CN102593363B - 一种高效发光的电致发光器件 - Google Patents

Abstract

本发明提供了一种高效发光的电致发光器件，包括透明基底、增光结构和有机发光二极管单元，所述之有机发光二极管单元包括透明电极、至少有一个发光层的发光元件和反射电极层，所述之增光结构包括光散射层，所述之光散射层包含高折射率基体和散射分散体，所述之高折射率基体为含有无机纳米颗粒的纳米复合材料，由纳米粒子和高折射率的有机修饰体组成；所述之散射分散体为折射率不同于基体的微米级的颗粒或空穴。本发明的电致发光器件具有下列技术效果：1）提高了光输出效率；2）降低了生产成本。

Description

一种高效发光的电致发光器件

技术领域

本发明涉及一种电致发光器件，具体地说，涉及一种能够提高发光效率的电致发光器件。

背景技术

电致发光器件(LED)，主要包括以下几种：有机电致发光器件(OLED)、高分子电致发光器件(PLED)和无机电致发光器件，例如QD-LED。

现有的LED通常包括一个透明基底、一个透明第一电极层、一个发光元件和一个反射第二电极层。当电子和空穴从两个电子穿过发光元件注入到LED中，共同结合或者碰撞而产生光，发光元件通常包括几层材料，其中至少包括一层用于发光的发光层。OLED的发光元件通常包括一个电子注入层、一个电子传输层、一个或多个发光层、一个空穴传输层和一个空穴注入层。可以组合其中一层或几层，也可以去除其中一层或几层，也可以在它们基础上增加电子阻挡层或者空穴阻挡层。一般情况下，第一电极是阳极，第二电极是阴极。

发光材料的光折射率通常高于空气的光折射率，在发光层和空气之间通常折射率介于两者之间的一层或者多层材料。当光从高折射率层进入低折射率层会发生全内反射。全内反射光被困在高折射率层，不能传输进入低折射率层。在OLED中，发光层的光折射率为1.7-1.8，透明电极层的光折射率为1.9，基底的光折射率为1.5。全内反射发生在透明电极层和基底的界面上，一部分光从发光层到达界面，角度大于正常的临界角，这些光被困在有机层和透明电极层之间，最后被各层的材料吸收或者从OLED的边界射出，没有发挥任何作用，这部分光被称为有机光。全内反射同样发生在基底和空气的界面上，一部分光到达界面，角度大于正常的临界角，这些光被困在基底、透明电极层和有机层之间，最后被各层的材料吸收或者从OLED的边界射出，没有发挥任何作用，这部分光被称为基底光。据估计，发光层发出的光超过50％成为有机光，超过30％成为基底光，只有不到20％被输出到空气中，成为可被使用的光。这20％的实际上从LED中发出的光被称为空气光，全内反射导致的光阱大大降低了LED的发光效率。

目前也已经采取各种措施来通过降低光阱作用而使得有机光和基底光能够从LED中输出，从而增加薄膜LED的发光效率，这些尝试详细记载在下列文件中：U.S专利文本.Nos.5,955,837，5,834,893；6,091,195；6,787,796，6,777,871；U.S.专利申请公开文本Nos.2004/0217702A1，2005/0018431A1，2001/0026124A1；世界专利WO 02/37580A1，WO02/37568A1。

总的说来，现有的措施通常是提供一种能够改变光的方向的增光结构，这样一部分由于全内反射而被困住的光能能够传输到空气中。

大部分情况下，这些增光结构被设置在透明基底的外表面，由于有机光永远不能到达这些结构，因此这些增光结构仅能使用空气光和基底光。由于有机光占有发出的光的一半，因此这些增光结构不能有效地增加光的输出，为了有效地提取这三种光，增光结构必须设在透明电极的附近，现有发明中的底部发光结构，将增光结构设在靠近电极层，意味着增光结构在LED内必须设在透明电极和基底之间，设计这个内部增光结构意味着复杂的技术挑战，因为除非能保证薄膜LED的完美，将增光结构设在LED内部会导致许多不好的结果，包括设备的完全短路。尽管有许多关于内部增光结构的建议，但是实际现有技术中并没有达到这样的产生更好发光效率的器件。

