CN102732827A - 镀膜件及其制作方法 - Google Patents

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张新倍
陈文荣
蒋焕梧
陈正士
李聪
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Hongfujin Precision Industry Shenzhen Co Ltd
Hon Hai Precision Industry Co Ltd
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Hongfujin Precision Industry Shenzhen Co Ltd
Hon Hai Precision Industry Co Ltd
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Abstract

本发明提供一种镀膜件，包括基体及形成于该基体上的色彩层，该色彩层为CxN层，其中2/3≦x≦3，该色彩层呈现的色度区域于CIELAB表色***的L*坐标介于32至35之间，a*坐标介于0.6至1之间，b*坐标介于0.8至1之间。本发明还提供一种上述镀膜件的制作方法。该镀膜件的色彩层可使镀膜件呈现出黑色，从而丰富了真空镀膜层的颜色。

Description

镀膜件及其制作方法
技术领域
本发明涉及一种镀膜件及其制作方法，尤其涉及一种具有黑色外观的镀膜件及其制作方法。
背景技术
黑色涂层的应用主要是为了消除或减小光线的影响，或作为产品表面的装饰涂层。目前最常用的制备黑色涂层的方法为电化学方法，如阳极氧化黑色膜，电镀黑镍或黑铬等，但该类方法污染重不环保。
PVD镀膜技术是一种较为环保的镀膜工艺。现有技术中，利用PVD镀膜技术于镀膜件表面形成的黑色膜层在工业上应用得较多的膜系主要是碳化钛(TiC)及碳化铬(CrC)等。在利用PVD镀膜技术制备黑色的碳化钛或碳化铬膜层的过程中，为了使膜层黑色的深度较大，即降低涂层的色度区域于CIE LAB表色***中的L*值使其小于35，通常需通入大量的含碳元素的反应气体，如甲烷、乙炔等，然而这些气体通入过多时，气体会与靶材反应造成靶材中毒。
发明内容
有鉴于此，本发明提供一种可避免上述问题的PVD黑色镀膜件。
另外，本发明还提供一种上述镀膜件的制作方法。
一种镀膜件，包括基体及形成于该基体上的色彩层，该色彩层为CxN层，其中2/3≦x≦3；该色彩层呈现的色度区域于CIE LAB表色***的L*坐标介于32至35之间，a*坐标介于0.6至1之间，b*坐标介于0.8至1之间。
一种镀膜件的制作方法，其包括如下步骤：
提供基体；
采用磁控溅射镀膜法，以石墨靶为靶材，以氨气为反应气体，于该基体的表面形成色彩层；该色彩层为CxN层，其中2/3≦x≦3；该色彩层呈现的色度区域于CIE LAB表色***的L*坐标介于32至35之间，a*坐标介于0.6至1之间，b*坐标介于0.8至1之间。
所述镀膜件的制作方法在溅射所述色彩层时，通过对靶材的选取、反应气体氨气流量的设计及溅射时间的控制，使色彩层呈现出稳定的黑色。以该方法所制得的镀膜件呈现出黑色外观，丰富了真空镀膜层的颜色，提高了产品的外观竞争力。更重要的是，在保证该色彩层的色度区域于CIE LAB表色***的L*低于35的情况下，无需通入甲烷、乙炔等含碳元素的反应气体，避免了因通过入过多的甲烷、乙炔等含碳元素的反应气体而造成的靶材中毒。
附图说明
图1是本发明一较佳实施例镀膜件的剖视图。
图2是本发明一较佳实施例真空镀膜机的示意图。
主要元件符号说明
镀膜件 10
基体 11
色彩层 13
真空镀膜机 20
镀膜室 21
石墨靶 23
轨迹 25
真空泵 30
如下具体实施方式将结合上述附图进一步说明本发明。
具体实施方式
请参阅图1，本发明较佳实施例的镀膜件10包括基体11及形成于基体11上的色彩层13。
所述基体11的材质可为金属、玻璃、陶瓷及塑料中的一种。
所述色彩层13为CxN层，其中2/3≦x≦3。该色彩层13肉眼直观呈现黑色，其色度区域于CIE LAB表色***的L*坐标介于32至35之间，a*坐标介于0.6至1之间，b*坐标介于0.8至1之间。所述色彩层13的厚度为500~700μm。所述色彩层13通过磁控溅射方法形成。
所述镀膜件10可为笔记型计算机、个人数字助理等电子装置的壳体，或为其他产品的装饰性部件。
上述镀膜件10的制作方法，包括以下步骤：
提供基体11。基体11的材质可为金属、玻璃、陶瓷及塑料中的一种。
将基体11放入无水乙醇中进行超声波清洗，以除去基体11表面的杂质和油污等，清洗完毕后烘干备用。
结合参阅图2，提供一真空镀膜机20，该真空镀膜机20包括一镀膜室21及连接于镀膜室21的一真空泵30，真空泵30用以对镀膜室21抽真空。该镀膜室21内设有转架(未图示)相对设置的二石墨靶23。转架带动基体11沿圆形的轨迹25公转，且基体11在沿轨迹25公转时亦自转。
在基体11的表面形成色彩层13。该色彩层13为CxN层，其采用磁控溅射的方式形成。形成该色彩层13的具体操作方法可为：如图2所示，将基体11放入真空镀膜机20的镀膜室21内，抽真空使该镀膜室21的本底真空度为8×10-3Pa，以氨气为反应气体，向镀膜室21内通入流量为300~500sccm的氨气，以氩气为工作气体，调节其流量至200~300sccm；对基体11施加-100~-250V的偏压，设置占空比为40~60%，加热该镀膜室21至120~150℃（即溅射温度为120~150℃），并设置工件架的公转转速为1.0~3.0rpm；开启石墨靶23的电源，设置其功率为7~10kw，沉积色彩层13。沉积该色彩层13的时间为60~90min（即溅射时间为60~90min）。所述色彩层13的厚度为500~700nm。
该色彩层13于CIE LAB表色***的L*坐标介于32至35之间，a*坐标介于0.6至1之间，b*坐标介于0.8至1之间。
在上述提供的参数范围内，当氨气的流量改变时，所述色彩层13中碳元素与氮元素的质量百分含量相应发生改变，色彩层13的色差值也随之改变，但均在上述色差值范围之内，均呈现为黑色。具体参数参见表1。
表1
所述镀膜件10的制作方法通过磁控溅射方法在形成所述色彩层13时，通过对靶材的选取、反应气体氨气流量的设计及溅射时间的控制，使所述色彩层13呈现出稳定的黑色。以该方法所制得的镀膜件10呈现出黑色的外观，丰富了真空镀膜层的颜色，提高了产品的外观竞争力。更重要的是，在保证该色彩层13的色度区域于CIE LAB表色***的L*低于35的情况下，无需通入甲烷、乙炔等含碳元素的反应气体，避免了因通过入过多的甲烷、乙炔等含碳元素的反应气体而造成的靶材中毒。
此外，所述色彩层13具有良好的抗磨损性能，可持久保持其良好的黑色的外观，同时还可有效防止基体11被磨损，相应地延长了镀膜件10的使用寿命。

