CN102654668B - 真空对盒设备及对盒*** - Google Patents
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Abstract
本发明实施例公开了一种真空对盒设备及对盒***，涉及液晶面板制造领域，实现了对液晶扩散过程的实时监测。本发明实施例的真空对盒设备，包括：上基板、与所述上基板相对设置的下基板和信号处理装置，所述上基板的与所述下基板相对的面上设置有电极片，所述电极片覆盖整个所述上基板，所述下基板的与所述上基板相对的面上设置有电极阵列，所述电极阵列的多个电极单元与所述信号处理装置相连接。本发明实施例的对盒***，能够根据所述液晶扩散模拟图像调整对盒的工艺参数。
Description
技术领域
本发明涉及液晶面板制造领域，尤其涉及一种真空对盒设备及对盒***。
背景技术
在液晶面板的制造过程中，将液晶面板的阵列基板和彩膜基板进行对盒时，常常会在液晶层中出现气泡等不良，严重影响了液晶面板的质量和成品率。并且气泡的产生过程无法监测，这给工艺的改善造成了很大的障碍。
发明内容
本发明的实施例所要解决的技术问题在于提供一种真空对盒设备，能够实现对液晶扩散过程的实时监测，从而改善液晶面板的生产工艺，提高成品率。
为解决上述技术问题，本发明的实施例采用如下技术方案：
一种真空对盒设备，包括：上基板、与所述上基板相对设置的下基板和信号处理装置，所述上基板的与所述下基板相对的面上设置有电极片，所述电极片覆盖整个所述上基板，所述下基板的与所述上基板相对的面上设置有电极阵列，所述电极阵列的多个电极单元与所述信号处理装置相连接。
所述信号处理装置包括二维建模单元，用于将来自所述电极阵列的电信号转换为液晶扩散模拟图像。
所述电极阵列的多个电极单元为多个微型电极片。
所述的真空对盒设备还包括电源模块，用于给所述真空对盒设备提供电源，以使所述电极片与所述电极阵列的多个电极单元之间形成电容。
所述的真空对盒设备还包括显示装置，用于显示所述液晶扩散模拟图像。
所述上基板和下基板上设置有真空吸附孔。
一种对盒***，包括上述的真空对盒设备，所述对盒***用于根据所述液晶扩散模拟图像调整对盒的工艺参数。
所述对盒的工艺参数包括：液晶量、液晶间距、液晶温度和对盒压力。
本发明实施例的真空对盒设备及对盒***，在上基板的与下基板相对的面上设置电极片，在下基板的与上基板相对的面上设置电极阵列，当给上基板的电极片和下基板的电极阵列充电时，电极片与电极阵列形成电容，液晶扩散的过程中，上基板和下基板之间在有液晶和没有液晶时电容值是不同的，电容值变化会引起下基板的电极阵列产生变化的电流，这样就将上基板和下基板之间有无液晶的变化转换为了电流的变化，也就是将液晶的扩散过程转换为了电信号的变化，实现了对液晶扩散过程的实时监测。
附图说明
为了更清楚地说明本发明实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施例描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本发明的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。
图1为本发明实施例真空对盒设备的结构示意图之一；
图2为本发明实施例真空对盒设备的结构示意图之二。
附图标记说明：
1、上基板 11、真空吸附孔 12、电极片 2、下基板21、电极阵列 3、信号处理装置 4、显示装置
具体实施方式
本发明实施例提供一种真空对盒设备及对盒***，实现了对液晶扩散过程的实时监测。
下面结合附图对本发明实施例做详细描述。
实施例一
如图1和图2所示的真空对盒设备，包括：上基板1、与上基板1相对设置的下基板2和信号处理装置3，上基板1的与下基板2相对的面上设置有电极片12，电极片12覆盖整个上基板1，下基板2的与上基板1相对的面上设置有电极阵列21，电极阵列21的多个电极单元与信号处理装置3相连接。
本实施例的真空对盒设备，通过在上基板1的与下基板2相对的面上设置电极片12，在下基板2的与上基板1相对的面上设置电极阵列21，当给上基板1的电极片12和下基板2的电极阵列21充电后，即将电极片12和电极阵列21接入具有电源的电路后，电极片12与电极阵列21之间形成电容。
在给液晶面板的阵列基板和彩膜基板之间充入液晶后，由于C＝εS/d，两基板之间有液晶和没有液晶时介电常数ε是不同的，进而上基板1和下基板2在有液晶和没有液晶时电容值是不同的，且C＝Q/U，Q＝I×t，在电压U没有改变的情况下，电容值C变化会引起下基板2的电极阵列21产生变化的电流，这样就将上基板1和下基板2之间有无液晶的变化转换为了电流的变化，也就是将液晶的扩散过程转换为了电信号的变化。电极阵列21的多个电极单元与信号处理装置3相连接，信号处理装置3按照一定的频率接收来自电极阵列21的电信号。
进一步的，信号处理装置3包括二维建模单元，用于将来自电极阵列21的电信号转换为液晶扩散模拟图像。二维建模单元将同一时刻的电信号处理为一张图像，从连续的时间段来观察，信号处理装置3的二维建模单元就将变化的电信号处理为变化的图像，从而实现了对液晶扩散过程的实时监测。