发明内容

本发明的目的是克服现有技术的不足之处，提供一种高效发光的电致发光器件。

本发明的高效发光的电致发光器件，包括透明基底、增光结构和有机发光二极管单元，所述之有机发光二极管单元包括透明电极、至少有一个发光层的发光元件和反射电极层，所述之增光结构包括光散射层，所述之光散射层包含高折射率基体和散射分散体，所述之高折射率基体为含有无机纳米颗粒的纳米复合材料，由纳米粒子和高折射率的有机修饰体组成；所述之散射分散体为折射率不同于基体的微米级的颗粒或空穴。光散射层用于通过光散射的产生将困在发光器件的光提取出去。

所述的高效发光的电致发光器件中，所述之增光结构还带有高折射率的表面平滑层。表面平滑层用于进一步改善表面平滑度。

所述的高效发光的电致发光器件中，所述之有机发光二极管单元还包括防短路层。

所述的高效发光的电致发光器件中，所述之高折射率基体的折射率为1.5-2.7。

所述的高效发光的电致发光器件中，所述之表面平滑层的材料为聚合物或者含有无机纳米粒子的纳米复合材料，纳米复合材料由纳米粒子和高折射率的有机修饰体组成。

所述的高效发光的电致发光器件中，所述之纳米粒子选自氧化铝、氧化锑、氧化镉、氧化锆、氧化铁、氧化铜、氧化铅、氧化锰、氧化锡、硒化锌、碲化锌、硫化锌、氧化锌、硫化镉、硒化镉、氧化硅、氧化钛或硫化铅以及它们的一种或者多种混合物。

所述的高效发光的电致发光器件中，所述之高折射率的有机修饰体的折射率大于1.65。

所述的高效发光的电致发光器件中，所述之高折射率的有机修饰体的结构为：Y-R-X。

所述的高效发光的电致发光器件中，所述之官能团Y为可与无机纳米颗粒形成物理或化学键合的基团。

所述的高效发光的电致发光器件中，所述之官能团Y选自巯基、羟基、羧酸基、磺酸基、磷酸基和烷基硅氧基。

所述的高效发光的电致发光器件中，所述之官能团X选自任何有机官能团。

所述的高效发光的电致发光器件中，所述之官能团X是可聚合基团。

所述的高效发光的电致发光器件中，所述之官能团X选自-OH、-COOH、-NH2、-NCO或双键。

所述的高效发光的电致发光器件中，所述之官能团R具有高折射率。

所述的高效发光的电致发光器件中，所述之官能团R含硫或含共轭基团结构。

所述的高效发光的电致发光器件中，所述之聚合物选自聚酯、聚砜、聚氨酯、聚酰胺或乙烯基聚合物。

所述的高效发光的电致发光器件中，所述之聚合物选自聚乙烯基咔唑、聚萘乙烯、聚苯硫醚、聚乙烯基噻吩、含苯硫醚和萘基的聚氨脂、苯硫醚聚酰胺、聚硫代丙烯酸脂、聚硫代甲基丙烯酸脂盐或聚丙烯酸2-苯基-2-硫苯基乙基脂。

所述的高效发光的电致发光器件中，所述之聚合物为线性的、支化的和交联的结构。

所述的高效发光的电致发光器件中，所述之散射分散体的尺寸为0.3-3微米。

所述的高效发光的电致发光器件中，所述之散射分散体与高折射率基体的差值大于0.1。

所述的高效发光的电致发光器件中，所述之散射分散体与高折射率基体的差值大于1.0。

所述的高效发光的电致发光器件中，所述之散射分散体选自聚合物、无机玻璃、气体或真空空穴。

所述的高效发光的电致发光器件中，所述之表面平滑层的厚度为0.05～5微米。

所述的高效发光的电致发光器件中，所述之防短路层的厚度为10nm-200nm。

所述的高效发光的电致发光器件中，所述之防短路层的表面电阻率为1×10⁶欧姆/平方-1×10¹²欧姆/平方。

所述的高效发光的电致发光器件中，所述之防短路层的材料选自氧化钼、氧化钡、氧化锑、氧化铋、氧化铼、氧化钽、氧化钨、氧化铌、氧化镍或它们的混合物。

所述的高效发光的电致发光器件中，所述之防短路层的材料为混合导电氧化物和绝缘材料，其中所述之混合导电氧化物包括氧化铟、氧化镓、氧化锌、氧化锡、铝掺杂氧化锌或它们的混合物，所述之绝缘材料选自氧化物、氟化物、氮化物、硫化物或它们的混合物。

