CN102866816B - 一种电容式触摸传感器及制作方法、触摸屏和显示装置 - Google Patents
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Abstract
本发明公开了一种电容式触摸传感器的制作方法,包括:使用透明导电层图案掩膜和光刻胶制作驱动电极图案层;使用绝缘层掩膜和光刻胶制作绝缘层;使用透明导电层图案掩膜和驱动电极图案层胶性相反的光刻胶制作感应电极图案层,驱动电极图案层和感应电极图案层位于绝缘层所在平面的异侧;使用绝缘层掩膜和光刻胶制作绝缘保护层。本发明还公开了一种电容式触摸传感器、触摸屏和显示装置。由于绝缘层和绝缘保护层使用同一个掩膜制作,从而减少了掩膜的使用数量,进而降低了触摸屏的制作成本。另外,由于将透明导电层图案的感应电极图案层和驱动电极图案层分别制作在绝缘层的异侧,从而使得驱动电极到感应电极的电场线更加发散,增加了灵敏触控度。
Description
技术领域
本发明涉及触控技术领域,尤其涉及一种电容式触摸传感器及其制造工艺,以及包括该电容式触摸传感器的触摸屏和显示装置。
背景技术
电容式Touch Panel(触摸屏)以其良好的性能及用户体验,已经逐渐发展成为主流的触摸屏。电容式Touch Sensor(触摸传感器)是电容式触摸屏的关键器件。现有的电容式触摸传感器的结构通常包括:透明绝缘衬底,制作在透明绝缘衬底之上的第一层为金属层,第二层为绝缘层,第三层为ITO(纳米铟锡金属氧化物)图案层,第四层为绝缘保护层。图1所示为一种三角形ITO图案层示意图,多个白色三角形构成的图案为ITO图案层的感应电极图案(或驱动电极图案),多个斜线填充的三角形构成的图案为ITO图案层的驱动电极图案(或感应电极图案)。其中,ITO图案通过与金属层接触实现导通。为了保证ITO图案的导通,需要保证在ITO图案与金属层的导通连接处没有被绝缘层覆盖。在制作电容式触摸传感器的过程中,需要4个Mask(掩膜)。其中,金属层使用一个Mask,绝缘层使用一个Mask,ITO图案层使用一个Mask,绝缘保护层使用一个Mask。由于Mask的设计成本较高,因此,现有的电容式触摸屏的制作工艺存在制作成本较高的问题。
发明内容
本发明的目的是提供一种电容式触摸传感器及其制作方法,以及包括该电容式触摸传感器的触摸屏及显示装置,以解决现有的电容式触摸传感器制作成本较高的问题。
本发明的目的是通过以下技术方案实现的:
一种电容式触摸传感器的制作方法,包括:
使用透明导电层图案掩膜和光刻胶经过构图工艺形成驱动电极图案层;
使用绝缘层掩膜和光刻胶经过构图工艺形成绝缘层;
使用所述透明导电层图案掩膜和与所述驱动电极图案层胶性相反的光刻胶经过构图工艺形成感应电极图案层;所述驱动电极图案层和所述感应电极图案层位于所述绝缘层所在平面的异侧;
使用所述绝缘层掩膜和与所述绝缘层胶性相同的光刻胶制作绝缘保护层;
该方法还包括:
在透明绝缘衬底上,使用金属层掩膜和光刻胶制作金属层,所述金属层包括显示区域的桥接线;所述驱动电极图案层形成于所述金属层上;
或者,
在所述驱动电极图案层上,使用金属层掩膜和光刻胶制作金属层;所述绝缘层制作于所述金属层上;
或者,
在所述绝缘层上,使用金属层掩膜和光刻胶制作金属层;所述感应电极图案层形成于所述金属层上。
一种电容式触摸传感器的制作方法,包括:
使用透明导电层图案掩膜和光刻胶经过构图工艺形成感应电极图案层;
使用绝缘层掩膜和光刻胶制作绝缘层;
使用所述透明导电层图案掩膜和与所述感应电极图案层胶性相反的光刻胶经过构图工艺形成驱动电极图案层;所述感应电极图案层和所述驱动电极图案层位于所述绝缘层所在平面的异侧;