Claims (6)

1.一种镀膜件，包括基体及形成于该基体上的色彩层，其特征在于：该色彩层为CxN层，其中2/3≦x≦3，该色彩层呈现的色度区域于CIE LAB表色***的L*坐标介于32至35之间，a*坐标介于0.6至1之间，b*坐标介于0.8至1之间。
2.如权利要求1所述的镀膜件，其特征在于：所述色彩层的厚度为500~700nm。
3.如权利要求1所述的镀膜件，其特征在于：所述色彩层肉眼直观呈现黑色。
4.如权利要求1所述的镀膜件，其特征在于：所述基体的材质为金属、玻璃、陶瓷及塑料中的一种。
5.一种镀膜件的制作方法，其包括如下步骤：
提供基体；
采用磁控溅射镀膜法，以石墨靶为靶材，以氨气为反应气体，于该基体的表面形成色彩层；该色彩层为CxN层，其中2/3≦x≦3；该色彩层呈现的色度区域于CIE LAB表色***的L*坐标介于32至35之间，a*坐标介于0.6至1之间，b*坐标介于0.8至1之间。
6.如权利要求5所述的镀膜件的制作方法，其特征在于：形成该色彩层的工艺参数为：石墨靶的功率为7~10kw，施加于基体的偏压为-100~-250V，占空比为40~60%；氨气的流量为300~500sccm，以氩气为工作气体，氩气的流量为200~300sccm，溅射温度为120~150℃，溅射时间为60~90min。
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