CN102529210B - 具有保护膜层的镀膜玻璃及其制备方法 - Google Patents
具有保护膜层的镀膜玻璃及其制备方法 Download PDFInfo
- Publication number
- CN102529210B CN102529210B CN201110427129.7A CN201110427129A CN102529210B CN 102529210 B CN102529210 B CN 102529210B CN 201110427129 A CN201110427129 A CN 201110427129A CN 102529210 B CN102529210 B CN 102529210B
- Authority
- CN
- China
- Prior art keywords
- layer
- protective layer
- protective
- film
- dielectric layer
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Active
Links
- 239000011521 glass Substances 0.000 title claims abstract description 54
- 230000001681 protective effect Effects 0.000 title claims abstract description 34
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 title claims abstract description 12
- 239000010410 layer Substances 0.000 claims abstract description 89
- 239000011241 protective layer Substances 0.000 claims abstract description 72
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims abstract description 28
- 239000010408 film Substances 0.000 claims description 65
- XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N Argon Chemical compound [Ar] XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 54
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 claims description 28
- 229910052786 argon Inorganic materials 0.000 claims description 27
- 239000007789 gas Substances 0.000 claims description 22
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 18
- VNNRSPGTAMTISX-UHFFFAOYSA-N chromium nickel Chemical group [Cr].[Ni] VNNRSPGTAMTISX-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 12
- 229910001120 nichrome Inorganic materials 0.000 claims description 12
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical group [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 11
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 claims description 11
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 11
- VNWKTOKETHGBQD-UHFFFAOYSA-N methane Chemical group C VNWKTOKETHGBQD-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 9
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 claims description 9
- 239000000463 material Substances 0.000 claims description 8
- UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N Hydrogen Chemical compound [H][H] UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 claims description 6
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 claims description 6
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 claims description 6
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 claims description 6
- 239000010409 thin film Substances 0.000 claims description 6
