CN102586858A - 一种双坩埚感应加热物理气相传输生长单晶的装置 - Google Patents
一种双坩埚感应加热物理气相传输生长单晶的装置 Download PDFInfo
- Publication number
- CN102586858A CN102586858A CN2012100942850A CN201210094285A CN102586858A CN 102586858 A CN102586858 A CN 102586858A CN 2012100942850 A CN2012100942850 A CN 2012100942850A CN 201210094285 A CN201210094285 A CN 201210094285A CN 102586858 A CN102586858 A CN 102586858A
- Authority
- CN
- China
- Prior art keywords
- crucible
- induction heating
- physical vapor
- heating physical
- double
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Images
Abstract
一种双坩埚感应加热物理气相传输生长单晶的装置,属于单晶生长技术领域,特别是涉及感应加热物理气相传输生长单晶的装置。包括保温筒,在所述保温筒内设有外坩埚,在所述外坩埚内设有内坩埚,单晶原料与籽晶位于内坩埚内。与使用单坩埚的现有技术相比,本发明不但可以大大减少高熔点坩埚材料的消耗,而且内坩埚取出时不会蹭掉保温材料,从而延长了保温材料的使用寿命。
Description
技术领域
本发明属于单晶生长技术领域,特别是涉及感应加热物理气相传输生长单晶的装置。
背景技术
感应加热物理气相传输法生长单晶时,需要使用高熔点材料(例如:高纯石墨、金属钽、钨等)制作坩埚,用来盛装料源(放在埚底)和籽晶(装在埚盖内表面)。目前一般都是用一个坩埚(以下简称为“单坩埚”),既作发热体、又作生长腔,结构比较简单。但是,为了满足发热和温场的要求,单坩埚的尺寸需要做得比单纯装料所需的坩埚尺寸大很多,而取出生成的单晶时,一般只能破坏坩埚。因此,单坩埚只能一次性使用,这导致高熔点坩埚材料消耗大、坩埚成本高。另外,单坩埚每次出炉的时容易蹭掉一些紧贴其外壁的保温材料,再次装炉时需要补充,甚至重新加工保温筒。
发明内容
本发明要解决的技术问题是克服现有单坩埚造成的坩埚一次性使用、成本高的缺陷,提供了一种双坩埚装置,其中的外坩埚可多次使用,操作方便、成本降低。
为了解决上述技术问题,本发明提供了如下的技术方案:
一种双坩埚感应加热物理气相传输生长单晶的装置,包括保温筒,在所述保温筒内设有外坩埚,在所述外坩埚内设有内坩埚,单晶原料与籽晶位于内坩埚内。
所述内坩埚设有用于放置籽晶的埚盖。
本发明适用于所有感应加热物理气相传输法生长单晶的方法,包括但不限于碳化硅、氮化铝。
本发明装置是这样实现其功能的:感应加热物理气相传输法生长单晶时,使用内外两套同轴的高熔点材料坩埚(简称“双坩埚”),外坩埚用以满足发热和温场的要求,尺寸较大;内坩埚只用来盛装原料(放在埚底)和籽晶(装在埚盖内表面),尺寸较小。内坩埚同轴地放在外坩埚底部,两个坩埚各自都有埚盖可以密封,或者外坩埚也可以不加埚盖,以便于取出内坩埚。生长结束之后,从外坩埚中取出内坩埚,打开内坩埚、取出晶锭;而外坩埚不动,可以多次使用。
与使用单坩埚的现有技术相比,本发明不但可以大大减少高熔点坩埚材料的消耗,而且内坩埚取出时不会蹭掉保温材料,从而延长了保温材料的使用寿命。总之,本发明装置可以简化工艺、降低成本。
附图说明
附图用来提供对本发明的进一步理解,并且构成说明书的一部分,与本发明的实施例一起用于解释本发明,并不构成对本发明的限制。在附图中:
图1是本发明双坩埚装置的结构示意图。
具体实施方式
以下结合附图对本发明的优选实施例进行说明,应当理解,此处所描述的优选实施例仅用于说明和解释本发明,并不用于限定本发明。
图1所示,一种双坩埚感应加热物理气相传输生长单晶的装置,包括感应圈4和保温筒1,在保温筒1内设有外坩埚2,在外坩埚2内设有内坩埚3,单晶原料5(放在埚底)与籽晶6(装在埚盖内表面)位于内坩埚3内。其中,内外坩埚各自都有埚盖可以密封,或者外坩埚也可以不加埚盖(图1所示),以便于取出内坩埚。
实施例1:
使用本发明装置和感应加热物理气相传输法生长6英寸直径的碳化硅单晶。使用内外两套同轴的高纯石墨坩埚(简称“双坩埚”),外坩埚内径200毫米、外径250毫米、外部高300毫米、内腔高250毫米;内坩埚只用来盛装原料(放在埚底)和籽晶(装在埚盖内表面), 内径160毫米、外径180毫米、外部高160毫米、内腔高120毫米。内坩埚同轴地放在外坩埚底部,内坩埚有埚盖密封,而外坩埚不加埚盖,以便于取出内坩埚。生长结束之后,从外坩埚中取出内坩埚,锯开内坩埚、取出6英寸直径的碳化硅晶锭;而外坩埚不动,可以循环使用。
实施例2:
使用本发明装置和感应加热物理气相传输法生长1英寸直径的氮化铝单晶。使用内外两套同轴的钽坩埚(简称“双坩埚”),外坩埚内径41毫米、外径80毫米、外部高80毫米、内腔高60毫米;内坩埚只用来盛装原料(放在埚底)和籽晶(装在埚盖内表面), 内径为30毫米、外径40毫米、外部高50毫米、内腔高40毫米。内坩埚同轴地放在外坩埚底部,内外坩埚都有埚盖密封。生长结束之后,打开外坩埚盖、从外坩埚中取出内坩埚,锯开内坩埚、取出1英寸直径的氮化铝单晶锭;而外坩埚不动,可以循环使用。
