CN102455548A - 基板及包括该基板的液晶显示器件 - Google Patents

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Abstract

本发明提供一种基板及包括该基板的液晶显示器件。一种液晶显示器件的基板包括：包括显示图像的显示区域和环绕该显示区域的非显示区域的基板；位于基板之上的非显示区域中的虚拟图案，该虚拟图案的长度对应于显示区域的边；以及虚拟图案上的取向膜，该取向膜覆盖非显示区域和整个显示区域。

Description

基板及包括该基板的液晶显示器件
本申请要求于2010年10月18日提交的韩国专利申请No.10-2010-0101313的权益，此处以引证的方式并入其全部内容。
技术领域
本公开涉及液晶显示器件，并且尤其是涉及具有用于防止取向膜的框(mount)的装置的基板和包括该基板的液晶显示器件。
背景技术
近来，液晶显示(LCD)器件由于其低功耗和良好的便携性，已经作为具有高附加值的下一代显示器件而倍受关注。
包括作为多个像素的切换器件的薄膜晶体管的有源矩阵液晶显示(AM-LCD)器件由于其高分辨率和在显示运动图像方面的优越性而被广泛使用。
通常，通过用于在阵列基板上形成薄膜晶体管和像素电极的阵列基板工艺、用于在滤色器基板上形成滤色器层和公共电极的滤色器基板工艺以及用于在阵列基板和滤色器基板之间形成液晶层的单元工艺来制造LCD器件。
图1是示出了根据相关技术的液晶显示器件的分解立体图。在图1中，液晶显示(LCD)器件包括阵列基板10、滤色器基板20和位于阵列基板10和滤色器基板20之间的液晶层30。阵列基板10包括第一基板12、位于第一基板12上的选通线14、与选通线14交叉以限定像素区域P的数据线16、与选通线14和数据线16连接的薄膜晶体管(TFT)T以及与TFT T连接的像素电极18。
另外，面向阵列基板10的滤色器基板20包括第二基板22、阻挡与选通线14、数据线和TFT T对应的非显示区域的黑底25、滤色器层26以及在第二基板22的整个表面上的公共电极28，滤色器层26包括红色滤色器26a、绿色滤色器26b和蓝色滤色器26c，各红色滤色器26a、绿色滤色器26b和蓝色滤色器26c对应于像素区域P。
尽管在图1中没有示出，可以在矩阵基板10和滤色器基板20之间的边界部分中形成密封图案，用于防止液晶层30的泄露。可以在阵列基板10和液晶层30之间形成下取向膜，且可以在滤色器基板20和液晶层30之间形成上取向膜，以用于初始地对液晶层进行配向。而且，可以在第一基板12和第二基板22中的至少一个的外表面上形成起偏振片。
可以在阵列基板10的下面布置背光单元以供应光。当将用于导通TFT T的选通信号按序供应给选通线14时，TFT T导通且供应给数据线16的数据信号通过TFT T而施加到像素电极18。结果，在像素电极18和公共电极28之间产生垂直电场，且液晶层30中的液晶分子通过垂直电场而重新配向，由此LCD器件由于液晶层30的透射率变化而显示图像。
通过经由针对源材料的沉积步骤、曝光步骤、显影步骤和刻蚀步骤在第一基板12上形成选通线14、数据线16、TFT T和像素电极18而制作阵列基板10。通过在第二基板22上形成滤色器层26和公共电极28而制作滤色器基板。另外，通过附接阵列基板10和滤色器基板12且在阵列基板10和滤色器基板12之间夹置液晶层30而制作液晶面板，且通过将驱动电路附接到液晶面板而完成LCD器件。