进一步的，电极阵列21的多个电极单元的功能可通过多个微型电极片来实现。
进一步的，真空对盒设备还包括电源模块，用于给包括电极片12和电极阵列21的真空对盒设备提供电源。在给上基板1的电极片12和下基板2的电极阵列21充电后，即将电极片12和电极阵列21接入具有电源的电路后，电极片12与电极阵列21的多个电极单元之间形成电容。在对盒过程中，每个小电极单元把各自对应的区域所产生的电流传给信号处理装置3。
此外，本实施例的真空对盒设备还包括显示装置4，用于显示液晶扩散模拟图像，用户通过显示装置4便可方便的对液晶扩散过程进行实时监测。
在真空对盒设备的工作过程中，需要上基板1吸附液晶面板的阵列基板，下基板2吸附液晶面板的彩膜基板，然后将上基板1移动到下基板2的正下方，上基板1向下移动，从而实现阵列基板和彩膜基板的对盒。一般情况下，吸附的方法有真空吸附和静电吸附。
当吸附的方法为真空吸附时，需要在上基板1上设置真空吸附孔11来实现对阵列基板的吸附。当吸附的方法为静电吸附时，则不需要设置真空吸附孔11，但考虑到静电会对上基板1和下基板2之间的电容产生干扰，因此，本实施例最佳的吸附方法为真空吸附，同时需要在上基板1和下基板2上设置真空吸附孔11，且真空吸附孔11穿过电极片12。
本发明实施例的真空对盒设备，在上基板的与下基板相对的面上设置电极片，在下基板的与上基板相对的面上设置电极阵列，并在电极片与电极阵列之间形成电容，液晶扩散的过程中，上基板和下基板之间在有液晶和没有液晶时电容值是不同的，电容值变化会引起下基板的电极阵列产生变化的电流，这样就将上基板和下基板之间有无液晶的变化转换为了电流的变化，也就是将液晶的扩散过程转换为了电信号的变化，实现了对液晶扩散过程的实时监测。使用本发明的真空对盒设备，再通过一定的实验，能够帮助找到能使气泡的产生降至最少的相关工艺的参数值，改善液晶面板的生产工艺，提高成品率。
实施例二
本实施例提供一种对盒***，对盒***包括实施例一中所描述的真空对盒设备，用于根据液晶扩散模拟图像调整对盒的工艺参数，其中对盒的工艺参数包括：液晶量、液晶间距、液晶温度和对盒压力。
在对盒过程中，可预先设定液晶量、液晶间距、液晶温度和对盒压力的数值，并通过真空对盒设备观察在这组参数下，液晶的扩散是否符合要求以及是否有大量气泡产生，若不符合要求，则改变液晶量、液晶间距、液晶温度和对盒压力中的至少一项参数，然后再次进行对盒测试，直至液晶的扩散符合要求、生成的气泡的数量在工艺允许的范围之内。
本实施例中的真空对盒设备的结构和工作原理同实施例一，在此不再赘述。
本实施例的对盒***，通过真空对盒设备观察液晶的扩散过程，实现了对液晶扩散过程的实时监测。使用真空对盒设备，再通过一定的实验，能够帮助找到能使气泡的产生降至最少的相关工艺的参数值，改善液晶面板的生产工艺，提高成品率。
通过以上的实施方式的描述，所属领域的技术人员可以清楚地了解到本发明可借助软件加必需的通用硬件的方式来实现，当然也可以通过硬件，但很多情况下前者是更佳的实施方式。基于这样的理解，本发明的技术方案本质上或者说对现有技术做出贡献的部分可以以软件产品的形式体现出来，该计算机软件产品存储在可读取的存储介质中，如计算机的软盘，硬盘或光盘等，包括若干指令用以使得一台计算机设备(可以是个人计算机，服务器，或者网络设备等)执行本发明各个实施例所述的方法。
以上所述，仅为本发明的具体实施方式，但本发明的保护范围并不局限于此，任何熟悉本技术领域的技术人员在本发明揭露的技术范围内，可轻易想到变化或替换，都应涵盖在本发明的保护范围之内。因此，本发明的保护范围应所述以权利要求的保护范围为准。
Claims (7)
1.一种真空对盒设备，包括：上基板、与所述上基板相对设置的下基板和信号处理装置，其特征在于，所述上基板的与所述下基板相对的面上设置有电极片，所述电极片覆盖整个所述上基板，所述下基板的与所述上基板相对的面上设置有电极阵列，所述电极阵列的多个电极单元与所述信号处理装置相连接；
所述信号处理装置包括二维建模单元，用于将来自所述电极阵列的电信号转换为液晶扩散模拟图像。
2.根据权利要求1所述的真空对盒设备，其特征在于，所述电极阵列的多个电极单元为多个微型电极片。
3.根据权利要求1所述的真空对盒设备，其特征在于，还包括电源模块，用于给所述真空对盒设备提供电源，以使所述电极片与所述电极阵列的多个电极单元之间形成电容。
4.根据权利要求1所述的真空对盒设备，其特征在于，还包括显示装置，用于显示所述液晶扩散模拟图像。
5.根据权利要求1所述的真空对盒设备，其特征在于，所述上基板和下基板上设置有真空吸附孔。
6.一种对盒***，包括如权利要求1-5任意一项所述的真空对盒设备，其特征在于，所述对盒***用于根据所述液晶扩散模拟图像调整对盒的工艺参数。
7.根据权利要求6所述的对盒***，其特征在于，所述对盒的工艺参数包括：液晶量、液晶间距、液晶温度和对盒压力。
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