使用所述绝缘层掩膜和与所述绝缘层胶性相同的光刻胶制作绝缘保护层;
该方法还包括:
在透明绝缘衬底上,使用金属层掩膜和光刻胶制作金属层,所述金属层包括显示区域的桥接线;所述感应电极图案层形成于所述金属层上;
或者,
在所述感应电极图案层上,使用金属层掩膜和光刻胶制作金属层;所述绝缘层制作于所述金属层之上;
或者,
在所述绝缘层上,使用金属层掩膜和光刻胶制作金属层;所述驱动电极图案层形成在所述金属层之上。
一种电容式触摸传感器,包括:
透明绝缘衬底,使用金属层掩膜和光刻胶制作的金属层,所述金属层包括显示区域的桥接线,使用透明导电层图案掩膜和光刻胶经过构图工艺形成的驱动电极图案层,使用绝缘层掩膜和光刻胶制作的绝缘层,使用所述透明导电层图案掩膜和与所述驱动电极图案层胶性相反的光刻胶制作的感应电极图案层,使用所述绝缘层掩膜和与所述绝缘层胶性相同的光刻胶制作的绝缘保护层;
所述透明绝缘衬底制作于最底层;
所述驱动电极图案层和所述感应电极图案层形成于所述绝缘层所在平面的异侧;
所述金属层制作于所述透明绝缘衬底之上,或制作于所述驱动电极图案层之上,或制作于所述绝缘层之上;
所述绝缘保护层制作于最上层。
所述电容式触摸传感器的结构具体为:
制作于最底层的透明绝缘衬底;
所述透明绝缘衬底之上的第一层为所述金属层,第二层为所述驱动电极图案层,第三层为所述绝缘层,第四层为所述感应电极图案层,第五层为所述绝缘保护层。
所述电容式触摸传感器的结构具体为:
制作于最底层的透明绝缘衬底;
所述透明绝缘衬底之上的第一层为所述驱动电极图案层,第二层为所述金属层,第三层为所述绝缘层,第四层为所述感应电极图案层,第五层为所述绝缘保护层。
所述电容式触摸传感器的结构具体为:
制作于最底层的透明绝缘衬底;
所述透明绝缘衬底之上的第一层为所述驱动电极图案层,第二层为所述绝缘层,第三层为所述金属层,第四层为所述感应电极图案层,第五层为所述绝缘保护层。
所述电容式触摸传感器的结构具体为:
制作于最底层的透明绝缘衬底;
所述透明绝缘衬底之上的第一层为所述金属层,第二层为所述感应电极图案层,第三层为所述绝缘层,第四层为所述驱动电极图案层,第五层为所述绝缘保护层。
所述电容式触摸传感器的结构具体为:
制作于最底层的透明绝缘衬底;
所述透明绝缘衬底之上的第一层为所述感应电极图案层,第二层为所述金属层,第三层为所述绝缘层,第四层为所述驱动电极图案层,第五层为所述绝缘保护层。
所述电容式触摸传感器的结构具体为:
制作于最底层的透明绝缘衬底;
所述透明绝缘衬底之上的第一层为所述感应电极图案层,第二层为所述绝缘层,第三层为所述金属层,第四层为所述驱动电极图案层,第五层为所述绝缘保护层。
一种触摸屏,包括上述任一所述的电容式触摸传感器。
一种显示装置,包括上述任一所述的电容式触摸传感器。
本发明提供的电容式触摸传感器及其制作方法、包括该电容式触摸感应器的触摸屏和显示装置,由于使用同一个掩膜制作绝缘层和绝缘保护层,从而减少了掩膜的使用数量,进而降低了电容式触摸屏的制作成本。
附图说明
图1为现有的一种ITO图案层示意图;
图2为本发明一个实施例提供的方法流程图;
图3为本发明另一个实施例提供的方法流程图;
图4为本发明又一个实施例提供的方法流程图;
图5为本发明实施例提供的第一个电容式触摸传感器结构示意图;
图6为本发明实施例提供的第二个电容式触摸传感器结构示意图;
图7为本发明实施例提供的第三个电容式触摸传感器结构示意图;
图8为本发明实施例提供的第四个电容式触摸传感器结构示意图;
图9为本发明实施例提供的第五个电容式触摸传感器结构示意图;
图10为本发明实施例提供的第六个电容式触摸传感器结构示意图;