由于LCD器件使用液晶的由液晶分子的各向异性和排列状态决定的光电效应，因此对液晶分子的排列状态的调节影响LCD器件的显示质量的稳定性。为了获得液晶分子的均匀的初始排列状态，执行取向过程。
在取向过程中，通过印刷诸如聚酰亚胺的聚合物材料而在阵列基板和滤色器基板中的每一个上形成取向膜，且将取向膜沿着预定方向与摩擦布进行摩擦。结果，取向膜中的聚合物链沿着预定方向配向以具有方向性且液晶分子由于取向膜而具有均匀的初始排列状态。
当在印刷步骤中取向膜被形成为在显示区域上具有不均匀的厚度时，则在后续的摩擦步骤中，取向膜恶化。因此，取向膜需要具有均匀的厚度。
图2是示出了根据相关技术的取向膜印刷装置的截面图，且图3是示出了根据相关技术的取向膜印刷器件中的转印板和基板的截面图。在图2中，印版滚筒51和基板60彼此接触，印版滚筒51和基板60之间夹置有转印板53，且通过添加压力将聚合物材料转印到基板60以形成取向膜63。由于具有聚合物材料的转印板53接触基板60且被压向基板60，从转印板53转印到基板60的聚合物材料向所有方向扩展。尽管对应于图案区域54(图3中)的取向膜63具有均匀厚度，但对应于图案区域54外面的取向膜63具有更大的厚度，因为该取向膜63未被按压。
在图3中，基板60上的取向膜63包括开始部分63a、结束部分63b以及中央部分63c。由于印版滚筒51(图2中)的旋转，转印板53的图案区域54开始接触基板60以形成开始部分63a，并停止接触基板60以形成结束部分63b。由于聚合物材料被从中央部分63c挤到开始部分63a和结束部分63b，因此开始部分63a和结束部分63b中的每一个的厚度是中央部分63c的厚度的3至4倍。开始部分63a和结束部分63b可以被称为取向膜63的框。
框导致后续摩擦步骤中取向膜63的恶化。另外，由于取向膜63的开始部分和结束部分具有曲折线，属于非显示区域的结束部分被设计为具有相对大的宽度。结果，对应于非显示区域的框架区(bezel region)被放大。
发明内容
因此，本公开致力于基本消除因相关技术的局限和缺点带来的一个或更多个问题的一种基板和包括该基板的液晶显示器件。
本公开的一个目的是提供一种基板和包括该基板的液晶显示器件，该基板中在开始和结束部分防止取向膜的框。
本公开的另一目的是提供一种基板和包括该基板的液晶显示器件，该基板中通过形成具有线性形状的结束部分的取向膜而减小框架区的宽度。
本发明的附加特征和优点将在下面的描述中描述且将从该描述中部分地变得明显，或者可以通过本发明的实践来了解。通过书面的说明书及其权利要求以及附图中特别指出的结构可以实现和获得本发明的目的和其他优点。
为了实现这些和其他优点，按照本发明的目的，如此处具体和广义地描述的，一种液晶显示器件的基板包括：包括显示图像的显示区域和环绕该显示区域的非显示区域的基板；位于基板之上的非显示区域中的虚拟图案(dummy pattern)，该虚拟图案的长度对应于显示区域的边；以及虚拟图案上的取向膜，该取向膜覆盖非显示区域和整个显示区域。
在另一方面中，一种液晶显示器件包括：彼此面对并彼此隔开的第一基板和第二基板，该第一基板和第二基板包括显示图像的显示区域和环绕该显示区域的非显示区域；第一基板的内表面之上的选通线和数据线，且该选通线和数据线彼此交叉以限定像素区域；连接到选通线和数据线的薄膜晶体管；连接到薄膜晶体管的像素电极；第一基板的内表面之上的非显示区域中的第一虚拟图案，该第一虚拟图案的长度对应于显示区域的边；位于像素电极和第一虚拟图案上的第一取向膜；第二基板的内表面之上的黑底；像素区域中的滤色器层，该滤色器包括在像素区域中顺序重复的红色、绿色和蓝色滤色器；以及滤色器层上的多个图案化的衬垫，该多个图案化的衬垫彼此间隔开且对应于黑底；第二基板的内表面之上的非显示区域中的第二虚拟图案，该第二虚拟图案的长度对应于显示区域的边；位于多个图案化的衬垫和第二虚拟图案上的第二取向膜；以及介于第一取向膜和第二取向膜之间的液晶层。