- 239000003595 mist Substances 0.000 claims description 5
- 238000000151 deposition Methods 0.000 claims description 4
- 230000008021 deposition Effects 0.000 claims description 4
- 238000001704 evaporation Methods 0.000 claims description 4
- 230000008020 evaporation Effects 0.000 claims description 4
- 238000007747 plating Methods 0.000 claims description 4
- BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N Silver Chemical group [Ag] BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 229910010413 TiO 2 Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 229910052709 silver Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 239000004332 silver Substances 0.000 claims description 3
- 239000010935 stainless steel Substances 0.000 claims description 3
- 229910001220 stainless steel Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 229910006404 SnO 2 Inorganic materials 0.000 claims description 2
- -1 ZnSO 3 Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 229910052804 chromium Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 238000009792 diffusion process Methods 0.000 abstract description 3
- 230000003647 oxidation Effects 0.000 abstract description 3
- 238000007254 oxidation reaction Methods 0.000 abstract description 3
- 238000003860 storage Methods 0.000 abstract description 3
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 abstract description 2
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 abstract description 2
- 230000002035 prolonged effect Effects 0.000 abstract 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 5
- 238000005260 corrosion Methods 0.000 description 3
- 230000007797 corrosion Effects 0.000 description 3
- 238000005229 chemical vapour deposition Methods 0.000 description 2
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 2
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 2
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 2
- 238000009413 insulation Methods 0.000 description 2
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 2
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 2
- 238000000427 thin-film deposition Methods 0.000 description 2
- PWKWDCOTNGQLID-UHFFFAOYSA-N [N].[Ar] Chemical compound [N].[Ar] PWKWDCOTNGQLID-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000002411 adverse Effects 0.000 description 1
- 229910045601 alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000000956 alloy Substances 0.000 description 1
- 230000003026 anti-oxygenic effect Effects 0.000 description 1
- 239000012300 argon atmosphere Substances 0.000 description 1
- 230000009286 beneficial effect Effects 0.000 description 1