图11为本发明实施例提供的第七个电容式触摸传感器结构示意图;
图12为本发明实施例提供的电容式触摸传感器局部俯视示意图。
具体实施方式
为了降低电容式触摸传感器的制作成本,本发明实施例提供了一种电容式触摸传感器的制作方法,该方法如图2所示,具体包括如下操作:
S201、使用透明导电层图案掩膜和光刻胶经过构图工艺形成驱动电极图案层。
S202、使用绝缘层掩膜和光刻胶制作绝缘层。
S203、使用上述的透明导电层图案掩膜和与上述驱动电极图案层胶性相反的光刻胶经过构图工艺形成感应电极图案层,
其中,驱动电极图案和感应电极图案组成完整的透明导电层图案。
上述的驱动电极图案层和上述的感应电极图案层位于上述的绝缘层所在平面的异侧。所谓异侧是指,当电容式触摸传感器水平放置时,驱动电极图案层位于绝缘层之上,而感应电极图案层位于绝缘层之下;或者,驱动电极图案层位于绝缘层之下,而感应电极图案层位于绝缘层之上。
如果驱动电极图案层使用正性胶形成,则感应电极图案层使用负性胶形成,如果驱动电极图案层使用负性胶形成,则感应电极图案层使用负性胶形成。
S204、使用上述绝缘层掩膜和与上述绝缘层胶性相同的光刻胶制作绝缘保护层。
该方法还包括以下任一步骤:
S205a、在透明绝缘衬底上,使用金属层掩膜和光刻胶制作金属层,该金属层包括显示区域的桥接线;上述的驱动电极图案层形成于该金属层上。
S205b、在上述的驱动电极图案层上,使用金属层掩膜和光刻胶制作金属层,该金属层包括显示区域的桥接线;上述的绝缘层制作于该金属层上。
S205c、在上述的绝缘层上,使用金属层掩膜和光刻胶制作金属层,该金属层包括显示区域的桥接线;上述的感应电极图案层形成于该金属层上。
为了降低电容式触摸传感器的制作成本,本发明实施例还提供了一种电容式触摸传感器的制作方法,该方法如图3所示,具体包括如下操作:
S301、使用透明导电层图案掩膜和光刻胶经过构图工艺形成感应电极图案层。
S302、使用绝缘层掩膜和光刻胶制作绝缘层。
S303、使用上述的透明导电层图案掩膜和与上述感应电极图案层胶性相反的光刻胶经过构图工艺形成驱动电极图案层。
其中,驱动电极图案和感应电极图案组成完整的透明导电层图案。
上述的感应电极图案层和上述的驱动电极图案层位于上述的绝缘层所在平面的异侧。
如果感应电极图案层使用正性胶形成,则驱动电极图案层使用负性胶形成,如果感应电极图案层使用负性胶形成,则驱动电极图案层使用负性胶形成。
S304、使用上述绝缘层掩膜和与上述绝缘层胶性相同的光刻胶制作绝缘保护层。
该方法还包括以下任一步骤:
S305a、在透明绝缘衬底上,使用金属层掩膜和光刻胶制作金属层,该金属层包括显示区域的桥接线;上述的感应电极图案层形成于该金属层上。
S305b、在上述的感应电极图案层上,使用金属层掩膜和光刻胶制作金属层,该金属层包括显示区域的桥接线;上述的绝缘层制作于该金属层之上。
S305c、在上述的绝缘层上,使用金属层掩膜和光刻胶制作金属层,该金属层包括显示区域的桥接线;上述的图案驱动电极图案层形成于该金属层之上。
需要说明的是:本发明实施例中,所述构图工艺一般为曝光、刻蚀、剥离等工艺步骤,一般为沉积形成图案所需要的材料(当然材料在基板上的形成方式并不限于沉积一种,还可以为其他方式),之后进行构图工艺。所述驱动电极图案层和感应电极图案层的材料为透明导电材料,例如ITO,但是不限于此,还可以是AZO(掺Al氧化锌铝),FTO(掺F氧化锡)等等。所述绝缘层和绝缘保护层的材料可以为有机绝缘层材料也可以为无机绝缘层材料,例如氮化硅、丙烯基树脂和环氧树脂。
