CN102426876A - H掺fzo透明导电薄膜及其制备方法 - Google Patents
H掺fzo透明导电薄膜及其制备方法 Download PDFInfo
- Publication number
- CN102426876A CN102426876A CN2011103667117A CN201110366711A CN102426876A CN 102426876 A CN102426876 A CN 102426876A CN 2011103667117 A CN2011103667117 A CN 2011103667117A CN 201110366711 A CN201110366711 A CN 201110366711A CN 102426876 A CN102426876 A CN 102426876A
- Authority
- CN
- China
- Prior art keywords
- fzo
- substrate
- transparent conductive
- conductive film
- mixes
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Images
Abstract
本发明公开了一种H掺FZO透明导电薄膜及其制备方法,在衬底上生长一层H掺FZO薄膜层。其制备是采用射频磁控溅射法。本发明方法所用设备简单,可控性强,制备出来的薄膜光学性能和电学性能优良,重复性好。
Description
技术领域:
本发明涉及FZO透明导电薄膜及其制备方法,尤其是H掺FZO透明导电薄膜及其制备方法。
背景技术:
透明导电薄膜作为电极材料,在等离子显示器(PDP)、液晶显示器(LCD)、有机发光二极管(OLED)等高质量平板显示器,光伏电池等光电薄膜器件中有着广泛的应用。此外透明导电薄膜也可应用于气敏元件、低辐射镀膜玻璃、红外辐射反射镜、防冰除霜功能玻璃等。
目前市场上应用的透明导电薄膜主要是ITO(In2O3:Sn)和FTO(SnO2:F),但是它们中都要用到贵金属In,In是种稀缺资源,导致这两种透明导电薄膜的生产成本较大。因此,找到一种可以替代它们的高性能透明导电薄膜显得极为必要。ZnO是一种宽带隙(3.3 eV)化合物半导体材料, 具有资源丰富,无毒,价格便宜,热循环稳定性好等优点,是新一代透明导电材料,很有可能成为ITO的替代品。掺杂的ZnO具有良好的光电性能,但这种单层膜形式的透明导电薄膜,其膜电阻较大,辐射率较高,而且在近红外波段反射低、吸收明显,这些缺点限制了在光电器件上的应用。比如以ITO作为平板显示器的透明电极时,其电学性能限制了显示器的分辨率,且使显示器的反应时间、消耗功率难以下降。
为了进一步提高透明导电薄膜的光电性能,有研究者提出了在ZnO中掺杂H。H的掺入使ZnO薄膜的电学性能有了明显提高,一方面原因可能是H作为浅施主存在于ZnO中,提高了载流子浓度;另一方面H钝化了薄膜表面和界面处的缺陷等,导致表面吸附氧化物的减少,晶界间势垒高度减小,使迁移率增加。这对研究如何提高ZnO基透明导电薄膜很有指导意义。由此我们设计在FZO中掺H来提高其光电性能。运用磁控溅射沉积法,通过控制氩氢比,溅射功率,沉积温度和时间等生长条件,对薄膜的晶体结构、光电性能和稳定性进行研究,以期得到综合性能优良的透明导电薄膜。
磁控溅射沉积法是利用射频(rf)和直流(dc)电源在Ar或Ar-O2混合气体产生等离子体,对陶瓷靶或金属靶进行轰击,通过控制分压、衬底温度、靶功率等工艺参数,在各种衬底上生长重复性好、均匀的大面积薄膜。由于溅射离子到达衬底时能量比较大,使膜层和衬底的附着力增强。目前,磁控溅射沉积法是制备ZnO基透明导电薄膜重要手段之一,由于其能生长大面积薄膜,所以比较适合工业化生产。
发明内容:
本发明的目的是制备具有优良光电性能的H掺FZO透明导电薄膜及其制备方法。
本发明采用的技术方案为:
H掺FZO透明导电薄膜,其特征是衬底上具有一层H掺FZO薄膜层。
制备权利要求1所述的H掺FZO透明导电薄膜的方法,其特征是包括以下步骤:
1)把掺氟氧化锌靶安装到射频靶头上,掺氟氧化锌靶中氟化锌的摩尔百分含量是1%—4%,把经清洗的衬底放到衬底架上,靶材与衬底之间的距离为6~8 cm,生长室真空度抽到1.0×10-3Pa,以氩气为保护气氛,氢气体积分数是0—2%,调节生长室压强0.1-2.0Pa,射频溅射掺氟氧化锌靶,在衬底上沉积H掺FZO薄膜层,溅射功率在50—250W,温度为20—450℃;
所述衬底为硅、蓝宝石、玻璃、石英或柔性衬底。
与现有技术相比,本发明的优点在于:
本发明通过控制沉积温度、F含量、氢气的体积分数和沉积时间,可以制备不同掺杂浓度的H掺FZO透明导电薄膜,可以实现实时掺杂,在FZO薄膜生长过程中同时实现H掺杂;掺杂浓度可以通过调节生长温度和氢气的体积分数来控制;制备的H掺FZO透明导电薄膜具有良好的光电性能,同时重复性和稳定性较好;制备本发明提及的H掺FZO透明导电薄膜所使用设备是磁控溅射,可控性强,适于沉积均匀的大面积薄膜。
附图说明:
附图1是本发明方法采用的磁控溅射沉积装置示意图, 图中:1为Ar气进气管路;2为H2进气管路;3流量计;4为缓冲室;5为自动压强控制仪;6为真空计;7为真空泵;8为进气管;9为冷却水;10为S枪;11为漏气阀;12为观察镜;13为挡板;14衬底加热器;
附图2是H掺FZO透明导电薄膜的x射线衍射(XRD)图谱。
附图3是H掺FZO透明导电薄膜的光学透射谱。
具体实施方式:
下面结合附图,通过实施例对本发明作进一步详细说明:
实施例1
把掺氟氧化锌靶安装到射频靶头上,掺氟氧化锌靶中氟化锌的摩尔百分含量是2%,把经清洗的玻璃衬底放到衬底架上,靶材与衬底之间的距离为7 cm,生长室真空度抽到1.0×10-3Pa,以氩气为保护气氛,氢气的体积分数是0.4%,调节生长室压强0.65Pa,射频溅射掺氟氧化锌靶,溅射功率在100W,温度为25℃,生长时间为45min,得到H掺FZO晶体薄膜;
制备得到的H掺FZO透明导电薄膜的x射线衍射(XRD)图谱见图2;光学透射谱见图3,可得到良好的电学性能和光学性能:电阻率为9.3×10-3 Ω·cm,电子迁移率为8.0 cm2V-1s-1, 载流子浓度为4.33×1019 cm-3,可见光平均透射率超过85%。
实施例2
