一种巯基壳聚糖/活性炭复合功能膜的制备方法及应用
技术领域
一种巯基壳聚糖/活性炭复合功能膜的制备方法及应用,本发明属于新型功能膜材料制备和水处理技术领域,具体涉及巯基壳聚糖/活性炭复合功能膜的制备方法及用于处理砷污染水。
背景技术
水中的砷污染是一个全球性关注的问题。造成砷污染的原因主要是由于含砷农药和药剂的使用,如除草剂和木材防腐剂等。另外,含砷矿物的开采过程中,由于渗沥使砷进入地表和地下水源,进而造成水源的砷污染。砷是一种高度致癌物,已被美国疾病控制中心和国际防癌机构确定为第I类致癌物。世界卫生组织的饮用水砷标准是10μg·L-1,随着砷检测技术的发展,还有进一步降低的趋势。
污染水中砷的去除一般采用的方法有:沉淀 (Xu Y, Dai Y, Zhou J, et al. 2010;Janin A, Zaviska F, Drogui P, et al. 2009;Jia Y, Xu L, Fang Z, et al. 2006),吸附(柴多里. 2010,2011;Opiso E, Sato T, Yoneda T. 2009;Mamindy-Pajany Y, Hurel C, Marmier N, et al. 2011;Maji SK, Kao YH, Liu CW. 2011),离子交换(An B, Liang Q, Zhao D. 2011;Clifford DA. 1999;Greenleaf JE, Lin J, Sengupta AK. 2006)和絮凝-微滤(de Lourdes Ballinas M, de San Miguel ER, de Jesús Rodríguez MT, et al. 2004; Nguyen VT, Vigneswaran S, Ngo HH, et al. 2009;Kim K, Cho J. 2006;Fogarassy E, Galambos I, Bekassy-Molnar E, et al. 2009;Heimann AC, Jakobsen R. 2007)。砷在水中的主要存在形式为H3AsO3和H3AsO4及其相应的阴离子。由于As(III)危害性更大,且考虑到As(V)比As(III)易于去除,所以,文献提及的处理砷污染方法中,通常有一个预氧化处理过程,即用氧化剂将As(III)氧化成As(V)后进行处理(柴多里. 2010,2011)。另外,现有技术需要特定的pH条件,且不能有过多的竞争性阴离子存在,才能有较好的处理效果,因此过程包括预氧化、处理前的pH调节和处理后的pH回调步骤,这必然使处理过程复杂化、处理成本升高,而当水源中含有各种竞争性阴离子时,处理效果很不理想。因此,急需发展绿色、高效的新材料和新方法来处理砷污染水。
发明内容
本发明的目的是为解决现有技术存在的缺陷,提供一种巯基壳聚糖/活性炭复合功能膜的制备方法及应用,以实现绿色、高效地处理砷污染水。
本发明的技术方案:一种巯基壳聚糖/活性炭复合功能膜的制备方法及应用,可通过以下技术方案实现:
一种巯基壳聚糖/活性炭复合功能膜的制备方法,包括如下步骤:
(1)壳聚糖/活性炭复合膜(CS/C)的制备:将壳聚糖(CS)加入到0.50mol·L-1的醋酸水溶液中,搅拌溶解,壳聚糖和醋酸水溶液的质量比为1:24~49,得壳聚糖醋酸溶液;取粉末状活性炭,用10% 的硝酸水溶液处理,在沸水浴中加热搅拌2~3 h,过滤,用去离子水洗至中性,120℃下干燥5 h,得干燥活性炭;向壳聚糖醋酸溶液中加入处理后的干燥活性炭,活性炭和壳聚糖的质量比为0.1~0.3:1,搅拌均匀,得铸膜液;取铸膜液6mL加入到直径为5cm的圆形聚丙烯模具中,恒温60℃,待挥发失重50% 左右时,将膜浸泡在1mol·L-1的NaOH水溶液凝固浴中,在凝固浴中凝固24h后,用蒸馏水冲洗膜至中性,得壳聚糖/活性炭复合膜(CS/C);