所述金属层还包括焊盘区域的电路线,在绝缘层图案形成步骤中,将焊盘区域的透明导电层图案(驱动电极图案或感应电极图案)裸露,方便IC(驱动芯片)的Bonding(绑定)。
现有的电容式触摸传感器制作工艺中,通常采用一个Mask在一层上形成完整的透明导电层图案。而本发明上述各实施例提供的电容式触摸传感器的制作方法,分两层形成透明导电层图案的驱动电极图案层和感应电极图案层,并将驱动电极图案层和感应电极图案层形成在绝缘层所在平面的异侧,从而降低了驱动电极和感应电极之间的互电容。用同一个Mask,分别用正性胶和负性胶来形成驱动电极图案层和感应电极图案层,由于负性胶的精确度较低,使用负性胶形成一个方向的透明导电层图案(感应电极图案或驱动电极图案)会有所缩小,从而使得两个方向的透明导电层图案在边缘处不能垂直对齐,,使得驱动电极到感应电极的电场线更加发散,这样手指触控就能吸走更多的电场线,从而增加灵敏触控度。另外,用同一个Mask,分别用正性胶和负性胶来形成透明导电层图案的驱动电极图案层和感应电极图案层,得到的透明导电层图案不同于现有的透明导电层图案,从而可以使用同一个Mask来制作绝缘层和绝缘保护层,降低了Mask的使用数量,进而降低了生产成本。
本发明上述各实施例提供的方法中,在制作绝缘层时,要保证金属层与驱动电极图案层或与感应电极图案层的连接处没有被绝缘层完全覆盖。从而保证透明导电层图案导通。
本发明上述各实施例提供的方法中,作为一种优选的实现方式,上述的金属层、绝缘层、绝缘保护层均采用正性胶制作。
本发明提供的方法适用于任何通过透明导电层实现感应的触摸式传感器的制作工艺。例如,通过透明导电层实现感应的Add On(外挂式)触摸传感器、On Cell(外置)触摸传感器、In Cell(内置)触摸传感器等等,以及通过透明导电层实现感应的GTG(Glass To Glass,双层玻璃)触摸传感器、One GlassSolusion(单层玻璃)触摸传感器等等。
下面将以Add On GTG触摸传感器的制作过程作为具体的应用实施例对本发明实施例提供的电容式触摸传感器的制作方法进行详细说明。
如图4所示的一个电容式触摸传感器的制作方法,其实现方式具体包括如下操作:
S401、在透明绝缘衬底(如,玻璃、塑料)上制作第一层(金属层),该金属层包括显示区域的桥接线;
具体是采用Mask1(金属层Mask),正性胶制作金属桥、金属走线等;
S402、制作第二层(驱动电极图案层);
具体是采用Mask2(透明导电层图案Mask),正性胶经过构图工艺形成驱动电极图案;
S403、制作第三层(绝缘层);
具体是采用Mask3(绝缘层Mask),正性胶制作绝缘层,该绝缘层的图形是压合图形;
在制作绝缘层时,要保证金属层与透明导电层图案的连接处没有被绝缘层完全覆盖,以保证透明导电层图案的导通;
S404、制作第四层(感应电极图案层);
具体是采用Mask2,负性胶经过构图工艺形成感应电极图案;
S405、制作第五层(绝缘保护层);
具体是采用Mask3,正性胶制作绝缘保护层;
S406、进行传感器切割;
S407、进行FPC(柔性电路连接板)压合;
S408、Cover Lens(盖板)贴合,完成触摸式传感器的制作。
在上述处理过程中,还可以使用负性胶形成驱动电极图案层,使用正性胶形成感应电极图案层。另外,还可以在第二层形成感应电极图案层,在第四层形成驱动电极图案层。
上述处理过程中,在透明绝缘衬底之上首先制作金属层。先制作金属层的优点是,在FPC的Bonding区域金属不会被氧化。