把掺氟氧化锌靶安装到射频靶头上,掺氟氧化锌靶中氟化锌的摩尔百分含量是3%,把经清洗的玻璃衬底放到衬底架上,靶材与衬底之间的距离为7 cm,生长室真空度抽到1.0×10-3Pa,以氩气为保护气氛,氢气的体积分数是0.6%,调节生长室压强0.65Pa,射频溅射掺氟氧化锌靶,溅射功率在100W,温度为250℃,生长时间为45min,得到H掺FZO晶体薄膜;
制备得到的H掺FZO透明导电薄膜具有良好的电学性能和光学性能:电阻率为7.2×10-3 Ω·cm,电子迁移率为8.7 cm2V-1s-1, 载流子浓度为5.02×1019 cm-3,可见光平均透射率超过85%。
上述实施例仅为本发明的较佳的实施方式,除此之外,本发明还可以有其他实现方式。需要说明的是,在没有脱离本实用新型构思的前提下,任何显而易见的改进和修饰均应落入本发明的保护范围之内。
Claims (3)
1.H掺FZO透明导电薄膜,其特征在于:具有一衬底,衬底上具有一层H掺FZO薄膜层。
2.制备权利要求1所述的H掺FZO透明导电薄膜的方法,其特征在于包括以下步骤:
把掺氟氧化锌靶安装到射频靶头上,掺氟氧化锌靶中氟化锌的摩尔百分含量是1%—4%,把经清洗的衬底放到衬底架上,靶材与衬底之间的距离为6~8 cm,生长室真空度抽到1.0×10-3Pa,以氩气为保护气氛,氢气体积分数是0.1—2%,调节生长室压强0.1-2.0Pa,射频溅射掺氟氧化锌靶,在衬底上沉积H掺FZO薄膜层,溅射功率在50—250W,温度为20—450℃。
3.根据权利要求2所述的H掺FZO透明导电薄膜的制备方法,其特征在于:所述衬底为硅、蓝宝石、玻璃、石英或柔性衬底。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
CN2011103667117A CN102426876A (zh) | 2011-11-18 | 2011-11-18 | H掺fzo透明导电薄膜及其制备方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
CN2011103667117A CN102426876A (zh) | 2011-11-18 | 2011-11-18 | H掺fzo透明导电薄膜及其制备方法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
CN102426876A true CN102426876A (zh) | 2012-04-25 |
Family
ID=45960847
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
CN2011103667117A Pending CN102426876A (zh) | 2011-11-18 | 2011-11-18 | H掺fzo透明导电薄膜及其制备方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
CN (1) | CN102426876A (zh) |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN103956199A (zh) * | 2014-04-28 | 2014-07-30 | 深圳先进技术研究院 | 透明导电薄膜及其制备方法、磁控溅射装置 |
US20140363932A1 (en) * | 2013-06-10 | 2014-12-11 | Samsung Electronics Co., Ltd. | Zinc target including fluorine, method of fabricating zinc nitride thin film by using the same, and method of fabricating thin film transistor by using the same |
CN105695947A (zh) * | 2016-04-09 | 2016-06-22 | 浙江大学 | 一种具有高迁移率的非金属共掺杂ZnO透明导电薄膜及其制备方法 |
Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN1422979A (zh) * | 2001-12-03 | 2003-06-11 | 柯尼卡株式会社 | 透明导电膜、其形成方法与具有该透明导电膜的物品 |
JP2004010910A (ja) * | 2002-06-03 | 2004-01-15 | Konica Minolta Holdings Inc | 結晶性薄膜の形成方法 |
CN102157572A (zh) * | 2011-03-09 | 2011-08-17 | 浙江大学 | 晶体硅太阳能电池 |
CN102174689A (zh) * | 2011-04-01 | 2011-09-07 | 浙江大学 | Fzo/金属/fzo透明导电薄膜及其制备方法 |
-
2011
- 2011-11-18 CN CN2011103667117A patent/CN102426876A/zh active Pending
Patent Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN1422979A (zh) * | 2001-12-03 | 2003-06-11 | 柯尼卡株式会社 | 透明导电膜、其形成方法与具有该透明导电膜的物品 |
JP2004010910A (ja) * | 2002-06-03 | 2004-01-15 | Konica Minolta Holdings Inc | 結晶性薄膜の形成方法 |
CN102157572A (zh) * | 2011-03-09 | 2011-08-17 | 浙江大学 | 晶体硅太阳能电池 |
CN102174689A (zh) * | 2011-04-01 | 2011-09-07 | 浙江大学 | Fzo/金属/fzo透明导电薄膜及其制备方法 |
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US20140363932A1 (en) * | 2013-06-10 | 2014-12-11 | Samsung Electronics Co., Ltd. | Zinc target including fluorine, method of fabricating zinc nitride thin film by using the same, and method of fabricating thin film transistor by using the same |