最后应说明的是:以上所述仅为本发明的优选实施例而已,并不用于限制本发明,尽管参照前述实施例对本发明进行了详细的说明,对于本领域的技术人员来说,其依然可以对前述各实施例所记载的技术方案进行修改,或者对其中部分技术特征进行等同替换。凡在本发明的精神和原则之内,所作的任何修改、等同替换、改进等,均应包含在本发明的保护范围之内。
Claims (3)
1.一种双坩埚感应加热物理气相传输生长单晶的装置,包括保温筒,其特征在于:在所述保温筒内设有外坩埚,在所述外坩埚内设有内坩埚,内外坩埚同轴,单晶原料与籽晶位于内坩埚内。
2.根据权利要求1所述的双坩埚感应加热物理气相传输生长单晶的装置,其特征在于:所述内坩埚设有用于放置籽晶的埚盖。
3.根据权利要求1或2所述的双坩埚感应加热物理气相传输生长单晶的装置,其特征在于:所述碳单晶为碳化硅或氮化铝。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
CN2012100942850A CN102586858A (zh) | 2012-04-01 | 2012-04-01 | 一种双坩埚感应加热物理气相传输生长单晶的装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
CN2012100942850A CN102586858A (zh) | 2012-04-01 | 2012-04-01 | 一种双坩埚感应加热物理气相传输生长单晶的装置 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
CN102586858A true CN102586858A (zh) | 2012-07-18 |
Family
ID=46476068
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
CN2012100942850A Pending CN102586858A (zh) | 2012-04-01 | 2012-04-01 | 一种双坩埚感应加热物理气相传输生长单晶的装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
CN (1) | CN102586858A (zh) |
Cited By (10)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN105543966A (zh) * | 2016-02-02 | 2016-05-04 | 北京华进创威电子有限公司 | 一种碳化硅单晶生长用复合保温结构 |
CN105696082A (zh) * | 2016-04-19 | 2016-06-22 | 北京世纪金光半导体有限公司 | 一种pvt法生长碳化硅单晶时随炉退火的方法 |
CN106395770A (zh) * | 2016-06-30 | 2017-02-15 | 北京华进创威电子有限公司 | 一种氮化铝原料的纯化装置及纯化方法 |
CN107829134A (zh) * | 2017-11-22 | 2018-03-23 | 北京大学 | 一种无需籽晶粘接技术的氮化铝单晶生长装置及方法 |
CN108396384A (zh) * | 2018-05-25 | 2018-08-14 | 深圳大学 | 一种制备氮化铝晶体的装置和方法 |
CN109023513A (zh) * | 2018-08-20 | 2018-12-18 | 深圳大学 | 制备氮化铝晶体的坩埚设备及方法 |
CN110067026A (zh) * | 2019-04-26 | 2019-07-30 | 山东天岳先进材料科技有限公司 | 一种碳化硅单晶及其pvt长晶方法 |
CN110568008A (zh) * | 2018-06-06 | 2019-12-13 | 耐驰-仪器制造有限公司 | 用于对试样进行热分析的测量装置和方法 |
CN112877771A (zh) * | 2021-01-04 | 2021-06-01 | 山西烁科晶体有限公司 | 一种单晶生长的坩埚和方法 |
CN113215660A (zh) * | 2021-05-07 | 2021-08-06 | 哈尔滨科友半导体产业装备与技术研究院有限公司 | 一种减少加热器损耗的碳化硅单晶生长方法 |
Citations (14)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0412096A (ja) * | 1990-04-26 | 1992-01-16 | Nippon Steel Corp | 6h型および4h型炭化珪素単結晶の成長方法 |
CN1070009A (zh) * | 1991-09-03 | 1993-03-17 | 中国科学院上海冶金研究所 | 直拉法生长锑化镓单晶的方法和装置 |
CN1156484A (zh) * | 1994-06-23 | 1997-08-06 | 英国国防部 | 晶体生长的改进 |
CN1209472A (zh) * | 1997-06-23 | 1999-03-03 | 夏普公司 | 生产多晶半导体晶锭的工艺和设备 |
EP1158077A1 (en) * | 1999-12-27 | 2001-11-28 | Showa Denko Kabushiki Kaisha | Method and apparatus for producing single crystal of silicon carbide |
CN1544715A (zh) * | 2003-11-14 | 2004-11-10 | 中国科学院物理研究所 | 物理气相传输生长碳化硅单晶的方法及其装置 |
CN1692185A (zh) * | 2002-12-18 | 2005-11-02 | 株式会社日矿材料 | 化合物半导体单晶的制造方法和晶体生长装置 |