现有的电容式触摸传感器制作方法需要4个Mask,上述处理过程制作得到的电容式触摸传感器,仅需要3个Mask即可完成制作,减少了Mask的开发成本,进而降低了电容式触摸传感器的制作成本。另外,由于将透明导电层图案的驱动电极图案层和感应电极图案层分别形成在绝缘层所在平面的异侧,使得驱动电极到感应电极的电场线更加发散,这样手指触控就能吸走更多的电场线,从而增加灵敏触控度。
本发明还提供一种电容式触摸传感器,其结构如图5~10所示,具体实现结构如下:
包括透明绝缘衬底1,使用金属层掩膜和光刻胶制作的金属层2,该金属层2包括显示区域的桥接线,使用透明导电层图案掩膜和光刻胶经过构图工艺形成的驱动电极图案层3,使用绝缘层掩膜和光刻胶制作的绝缘层4,使用上述的透明导电层图案掩膜和与上述的驱动电极图案层3胶性相反的光刻胶制作的感应电极图案层5,使用上述的绝缘层掩膜和与上述绝缘层4胶性相同的光刻胶制作的绝缘保护层6。
其中,上述的透明绝缘衬底1制作于最底层;上述的驱动电极图案层3和上述的感应电极图案层5制作于上述绝缘层4所在平面的异侧;上述的金属层2制作于上述的透明绝缘衬底1之上,或制作于上述的驱动电极图案层3之上,或制作于上述的绝缘层4之上;上述的绝缘保护层6制作于最上层。
上述的金属层2与驱动电极图案层3或与感应电极图案层5的连接处没有被绝缘层4完全覆盖。从而保证透明导电层图案导通。
本发明实施例提供的电容式触摸传感器,透明导电层的驱动电极图案层3和感应电极图案层5分别形成在绝缘层的异侧,。由于负性胶的精确度较低,使用负性胶形成的一个方向的透明导电层图案(驱动电极图案3或感应电极图案5)会有所缩小,从而使得两个方向的透明导电层图案在边缘处不能垂直对齐,,使得驱动电极到感应电极的电场线更加发散,这样手指触控就能吸走更多的电场线,从而增加灵敏触控度。另外,本发明提供的电容式触摸传感器的透明导电层图案不同于现有的透明导电层图案,从而可以使用同一个Mask来制作绝缘层4和绝缘保护层6,降低了Mask的使用数量,进而降低了电容式触摸传感器的生产成本。
本发明实施例提供的电容式触摸传感器,上述的金属层2、绝缘层4、绝缘保护层6优选的采用正性胶制作。
如图5所示,为本发明提供的第一个优选的电容式触摸传感器实现结构。其中:
透明绝缘衬底1制作于最底层;该透明绝缘衬底1之上的第一层为上述的金属层2,所述金属层2包括显示区域的桥接线,第二层为上述的驱动电极图案层3,第三层为上述的绝缘层4,第四层为上述的感应电极图案层5,第五层为上述的绝缘保护层6。
如图6所示,为本发明提供的第二个优选的电容式触摸传感器实现结构。
其中:
透明绝缘衬底1制作于最底层;该透明绝缘衬底1之上的第一层为上述的驱动电极图案层3,第二层为上述的金属层2,该金属层2包括显示区域的桥接线,第三层为上述的绝缘层4,第四层为上述的感应电极图案层5,第五层为上述的绝缘保护层6。
如图7所示,为本发明提供的第三个优选的电容式触摸传感器实现结构。其中:
透明绝缘衬底1制作于最底层;该透明绝缘衬底1之上的第一层为上述的驱动电极图案层3,第二层为上述的绝缘层4,第三层为上述的金属层2,该金属层2包括显示区域的桥接线,第四层为上述的感应电极图案层5,第五层为上述的绝缘保护层6。
如图8所示,为本发明提供的第四个优选的电容式触摸传感器实现结构。其中:
制作于最底层的透明绝缘衬底1;
所述透明绝缘衬底1之上的第一层为所述金属层2,所述金属层2包括显示区域的桥接线,第二层为所述感应电极图案层5,第三层为所述绝缘层4,第四层为所述驱动电极图案层3,第五层为所述绝缘保护层6。
如图9所示,为本发明提供的第五个优选的电容式触摸传感器实现结构。其中:
透明绝缘衬底1制作于最底层;该透明绝缘衬底1之上的第一层为上述的感应电极图案层5,第二层为上述的金属层2,该金属层2包括显示区域的桥接线,第三层为上述的绝缘层4,第四层为上述的驱动电极图案层3,第五层为上述的绝缘保护层6。