所述的高效发光的电致发光器件中，所述之防短路层的材料为铟锡氧化物与硫化锌的混合物或者铟锡氧化物与硫化锌、二氧化硅的混合物。

所述的高效发光的电致发光器件中，所述之防短路层的材料为包括PEDOT/PSS、聚噻吩或者聚苯胺的有机材料。

所述的高效发光的电致发光器件中，所述之反射电极层选自银、铜、铝或者它们的合金。

所述的高效发光的电致发光器件中，所述之LED单元为堆叠式LED。

本发明的制备高效发光的电致发光器件的方法，包括下列步骤：

1)准备至少有一个光滑面的载体；

2)把高折射率基体层安装在载体的光滑面上；

3)将分散体安装在基体层中，形成光散射层；

4)在提供载体的对面安装一个基底，粘结在散射层上；

5)将粘有光散射层的基底与载体分离；

6)在光散射层上装上一个有机发光二极管单元。

所述的方法，包括下列步骤：

1)准备至少有一个光滑面的载体；

2)把高折射率基体层安装在载体的光滑面上；

3)将分散体安装在基体层中，形成散射层；

4)提供载体的对面安装一个基底，粘结在散射层上；

5)将粘有光散射层的基底与载体分离；

6)在光散射层上加一个光滑层；

7)在光滑层上装上一个有机发光二极管单元。

所述的方法，包括下列步骤：

1)把高折射率基体层和分散体混合物直接安装在基体上；

2)在光散射层上装上一个有机发光二极管单元。

所述的方法，包括下列步骤：

1)把高折射率基体层和分散体混合物直接安装在基体上形成光散射层；

2)在光散射层上加一层个光滑层；

3)在光滑层上装上一个有机发光二极管单元。

所述的方法中，光散射层的形成方法为：首先将散射分散体通过溶液共混的方法混入，并涂抹在透明基底上而形成。

所述的方法中，光散射层的形成方法为：首先通过机械压印生成带空穴的薄膜，然后粘接在透明基底上而形成。

所述的方法中，光散射层的形成方法为：首先由水微粒的冷凝/蒸发在成膜时自组装形成空穴，然后粘接在透明基底上而形成。

所述的方法中，还包括加上表面平滑层这个步骤。

所述的方法中，还包括加上防短路层这个步骤。

所述的方法中，所述之载体为钢化玻璃或者塑料。

所述的方法中，所述之载体为软板。

所述的方法中，所说的载体为卷状，并在各个步骤后切成片状。

所述的方法中，所述之制备电致发光器件的方法还包括在将散射层安装在载体之前，使用脱模剂对载体进行预处理。

当光从发光单元的发光层发出，传输经过透明电极层，撞击在散射层上，被散射。部分有机光和基底光得以小于临界角的角度散射出去，能够进入到空气中。由于表面平滑层的折射率高于发光层，因此，原本为空气光、基底光和有机光都能透过散射层，并且能够有效地散射。散射粒子与透明电极层的邻近同样能确保好的光穿透以及好的散射效率。通过选择光折射率小于等于基底的保护层，本发明的光输出效率能够进一步地提高，这样散射光从散射层进入保护层在保护层/基底或者基底/空气的界面上发生更少的内反射损失。

平滑层具有高折射率，而且其折射率大于等于发光层的折射率，这样能够促进光结合到散射层上，能够提高光提取效率。防短路层折射率很高，而且能够减少短路对于发光器件的损害。

堆叠型的有机发光二极管单元带有多个发光元件，每个发光元件至少有一个发光层。当在透明电极层和反射电极层间通电，电流经过多个发光层，使得所有发光层都有发光，从而增加了发光效率。

本发明的技术效果：1)提高了光输出效率；2)降低了生产成本。

附图说明

图1为本发明实施例1的OLED的剖面图；

图2为本发明实施例2的OLED的剖面图；

图3为本发明实施例3的OLED的剖面图；

图4为本发明实施例4的OLED的剖面图；

图5为本发明实施例5的OLED的剖面图；

其中，10为基底，14为光散射层，20为反射电极层，30为表面平滑层，40为透明电极层，50为防短路层，60、60a为发光元件，70为连接单元。

具体实施方式

实施例1

如图1所示，本实施例的高效发光的电致发光器件包括透明基底10、增光结构和有机发光二极管单元，有机发光二极管单元包括透明电极层40、发光元件60、反射电极层20和防短路层50，增光结构包括光散射层14和表面平滑层30。