(2)交联壳聚糖/活性炭复合膜(CS/CL)的制备:50mL的0.05 mol·L-1NaOH水溶液为交联反应提供弱碱性环境,40℃下,将2~5g CS/C膜浸入其中,向其中滴加0.01 mol·L-1环氧氯丙烷溶液50mL作为交联剂,搅拌,反应2h,然后用去离子水将膜冲洗至中性,得交联壳聚糖/活性炭复合膜(CS/CL);
(3) 巯基壳聚糖/活性炭复合功能膜(CS-SH/C)的制备:在反应容器中,依次加入2,3-二巯基丁二酸400mL、乙酸酐240mL、乙酸160mL、浓硫酸0.6mL,充分混匀,振摇,冷却至室温,加入60~80g CS/CL膜,完全浸没其中,恒温38℃~40℃反应,振摇24h,取出,用去离子水和乙醇反复洗至中性,35℃真空干燥,即得巯基壳聚糖/活性炭复合功能膜(CS-SH/C)。
制备的巯基壳聚糖/活性炭复合功能膜的应用,用于处理砷污染水,包括如下步骤:
分别取50mL的0.5 mg·mL-1As(III)和As(V)溶液,各加入40~80mg CS-SH/C功能膜,室温下振荡8h,测出样品溶液中残留离子的浓度,计算去除率。
本发明的有益效果是:与现有技术相比,本发明巯基壳聚糖/活性炭复合功能膜对砷的去除能力随pH的变化不明显,在宽pH范围内可用;无需预氧化步骤,对As(III)和As(V)均可以有效去除,且不受共存竞争性阴离子的影响;机械强度好,可以重复使用,处理工艺简单,可以大大降低成本,是一种有工业应用前景的新材料和新方法。这种巯基壳聚糖/活性炭复合功能膜的制备方法及其产品和应用都属于首创性的工作。
附图说明
图1为本发明中实施例1所得功能膜和原料壳聚糖的FT-IR谱图,其中1为原料壳聚糖,2为所得功能膜。
图2为本发明中实施例1所得功能膜和原料壳聚糖的XRD图,其中1为原料壳聚糖,2为所得功能膜。
图3 为本发明中实施例3所得功能膜的砷去除率和pH关系图,其中1为As(III),2为As(V)。
图4为本发明中实施例2所得功能膜的砷去除率和pH关系图,其中1为As(III),2为As(V)。
图5 为本发明中实施例3所得功能膜的砷去除率与再生循环次数关系图,其中1为As(III),2为As(V)。
具体实施方式
下面结合实施例,对本发明作进一步说明,但本发明的应用不限于此。
实施例1
本实施例是巯基壳聚糖/活性炭复合功能膜(CS-SH/C)的制备。具体过程为:将10g壳聚糖(CS)加入到240g的0.50mol·L-1醋酸水溶液中,搅拌溶解,得壳聚糖醋酸溶液;取粉末状活性炭,用10 % 的硝酸水溶液处理,在沸水浴中加热搅拌2h,过滤,用去离子水洗至中性,120℃下干燥5 h,得干燥活性炭;向壳聚糖醋酸溶液中加入1g处理后的干燥活性炭,搅拌均匀,得铸膜液;取铸膜液6mL加入到直径为5cm的圆形聚丙烯模具中,恒温60℃,待挥发失重50%左右时,将膜浸泡在1mol·L-1的NaOH水溶液凝固浴中,在凝固浴中凝固24h后,用蒸馏水冲洗膜至中性,得壳聚糖/活性炭复合膜(CS/C);取50mL的0.05 mol·L-1NaOH水溶液为交联反应提供弱碱性环境,40℃下,将2g CS/C膜浸入其中,向其中滴加0.01 mol·L-1环氧氯丙烷溶液50mL作为交联剂,搅拌,反应2h,然后用去离子水将膜冲洗至中性,得交联壳聚糖/活性炭复合膜(CS/CL);在反应容器中,依次加入2,3-二巯基丁二酸400mL、乙酸酐240mL、乙酸160mL、浓硫酸0.6mL,充分混匀,振摇,冷却至室温,加入60g CS/CL膜,完全浸没其中,恒温38℃反应,振摇24h,取出,去离子水和乙醇反复洗至中性,35℃真空干燥,即得巯基壳聚糖/活性炭复合功能膜(CS-SH/C)。所得功能膜(2)和原料壳聚糖(1)的FT-IR红外光谱见图1,XRD见图2。所得功能膜和原料壳聚糖的有机元素分析结果为:原料壳聚糖(C%,42.02%;H%,6.51%;N%,8.00%;S%,0.50%),功能膜(C%,49.18%;H%,4.95%;N%,5.83%;S%,9.23%),由结果可知功能膜上引入了巯基。