如图10所示,为本发明提供的第六个优选的电容式触摸传感器实现结构。其中:
透明绝缘衬底1制作于最底层;该透明绝缘衬底1之上的第一层为上述的感应电极图案层5,第二层为上述的绝缘层4,第三层为上述的金属层2,该金属层2包括显示区域的桥接线,第四层为上述的驱动电极图案层3,第五层为上述的绝缘保护层6。
本发明提供的电容式触摸传感器可以是任何通过透明导电层实现感应的触摸传感器。作为举例而非限定,可以是通过透明导电层实现感应的Add On触摸传感器、On Cell触摸传感器、In Cell触摸传感器等等,也可以是通过透明导电层实现感应的GTG触摸传感器、One Glass Solusion触摸传感器等等。
下面将以一个图11所示的Add On GTG触摸传感器结构为例对本发明提供的电容式触摸传感器的结构进行详细说明。
图11中,在透明绝缘衬底1上,第一层是金属层2,包括显示区域的桥接线,具体可以是金属桥和金属走线;
第二层为驱动电极图案层3。
第三层为绝缘层4,其中,驱动电极图案层3和金属层2的连接处,及感应电极图案层5和金属层2的连接处(图中未示出)没有被绝缘层4完全覆盖,以保证透明导电层图案的导通。
第四层为感应电极图案层5。
驱动电极图案3和感应电极图案5采用同一个Mask,分别采用正性胶和负性胶经过构图工艺形成,且驱动电极图案层3和感应电极图案层5制作于绝缘层4的异侧,从而增加触控灵敏度。
第五层为绝缘保护层6,该层由制作绝缘层4的Mask制作,进而减少了Mask的使用数量。
还包括完成传感器切割后压合上去的柔性电路连接板7。
图12所示为本发明实施例提供的电容式触摸传感器的局部俯视示意图。对于图5、6、10所示结构的电容式触摸传感器,图12中斜线所示为感应电极图案层,感应电极图案层上,各个感应电极之间通过金属走线连接,网格线所示为驱动电极图案层。对于图7、8、9所示结构的电容式触摸传感器,图12中斜线所示为驱动电极图案层,驱动电极图案层上,各个驱动电极之间通过金属走线连接,网格线所示为感应电极图案层。
需要说明的是,上述中提及的金属层包括显示区域的桥接线,即金属桥和金属走线,为了避免重复说明,上述金属层中没有提及。
本发明实还提供一种电容式触摸屏,包括如上任意一种电容式触摸传感器。
本发明还提供一种显示装置,包括如上任意一种电容式触摸传感器。
显然,本领域的技术人员可以对本发明进行各种改动和变型而不脱离本发明的精神和范围。这样,倘若本发明的这些修改和变型属于本发明权利要求及其等同技术的范围之内,则本发明也意图包含这些改动和变型在内。
Claims (11)
1.一种电容式触摸传感器的制作方法,其特征在于,包括:
使用透明导电层图案掩膜和光刻胶经过构图工艺形成驱动电极图案层;
使用绝缘层掩膜和光刻胶经过构图工艺形成绝缘层;
使用所述透明导电层图案掩膜和与所述驱动电极图案层胶性相反的光刻胶经过构图工艺形成感应电极图案层;所述驱动电极图案层和所述感应电极图案层分别位于所述绝缘层所在平面的异侧;
使用所述绝缘层掩膜和与所述绝缘层胶性相同的光刻胶制作绝缘保护层;
该方法还包括:
在透明绝缘衬底上,使用金属层掩膜和光刻胶制作金属层,所述金属层包括显示区域的桥接线;所述驱动电极图案层形成于所述金属层上;
或者,
在所述驱动电极图案层上,使用金属层掩膜和光刻胶制作金属层;所述绝缘层制作于所述金属层上;
或者,
在所述绝缘层上,使用金属层掩膜和光刻胶制作金属层;所述感应电极图案层形成于所述金属层上。
2.一种电容式触摸传感器的制作方法,其特征在于,包括:
使用透明导电层图案掩膜和光刻胶经过构图工艺形成感应电极图案层;