- 239000003990 capacitor Substances 0.000 description 1
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 1
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- 229910000765 intermetallic Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002346 layers by function Substances 0.000 description 1
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 1
- 239000012528 membrane Substances 0.000 description 1
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 1
- 230000003014 reinforcing effect Effects 0.000 description 1
- 239000002910 solid waste Substances 0.000 description 1
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 1
- 210000001138 tear Anatomy 0.000 description 1
- 230000009466 transformation Effects 0.000 description 1
Landscapes
- Surface Treatment Of Glass (AREA)
- Physical Vapour Deposition (AREA)
Abstract
本发明公开了一种具有保护膜层的镀膜玻璃及其制备方法,所述镀膜玻璃包括玻璃基片和镀制在玻璃基片上的镀膜层,其特征在于,所述镀膜层以玻璃基片为基础自内向外依次包括:第一保护层、第一电介质层、第二保护层、功能膜层、第三保护层、第二电介质层、外保护膜层。本发明通过在玻璃基片上沉积第一保护层有效的阻止了Na+扩散,降低反射,并且提高了玻璃的机械化强度;在功能膜层上下两侧沉积第二保护层和第三保护层提高了功能膜层的抗氧化性能,延长其保存时间,增加膜层之间的附着力,同时增强了玻璃的可加工性,另外,在所述功能膜层上沉积外保护膜层使得镀膜玻璃便于运输和储存,并且使用时易于去除。
Description
技术领域
本发明涉及玻璃深加工中的镀膜技术领域,具体是一种具有保护膜层的镀膜玻璃及其制备方法。
背景技术
镀膜玻璃是在玻璃表面涂镀一层或多层金属、合金或金属化合物的薄膜,用以改变玻璃的光学性能,满足某种特定要求。镀膜玻璃在人们日常生活中的应用越来越广泛,不单用于建筑领域,而且很多生活用品也用玻璃为材料。但是,镀膜玻璃在运输和存储的过程中,基片膜层容易发生划伤、磨损的情况,其功能层银膜也很容易氧化,并且镀膜玻璃在进行各种深加工和热处理后,物理化学性能容易发生改变。针对上述问题,目前玻璃制造企业采用的方法是使用PE有机贴膜保护基片膜层,它可以起到一定的保护作用。但是,在使用基片时,需要人工揭膜,该保护膜不能重复利用且不易降解,批量使用会造成大量固体废弃物,对环境造成严重的负面影响。
发明内容
本发明的技术目的是解决现有技术中存在的问题,提供一种光学性能稳定、不易发生氧化的镀膜玻璃及其制备方法。
本发明的技术方案是:
一种具有保护膜层的镀膜玻璃,包括玻璃基片和镀制在玻璃基片上的镀膜层,其特征在于,所述镀膜层以玻璃基片为基础自内向外依次包括:
沉积在所述玻璃基片上的第一保护层;
沉积在所述第一保护层上的第一电介质层;
沉积在所述第一电介质层上的第二保护层;
沉积在所述第二保护层上的功能膜层;
沉积在所述功能膜层上的第三保护层;
沉积在第三保护层上的第二电介质层;
沉积在所述第二电介质层上的外保护膜层。
进一步的技术方案还包括:
作为优选,所述外保护膜层设为碳膜层;
所述第一保护层、第二保护层、第三保护层优选为Ni Cr、Cr、Ti或不锈钢材料膜层中的一种。
所述第一电介质层、所述第二电介质层优选为SnO2、ZnSO3、ZnO、Si3N4或TiO2材料膜层中的一种。
所述功能膜层为银层。
作为优选,所述第一保护层、第二保护层、第三保护层的膜厚范围设为3-8nm;所述第一电介质层、第二电介质层的膜厚设为16-100nm;所述外保护膜层的厚度范围设为0.1-0.5μm。
一种制备上述具有保护膜层的镀膜玻璃的制备方法,其特征在于,包括以下步骤:
准备玻璃基片;
在所述玻璃基片上沉积第一保护层;
在所述第一保护层上沉积第一电介质层;
在所述第一电介质层上沉积第二保护层;
在所述第二保护层上沉积功能膜层;
在所述功能膜层上沉积第三保护层;
在所述第三保护层上沉积第二电介质层;
在所述第二电介质层上沉积外保护膜层,所述外保护膜层是将100%含碳氢源通入反应器中经薄膜工艺形成。
各膜层可采用真空磁控溅射方法镀膜,作为优选的技术方案:
所述第一保护层通过直流单靶材溅射形成,靶材为NiCr靶,其溅射条件为:背景真空度为3.2×10-3mbar,充入纯氩气体溅射;
所述第一电介质层通过交流双靶溅射形成,其溅射条件为:背景真空度为3.0×10-3mbar,充入氩气、氮气或者氩气、氧气的混合气体溅射。
所述第二保护层通过直流单靶材溅射形成,靶材为NiCr靶,其溅射条件为:背景真空度为2.85×10-3mbar,充入纯氩气体溅射;
所述功能膜层通过直流单靶材溅射形成,溅射条件为:背景真空度为4.5×10-3mbar,充入纯氩气体溅射;
所述第三保护层通过直流单靶材溅射形成,靶材为NiCr靶,其溅射条件为:背景真空度为2.85×10-3mbar,充入纯氩气体溅射。
所述第二电介质层通过交流双靶溅射形成,其溅射条件为:背景真空度为3.0×10-3mbar,充入氩气、氮气或者氩气、氧气的混合气体溅射。
所述制备外保护层的含碳氢源为甲烷,所述薄膜工艺优选为等离子体离子蒸镀。
本发明的有益效果:
1)、通过在玻璃基片上设置第一保护层有效的阻止了Na+扩散,避免了Na+扩散对薄膜沉积性能和色系的不利影响,并起到降低反射,提高玻璃机械化强度的作用;
2)、在功能膜层上下两侧沉积第二保护层和第三保护层提高功能膜层的抗氧化性能,延长其保存时间,增加膜层之间的附着力,同时增强玻璃的可加工性;
3)、通过在所述功能膜层上沉积外保护膜层,提高玻璃的耐腐蚀性与耐磨损性,便于玻璃的运输和储存。作为优选的炭膜层,膜层不仅材料环保,使用时易于去除,同时还具有高硬度、低摩擦系数、良好的耐腐蚀性与耐磨性的优点。
附图说明
图1是本发明的结构示意图;
图2是本发明的制备流程示意图。
具体实施方式
为了阐明本发明的技术方案、构造特征、产品功效及技术目的,下面结合附图及具体实施方式对本发明做进一步的介绍。
如图1所示,本发明的一种具有保护膜层的镀膜玻璃1,包括玻璃基片10和镀制在玻璃基片10上的镀膜,其膜层结构自玻璃基片10向外依次为:
沉积在所述玻璃基片10上的第一保护层11;
沉积在所述第一保护层11上的第一电介质层12;
沉积在所述第一电介质层12上的第二保护层13;
沉积在所述第二保护层13上的功能膜层14;
沉积在所述功能膜层14上的第三保护层15;
沉积在第三保护层15上的第二电介质层16;
沉积在所述第二电介质层16上的外保护膜层17。
其中,所述第一保护层11、第二保护层13以及第三保护层15优选NiCr、Cr、不锈钢、Ti等材料中的一种镀制膜层。所述功能膜层14为具有低辐射性能的银层,起到增加保温或隔热效果的作用。
所述第一电介质层12与所述第二电介质层16优选SnO2、ZnSO3、ZnO、Si3N4、TiO2等材料中的一种镀制膜层。为了使外保护膜层17具有高硬度、低摩擦系数、良好耐腐蚀性与耐磨损性等特性,在本发明中,所述外保护膜层17优选的为碳膜层,其可以通过650°以上的热处理去除。
如图2所示,为一种制备上述具有保护膜层的镀膜玻璃的制备方法,采用真空磁控溅射设备镀膜,其制备流程具体包括以下步骤:
执行步骤S1:提供玻璃基片10;
执行步骤S2:在所述玻璃基片10上沉积第一保护层11,所述第一保护层11通过直流单靶材溅射形成,靶材为NiCr靶,其溅射条件为:背景真空度为3.2×10-3mbar,在纯氩气环境中溅射,所述第一保护层11的膜厚为3-8nm;
执行步骤S3:在所述第一保护层11上沉积第一电介质层12。所述第一电介质层12通过交流双靶溅射形成,其溅射条件为:背景真空度为3.0×10-3mbar,在氮氩或者氩氧气体环境中溅射。其中,充入氩气和氮气时,氩气和氮气的体积比为30∶35,所述第一电介质层12的膜厚为16-100nm;
执行步骤S4:在所述第一电介质层12上沉积第二保护层13。所述第二保护层13通过直流单靶材溅射形成,靶材为NiCr靶,其溅射条件为:背景真空度为2.85×10-3mbar,充入纯氩气,在纯氩气氛围中溅射,所述第二保护层13的膜厚为3-8nm;
执行步骤S5:在所述第二保护层13上沉积功能膜层14。所述功能膜层14是通过直流单靶材溅射形成。其中,溅射条件为:背景真空度为4.5×10-3mbar,在纯氩气环境中溅射;
执行步骤S6:在所述功能膜层14上沉积第三保护层15。所述第三保护层15通过直流单靶材溅射形成,靶材为NiCr靶,其溅射条件为:背景真空度为2.85×10-3mbar,充入纯氩气溅射,所述第三保护层15的膜厚为3-8nm;
执行步骤S7:在所述第三保护层15上沉积第二电介质层16。所述第二电介质层16通过交流双靶溅射形成,其溅射条件为:背景真空度为3.0×10-3mbar,在充入氩气、氮气或者氩气、氧气的混合气体的环境下溅射。其中,充入氩气和氮气时,氩气和氮气的体积比为30∶35,所述第二电介质层16的膜厚为16-100nm;
执行步骤S8:在所述第二电介质层16上沉积外保护膜层17。所述外保护膜层17是由碳材料构成,所述外保护膜层17是将100%含碳氢源通入反应器中经薄膜工艺形成。在本发明中优选的含碳氢源为甲烷,所述薄膜工艺可采用化学气相沉积、离子蒸镀或反应磁控溅射。具体的,以等离子体离子蒸镀为例,该薄膜沉积工艺是将基板载体通以高周波电源,使反应器的真空腔体壁产生电容放电,等离子体甲烷解离,使甲烷离子凭借高周波的自我偏压所得到的能量直接轰击基板,工艺真空背景维持在1.9×10-3mbar,高周波功率为100W。所述外保护膜层17的厚度范围为0.1-0.5μm。
以上已以较佳实施例公开了本发明,然其并非用以限制本发明,凡采用等同替换或者等效变换方式所获得的技术方案,均应落在本发明要求的保护范围之内。
Claims (5)
1.一种具有保护膜层的镀膜玻璃,包括玻璃基片和镀制在玻璃基片上的镀膜层,其特征在于,所述镀膜层以玻璃基片为基础自内向外依次包括:
沉积在所述玻璃基片上的第一保护层;
沉积在所述第一保护层上的第一电介质层;
沉积在所述第一电介质层上的第二保护层;
沉积在所述第二保护层上的功能膜层;
沉积在所述功能膜层上的第三保护层;
沉积在第三保护层上的第二电介质层;
沉积在所述第二电介质层上的外保护膜层;所述第一保护层为NiCr膜层;
所述第二保护层、第三保护层为NiCr、Cr、Ti或不锈钢材料的膜层;
所述第一电介质层、所述第二电介质层为SnO2、ZnSO3、ZnO、Si3N4或TiO2材料的膜层;
所述功能膜层为银层;
所述第一保护层、第二保护层、第三保护层的膜厚为3-8nm;
所述第一电介质层、第二电介质层的膜厚为16-100nm;
所述外保护膜层的厚度范围为0.1-0.5μm。
2.根据权利要求1所述的一种具有保护膜层的镀膜玻璃,其特征在于:
所述外保护膜层为碳膜层。
3.一种如权利要求1所述的具有保护膜层的镀膜玻璃的制备方法,其特征在于,包括以下步骤:
提供玻璃基片;
在所述玻璃基片上沉积第一保护层;
在所述第一保护层上沉积第一电介质层;
在所述第一电介质层上沉积第二保护层;
在所述第二保护层上沉积功能膜层;
在所述功能膜层上沉积第三保护层;
在所述第三保护层上沉积第二电介质层;
在所述第二电介质层上沉积外保护膜层, 所述外保护膜层是将100%含碳氢源通入反应器中经薄膜工艺形成;
各膜层采用真空磁控溅射方法镀膜:
所述第一保护层通过直流单靶材溅射形成,靶材为NiCr靶,其溅射条件为:背景真空度为3.2×10-3mbar,充入纯氩气体溅射;