实施例2

如图2所示，本实施例的高效发光的电致发光器件包括透明基底10、增光结构和有机发光二极管单元，有机发光二极管单元包括透明电极层40、发光元件60和反射电极层20，增光结构包括光散射层14。

实施例3

如图3所示，本实施例的高效发光的电致发光器件包括透明基底10、增光结构和有机发光二极管单元，有机发光二极管单元包括透明电极层40、发光元件60、反射电极层20和防短路层50，所述之增光结构包括光散射层14。

实施例4

如图4所示，本实施例的高效发光的电致发光器件包括透明基底10、增光结构和有机发光二极管单元，有机发光二极管单元包括透明电极层40、发光元件60和反射电极层20，所述之增光结构包括光散射层14和表面平滑层30。

实施例5

如图5所示，本实施例的高效发光的电致发光器件包括透明基底10、增光结构和有机发光二极管单元，有机发光二极管单元包括透明电极层40、发光元件60、60a、连接单元70、反射电极层20和防短路层50，所述之增光结构包括光散射层14和表面平滑层30。

连接单元70帮助两个相邻的有机发光二极管单元的电子注射入电子运输层，空穴注射入空穴运输层。优选地，连接单元是透明的，并且串联在OLED上。

实施例6制备高折射率的长链稳定剂有机修饰体

第一步

2，2’-二乙二巯基硫醚(50g，0，32mol)溶解于200ml乙醇中，通入氮气鼓泡将溶液中的氧气排净。加入20g(0.29mol)乙醇钠的乙醇溶液。室温下，滴加溴乙烷30g(0.28mol)。保持室温20小时。过滤除去生成的溴化钠，用***/水***萃取、清洗，最后减压蒸馏得到化合物二乙二硫醇单乙基硫醚，30g(产率51％)。NMR氢谱(1.3ppm，t，3H；2.5ppm，q，2H；2.8-2.9，m，8H)

第二步

二乙二硫醇单乙基硫醚(25g，0.14mol)溶解于200ml无水四氢呋喃(THF)，加入3-异氰酸酯基丙基三甲氧基硅烷(40g，0.195mol)。反应在氮气的保护下回流6小时。真空蒸馏除去溶剂和未参加反应的化合物，获得粗产物。用己烷/***混合物萃取得到最后产物。根据NMR谱图主要成分为产物，纯度在85-90％(0.5ppm，m，2H；1.25ppm，t，3H；1.5ppm，t，2H；2.5ppm，q，2H；2.8ppm，t，4H；3.1-3.4ppm，m，15H)

实施例7制备高折射率的长链稳定剂有机修饰体

第一步

2，2’-二乙二巯基硫醚(46g，0，30mol)溶解于200ml乙醇中，通入氮气鼓泡将溶液中的氧气排净。加入21g(0.30mol)乙醇钠的乙醇溶液。室温下，滴加2-氯乙醇40g(0.5mol)。在氮气的保护下回流4小时。过滤除去生成的氯化钠，用***/水***萃取、清洗，最后减压蒸馏得到产物，42g(产率70％)。NMR氢谱(3.4ppm，t，2H；2.7-2.9ppm，m，10H)

第二步

用用上一步中的产物作为反应物，将获得的a-巯基-w-羟基化合物(25g，0，126mol)溶解于200ml乙醇中，通入氮气鼓泡将溶液中的氧气排净。加入8.2g(0.12mol)乙醇钠的乙醇溶液。室温下，滴加4-氯甲基苯乙烯20g(0.13mol)和少量的阻聚剂。在氮气的保护下回流2小时。过滤除去生成的氯化钠，用***/水***萃取、清洗，最后上硅胶柱用己烷/乙酸乙酯混合物淋洗得到化合物，24g(产率58％)。NMR氢谱(2.5-2.9ppm，m，10H；3.4ppm，t，2H；3.7ppm，s，2H；5.2ppm，d，1H；5.6ppm，d，1H；6.5ppm，m，1H；7.2ppm，d，2H；7.6ppm，d，2H)