应当理解，本发明的上述一般描述和下述详细描述都是示例性和说明性的，且旨在提供所要求保护的本发明的进一步的解释。
附图说明
附图被包括在本说明书中以提供对本发明的进一步理解，并结合到本说明书中且构成本说明书的一部分，附图例示了本发明的实施方式，且与说明书一起用于解释本发明的原理。附图中：
图1是示出了根据相关技术的液晶显示器件的分解立体图；
图2是示出了根据相关技术的取向膜印刷器件的截面图；
图3是示出了根据相关技术的取向膜印刷器件中转印板和基板的截面图；
图4A和图4B是分别示出了根据本发明的一个实施方式的液晶显示器件的阵列基板和滤色器基板的平面图；
图5A至5G是示出了根据本发明的一个实施方式的液晶显示器件的第一虚拟图案的平面图；
图6A至6D是示出了根据本发明的一个实施方式的液晶显示器件的第一虚拟图案的截面图；
图7A和7B是示出了根据本发明的一个实施方式的液晶显示器件的第二虚拟图案的截面图。
具体实施方式
现在将详细描述本发明的优选实施方式，在附图中例示了优选实施方式的示例。
图4A和图4B是分别示出了根据本发明的一个实施方式的液晶显示器件的阵列基板和滤色器基板的平面图。
在图4A中，液晶显示(LCD)器件的阵列基板101包括：显示图像的显示区域AA和环绕显示区域AA的第一至第四非显示区域NA1、NA2、NA3和NA4。第一至第四非显示区域NA1、NA2、NA3和NA4包括第一焊盘区域PA1和第二焊盘区域PA2，该第一焊盘区域PA1和第二焊盘区域PA2分别形成有栅焊盘112和数据焊盘和137。
在显示区域AA中形成有彼此交叉以限定像素区域P的选通线110和数据线130。在像素区域P中形成有连接到选通线110和数据线130的薄膜晶体管(TFT)Tr。尽管没有示出，TFT Tr可以包括栅极、栅极绝缘层、半导体层、源极和漏极。栅极连接到选通线110。在栅极上形成有栅极绝缘层，且在栅极之上的栅极绝缘层上形成有半导体层。半导体层可以包括本征非晶硅的有源层和杂质掺杂的非晶硅的欧姆接触层。源极和漏极形成在半导体层上且彼此间隔开。源极连接到数据线130。另外，在TFT Tr上形成有钝化层。
在像素区域P中形成有连接到TFT Tr的漏极的像素电极150。根据LCD器件的模式，可以在阵列基板101上的像素区域P中形成有公共电极。例如，当LCD器件具有由垂直电场驱动液晶层的扭曲向列(twisted nematic，TN)模式时，阵列基板101的像素区域P中可以形成有板形的像素电极150。另外，当LCD器件具有由水平电场驱动液晶层的平面内切换(in-plane switching，IPS)模式时，可以在阵列基板的像素区域P中形成有具有条形且彼此交替的像素电极和公共电极。而且，可以在阵列基板101上形成有平行于选通线110且与选通线110间隔开的公共线，且公共电极可以连接到公共线。
第一焊盘区域PA1中的栅焊盘112连接到选通线110，并且第二焊盘区域PA2中的数据焊盘137连接到数据线130。另外，在阵列基板101上的第一至第四非显示区域NA1、NA2、NA3和NA4中的至少一个中形成有第一虚拟图案170。第一虚拟图案170可以具有与显示区域AA的边对应的长度。
图5A至图5G是示出了根据本发明的一个实施方式的液晶显示器件的第一虚拟图案的平面图。