所述第一电介质层通过交流双靶溅射形成,其溅射条件为:背景真空度为3.0×10-3mbar,充入氩气、氮气或者氩气、氧气的混合气体溅射;
所述第二保护层通过直流单靶材溅射形成,靶材为NiCr靶,其溅射条件为:背景真空度为2.85×10-3mbar,充入纯氩气体溅射;
所述功能膜层通过直流单靶材溅射形成,溅射条件为:背景真空度为4.5×10-3mbar,充入纯氩气体溅射;
所述第三保护层通过直流单靶材溅射形成,靶材为NiCr靶,其溅射条件为:背景真空度为2.85×10-3mbar,充入纯氩气体溅射;
所述第二电介质层通过交流双靶溅射形成,其溅射条件为:背景真空度为3.0×10-3mbar,充入氩气和氮气或者氩气和氧气的混合气体溅射。
4.根据权利要求3所述的一种具有保护膜层的镀膜玻璃的制备方法,其特征在于,所述含碳氢源为甲烷。
5.根据权利要求4所述的一种具有保护膜层的镀膜玻璃的制备方法,其特征在于,所述薄膜工艺为等离子体离子蒸镀。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
CN201110427129.7A CN102529210B (zh) | 2011-12-19 | 2011-12-19 | 具有保护膜层的镀膜玻璃及其制备方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
CN201110427129.7A CN102529210B (zh) | 2011-12-19 | 2011-12-19 | 具有保护膜层的镀膜玻璃及其制备方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
CN102529210A CN102529210A (zh) | 2012-07-04 |
CN102529210B true CN102529210B (zh) | 2014-10-15 |
Family
ID=46337820
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
CN201110427129.7A Active CN102529210B (zh) | 2011-12-19 | 2011-12-19 | 具有保护膜层的镀膜玻璃及其制备方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
CN (1) | CN102529210B (zh) |
Families Citing this family (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
FR3056580B1 (fr) * | 2016-09-26 | 2021-02-12 | Saint Gobain | Substrat revetu d'un revetement bas-emissif |
CN107740061A (zh) * | 2017-10-27 | 2018-02-27 | 中山市汉庭照明科技有限公司 | 一种制备耐腐蚀水晶灯挂件的方法 |
CN109734332B (zh) * | 2019-01-26 | 2019-11-29 | 乐清市芮易经济信息咨询有限公司 | 一种低辐射镀膜玻璃及其加工工艺 |
CN110109205A (zh) * | 2019-06-14 | 2019-08-09 | 湖北亿钧耀能新材股份公司 | 一种太阳能镜及其制作方法 |
CN110396670A (zh) * | 2019-07-03 | 2019-11-01 | 北京欣荣尖端科技有限公司 | 一种彩色纤维面料及其生产方法 |
CN110396815A (zh) * | 2019-07-03 | 2019-11-01 | 北京欣荣尖端科技有限公司 | 一种彩色纤维面料及其生产方法 |
CN114853360A (zh) * | 2022-05-31 | 2022-08-05 | 长兴旗滨节能玻璃有限公司 | 一种减反射低辐射玻璃及中空玻璃 |
Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN1363530A (zh) * | 2001-01-09 | 2002-08-14 | 上海耀华皮尔金顿玻璃股份有限公司 | 新型吸收式低辐射膜玻璃 |
CN201458976U (zh) * | 2009-07-22 | 2010-05-12 | 天津南玻节能玻璃有限公司 | 一种类金刚石镀膜玻璃 |
WO2011037365A2 (en) * | 2009-09-25 | 2011-03-31 | Lg Hausys, Ltd. | Low emissivity glass comprising dielectric layer and method for producing the same |
CN202415379U (zh) * | 2011-12-19 | 2012-09-05 | 林嘉宏 | 具有保护膜层的镀膜玻璃 |
Family Cites Families (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US20030155065A1 (en) * | 2002-02-13 | 2003-08-21 | Thomsen Scott V. | Method of making window unit |
-
2011
- 2011-12-19 CN CN201110427129.7A patent/CN102529210B/zh active Active
Patent Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN1363530A (zh) * | 2001-01-09 | 2002-08-14 | 上海耀华皮尔金顿玻璃股份有限公司 | 新型吸收式低辐射膜玻璃 |
CN201458976U (zh) * | 2009-07-22 | 2010-05-12 | 天津南玻节能玻璃有限公司 | 一种类金刚石镀膜玻璃 |