使用绝缘层掩膜和光刻胶制作绝缘层;
使用所述透明导电层图案掩膜和与所述感应电极图案层胶性相反的光刻胶经过构图工艺形成驱动电极图案层;所述感应电极图案层和所述驱动电极图案层分别位于所述绝缘层所在平面的异侧;
使用所述绝缘层掩膜和与所述绝缘层胶性相同的光刻胶制作绝缘保护层;
该方法还包括:
在透明绝缘衬底上,使用金属层掩膜和光刻胶制作金属层,所述金属层包括显示区域的桥接线;所述感应电极图案层形成于所述金属层上;
或者,
在所述感应电极图案层上,使用金属层掩膜和光刻胶制作金属层;所述绝缘层制作于所述金属层之上;
或者,
在所述绝缘层上,使用金属层掩膜和光刻胶制作金属层;所述驱动电极图案层形成在所述金属层之上。
3.一种电容式触摸传感器,其特征在于,包括:
透明绝缘衬底,使用金属层掩膜和光刻胶制作的金属层,所述金属层包括显示区域的桥接线,使用透明导电层图案掩膜和光刻胶经过构图工艺形成的驱动电极图案层,使用绝缘层掩膜和光刻胶制作的绝缘层,使用所述透明导电层图案掩膜和与所述驱动电极图案层胶性相反的光刻胶制作的感应电极图案层,使用所述绝缘层掩膜和与所述绝缘层胶性相同的光刻胶制作的绝缘保护层;
所述透明绝缘衬底制作于最底层;
所述驱动电极图案层和所述感应电极图案层分别形成于所述绝缘层所在平面的异侧;
所述金属层制作于所述透明绝缘衬底之上,或制作于所述驱动电极图案层之上,或制作于所述绝缘层之上;
所述绝缘保护层制作于最上层。
4.根据权利要求3所述的电容式触摸传感器,其特征在于,所述电容式触摸传感器的结构具体为:
制作于最底层的透明绝缘衬底;
所述透明绝缘衬底之上的第一层为所述金属层,第二层为所述驱动电极图案层,第三层为所述绝缘层,第四层为所述感应电极图案层,第五层为所述绝缘保护层。
5.根据权利要求3所述的电容式触摸传感器,其特征在于,所述电容式触摸传感器的结构具体为:
制作于最底层的透明绝缘衬底;
所述透明绝缘衬底之上的第一层为所述驱动电极图案层,第二层为所述金属层,第三层为所述绝缘层,第四层为所述感应电极图案层,第五层为所述绝缘保护层。
6.根据权利要求3所述的电容式触摸传感器,其特征在于,所述电容式触摸传感器的结构具体为:
制作于最底层的透明绝缘衬底;
所述透明绝缘衬底之上的第一层为所述驱动电极图案层,第二层为所述绝缘层,第三层为所述金属层,第四层为所述感应电极图案层,第五层为所述绝缘保护层。
7.根据权利要求3所述的电容式触摸传感器,其特征在于,所述电容式触摸传感器的结构具体为:
制作于最底层的透明绝缘衬底;
所述透明绝缘衬底之上的第一层为所述金属层,第二层为所述感应电极图案层,第三层为所述绝缘层,第四层为所述驱动电极图案层,第五层为所述绝缘保护层。
8.根据权利要求3所述的电容式触摸传感器,其特征在于,所述电容式触摸传感器的结构具体为:
制作于最底层的透明绝缘衬底;
所述透明绝缘衬底之上的第一层为所述感应电极图案层,第二层为所述金属层,第三层为所述绝缘层,第四层为所述驱动电极图案层,第五层为所述绝缘保护层。
9.根据权利要求3所述的电容式触摸传感器,其特征在于,所述电容式触摸传感器的结构具体为:
制作于最底层的透明绝缘衬底;
所述透明绝缘衬底之上的第一层为所述感应电极图案层,第二层为所述绝缘层,第三层为所述金属层,第四层为所述驱动电极图案层,第五层为所述绝缘保护层。
10.一种触摸屏,其特征在于,包括如权利要求3~9任意一项所述的电容式触摸传感器。
11.一种显示装置,其特征在于,包括如权利要求3~9任意一项所述的电容式触摸传感器。
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