第一虚拟图案170可以具有如图5A所示的单个条形图案(水坝形状)。另外，第一虚拟图案170可以具有如图5B和5C所示的彼此间隔开的多个条形图案。在图5B中，多个条形图案彼此交替地布置，使得相邻条形图案的端部并不彼此齐平。在图5C中，布置多个条形图案，使得相邻条形图案的端部彼此齐平。尽管在图5B和图5C中相邻条形图案彼此隔开相等距离，但在另一实施方式中，相邻条形图案可以彼此隔开逐渐增加或减小的距离。
而且，第一虚拟图案170可以具有如图5D至图5G所示的格子图案。例如，格子图案可以包括具有六角、弯曲矩形形状和矩形形状其中之一的开口。在图5D至图5F中，格子图案的开口具有相等的尺寸(面积)。在图5G中，格子图案的开口具有逐渐增加或减小的尺寸(面积)。
再次参考图4A，第一虚拟图案170可以具有约0.5μm至约3μm的高度和约20μm至约200μm的宽度。例如，当第一虚拟图案170具有如图5A所示的单个条形图案时，第一虚拟图案170可以具有约50μm至约200μm的宽度。另外，当第一虚拟图案170具有如图5B和5C所示的多个条形图案和如图5D至5G所示的格子图案其中之一时，第一虚拟图案170可以具有约20μm至约50μm的宽度。
第一虚拟图案170的高度可以随着第一虚拟图案170的位置变化。随着第一虚拟图案170的高度增加，取向膜的厚度减小。因此，通过调节第一虚拟图案170的高度而防止了取向膜的框。例如，当用于取向膜的印刷步骤在第一非显示区域NA1开始且在第二非显示区域NA2结束时，第一非显示区域NA1中第一虚拟图案170的第一高度可以小于第二非显示区域NA2中第一虚拟图案170的第二高度。
另外，当第一虚拟图案170具有如图5B和5C所示的多个条形图案和如图5D至5G所示的格子图案其中之一时，相邻条形图案之间的距离或格子图案的开口的尺寸(面积)(即，格子密度)可以随着第一虚拟图案170的位置变化。随着相邻条形图案之间的距离或开口的尺寸增加，取向膜的厚度减小。因此，通过调节第一虚拟图案170的相邻条形图案之间的距离或格子图案的开口的尺寸而防止了取向膜的框。例如，当用于取向膜的印刷步骤在第一非显示区域NA1开始且在第二非显示区域NA2结束时，对于如图5B和5C所示的多个条形图的第一虚拟图案170，第一非显示区域NA1中第一虚拟图案170的相邻条形图案之间的第一距离可以小于第二非显示区域NA2中第一虚拟图案170的相邻条形图案之间的第二距离。另外，对于如图5D至5G所示具有格子图案的第一虚拟图案170，第一非显示区域NA1中第一虚拟图案170的格子图案的开口的第一尺寸(面积)可以小于第二非显示区域NA2中第一虚拟图案170的格子图案的开口的第二尺寸(面积)。
第一虚拟图案170可以由用于制作阵列基板101的多层形成。图6A至6D是示出根据本发明的一个实施方式的液晶显示器件的第一虚拟图案的截面图。
在图4A和6A中，第一非显示区域NA1和第四非显示区域NA4中的第一虚拟图案170可以具有双层结构，该双层结构包括阵列基板101之上的栅虚拟层170a和数据虚拟层170b。由于第一非显示区域NA1和第四非显示区域NA4不包括第一焊盘区域PA1和第二焊盘区域PA2，栅虚拟层170a可以包括与选通线110相同的层和相同的材料，且数据虚拟层170b可以包括与数据线130相同的层和相同的材料。另外，第一虚拟图案170可以具有如图5A至5G所示的单个条形图案、多个条形图案和格子图案其中至少之一。例如，栅虚拟层170a和数据虚拟层170b可以彼此交叠，且彼此具有相同的形状和相同的面积。另外，可以在阵列基板101上形成栅虚拟层170a，且可以在栅虚拟层170a和数据虚拟层170b之间形成栅绝缘层113，且可以在数据虚拟层170b上形成钝化层140。
