3的上端法兰上的密封垫,该密封垫与缸盖4的下端面配合密封。
其中,根据待浸渍工件10的本身的结构和形状,所述待浸渍工件10通过挂钩5或者悬挂吊篮9安装于缸盖4上。也就是说待浸渍工件10如果本身无法设置挂过,那么可以在缸盖4的下端安装吊篮9,待浸渍工件10可安放在吊篮9内,如果待浸渍工件10可安装挂钩5,那么则通过挂钩5直接悬挂在缸盖4的下端。
另外抽真空装置是固定在真空浸渍缸3的外侧,真空浸渍缸3的上端法兰上设有一排抽真空孔,由于抽真空孔的位置在上端法兰上,因此,其位置高于真空浸渍缸3内的液体高度,从而避免抽真空时抽入液体。
本发明的工作原理是:首先,循环链8在电机的带动下间歇性的循环,当待浸渍工件10移动到浸渍工位后,循环链8停止动作,此时,升降油缸23驱动升降架动作,使真空浸渍缸3上升,在上升过程中,真空浸渍缸3上端法兰的密封垫与缸盖4的下端面顶触,并带动缸盖4和挂钩5上升,直至挂钩5上端部顶在支撑梁6的定位支撑块7上,此时,真空浸渍缸3无法再上升,真空浸渍缸3和缸盖4在定位支撑块7和升降油缸23的作用下压紧密封,其密封效果非常好,压紧力可以比较大,并且无需考虑其他密封点,使整个真空浸渍装置工作可靠,抽真空效果好。

Claims (5)

1. 真空连续沉浸机的真空浸渍装置,包括真空浸渍缸和两条相互平行的循环链,所述循环链安装于机壳内部,其特征在于:两条循环链对应的链轴之间连接有悬挂轴,该真空浸渍缸位于循环链下方的浸渍工位,且该真空浸渍缸由升降装置驱动升降,所述真空浸渍装置还包括若干个缸盖,该缸盖通过悬挂装置间隔均匀的悬挂于循环链的各悬挂轴上,所述缸盖的下端安装有待浸渍工件,所述真空浸渍缸的上端法兰上安装有与缸盖下端面密封配合的密封装置,所述真空浸渍缸与抽真空装置连接,在浸渍工位处位于下段循环链的上方安装有限制缸盖上移的缸盖定位支撑装置,所述缸盖定位支撑装置包括固定于机壳上的支撑梁,该支撑梁可与悬挂装置配合定位支撑,所述悬挂装置包括沿悬挂轴轴向设置的若干个挂钩,该挂钩的下端与缸盖固定连接,所述支撑梁上设有分别与各挂钩上端部一一对应配合的定位支撑块。
2. 如权利要求1 所述的真空连续沉浸机的真空浸渍装置,其特征在于:所述缸盖定位支撑装置包括固定于机壳上的支撑梁,对应的,所述缸盖的上端设有与支撑梁顶紧限位的顶块。
3. 如权利要求1 或2所述的真空连续沉浸机的真空浸渍装置,其特征在于:所述升降装置为液压升降平台。
4. 如权利要求3 所述的真空连续沉浸机的真空浸渍装置,其特征在于:所述密封装置包括设置于真空浸渍缸的上端法兰上的密封垫,该密封垫与缸盖的下端面配合密封。
5. 如权利要求4 所述的真空连续沉浸机的真空浸渍装置,其特征在于:所述待浸渍工件通过挂钩或者悬挂吊篮安装于缸盖上。
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