CN201420112Y (zh) * | 2009-05-11 | 2010-03-10 | 西安理工大学 | 一种SiC体单晶的生长装置 |
CN101718722A (zh) * | 2009-11-19 | 2010-06-02 | 西北工业大学 | 一种双坩埚定向凝固装置 |
CN101812723A (zh) * | 2010-04-20 | 2010-08-25 | 中国科学院上海硅酸盐研究所 | 基于物理气相传输技术生长碳化硅体单晶方法及其装置 |
JP2011057468A (ja) * | 2009-09-07 | 2011-03-24 | Sumitomo Electric Ind Ltd | 坩堝、窒化アルミニウム単結晶の製造方法および窒化アルミニウム単結晶 |
US20120039789A1 (en) * | 2009-04-24 | 2012-02-16 | Fujikura Ltd. | Apparatus for manufacturing aluminum nitride single crystal, method for manufacturing aluminum nitride single crystal, and aluminum nitride single crystal |
CN202347126U (zh) * | 2011-10-14 | 2012-07-25 | 重庆四联光电科技有限公司 | 双坩埚感应加热炉 |
CN202643904U (zh) * | 2012-04-01 | 2013-01-02 | 北京华进创威电子有限公司 | 一种双坩埚感应加热物理气相传输生长单晶的装置 |
-
2012
- 2012-04-01 CN CN2012100942850A patent/CN102586858A/zh active Pending
Patent Citations (14)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0412096A (ja) * | 1990-04-26 | 1992-01-16 | Nippon Steel Corp | 6h型および4h型炭化珪素単結晶の成長方法 |
CN1070009A (zh) * | 1991-09-03 | 1993-03-17 | 中国科学院上海冶金研究所 | 直拉法生长锑化镓单晶的方法和装置 |
CN1156484A (zh) * | 1994-06-23 | 1997-08-06 | 英国国防部 | 晶体生长的改进 |
CN1209472A (zh) * | 1997-06-23 | 1999-03-03 | 夏普公司 | 生产多晶半导体晶锭的工艺和设备 |
EP1158077A1 (en) * | 1999-12-27 | 2001-11-28 | Showa Denko Kabushiki Kaisha | Method and apparatus for producing single crystal of silicon carbide |
CN1692185A (zh) * | 2002-12-18 | 2005-11-02 | 株式会社日矿材料 | 化合物半导体单晶的制造方法和晶体生长装置 |
CN1544715A (zh) * | 2003-11-14 | 2004-11-10 | 中国科学院物理研究所 | 物理气相传输生长碳化硅单晶的方法及其装置 |
US20120039789A1 (en) * | 2009-04-24 | 2012-02-16 | Fujikura Ltd. | Apparatus for manufacturing aluminum nitride single crystal, method for manufacturing aluminum nitride single crystal, and aluminum nitride single crystal |
CN201420112Y (zh) * | 2009-05-11 | 2010-03-10 | 西安理工大学 | 一种SiC体单晶的生长装置 |
JP2011057468A (ja) * | 2009-09-07 | 2011-03-24 | Sumitomo Electric Ind Ltd | 坩堝、窒化アルミニウム単結晶の製造方法および窒化アルミニウム単結晶 |
CN101718722A (zh) * | 2009-11-19 | 2010-06-02 | 西北工业大学 | 一种双坩埚定向凝固装置 |
CN101812723A (zh) * | 2010-04-20 | 2010-08-25 | 中国科学院上海硅酸盐研究所 | 基于物理气相传输技术生长碳化硅体单晶方法及其装置 |
CN202347126U (zh) * | 2011-10-14 | 2012-07-25 | 重庆四联光电科技有限公司 | 双坩埚感应加热炉 |
CN202643904U (zh) * | 2012-04-01 | 2013-01-02 | 北京华进创威电子有限公司 | 一种双坩埚感应加热物理气相传输生长单晶的装置 |
Cited By (13)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN105543966A (zh) * | 2016-02-02 | 2016-05-04 | 北京华进创威电子有限公司 | 一种碳化硅单晶生长用复合保温结构 |
CN105696082A (zh) * | 2016-04-19 | 2016-06-22 | 北京世纪金光半导体有限公司 | 一种pvt法生长碳化硅单晶时随炉退火的方法 |