在图4A和图6B中，第一非显示区域NA1和第四非显示区域NA4中的第一虚拟图案170可以具有三层结构，该三层结构包括阵列基板101之上的栅虚拟层170a、半导体虚拟层170c和数据虚拟层170b。由于第一非显示区域NA1和第四非显示区域NA4不包括第一焊盘区域PA1和第二焊盘区域PA2，栅虚拟层170a可以包括与选通线110相同的层和相同的材料，半导体虚拟层170c可以包括与半导体层相同的层和相同的材料，且数据虚拟层170b可以包括与数据线130相同的层和相同的材料。另外，第一虚拟图案170可以具有如图5A至5G所示的单个条形图案、多个条形图案和格子图案其中至少之一。例如，栅虚拟层170a、半导体虚拟层170c和数据虚拟层170b可以彼此交叠，且彼此具有相同的形状和相同的面积。而且，可以在阵列基板101上形成栅虚拟层170a，且可以在栅虚拟层170a和半导体虚拟层170c之间形成栅绝缘层113。此外，可以在半导体虚拟层170c上形成数据虚拟层170b，且可以在数据虚拟层170b上形成钝化层140。
在图4A和图6C中，第二非显示区域NA2中的第一虚拟图案170可以布置在第一焊盘区域PA1和显示区域AA之间且可以具有双层结构，该双层结构包括阵列基板101之上的半导体虚拟层170c和数据虚拟层170b。由于第二非显示区域NA2包括第一焊盘区域PA1，半导体虚拟层170c可以包括与半导体层相同的层和相同的材料，且数据虚拟层170b可以包括与数据线130相同的层和相同的材料。另外，第一虚拟图案170可以具有如图5A至5G所示的单个条形图案、多个条形图案和格子图案其中至少之一。例如，半导体虚拟层170c和数据虚拟层170b可以彼此交叠，且彼此具有相同的形状和相同的面积。而且，可以在栅绝缘层113上顺序地形成半导体虚拟层170c和数据虚拟层170b，且可以在数据虚拟层170b上形成钝化层140。
另选地，第二非显示区域NA2中的第一虚拟图案170可以布置在第一焊盘区域PA1和显示区域AA之间且可以具有三层结构，该三层结构包括阵列基板101之上的栅虚拟层170a、半导体虚拟层170c和数据虚拟层170b。由于第二非显示区域NA2包括第一焊盘区域PA1，第一虚拟图案170可以具有如图5C所示的多个条形图案，使得选通线110布置在相邻条形图案之间。例如，栅虚拟层170a、半导体虚拟层170c和数据虚拟层170b可以彼此交叠，且彼此具有相同的形状和相同的面积。而且，栅虚拟层170a可以包括与选通线110相同的层和相同的材料，半导体虚拟层170c可以包括与半导体层170相同的层和相同的材料，且数据虚拟层170b可以包括与数据线130相同的层和相同的材料。
类似地，第三非显示区域NA3中的第一虚拟图案170可以布置在第二焊盘区域PA2和显示区域AA之间且可以具有双层结构，该双层结构包括阵列基板101之上的栅虚拟层170a和半导体虚拟层170c，且可以具有如图5A至5G所示的单个条形图案、多个条形图案以及格子图案其中至少之一。另选地，第三非显示区域NA3中的第一虚拟图案170可以布置在第二焊盘区域PA2和显示区域AA之间且可以具有三层结构，该三层结构包括阵列基板101之上的栅虚拟层170a、半导体虚拟层170c和数据虚拟层170b，且可以具有如图5C所示的多个条形图案。