实施例2
本实施例是巯基壳聚糖/活性炭复合功能膜(CS-SH/C)的制备。具体过程为:将10g壳聚糖(CS)加入到300g的0.50mol·L-1的醋酸水溶液中,搅拌溶解,得壳聚糖醋酸溶液;取粉末状活性炭,用10 % 的硝酸处理,在沸水浴中加热搅拌3h,过滤,用去离子水洗至中性,120℃下干燥5 h,得干燥活性炭;向壳聚糖醋酸溶液中加入2g处理后的干燥活性炭,搅拌均匀,得铸膜液。取铸膜液6mL加入到直径为5cm的圆形聚丙烯模具中,恒温60℃,待挥发失重50%左右时,将膜浸泡在1mol·L-1的NaOH水溶液凝固浴中,在凝固浴中凝固24h后,用蒸馏水冲洗膜至中性,得壳聚糖/活性炭复合膜(CS/C);50mL的0.05 mol·L-1的NaOH水溶液为交联反应提供弱碱性环境,40℃下,将3g CS/C膜浸入其中,向其中滴加0.01 mol·L-1环氧氯丙烷溶液50mL作为交联剂,搅拌,反应2h,然后用去离子水将膜冲洗至中性,得交联壳聚糖/活性炭复合膜(CS/CL);在反应容器中,依次加入2,3-二巯基丁二酸400mL、乙酸酐240mL、乙酸160mL、浓硫酸0.6mL,充分混匀,振摇,冷却至室温,加入70g CS/CL膜,完全浸没其中,恒温39℃反应,振摇24h,取出,去离子水和乙醇反复洗至中性,35℃真空干燥,即得巯基壳聚糖/活性炭复合功能膜(CS-SH/C)。所得功能膜和原料壳聚糖的有机元素分析结果为:原料壳聚糖(C%,42.02%;H%,6.51%;N%,8.00%;S%,0.50%),功能膜(C%,57.77%;H%,5.38%;N%,6.42%;S%,9.19%),由结果可知功能膜上引入了巯基。
实施例3
本实施例是巯基壳聚糖/活性炭复合功能膜(CS-SH/C)的制备。具体过程为:将10g壳聚糖(CS)加入到400g的0.50mol·L-1的醋酸水溶液中,搅拌溶解,得壳聚糖醋酸溶液;取粉末状活性炭,用10 % 的硝酸水溶液处理,在沸水浴中加热搅拌3h,过滤,用去离子水洗至中性,120℃下干燥5 h,得干燥活性炭;向壳聚糖醋酸溶液中加入2g处理后的干燥活性炭,搅拌均匀,得铸膜液。取铸膜液6mL加入到直径为5cm的圆形聚丙烯模具中,恒温60℃,待挥发失重50%左右时,将膜浸泡在1mol·L-1的NaOH水溶液凝固浴中,在凝固浴中凝固24h后,用蒸馏水冲洗膜至中性,得壳聚糖/活性炭复合膜(CS/C);50mL的0.05 mol·L-1的NaOH水溶液为交联反应提供弱碱性环境,40℃下,将4g CS/C膜浸入其中,向其中滴加0.01 mol·L-1环氧氯丙烷溶液50mL作为交联剂,搅拌,反应2h,然后用去离子水将膜冲洗至中性,得交联壳聚糖/活性炭复合膜(CS/CL);在反应容器中,依次加入2,3-二巯基丁二酸400mL、乙酸酐240mL、乙酸160mL、浓硫酸0.6mL,充分混匀,振摇,冷却至室温,加入80g CS/CL膜,完全浸没其中,恒温40℃反应,振摇24h,取出,去离子水和乙醇反复洗至中性,35℃真空干燥,即得巯基壳聚糖/活性炭复合功能膜(CS-SH/C)。所得功能膜和原料壳聚糖的有机元素分析结果为:原料壳聚糖(C%,42.02%;H%,6.51%;N%,8.00%;S%,0.50%),功能膜(C%,58.87%;H%,5.42%;N%,6.23%;S%,8.12%),由结果可知功能膜上引入了巯基。
实施例4