第三步

用上一步中的产物作为反应物，获得含有双键相应的长链稳定剂。根据NMR结果，纯度为85％。主要NMR峰值(0.5ppm，Si-CH2-；1.5ppm，CH2-CH2-CH2；5.2-6.5ppm，双键；7.2-7.6ppm，苯环)

实施例8制备高折射率的长链稳定剂有机修饰体

第一步

2，2’-二乙二巯基硫醚(50g，0，32mol)溶解于200ml乙醇中，通入氮气鼓泡将溶液中的氧气排净。加入20g(0.29mol)乙醇钠的乙醇溶液。室温下，滴加苄基溴48g(0.28mol)。保持室温20小时。过滤除去生成的溴化钠，用***/水***萃取、清洗，最后减压蒸馏得到化合物二乙二硫醇单苄基硫醚，52g(产率71％)。NMR氢谱(2.7-2.9ppm，m，8H；3.7ppm，s，2H；7.2-7.4ppm，m，5H)。

第二步

按照实施例6的相同方法，用第一步中的产物作为反应物，获得相应的长链稳定剂。根据NMR结果，纯度86％。

实施例9制备高折射率的长链稳定剂有机修饰体

第一步

2，2’-二乙二巯基硫醚(50g，0，32mol)溶解于200ml乙醇中，通入氮气鼓泡将溶液中的氧气排净。加入20g(0.29mol)乙醇钠的乙醇溶液。室温下，滴加1-溴甲基萘66g(0.30mol)。保持室温20小时。过滤除去生成的溴化钠，用***/水***萃取、清洗，最后上硅胶柱用己烷/乙酸乙酯混合物淋洗得到化合物，二乙二硫醇单萘甲基硫醚，54g(产率61％)。NMR氢谱(2.7-2.9ppm，m，8H；4.1ppm，s，2H；7.0-8.2ppm，m，7H)

第二步

按照实施例6的相同方法，用第一步中的产物作为反应物，获得相应的长链稳定剂。根据NMR结果，纯度在80％。

实施例10制备高折射率的长链稳定剂有机修饰体

第一步

2，2’-二乙二巯基硫醚(50g，0，32mol)溶解于200ml乙醇中，通入氮气鼓泡将溶液中的氧气排净。加入20g(0.29mol)乙醇钠的乙醇溶液。室温下，滴加2-氯甲基二噻吩64g(0.3mol)。保持室温20小时。过滤除去生成的氯化钠，用***/水***萃取、清洗，最后上硅胶柱用己烷/乙酸乙酯混合物淋洗得到化合物，二乙二硫醇单二噻吩甲基硫醚，48g(产率48％)。NMR氢谱(2.7-2.9ppm，m，8H；3.7ppm，s，2H；6.8ppm，d，1H；7.2ppm，t，1H；7.5-7.7ppm，m，3H)

第二步

按照实施例6的相同方法，用第一步中的产物作为反应物，获得相应的长链稳定剂。根据NMR结果，纯度在90％。

实施例11制备高折射率的长链稳定剂有机修饰体

第一步

2，2’-二乙二巯基硫醚(50g，0，32mol)溶解于200ml乙醇中，通入氮气鼓泡将溶液中的氧气排净。加入20g(0.29mol)乙醇钠的乙醇溶液。0℃，滴加丙烯酸酰氯27g(0.3mol)。保持室温20小时。加入少量的阻聚剂，过滤除去生成的氯化钠，用***/水***萃取、清洗，最后减压蒸馏得到化合物二乙二硫醇单丙烯酸硫脂，45g(产率72％)。NMR氢谱(2.7ppm，t，2H；2.9ppm，t，2H；3.1ppm，t，2H；3.3ppm，t，2H；5.9ppm，d，1H；6.2ppm，d，1H；6.4ppm，m，1H)

第二步

按照实施例6的相同方法，用第一步中的产物作为反应物，获得相应的长链稳定剂。根据NMR结果，纯度在84％。

实施例12制备表面修饰的纳米复合材料

1、合成氧化钛纳米粒子

将100g钛酸丁酯，17.1g正己酸和9.26g去离子水混匀后，置于可搅拌的高压釜中，鼓泡10min排除反应釜内多余的空气，加热到250℃，在该温度下维持5h。至反应釜冷却至室温，釜内外压力相等后取出反应液，离心，所得固体用正己烷洗涤3次，置于冰箱冷冻待用。