当第一虚拟图案170具有如图5B和5C所示的多个条形图案和如图5D至5G所示的格子图案其中之一时，相邻条形图案之间的距离或格子图案的开口的形状可以根据第一虚拟图案170的位置进行调整。另外，可以通过省略栅虚拟层170a、半导体虚拟层170c以及数据虚拟层170b其中至少之一来调整第一虚拟图案170的高度。
第一虚拟图案170导致钝化层140中的台阶差，且钝化层140中的该台阶差防止了取向膜的框以及取向膜的结束部分和开始部分的曲折线。结果，减小了LCD器件的框架区。
尽管第一至第四非显示区域NA1、NA2、NA3和NA4中的第一虚拟图案170由用于图6A至图6C中阵列基板101的TFT Tr(图4A中)的层形成，第一虚拟图案170可以由如图6D所示的有机材料形成。例如，第一至第四非显示区域NA1、NA2、NA3和NA4中的第一虚拟图案170可以通过涂敷和构图诸如丙烯酸类树脂和苯并环丁烯(BCB，benzocyclobutene)的有机材料形成在钝化层140上。
在图4B中，液晶显示(LCD)器件的滤色器基板180还包括显示区域AA和环绕显示区域AA的第一至第四非显示区域NA1、NA2、NA3和NA4。黑底183沿着显示区域AA中的像素区域P的边界形成，且滤色器层185在通过黑底183露出的像素区域P中形成。滤色器层185包括在像素区域P中顺序地重复的红色、绿色和蓝色滤色器185a、185b和185c。
尽管没有示出，根据LCD器件的模式，可以在滤色器基板180上形成公共电极。例如，当LCD器件具有TN模式时，可以在滤色器层185的整个表面上顺序地形成公共电极和保护涂层(overcoat layer)，且可以在阵列基板101上的像素区域P(图4A)中形成像素电极150(图4A中)。另外，当LCD器件具有IPS模式时，可以在滤色器层185的整个表面上形成保护涂层，且可以在阵列基板101上的像素区域P(图4A)中形成像素电极和条形的公共电极。保护涂层可以省略。可以在公共电极和保护涂层中的一个上形成用于维持均匀的单元间隙的多个图案化的衬垫。多个图案化的衬垫可以彼此间隔开，以与黑底183对应。
在滤色器基板180上的第一至第四非显示区域NA1、NA2、NA3和NA4中的至少一个中形成第二虚拟图案190。第二虚拟图案190的长度可以对应于显示区域AA的边。另外，第二虚拟图案190可以具有约0.5μm至约3μm的高度和约20μm至约200μm的宽度。另外，第二虚拟图案190可以具有类似于图5A的单条图案、类似于图5B和5C的多个条形图案以及类似于图5D至5G的格子图案中的至少之一。
图7A和图7B是示出了根据本发明的一个实施方式的液晶显示器件的第二虚拟图案的截面图。
在图4B和图7A中，第一至第四非显示区域NA1、NA2、NA3和NA4中的第二虚拟图案190可以在滤色器基板180之上具有单层结构。第二虚拟图案190可以包括与黑底183相同的层和相同的材料，且可以在第二虚拟图案190上形成公共电极192。第二虚拟图案190造成了公共电极192中的台阶差且公共电极192的台阶差防止了取向膜的框以及取向膜的结束部分的曲折线。结果，减小了LCD器件的框架区。
在图4B和7B中，第一至第四非显示区域NA1、NA2、NA3和NA4中的第二虚拟图案190可以在滤色器基板190之上具有单层结构。第二虚拟图案190可以包括与图案化的衬垫相同的层和相同的材料，且可以形成在公共电极192和保护涂层中的一个上。第二虚拟图案190产生了台阶差，该台阶差防止了取向膜的框以及取向膜的结束部分和开始部分的曲折线。结果，减小了LCD器件的框架区。