本实施例是巯基壳聚糖/活性炭复合功能膜(CS-SH/C)的制备。具体过程为:将10g壳聚糖(CS)加入到490g的0.50mol·L-1的醋酸水溶液中,搅拌溶解,得壳聚糖醋酸溶液;取粉末状活性炭,用10 % 的硝酸水溶液处理,在沸水浴中加热搅拌2h,过滤,用去离子水洗至中性,120℃下干燥5 h,得干燥活性炭;向壳聚糖醋酸溶液中加入3g处理后的干燥活性炭,搅拌均匀,得铸膜液。取铸膜液6mL加入到直径为5cm的圆形聚丙烯模具中,恒温60℃,待挥发失重50%左右时,将膜浸泡在1mol·L-1的NaOH水溶液凝固浴中,在凝固浴中凝固24h后,用蒸馏水冲洗膜至中性,得壳聚糖/活性炭复合膜(CS/C);50mL的0.05 mol·L-1的NaOH水溶液为交联反应提供弱碱性环境,40℃下,将5g CS/C膜浸入其中,向其中滴加0.01 mol·L-1环氧氯丙烷溶液50mL作为交联剂,搅拌,反应2h,然后用去离子水将膜冲洗至中性,得交联壳聚糖/活性炭复合膜(CS/CL);在反应容器中,依次加入2,3-二巯基丁二酸400mL、乙酸酐240mL、乙酸160mL、浓硫酸0.6mL,充分混匀,振摇,冷却至室温,加入70g CS/CL膜,完全浸没其中,恒温38℃反应,振摇24h,取出,去离子水和乙醇反复洗至中性,35℃真空干燥,即得巯基壳聚糖/活性炭复合功能膜(CS-SH/C)。所得功能膜和原料壳聚糖的有机元素分析结果为:原料壳聚糖(C%,42.02%;H%,6.51%;N%,8.00%;S%,0.50%),功能膜(C%,68.25%;H%,2.21%;N%,3.02%;S%,6.12%),由结果可知功能膜上引入了巯基。
实施例5
本实施例为制备的巯基壳聚糖/活性炭复合功能膜(CS-SH/C)的应用,重点考察pH对功能膜去除砷能力的影响,具体过程为:分别取50mL的0.5 mg·mL-1As(III)和As(V)溶液,在小烧杯中用稀硝酸和氢氧化钠调节至pH 2~9,加入60mg实施例3所得CS-SH/C功能膜,室温下振荡8h,测出样品溶液中残留离子的浓度,计算As去除率,结果见图3。由图3可知,砷去除率受溶液pH的影响不大,在pH 2~9范围内,去除率均在90%以上,其中最佳pH范围为6~8,尤其适用于饮用水中砷的处理。
实施例6
本实施例为制备的巯基壳聚糖/活性炭复合功能膜(CS-SH/C)的应用,重点考察pH对功能膜去除砷能力的影响,具体过程为:分取50mL的0.5 mg·mL-1As(III)和As(V)溶液,在小烧杯中用盐酸和氢氧化钠调节至pH 2~9,加入60mg实施例2所得CS-SH/C功能膜,室温下振荡8h,测出样品溶液中残留离子的浓度,计算As去除率,结果见图4。由图4可知,砷去除率受溶液pH的影响不大,在pH 2~9范围内,去除率均在93%以上,其中最佳pH范围为6~8,尤其适用于饮用水中砷的处理。
实施例7
表1
干扰离子 |
无干扰离子 |
HCO3 - |
Cl- |
PO4 3- |
干扰离子加入量/As(质量比) |
0/1 |
60/1 |
10/1 |
10/1 |
As(III)去除率 |
85.8 |
85.3 |
85.7 |
85.6 |
As(V)去除率 |
76.1 |
73.0 |
74.9 |
74.8 |
本实施例为制备的巯基壳聚糖/活性炭复合功能膜(CS-SH/C)的应用,重点考察竞争性阴离子对功能膜去除砷能力的影响,具体过程为:分别取50mL的0.5 mg·mL-1As(III)和As(V)溶液,pH为7,加入一定量的干扰阴离子盐,加入40mg实施例1所得CS-SH/C功能膜,室温下振荡8h,测出样品溶液中残留离子的浓度,计算As去除率,具体参数和结果见表1。由表1可知,在干扰阴离子为60倍的HCO3 -、10倍的Cl-和10倍的PO4 3-存在时基本不干扰砷的去除率,表明CS-SH/C功能膜对砷的亲和力好,抗干扰能力强,适用于有大量干扰阴离子存在的水样处理。
实施例8
表2
干扰离子 |
无干扰离子 |
HCO3 - |
Cl- |
PO4 3- |
干扰离子加入量/As(质量比) |
0/1 |
60/1 |
10/1 |
10/1 |