CN103956199A (zh) * | 2014-04-28 | 2014-07-30 | 深圳先进技术研究院 | 透明导电薄膜及其制备方法、磁控溅射装置 |
CN103956199B (zh) * | 2014-04-28 | 2016-09-07 | 深圳先进技术研究院 | 透明导电薄膜及其制备方法、磁控溅射装置 |
CN105695947A (zh) * | 2016-04-09 | 2016-06-22 | 浙江大学 | 一种具有高迁移率的非金属共掺杂ZnO透明导电薄膜及其制备方法 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
Wang et al. | Effects of H2 plasma treatment on properties of ZnO: Al thin films prepared by RF magnetron sputtering | |
Flickyngerova et al. | Structural and optical properties of sputtered ZnO thin films | |
CN102174689A (zh) | Fzo/金属/fzo透明导电薄膜及其制备方法 | |
Kumar et al. | Investigations on opto-electronical properties of DC reactive magnetron sputtered zinc aluminum oxide thin films annealed at different temperatures | |
Liu et al. | Indium tin oxide with titanium doping for transparent conductive film application on CIGS solar cells | |
CN100595847C (zh) | 一种透明导电薄膜及其制备方法 | |
CN107910094A (zh) | 透明导电膜与制备方法、溅射靶与透明导电性基板及太阳能电池 | |
Huang et al. | Comprehensive characterization of DC sputtered AZO films for CIGS photovoltaics | |
Zhou et al. | Innovative wide-spectrum Mg and Ga-codoped ZnO transparent conductive films grown via reactive plasma deposition for Si heterojunction solar cells | |
Zhao et al. | Optical and electrical characterization of gradient AZO thin film by magnetron sputtering | |
CN102426876A (zh) | H掺fzo透明导电薄膜及其制备方法 | |
CN103924191A (zh) | 在基片上镀制ito薄膜的方法 | |
Jung et al. | Properties of AZO thin films for solar cells deposited on polycarbonate substrates | |
CN103985783B (zh) | 利用磁控溅射法在柔性衬底上制备铜锌锡硫薄膜的方法 | |
Shu-Wen | A Study of annealing time effects on the properties of Al: ZnO | |
CN103014705B (zh) | Cu/ZnO/Al光电透明导电薄膜的沉积方法 | |
Chu et al. | Preparation of indium tin oxide thin films without external heating for application in solar cells | |
CN101834009B (zh) | 一种低铟掺杂量氧化锌透明导电膜及其制备方法 | |
CN102080212A (zh) | 氧化锌透明导电薄膜的低温制备方法及专用靶材 | |
CN103147061B (zh) | 一种制备非晶态透明氧化锌薄膜的方法 | |
Hua et al. | Influence of target substrate distance on the properties of transparent conductive Si doped ZnO thin films | |
Samwel et al. | Effects of target composition on the optical constants of DC sputtered ZnO: Al thin films | |
Lu et al. | Analysis on the process of ZAO films by DC magnetron reactive sputtering | |
CN103343327A (zh) | 制备非晶态透明氧化锌薄膜的方法 | |
CN103325888B (zh) | 一种基于硅基薄膜衬底制备透明导电薄膜的方法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
C06 | Publication | ||
PB01 | Publication | ||
SE01 | Entry into force of request for substantive examination | ||
SE01 | Entry into force of request for substantive examination | ||
AD01 | Patent right deemed abandoned |
Effective date of abandoning: 20161228 |
|
C20 | Patent right or utility model deemed to be abandoned or is abandoned |