尽管没有示出，通过印刷诸如聚酰亚胺的聚合物材料在阵列基板101和滤色器基板180中的每一个上形成取向膜，且由于第一虚拟图案170和第二虚拟图案190，取向膜与摩擦布摩擦而不产生取向膜的框。将具有取向膜的阵列基板101和滤色器基板180以密封图案附接，阵列基板101和滤色器基板180之间夹置有液晶层，以完成LCD器件。
由此，在根据本公开的LCD器件中，在环绕显示区域的非显示区域中形成防止取向膜的框的虚拟图案。结果，防止了在取向膜的开始部分和结束部分具有相对大厚度的框。由于防止了取向膜的框，因此防止了摩擦步骤中的恶化。另外，防止了由于与密封图案的接触而导致的取向膜的***。而且，由于取向膜的开始部分和结束部分因虚拟图案而具有直线而不是曲折线，因此减小了配向误差的幅度和框架区，且LCD器件获得了窄的框架(bezel)。
对于本领域技术人员而言很明显的是，在不偏离本发明的精神或范围的条件下，可以对基板和包括本公开的基板的液晶显示装置做出各种修改和变型。因而，本发明旨在涵盖本发明的落入所附权利要求及其等同物的范围内的这些修改和变型。

Claims (19)

1.一种液晶显示器件的基板，所述基板包括：
包括显示图像的显示区域和环绕所述显示区域的非显示区域的基板；
位于所述基板之上的所述非显示区域中的虚拟图案，该虚拟图案的长度对应于所述显示区域的边；以及
所述虚拟图案上的取向膜，该取向膜覆盖所述非显示区域和整个显示区域。
2.根据权利要求1所述的基板，其中，所述虚拟图案具有单个条形图案、彼此间隔开的多个条形图案以及包括开口的格子图案其中至少之一，所述开口具有六角形状、弯曲矩形形状和矩形形状其中之一。
3.根据权利要求2所述的基板，其中，所述虚拟图案具有多个条形图案和包括开口的格子图案其中之一，并且其中相邻条形图案之间的距离随着所述虚拟图案的位置变化，且所述开口的面积随着所述虚拟图案的位置变化。
4.根据权利要求3所述的基板，其中，所述非显示区域包括分别位于所述显示区域的右方、左方、上方和下方的第一非显示区域、第二非显示区域、第三非显示区域和第四非显示区域，并且其中当从所述第一非显示区域到所述第二非显示区域执行针对所述取向膜的印刷步骤时，所述第一非显示区域中相邻条形图案之间的第一距离小于所述第二非显示区域中相邻条形图案之间的第二距离，且所述第一非显示区域中的开口的第一面积小于所述第二非显示区域中的开口的第二面积。
5.根据权利要求3所述的基板，其中，相邻条形图案通过逐渐增加的距离和逐渐减小的距离其中之一彼此隔开，且所述开口具有逐渐增加的面积和逐渐减小的面积其中之一。
6.根据权利要求2所述的基板，其中，所述虚拟图案具有彼此交替布置的多个条形图案和端部彼此齐平的多个条形图案其中之一。
7.根据权利要求2所述的基板，其中，所述虚拟图案具有约0.5μm至约3μm的高度和约20μm至约200μm的宽度。
8.根据权利要求1所述的基板，其中，所述显示区域包括：
所述基板上的选通线和栅极，所述栅极连接到所述选通线；
所述选通线和所述栅极上的栅绝缘层；
所述栅极之上的所述栅绝缘层上的半导体层；
所述半导体层上的源极和漏极，所述栅极、所述半导体层、所述源极和所述漏极组成薄膜晶体管；
与所述选通线交叉以限定像素区域的数据线，所述数据线连接到所述源极；
所述薄膜晶体管上的钝化层；以及
所述钝化层上的像素电极，所述像素电极连接到所述漏极，并且
其中，所述取向膜的中央部分形成在所述像素电极上，并且所述取向膜的边缘部分形成在所述虚拟图案上。
9.根据权利要求8所述的基板，其中，所述显示区域还包括：
平行于所述选通线并与所述选通线间隔开的公共线；以及