2、二氧化钛表面修饰

取湿二氧化钛固体2.41g分散于40ml二甲苯，加入1.0g实施例6制备的含硫长链硅氧烷和0.3g实施例7制备的不饱和含硫长链硅氧烷化合物，80℃反应2h，离心，正己烷洗涤后离心得到固体，分散于二甲苯，待用。

实施例13制备表面修饰的纳米复合材料

1、合成氧化钛纳米粒子

将150g钛酸丁酯，50ml正丁醇，25.5g正己酸和14.0g去离子水混匀后，置于可搅拌的高压釜中，鼓泡10min排除反应釜内多余的空气，加热到250℃，在该温度下维持5h。至反应釜冷却至室温，釜内外压力相等后取出反应液，离心，所得固体用正己烷洗涤3次，置于冰箱冷冻待用。

2、二氧化钛表面修饰

取湿二氧化钛固体7.6g分散于150ml丁酮，加入1.0g实施例6制备的含硫长链硅氧烷和0.3g实施例7制备的不饱和含硫长链硅氧烷化合物，68℃反应2h后，加入2.27g 5％氨水，降温至45℃，反应过夜。减压蒸馏除去大部分溶剂后，加入正己烷洗涤，离心，重新分散在正己烷中，洗涤，离心得到固体，分散于2-戊酮，待用。

实施例14制备表面平滑层并检测其折光性能

取实施例13硅氧烷修饰过的二氧化钛分散于2-戊酮，配制成质量浓度为10％的分散液。采用旋涂的方式涂覆在2cm×2cm硅片及玻璃上，转速1000rpm，时间20秒，110℃下真空烘烤5h。膜厚和折光指数通过膜厚仪测得，见表1。

表1

膜厚(nm)	折光率
		183.2	2.245
204.5	2.096
		220.6	2.125
195.8	2.256
		178.9	2.284
214.5	2.143
		225.3	2.015
189.8	2.251

从表1可以看出，制得表面平滑层具有高折光指数。

实施例15制备光散射层

光散射层包含高折射率基体和散射分散体，高折射率基体为含有无机纳米颗粒的纳米复合材料，由纳米粒子和高折射率的有机修饰体组成；散射分散体为折射率不同于基体的微米级的颗粒或空穴。实施例13是高折射率基体的一个例子。TiO2是散射分散体的例子。

第一步

将10g TiO₂(Dupont R系列)和1g分散剂(路博润Solsperse系列)加至200g甲苯溶剂中，放入磨介后进行研磨，19h后取样进行光散射测试，TiO2的分散稳定性用平均计数率的变化来衡量。将4.67g上述TiO2悬浮液与0.20gUV胶(固丽宝UV胶)分散于3.13g甲苯中，取约1mL混合液滴加于大小为50mm×50mm的玻璃片上，在3000rpm的转速下利用旋转涂布制得散射膜，UV固化15秒后，90℃烘烤15min，膜厚为450nm左右。

第二步

在上步得到的膜上旋涂50％(wt)UV胶后(固丽宝UV胶)，浸润散射层，在真空环境中，用UV胶贴合基底与载体，UV固化后，移除作为载体的玻璃，得到散射颗粒在上的基底结构。

实施例16制备增光结构

在实施例15的光散射层上旋涂实施例12中硅氧烷修饰过的二氧化钛溶胶，旋涂时间20s，所得样品膜在110℃下真空烘烤5h，得到OLED增光结构。

实施例17制备绿光器件

在10^-5Pa的真空度下，在具有厚度为150nm ITO的透明电极的玻璃基底上依次沉积1nm MoO₃空穴注入层/40nm NPB空穴传输层/30nm磷光主体材料EB915和绿光掺杂材料Ir(ppy)₃/40nm EK-ET604电子传输层/10nm BCP：LiF电子注入层/150nm Al电极，完成绿光器件制作。将上述玻璃基底换成带有增光结构的基底重复以上实验，结果见表2。