As(III)去除率 |
90.0 |
89.7 |
89.6 |
89.2 |
As(V)去除率 |
80.0 |
77.2 |
78.5 |
78.9 |
本实施例为制备的巯基壳聚糖/活性炭复合功能膜(CS-SH/C)的应用,重点考察竞争性阴离子对功能膜去除砷能力的影响,具体过程为:分别取50mL的0.5 mg·mL-1As(III)和As(V)溶液,pH为7,加入一定量的干扰阴离子盐,加入40mg实施例2所得CS-SH/C功能膜,室温下振荡8h,测出样品溶液中残留离子的浓度,计算As去除率,具体参数和结果见表2。由表2可知,在干扰阴离子为60倍的HCO3 -、10倍的Cl-和10倍的PO4 3-存在时基本不干扰砷的去除率,表明CS-SH/C功能膜对砷的亲和力好,抗干扰能力强,适用于有大量干扰阴离子存在的水样处理。
实施例9
表3
干扰离子 |
无干扰离子 |
HCO3 - |
Cl- |
PO4 3- |
干扰离子加入量/As(质量比) |
0/1 |
60/1 |
10/1 |
10/1 |
As(III)去除率 |
86.0 |
85.5 |
85.9 |
85.8 |
As(V)去除率 |
76.0 |
73.2 |
75.4 |
74.6 |
本实施例为制备的巯基壳聚糖/活性炭复合功能膜(CS-SH/C)的应用,重点考察竞争性阴离子对功能膜去除砷能力的影响,具体过程为:分别取50mL的0.5 mg·mL-1As(III)和As(V)溶液,pH为7,加入一定量的干扰阴离子盐,加入40mg实施例3所得CS-SH/C功能膜,室温下振荡8h,测出样品溶液中残留离子的浓度,计算As去除率,具体参数和结果见表3。由表3可知,在干扰阴离子为60倍的HCO3 -、10倍的Cl-和10倍的PO4 3-存在时基本不干扰砷的去除率,表明CS-SH/C功能膜对砷的亲和力好,抗干扰能力强,适用于有大量干扰阴离子存在的水样处理。
实施例10
表4
干扰离子 |
无干扰离子 |
HCO3 - |
Cl- |
PO4 3- |
干扰离子加入量/As(质量比) |
0/1 |
60/1 |
10/1 |
10/1 |
As(III)去除率 |
83.1 |
82.6 |
82.7 |
82.9 |
As(V)去除率 |
73.2 |
70.1 |
72.3 |
71.7 |
本实施例为制备的巯基壳聚糖/活性炭复合功能膜(CS-SH/C)的应用,重点考察竞争性阴离子对功能膜去除砷能力的影响,具体过程为:分别取50mL的0.5 mg·mL-1As(III)和As(V)溶液,pH为7,加入一定量的干扰阴离子盐,加入40mg实施例4所得CS-SH/C功能膜,室温下振荡8h,测出样品溶液中残留离子的浓度,计算As去除率,具体参数和结果见表4。由表4可知,在干扰阴离子为60倍的HCO3 -、10倍的Cl-和10倍的PO4 3-存在时基本不干扰砷的去除率,表明CS-SH/C功能膜对砷的亲和力好,抗干扰能力强,适用于有大量干扰阴离子存在的水样处理。
实施例11
本实施例为制备的巯基壳聚糖/活性炭复合功能膜(CS-SH/C)的应用,重点考察该功能膜的再生和重复使用性能,具体过程为:分别取50mL的0.5 mg·mL-1As(III)和As(V)溶液,pH为7,加入40mg实施例3所得CS-SH/C功能膜,室温下振荡8h;将吸附有砷的CS-SH/C功能膜浸入饱和硫化钠溶液中,温和搅拌2h,去除吸附的砷,去离子水洗涤,使膜再生,再生后的膜重复使用,结果见图5。由图5可知,在10次再生循环使用后,膜的性能变化不大,因此,可以确定膜的性质稳定,机械强度好,通过再生循环使用,可大大降低成本,且再生过程简单易行。
以上所述仅是本发明的优选实施方式,应当指出,对于本技术领域的普通技术人员,在不脱离本发明构思的前提下,还可以做出若干改进和润饰,这些改进和润饰也应视为本发明的保护范围内。