WO2011037365A2 (en) * | 2009-09-25 | 2011-03-31 | Lg Hausys, Ltd. | Low emissivity glass comprising dielectric layer and method for producing the same |
CN202415379U (zh) * | 2011-12-19 | 2012-09-05 | 林嘉宏 | 具有保护膜层的镀膜玻璃 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
CN102529210A (zh) | 2012-07-04 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
CN102529210B (zh) | 具有保护膜层的镀膜玻璃及其制备方法 | |
TW200507118A (en) | Energy conversion and storage films and devices by physical vapor deposition of titanium and titanium oxides and sub-oxides | |
CN105047958A (zh) | 用于燃料电池金属极板的石墨烯复合涂层及其制备方法 | |
CN103726059B (zh) | 一种镁合金表面复合膜的制备方法 | |
CN106252682A (zh) | 抑制柱状晶的燃料电池金属极板多相涂层及其制备方法 | |
CN109267010B (zh) | 一种钛氧化合物柔性光电腐蚀薄膜及其制备方法 | |
WO2010091116A3 (en) | Method of forming an anode material for a lithium ion battery | |
CN103215543A (zh) | 一种具有二次电子发射功能的膜系制备方法 | |
CN104723625A (zh) | 具备防静电功能的电子元件包装用包装材料及其制造方法 | |
US8795840B2 (en) | Coated article and method for making the same | |
CN101654331A (zh) | 一种制备绒面ZnO透明导电镀膜玻璃的方法 | |
CN101497992A (zh) | 用等离子体轰击制备绒面氧化锌透明导电镀膜玻璃的方法 | |
CN102373472A (zh) | 铝或铝合金的表面处理方法及由铝或铝合金制得的壳体 | |
CN202415379U (zh) | 具有保护膜层的镀膜玻璃 | |
US20120125803A1 (en) | Device housing and method for making the same | |
US20120107606A1 (en) | Article made of aluminum or aluminum alloy and method for manufacturing | |
US8507085B2 (en) | Anti-corrosion treatment process for aluminum or aluminum alloy and aluminum or aluminum alloy article thereof | |
US20120121895A1 (en) | Anti-corrosion treatment process for aluminum or aluminum alloy and aluminum or aluminum alloy article thereof | |
US20120276349A1 (en) | Anti-corrosion treatment process for aluminum or aluminum alloy and aluminum or aluminum alloy article thereof | |
MX2013008809A (es) | Metodo para colocar un sistema de capas de barrera transparente. | |
CN102534489A (zh) | 镀膜件及其制造方法 | |
JP5170788B2 (ja) | 新規金属窒素酸化物プロセス | |
CN102534480A (zh) | 镀膜件及其制备方法 | |
CN207619516U (zh) | 一种高硬度抗氧化的铣刀专用超薄涂层结构 | |
CN103943789A (zh) | Oled器件及其制备方法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
C06 | Publication | ||
PB01 | Publication | ||
C10 | Entry into substantive examination | ||
SE01 | Entry into force of request for substantive examination | ||
C14 | Grant of patent or utility model | ||
GR01 | Patent grant | ||
TR01 | Transfer of patent right |
Effective date of registration: 20170630 Address after: 12 building, International Building, Kunshan Development Zone, Jiangsu, 215321 Patentee after: Changjiang Glass Co., Ltd., Taibo Address before: Songshan District, Taipei, China Nanjing East Road 3 section 261, No. Taiwan Patentee before: Lin Jiahong |