与所述像素电极交替的公共电极，所述公共电极连接到所述公共线。
10.根据权利要求8所述的基板，其中，所述虚拟图案包括彼此交叠的栅虚拟图案、半导体虚拟图案和数据虚拟图案其中至少两个，其中所述栅虚拟图案具有与所述选通线相同的层和相同的材料，其中所述半导体虚拟图案具有与所述半导体层相同的层和相同的材料，且其中所述数据虚拟图案具有与所述数据线相同的层和相同的材料。
11.根据权利要求8所述的基板，其中，所述虚拟图案包括位于所述钝化层上的有机材料层。
12.根据权利要求1所述的基板，其中，所述显示区域包括：
沿着像素区域的边界的黑底；
所述像素区域中的滤色器层，所述滤色器层包括在所述像素区域中顺序重复的红色、绿色和蓝色滤色器；以及
所述滤色器层上的多个图案化的衬垫，所述多个图案化的衬垫彼此间隔开且对应于所述黑底；以及
其中，所述取向膜的中央部分形成在所述多个图案化的衬垫上，并且所述取向膜的边缘部分形成在所述虚拟图案上。
13.根据权利要求12所述的基板，其中，所述虚拟图案包括与所述黑底具有相同的层和相同的材料的第一层和与所述多个图案化的衬垫具有相同的层和相同的材料的第二层其中至少之一。
14.根据权利要求13所述的基板，其中，所述显示区域还包括位于所述滤色器层上的公共电极和位于所述公共电极上的保护涂层，并且其中所述多个图案化的衬垫形成在所述保护涂层上。
15.一种液晶显示器件，该液晶显示器件包括：
彼此面对并彼此隔开的第一基板和第二基板，所述第一基板和第二基板包括显示图像的显示区域和环绕所述显示区域的非显示区域；
所述第一基板的内表面之上的选通线和数据线，所述选通线和所述数据线彼此交叉以限定像素区域；
连接到所述选通线和所述数据线的薄膜晶体管；
连接到所述薄膜晶体管的像素电极；
所述第一基板的内表面之上的非显示区域中的第一虚拟图案，所述第一虚拟图案的长度对应于所述显示区域的边；
位于所述像素电极和所述第一虚拟图案上的第一取向膜；
所述第二基板的内表面之上的黑底；
所述像素区域中的滤色器层，所述滤色器层包括在所述像素区域中顺序重复的红色、绿色和蓝色滤色器；以及
所述滤色器层上的多个图案化的衬垫，所述多个图案化的衬垫彼此间隔开且对应于所述黑底；
所述第二基板的内表面之上的所述非显示区域中的第二虚拟图案，所述第二虚拟图案的长度对应于所述显示区域的边；
位于所述多个图案化的衬垫和所述第二虚拟图案上的第二取向膜；以及
介于所述第一取向膜和所述第二取向膜之间的液晶层。
16.根据权利要求15所述的器件，其中，所述第一虚拟图案和所述第二虚拟图案中的每一个具有单个条形图案、彼此间隔开的多个条形图案以及包括开口的格子图案其中至少之一，所述开口具有六角形状、弯曲矩形形状和矩形形状其中之一。
17.根据权利要求16所述的器件，其中，所述第一虚拟图案和所述第二虚拟图案中的每一个具有所述多个条形图案和包括开口的所述格子图案其中之一，且其中相邻条形图案之间的距离随着所述第一虚拟图案和所述第二虚拟图案中每一个的位置变化且所述开口的面积随着所述第一虚拟图案和所述第二虚拟图案中每一个的位置变化。
18.根据权利要求16所述的器件，其中，相邻条形图案通过逐渐增加的距离和逐渐减小的距离其中之一彼此间隔开，且所述开口具有逐渐增加的面积和逐渐减小的面积其中之一。
19.根据权利要求16所述的器件，其中，所述第一虚拟图案和所述第二虚拟图案中的每一个具有彼此交替布置的多个条形图案和端部彼此齐平的多个条形图案其中之一。
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