CN106395770A (zh) * | 2016-06-30 | 2017-02-15 | 北京华进创威电子有限公司 | 一种氮化铝原料的纯化装置及纯化方法 |
CN107829134B (zh) * | 2017-11-22 | 2020-06-26 | 北京大学 | 一种无需籽晶粘接技术的氮化铝单晶生长装置及方法 |
CN107829134A (zh) * | 2017-11-22 | 2018-03-23 | 北京大学 | 一种无需籽晶粘接技术的氮化铝单晶生长装置及方法 |
CN108396384A (zh) * | 2018-05-25 | 2018-08-14 | 深圳大学 | 一种制备氮化铝晶体的装置和方法 |
CN110568008A (zh) * | 2018-06-06 | 2019-12-13 | 耐驰-仪器制造有限公司 | 用于对试样进行热分析的测量装置和方法 |
CN110568008B (zh) * | 2018-06-06 | 2022-05-17 | 耐驰-仪器制造有限公司 | 用于对试样进行热分析的测量装置和方法 |
CN109023513A (zh) * | 2018-08-20 | 2018-12-18 | 深圳大学 | 制备氮化铝晶体的坩埚设备及方法 |
CN110067026A (zh) * | 2019-04-26 | 2019-07-30 | 山东天岳先进材料科技有限公司 | 一种碳化硅单晶及其pvt长晶方法 |
CN110067026B (zh) * | 2019-04-26 | 2020-05-19 | 山东天岳先进材料科技有限公司 | 一种碳化硅单晶及其pvt长晶方法 |
CN112877771A (zh) * | 2021-01-04 | 2021-06-01 | 山西烁科晶体有限公司 | 一种单晶生长的坩埚和方法 |
CN113215660A (zh) * | 2021-05-07 | 2021-08-06 | 哈尔滨科友半导体产业装备与技术研究院有限公司 | 一种减少加热器损耗的碳化硅单晶生长方法 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
CN102586858A (zh) | 一种双坩埚感应加热物理气相传输生长单晶的装置 | |
JP5271601B2 (ja) | 単結晶の製造装置及び製造方法 | |
US20120304916A1 (en) | Method of producing silicon carbide single crystal | |
CN204417652U (zh) | 用于生长SiC晶体的石墨坩埚 | |
CN202643904U (zh) | 一种双坩埚感应加热物理气相传输生长单晶的装置 | |
CN107059130A (zh) | 一种减少碳化硅单晶中包裹体的新型坩埚及利用坩埚生长单晶的方法 | |
CN103806102B (zh) | 一种蓝宝石晶体生长热场结构 | |
JP2011098870A (ja) | SiC単結晶の製造装置及び製造方法 | |
CN207435586U (zh) | 一种生长大尺寸碳化硅单晶的热场结构 | |
CN107604439A (zh) | 一种生长大尺寸碳化硅单晶的热场结构 | |
CN104471117A (zh) | SiC单晶体的制造装置和SiC单晶体的制造方法 | |
CN110453285A (zh) | 坩埚盖及坩埚 | |
CN201463538U (zh) | 组合坩埚 | |
TW201129730A (en) | Single crystal pulling apparatus and single crystal pulling method | |
CN103757691B (zh) | 多晶硅料复投方法 | |
CN205856655U (zh) | 一种碳化硅单晶炉 | |
JP2000219595A (ja) | 坩堝、結晶成長装置、および、結晶成長方法 | |
KR20130083653A (ko) | 단결정 성장 장치 | |
CN101838843A (zh) | 单晶炉用热屏以及具有其的单晶炉 | |
JP2007308355A (ja) | 炭化ケイ素単結晶の製造装置及びその製造方法 | |
WO2010050362A1 (ja) | 炭化ケイ素単結晶の製造方法 | |
CN203807591U (zh) | 一种底部分离式碳化硅晶体生长用石墨坩埚 | |
KR101629445B1 (ko) | 대구경 단결정 성장장치 | |
CN107532328A (zh) | SiC单晶的制造方法 | |
CN201428006Y (zh) | 下降法生长单晶体用的真空石英坩埚 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
C06 | Publication | ||
PB01 | Publication | ||
C10 | Entry into substantive examination | ||
SE01 | Entry into force of request for substantive examination | ||
C12 | Rejection of a patent application after its publication | ||
RJ01 | Rejection of invention patent application after publication |
Application publication date: 20120718 |