实施例18制备红光器件

在接近10^-5Pa的真空度下，在具有厚度为150nm ITO的透明电极的玻璃基底上依次沉积1nm MoO₃空穴注入层/40nm NPB空穴传输层/30nm磷光主体材料EB915和红光掺杂材料IrCou6/40nm EK-ET604电子传输层/10nm BCP：LiF电子注入层/150nm Al电极，完成红光器件制作。将上述玻璃基底换成带有增光结构的基底重复以上实验，结果见表2。

实施例19制备蓝光器件

在接近10^-5Pa的真空度下，在具有厚度为150nm ITO的透明电极的玻璃基底上依次沉积1nm MoO₃空穴注入层/40nm NPB空穴传输层/30nm荧光光主体材料EK1和蓝光掺杂材料EK9/40nm EK-ET604电子传输层/10nm BCP：LiF电子注入层/150nm Al电极，完成蓝光器件制作。将上述玻璃基底换成带有增光结构的基底重复以上实验，结果见表2。

实施例20制备白光器件

在接近10^-5Pa的真空度下，在具有厚度为150nm ITO的透明电极的玻璃基底上溅镀一层25nm厚BaSrO₃，作为防短路层。然后依次沉积1nm MoO₃空穴注入层/40nm NPB空穴传输层/30nm荧光光主体材料EK1和蓝光掺杂材料EK9/40nmEK-ET604电子传输层/10nm BCP：LiF电子注入层/1nmMoO₃空穴注入层/40nm NPB空穴传输层/30nm磷光主体材料EB915和绿光掺杂材料Ir(ppy)₃/30nm磷光主体材料EB915和红光掺杂材料IrCou6/40nm EK-ET604电子传输层/10nm BCP：LiF电子注入层/150nm Al电极，完成白光器件制作。将上述素玻璃基底换成带有增光结构的基底，在增光结构上溅镀一层150nm ITO后重复以上实验，见表2。

表2

Claims (10)

1.一种电致发光器件的制备方法，所述的电致发光器件包括透明基底、增光结构和有机发光二极管单元，所述之有机发光二极管单元包括透明电极、至少有一个发光层的发光元件和反射电极层，所述之增光结构包括光散射层，所述之光散射层包含高折射率基体和散射分散体，所述之高折射率基体为含有无机纳米颗粒的纳米复合材料，由纳米粒子和高折射率的有机修饰体组成；所述之散射分散体为折射率不同于基体的微米级的颗粒或空穴，

其特征在于，制备方法包括下列步骤：

1）准备至少有一个光滑面的载体；

2）把高折射率基体层安装在载体的光滑面上；

3）将分散体安装在基体层中，形成光散射层；

4）在提供载体的对面安装一个基底，粘结在散射层上；

5）将粘有光散射层的基底与载体分离；

6）在光散射层上装上一个有机发光二极管单元。

2.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于，所述之增光结构还带有高折射率的表面平滑层，制备方法包括下列步骤：

1）准备至少有一个光滑面的载体；

2）把高折射率基体层安装在载体的光滑面上；

3）将分散体安装在基体层中，形成散射层；

4）提供载体的对面安装一个基底，粘结在散射层上；

5）将粘有光散射层的基底与载体分离；

6）在光散射层上加一个表面平滑层；

7）在表面平滑层上装上一个有机发光二极管单元。

3.根据权利要求1或2所述的制备方法，其特征在于，光散射层的形成方法为：首先将散射分散体通过溶液共混的方法混入，并涂抹在透明基底上而形成。

4.根据权利要求1或2所述的制备方法，其特征在于，光散射层的形成方法为：首先通过机械压印生成带空穴的薄膜，然后粘接在透明基底上而形成。

5.根据权利要求1或2所述的制备方法，其特征在于，光散射层的形成方法为：首先由水微粒的冷凝/蒸发在成膜时自组装形成空穴，然后粘接在透明基底上而形成。

6.根据权利要求1或2所述的制备方法，其特征在于，还包括加上防短路层这个步骤。

7.根据权利要求1或2所述的制备方法，其特征在于，所述之载体为钢化玻璃或者塑料。

8.根据权利要求1或2所述的制备方法，其特征在于，所述之载体为软板。

9.根据权利要求1或2所述的制备方法，其特征在于，所说的载体为卷状，并在各个步骤后切成片状。

10.根据权利要求1或2所述的制备方法，其特征在于，所述之制备电致发光器件的方法还包括在将散射层安装在载体之前，使用脱模剂对载体进行预处理。